DE60025929T2 - Anordnung und verfahren zum feststellen und/oder überwachen elektrophysiologischer eigenschaften von ionenkanälen - Google Patents

Anordnung und verfahren zum feststellen und/oder überwachen elektrophysiologischer eigenschaften von ionenkanälen Download PDF

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Description

  • TECHNISCHER BEREICH
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Substrat und ein Verfahren zum Ermitteln und/oder Überwachen von elektrophysiologischen Eigenschaften von Ionenkanälen von Strukturen, welche Ionenkanäle enthalten, typischerweise von Strukturen, die eine Lipid-Membran enthalten, wie z.B. Zellen durch Herstellen einer elektrophysiologischen Messkonfiguration, bei der eine Zellmembran eine Dichtung mit hohem Widerstand um eine Messelektrode herum bildet, wodurch es möglich gemacht wird, einen Stromfluss durch die Zellmembran zu ermitteln bzw. zu messen und zu überwachen. Das Substrat ist typischerweise Teil einer Vorrichtung zum Untersuchen von elektrischen Ereignissen in Zellmembranen, wie z.B. eine Vorrichtung zum Ausführen eines Patch-Clamp-Verfahrens, wie es verwendet wird, um Ionentransferkanäle in biologischen Membranen zu studieren. Genauer gesagt betrifft die Erfindung ein Substrat für eine solche Patch-Clamp-Vorrichtung mit einem hohen Durchsatz und unter Verwendung nur kleiner Mengen von Testverbindungen und nur kleiner Mengen von flüssigem Träger, bei dem es möglich ist, viele Tests in einem kurzen Zeitraum dadurch durchzuführen, dass parallele Tests an einer Reihe von Zellen gleichzeitig und voneinander unabhängig ausgeführt werden.
  • STAND DER TECHNIK
  • Die allgemeine Idee einen Patch (Flecken) einer Membran elektrisch zu isolieren und die Ionenkanäle in diesem Patch unter Spannungs-Clamp-Bedingungen zu untersuchen, wurde von Neher, Sakmann und Steinback in dem Artikel „The Extracellular Patch Clamp, A Method For Resolving Currents Through Individual Open Channels In Biological Membranes", Pflueger Arch. 375; 219–278, 1978 umrissen. Sie fanden, dass sie dadurch, dass sie eine Pipette, die Acetylcholin (ACh) enthielt, gegen die Oberfläche einer Muskelzellen-Membran pressten, diskrete Sprünge im elektrischen Strom feststellen konnten, die dem Öffnen und Schließen von durch ACh aktivierten Ionenkanälen zugeordnet werden konnten. Sie waren bei ihrer Arbeit jedoch durch die Tatsache eingeschränkt, dass der Widerstand der Dichtung zwischen dem Glas der Pipette und der Membran (10–50 MΩ) sehr klein im Vergleich zum Widerstand des Kanals (10GΩ) war. Das elektrische Rauschen, das sich aus einer solchen Dichtung ergibt, ist umgekehrt proportional zum Widerstand und war ausreichend groß, um die Ströme zu verdecken, die durch Ionenkanäle fließen, deren Leitfähigkeit kleiner ist als die des ACh-Kanals. Es verhinderte auch aufgrund der großen Ströme durch die Dichtung, die sich ergeben hätten, das Clampen der Spannung in der Pipette auf Werfe, die von dem des Bades unterschiedlich waren.
  • Es wurde dann erkannt, dass durch Feuerpolieren von Glaspipetten und durch Anlegen einer Saugwirkung an das Innere der Pipette eine Dichtung mit sehr hohem Widerstand (1–100 GΩ) mit der Oberfläche der Zelle erzielt werden konnte. Diese Giga-Dichtung verminderte das Rauschen um eine Größenordnung auf Pegel, bei denen die meisten Kanäle von biologischem Interesse untersucht werden können, und erweiterte den Spannungsbereich in starkem Masse, über den hinweg diese Studien durchgeführt werden konnten. Diese verbesserte Dichtung wird als „Giga"-Dichtung bezeichnet, und die Pipette wird als „Patch"-Pipette bezeichnet. Eine detailliertere Beschreibung der Giga-Dichtung findet sich im Artikel von O.P. Hamill, A. Marty, E. Neher, B. Sakmann & F.J. Sigworth mit dem Titel „Improved patch-clamp techniques for high resolution current recordings from cells and cell-free membrane patches", Pflügers Arch. 391, 85–100, 1981. Für ihre Arbeit bei der Entwicklung des Patch-Clamp-Verfahrens erhielten Neher und Sakmann 1991 den Nobelpreis für Physiologie und Medizin.
  • Ionenkanäle sind transmembrane Proteine, die den Transport von anorganischen Ionen über die Zellmembranen hinweg katalysieren. Die Ionenkanäle nehmen an den verschiedensten Vorgängen teil, wie z.B. der Erzeugung und zeitlichen Steuerung von Aktionspotentialen, der synaptischen Übertragung, der Sekretion von Hormonen, der Kontraktion von Muskeln usw. Viele Medikamente üben ihre speziellen Wirkungen durch die Modulation von Ionenkanälen aus. Beispiele sind antiepileptische Verbindungen, wie z.B. Phenytoin und Lamotrigin, welche spannungsabhängige Na+-Kanäle im Gehirn blockieren, antihypertensive Medikamente, wie Nifedipin und Diltiazem, welche spannungsabhängige Ca2+-Kanäle in glatten Muskelzellen blockieren, und Stimulatoren für die Freisetzung von Insulin, wie z.B. Glibenclamid und Tolbutamid, die einen ATP-gesteuerten K+-Kanal in der Bauchspeicheldrüse blockieren. Zusätzlich zur chemisch induzierten Modulation der Ionenkanal-Aