DE60213687T2 - Behälter für silicium und verfahren zu seiner herstellung - Google Patents

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Description

  • Diese Erfindung betrifft ein Gefäß für geschmolzenes Silizium oder ein Gefäß zum Halten bzw. Aufbewahren von geschmolzenem Silizium und ein Verfahren zur Herstellung desselben.
  • Das erfindungsgemäße Gefäß umfasst eine Form aus gesintertem geschmolzenem Siliziumdioxid, welche zum Herstellen eines Halbleitersiliziumwafers oder eines Polykristallsiliziumwafers zum Erzeugen von Strom aus Sonnenlicht und zum Gießen eines Siliziumbarrens verwendet wird, oder einen gesinterten geschmolzenen Siliziumdioxidschmelztiegel zum Schmelzen, Reinigen und Weiterbefördern von Silizium zu einer Gießerei und darüber hinaus ein Gefäß zum Halten eines Siliziumbades, bis es eingespritzt wird.
  • Bislang ist es auf dem Gebiet des Herstellens von Halbleitern üblich, einen Siliziumwafer als die Grundlage von einem Halbleiterelement durch Verfestigen einer hochreinen Siliziumschmelzenlösung, Bilden eines Siliziummonokristalls und Schneiden desselben herzustellen. Beispielsweise wird ein reines Siliziummaterial durch einen Heizwiderstand, eine Hochfrequenzinduktionsheizvorrichtung und dergleichen geschmolzen, wobei die Siliziumschmelzenlösung dann mit Kristallen beimpft wird. Die Lösung wird sorgfältig vermischt und dann langsam hochgezogen und in gleicher Richtung verfestigt, um einen großen zylindrischen Siliziumeinkristall mit bevorzugter Orientierung des Impfkristalls zu bilden. Bei einem solchen Herstellungsverfahren sind Graphit, Quarz, Bornitrid und Platin geeignete Materialien für das Gefäß zum Schmelzen und Halten von Silizium (d.h. den Schmelztiegel).
  • Darüber hinaus ist es im Fall des Herstellens von amorphem Silizium oder Polykristallsilizium für eine Solar zelle notwendig, eine sehr reine Siliziumschmelzlösung innerhalb eines Gefäßes, wie dem vorstehend beschriebenen Schmelztiegel, zu halten bzw. aufzubewahren.
  • Wird ein Schmelztiegel als ein Gefäß zum Halten von geschmolzenem Metall verwendet, wird jedoch, wie vorstehend beschrieben, die Siliziumschmelzlösung häufig mit Verunreinigungsmetallkomponenten der Schmelztiegelwände, welche mit dem Schmelzbad in Kontakt stehen, verunreinigt, wodurch die Reinheit von dem Silizium verringert wird.
  • Vor dem Hintergrund in den letzten Jahren kostengünstiges Silizium anzubieten und erforderlicher Produktivitätsverbesserung wurde weiterhin größtenteils ein kostengünstiges geschmolzenes Siliziumoxidmaterial (gesintertes oder verdichtetes geschmolzenes Siliziumdioxid) anstelle von Quarz für den Schmelztiegel verwendet, und Maßnahmen, um die Verunreinigung einer Siliziumschmelzenlösung zu vermeiden, wurden erforderlich.
  • In Reaktion auf ein solches Erfordernis wurde bislang als Maßnahme, um die Verunreinigung der Siliziumschmelzenlösung zu vermeiden, ein Verfahren zum Auftragen einer Beschichtung auf den Schmelzlösungskontaktteil eines Schmelztiegels aus gesintertem Siliziumoxidmaterial, sodass die Siliziumschmelzlösung vor direktem Kontakt mit den Schmelztiegelwänden geschützt ist, in Betrachtet gezogen. Das heißt, das Innere der Schmelztiegelwand wird mit einem Beschichtungsmittel, wie einem Oxid, einem Nitrid und dergleichen, mit einer ausgezeichneten Ablösung von geschmolzenem Silizium und einer ausgezeichneten Benetzbarkeit mit dem geschmolzenen Silizium beschichtet (je größer die Benetzbarkeit der Beschichtung ist, von umso geringerer Tiefe ist das Eindringen des geschmolzenen Siliziums).
  • Da die Beschichtungsmittel (Oxid, Nitrid) selbst jedoch schwer sintern, gibt es Defekte, wie schwache Haftfestigkeit an der Schmelztiegelwand und teilweises Abschälen. Das abgeschälte Beschichtungsmittel wird jedoch mit dem ge schmolzenen Silizium vermischt und bildet neue Verunreinigungen, die wiederum die Reinheit des Produkts senken.
  • Andererseits kann man als Beschichtungsmittel Siliziumnitrid (Si3N4) einsetzen, welches als ein Material mit ausgezeichneter Nichtreaktivität mit geschmolzenem Silizium bekannt ist, weil es kein Metallelement einschließt. Jedoch ist Siliziumnitrid schlecht in der Sinterbarkeit und schlecht in der Produktivität, da Formungs-Sinterungs-Behandlungen, wie Heißpressen, HIP und dergleichen, die für die mechanische Festigkeit auf praktischem Niveau sorgen, nicht verfügbar sind. Weiterhin gibt es ein Problem von großem wirtschaftlichem Verlust, wenn die vorstehend angeführten Behandlungen für einen Schmelztiegel angewendet werden, wenn die Ausdehnbarkeit betrachtet wird.
  • Das heißt, je höher die Forderung nach Reinheit, umso höher ist das Erfordernis von hoher Leistung der chemischen Zusammensetzung des Beschichtungsmittels selbst, mechanischer Festigkeit einer Beschichtungsschicht an sich und Haftfestigkeit an der Schmelztiegelwand. Weiterhin ist die bekannte Technik zum Auftragen der vorstehenden Beschichtungsschicht in der Filmbildungsgeschwindigkeit langsam und erfordert viele Schichten, um eine praktische Dicke zu erhalten. Deshalb muss sie bezüglich von Produktivität und Kosten verbessert werden.
  • Wie vorstehend beschrieben, ist es, wenn ein Schmelztiegel als ein Gefäß zum Herstellen eines Siliziumwafers verwendet wird, notwendig, die Siliziumschmelzlösung vor Kontamination mit Verunreinigung aus der Schmelztiegelwand zu schützen, um Silizium von hoher Reinheit zu erhalten. Deshalb werden häufig wärmebeständige Beschichtungen, wie Oxid, Nitrid und dergleichen, auf die innere Oberfläche des Schmelztiegels aufgetragen, um beliebige Kontamination zu vermeiden, jedoch wie vorstehend erörtert, sind diese Beschichtungsmaterialien im Allgemeinen in der Sinterbarkeit schlecht und in der mechanischen Festigkeit gering und erfordern, im Lichte von Produktivität und Wirtschaftlichkeit verbessert zu werden.
  • Eine Hauptaufgabe der Erfindung ist es deshalb, die vorstehend erwähnten Probleme des Standes der Technik zu lösen, d.h. ein Siliziumschmelzbadhaltegefäß bereitzustellen, das die Siliziumschmelzlösung nicht verunreinigt, zusammen mit ausgezeichneter Sinterbarkeit, mechanischer Festigkeit und Produktivität.
  • Weiterhin ist es eine weitere Aufgabe der Erfindung, eine solche Sprühbeschichtungsformtechnik bereitzustellen, dass das Siliziumschmelzenbad mit der Kontaktoberfläche des geschmolzenen Bades von dem Haltegefäß des geschmolzenen Siliziums wenig reagiert, die Erosionsbeständigkeit gegen eine Strömung in dem geschmolzenen Bad ausgezeichnet ist, die Metallkontamination gering ist und ein Barren hoher Qualität und hoher Ausbeute wirksam erhalten werden kann.
  • Die Erfindung stellt ein Siliziumhaltegefäß, wie in Anspruch 1 angeführt, bereit, das im Wesentlichen durch Beschichten einer aufgesprühten Beschichtung aus Silizium-Verbund-Thermet, die im Wesentlichen aus Siliziummetall, Siliziumnitrid und Siliziumoxid besteht, auf das Innere des Siliziumhaltegefäßes hergestellt wurde. Bei solchem Aufbau spielt die aufgesprühte Beschichtung aus Silizium-Verbund-Thermet eine Rolle von Nichtreaktivität eines Nitrids gegen geschmolzenes Silizium und zeigt gute Erosionsbeständigkeit gegen eine Schmelzlösungsströmung durch wechselseitiges Compoundieren einer Glasbindungsphase von einem Oxid, das mit dem Nitrid und einer Siliziummetallbindungsphase compoundiert ist.
  • Die aufgesprühte Beschichtung aus Silizium-Verbund-Thermet wird durch Sprühen eines Silizium-Verbund-Thermet-Materials hergestellt, das durch Zusetzen von Siliziummetall als Haftmittel zu einem Gemisch von Si3N4 und SiO2 gebildet wird. Weiterhin wird das Siliziumhaltegefäß durch entweder eines von Siliziumoxid, Bornitrid und Graphit hergestellt, wobei das Siliziumoxid (SiO2) vorzugsweise verdichtetes geschmolzenes Siliziumdioxid ist.
  • Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Siliziumhaltegefäßes, wie in Anspruch 6 angeführt, das Sprühen eines Silizium-Verbund-Thermet-Materials, das aus Siliziummetall, Siliziumnitrid und Siliziumoxid besteht, auf das Innere des Siliziumhaltegefäßes umfasst, wodurch eine aufgesprühte Beschichtung aus Silizium-Verbund-Thermet gebildet wird.
  • Darüber hinaus wird in der Erfindung das Siliziumhaltegefäß vorzugsweise in einem Material, umfassend Siliziumoxid, Bornitrid und/oder Graphit, gebildet. Die besprühte Beschichtung wird vorzugsweise beschichtet und durch ein beliebiges Sprühverfahren, wie Plasmasprühen, Hochgeschwindigkeitsgasflammensprühen, Gaspulversprühen oder Detonationssprühen, gebildet.
  • Darüber hinaus hat erfindungsgemäß die vorstehende aufgesprühte Beschichtung aus Silizium-Verbund-Thermet ein Mischungsverhältnis von Siliziummetall (X):Siliziumnitrid (Y): Siliziumoxid (Z) von X:Y:Z = 20-50:77-30:3-20.
  • Kurzbeschreibung der Zeichnung
  • 1 ist eine Photomikrographie der Schnittstruktur der erfindungsgemäßen Verbundwerkstoff-besprühten Beschichtung.
  • Die Erfinder haben die gesprühte Beschichtung von schwer sinterbarem Siliziumnitrid seit vielen Jahren geprüft. Als ein Ergebnis stellten die Erfinder fest, dass es wirksam ist, ein Silizium-Verbund-Thermet-Material (gemischtes Rohmaterial), das durch Vermischen von Siliziumnitrid mit Siliziumoxid und Siliziummetall bei einem vorbestimmten Verhältnis erhalten wird, anzuwenden. Gemäß dem bevorzugten erfindungsgemäßen Verfahren wird zuerst die Oberfläche des Gefäßes gereinigt, das Silizium-Verbund-Thermet-Material dann aufgesprüht, um eine aufgesprühte Beschichtung aus Silizium-Thermet zu bilden und anschließend, gegebenenfalls falls es erwünscht ist, die Glätte der Oberfläche einzustellen, kann die beschichtete Oberfläche poliert werden.
  • Gemäß dem Stand der Technik ist es notwendig, um Si3N4 als Industriematerial anzuwenden, eine Schicht durch Heißpressen oder HIP durch Zusetzen einer Sinterhilfe zu bilden. Im Fall des Bildens einer aufgesprühten Beschichtung mit der Verwendung von anorganischem Nichtmetallmaterial, wie Oxid, Carbid, Borid oder Nitrid, ist eine Zugabe von Metall als Bindemittel entscheidend. Gemäß der Erfindung wird es jedoch, da deren Gegenstand ein Gefäß zum Schmelzen und Halten von hochreinem Silizium ist, als ungeeignet angesehen, ein Metall anzuwenden, das von Silizium verschieden ist. Da das zu behandelnde hochreine Material Silizium ist, wendet die Erfindung deshalb hochreines Silizium als ein Bindemittel an.
  • Weiterhin setzt die Erfindung ein Siliziumoxid neben der Anwendung von Siliziummetall als Bindemittel hinzu. Der Grund, warum Siliziumoxid in der Erfindung verwendet wird, besteht darin, dass eine aufgesprühte Beschichtung aus Verbund-Thermet, einschließlich Siliziumnitrid und -oxid, unter Anwendung von Siliziummetall als Matrix (Bindemittelschicht) durch Erweichen des Siliziumoxids (SiO2) in einer Plasmaflamme während Plasmasprühen, umhüllendes Anhaften von mindestens einem Teil Si3N4, weiter bedeckendes Anhaften von sowohl Si3N4 als auch SiO2 an dem Siliziummetall und Flying als Fixierung und Erzeugung von Si3N4-Teilchen zu Pseudoteilchen erhalten wird. Solche besprühte Beschichtung hat eine sehr hohe Festigkeit.
  • Das vorstehend genannte Sprühmaterial (Rohmaterial Pulver) wird durch Vermischen von Siliziummetall (MSi)x, Siliziumnitrid, (Si3N4)y und Siliziumoxid (SiO2)z mit dem nachstehenden Mischungsverhältnis (Kapazitätsverhältnis) hergestellt:
    X:Y:Z = 20-50:77-30:3-20
  • Bei dem vorstehend genannten Mischungsverhältnis von jeder Komponente ist der Grund, warum (MSi)x auf 20-50 begrenzt ist, weil eine Menge von weniger als 20 nicht ausreichend ist, um als ein Bindemittel zwischen Oxid und Nitrid zu wirken, um eine Beschichtungsfestigkeit zu erhalten, und als ein Ergebnis widersteht es keinem Erosionsverlust, der durch Bewegen des Kontakts mit einer Schmelzlösung verursacht wird. Eine Menge von mehr als 50 liefert eine große Siliziummetallzone in der Beschichtung, sodass eine diffuse Reaktionsschicht der Beschichtung und der Schmelzlösung bis zur Verfestigung der Schmelzlösung gebildet wird, und deshalb wird eine Schicht, die Verunreinigungen auf der verfestigten Produktoberfläche enthält, gebildet. Die bevorzugte Menge ist 30-45.
  • Weiterhin besteht der Grund, warum (SiO2)x auf 3-20 begrenzt ist, darin, dass wenn es weniger als 3 beträgt, die Haftfestigkeit zwischen Si3N4-Teilchen nicht erhalten werden kann, und wenn es mehr als 20 beträgt, die Benetzbarkeit von Si3N4 durch die Schmelzlösung verhindert wird. Die bevorzugte Menge ist 7-13.
  • (Si3N4)y wird durch Optimieren der Menge des vorstehenden (MSi)x und (SiO2)z unter Berücksichtigung der gewünschten Beschichtungsfestigkeit und Schmelzlösungsbenetzbarkeit bestimmt.
  • Weiterhin ist es bevorzugt, Siliziumdioxid (verdichtetes geschmolzenes Siliziumdioxid) für SiO2 anzuwenden. Als industrielles SiO2-Material gibt es geschmolzenes Siliziumdioxid als eine opake Substanz unter Anwendung von Siliziumdioxidsand als Rohmaterial und glasartiges Siliziumdioxid als eine transparente Substanz, die unter Anwendung von Kristall als Rohmaterial hergestellt wird, wobei beide davon in der vorliegenden Anwendung verwendet werden können, insofern die Eigenschaften der Stoffe betrachtet werden. Jedoch der Grund, warum gemäß der Erfindung die Verwendung von verdichtetem geschmolzenem Siliziumdioxid bevorzugt ist, besteht darin, weil ein verdichtetes geschmolzenes Siliziumdioxidprodukt als ge forderte Form des Schmelzens von Siliziumdioxidsand gebildet werden kann, um grobes Rohmaterial, das im Wesentlichen aus SiO2 besteht, zu erhalten, unter anschließendem Pulverisieren zur Bildung von feinen Teilchen und weiterem Schmelzen in einer Form und weiteres Sintern der Form, um die mechanische Festigkeit, die für das Produkt erforderlich ist, zu verleihen. Das mit solchem verdichtetem geschmolzenem Siliziummaterial hergestellte Produkt hat ausgezeichnete Kompatibilität und Formbarkeit.
  • Das vorstehend genannte Sprühmaterial wird auf mindestens die Oberfläche eines Teils, der mit dem geschmolzenen Metall innerhalb eines Haltegefäßes in Kontakt ist, in einer Dicke von etwa 20 bis 500 μm, vorzugsweise 40 bis 300 μm, besprüht. Der Grund, warum die Beschichtungsdicke in dieser Weise begrenzt ist, besteht darin, dass falls die Dicke dünner als 20 μm ist, sie unzureichend ist, um eine kohärente Schicht zwischen Thermetteilchen zu bilden und es die Möglichkeit gibt, dass die Schmelzlösung das Schmelztiegelgrundmaterial durch Spalten kontaktiert, wohingegen, wenn die Dicke dicker als 500 μm ist, das Risiko des Abschälens der Beschichtung erhöht ist.
  • Beispiel
  • Dieses Beispiel verwendet gemischtes Pulver von Siliziummetall und SiO2 mit Si3N4 mit der nachstehenden Zusammensetzung durch Sprühen von Silizium-Verbund-Thermet-Material als einer Beschichtungsschicht, die auf der Oberfläche eines Siliziumhaltegefäßes gebildet wird.
  • Tabelle 1
    Figure 00080001
  • Es werden Siliziummetalle von 99,9 % Reinheit und SiO2 von 99,8 % Reinheit verwendet. Das Mischungsverhältnis von diesen Rohmaterialpulvern ist Si:Si3N4:SiO2 = 40:50:10. Weiterhin wird das gemischte Pulver in ein thermisches Sprühmaterial durch vorheriges Granulieren in etwa 25,3 μm in mittlerem Teilchendurchmesser umgewandelt.
  • 1 zeigt die Abschnittsstruktur einer erfindungsgemäßen mit Verbundwerkstoff besprühten Beschichtung. Die erläuterte Bezugszahl 1 zeigt ein verdichtetes geschmolzenes Siliziumdioxidgrundmaterial und 2 eine mit Verbundwerkstoff besprühte Beschichtung.
  • Beispiel 1
  • In diesem Beispiel wird die Wechselwirkung zwischen einem verdichteten geschmolzenen Siliziumdioxidgrundmaterial, das mit einer aufgesprühten Beschichtung aus Silizium-Verbund-Thermet und einer Siliziumschmelzlösung gemäß der Erfindung bedeckt ist, geprüft. Als eine Sonde wird ein verdichtetes geschmolzenes Siliziumdioxidgrundmaterial der Abmessung 100 × 50 × 6 mm eingesetzt. Auf die Sondenoberfläche wird ein Sprühmaterial gesprüht, das mit dem Verhältnis von Si:Si3N4: SiO2 = 40:50:10 in der Dicke von 300 μm durch ein Atmosphärenplasmasprühverfahren besprüht wird, um eine aufgesprühte Beschichtung aus Silizium-Verbund-Thermet zu bilden. Die erosionsbeständige Eigenschaft der Beschichtung aufgrund dessen, dass die Schmelzlösung fällt und des Einflusses des Schmelzlösungskontakts werden durch Legen solcher Probe, gebildet mit der besprühten Beschichtung auf den Boden eines aus verdichtetem geschmolzenem Siliziumdioxid von 350 × 350 × 400 (h)mm in der Größe hergestellten Schmelztiegels und Einspritzen einer Siliziumschmelzlösung von dem oberen Teil geprüft. Der Schmelztiegel wird von der Außenseite unter Anwendung eines elektrischen Heizers erhitzt und in dem geschmolzenen Zustand der Siliziumschmelzlösung für 3 Stunden gehalten.
  • Nach 3 Stunden wird das Probenstück aus dem Schmelztiegel herausgenommen und die Oberfläche wird beobachtet. Innerhalb einer visuellen Beobachtung wird kein Abschälen von dem Beschichtungsgrundmaterial erkannt und gute Bindungsfähigkeit und Nichtreaktivität werden gezeigt. Weiterhin wird kein Einfluss der Schmelzlösung auf die Beschichtung gefunden.
  • Beispiel 2
  • In diesem Beispiel wird eine erfindungsgemäße mit Siliziumverbundwerkstoff besprühte Beschichtung auf dem Inneren einer Gussform für einen polykristallinen Siliziumbarren gebildet, um einen polykristallinen Siliziumwafer für Solarzellen, der für Sonnenlichtstromerzeugung verwendet wird, herzustellen. Die verwendete Form wird aus verdichtetem oder gesintertem geschmolzenem Siliziumdioxid, enthaltend Al2O3: 2000 ppm und Fe2O3: 200 ppm, hergestellt, und seine Abmessung ist 350 × 350 × 400 (h)mm. Auf dem Boden der Form wird ein Sprühmaterialpulver, das auf das Fassungsverhältnis von Si:Si3N4:SiO2 = 40:50:10 in der Dicke von 50 bis 70 μm in einem atmosphärischen Plasmasprühverfahren ansteigt, gesprüht, um eine aufgesprühte Beschichtung aus Silizium-Verbund-Thermet zu bilden.
  • Als ein Vergleichsbeispiel wird eine Beschichtung verwendet, die durch Aufschlämmen von Si3N4-Pulver unter Verwendung von Polyvinylalkohol als einem Lösungsmittel, Bepinseln der erhaltenen Aufschlämmung auf den Formboden oder Auftragen durch ein Sprühverfahren und Brennen bei 900°C gebildet wird.
  • Tabelle 2 zeigt ein Ergebnis nach Prüfen der Verunreinigung aufgrund verschiedener Arten oder Materialien auf dem Oberflächenteil eines Siliziumbarrenprodukts nach Gießen.
  • Tabelle 2
    Figure 00110001
  • Wie aus dem Ergebnis von Tabelle 2 deutlich wird, ist in dem erfindungsgemäßen Beispiel das andere Material, das in der Siliziumbarrenoberflächenschicht nachgewiesen wird, nur SiO2. Weiterhin ist die eingedrungene Tiefe der Oberflächenschicht einige μm. Dieses SiO2 ist aufgrund von atmosphärischer Oxidation von Si. Deshalb kann SiO2 vollständig durch Abkanten von nicht mehr als 2 mm entfernt werden. Als ein Ergebnis ist die Barrenausbeute nicht weniger als 98 %.
  • Im Gegensatz dazu werden in dem Vergleichsbeispiel neben Si3N4, Al2O3, SiO2, Fe2O3 und dergleichen weitere auf der Oberflächenschicht nachgewiesen. Insbesondere werden als Metallelemente Al und Fe beobachtet und die Eindringtiefe von der Oberflächenschicht des anderen Materials ist einige 100 μm. Um diese anderen Materialien, die auf der Oberfläche nachgewiesen wurden, zu entfernen, ist es notwendig, beide Seiten in einer Dicke von 10 mm abzukanten, und die Ausbeute von einem Produktbarren beträgt nur etwa 94 %.
  • Gemäß der Erfindung wird, wie vorstehend erläutert, in einem Schmelztiegel zum Gießen von Siliziummetall, das hohe Reinheit erfordert, auf die Schmelzbadkontaktoberfläche des Schmelztiegels eine Beschichtung aus Silizium-Verbund-Thermet, bestehend aus Si, Si3N4, SiO2, aufgesprüht, wodurch sich eine Beschichtung bildet, um den verdichteten geschmolzenen Siliziumdioxidschmelztiegel vor direktem Kontakt mit der Schmelzlösung zu bewahren, um Verunreinigung aufgrund des Schmelztiegelmaterials zu lösen und eine stark ablösbare funktionelle Schicht zu bilden, verglichen mit der bislang verwendeten Si3N4-Einzelbeschichtungsschicht. Im Ergebnis wird es möglich, eine Verbesserung der Produktausbeute an hochreinen Siliziumbarren anzustreben.

Claims (7)

  1. Gefäß zum Aufnehmen oder Schmelzen von geschmolzenem Silizium, das eine auf mindestens einem Teil der Innenwand des Siliziumhaltegefäßes aufgesprühte Beschichtung aus Silizium-Verbund-Thermet umfasst, welche Siliziummetall, Siliziumnitrid und Siliziumoxid umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass die aufgesprühte Beschichtung aus Silizium-Verbund-Thermet ein Mischungsverhältnis von Siliziummetall (X): Siliziumnitrid (Y):Siliziumoxid (Z) von X:Y:Z = 20-50:77-30:3-20 aufweist.
  2. Gefäß nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die aufgesprühte Beschichtung aus Silizium-Verbund-Thermet durch Aufsprühen eines Silizium-Verbund-Thermet-Materials, das durch Zusetzen von Siliziummetall als Haftmaterial zu einem Gemisch von Si3N4 und SiO2 hergestellt wird, gebildet wird.
  3. Gefäß nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Siliziumhaltegefäß aus einem Material hergestellt ist, das Siliziumoxid, Bornitrid und/oder Graphit umfasst.
  4. Gefäß nach Anspruch 3, wobei das Siliziumoxid (SiO2) verdichtetes oder gesintertes geschmolzenes Siliziumdioxid ist.
  5. Gefäß nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung eine Dicke von 20 bis 500 μm, vorzugsweise 50 bis 300 μm, aufweist.
  6. Verfahren zur Herstellung eines Gefäßes zum Aufnehmen oder Schmelzen von geschmolzenem Silizium, das Aufsprühen eines Silizium-Verbund-Thermet-Materials, bestehend aus Siliziummetall, Siliziumnitrid und Siliziumoxid, auf die Innenwand des Gefäßes umfasst, wodurch eine aufgesprühte Beschichtung aus Silizium-Verbund-Thermet gebildet wird, wobei die aufgesprühte Beschichtung aus Silizium-Thermet ein Mischungsverhältnis von Siliziummetall (X):Siliziumnitrid (Y):Siliziumoxid (Z) von X:Y:Z = 20-50:77-30:3-20 aufweist.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, wobei das Gefäß aus einem Siliziumoxid, Bornitrid und/oder Graphit, vorzugsweise verdichtetem oder gesintertem geschmolzenem Siliziumdioxid, hergestellt ist.
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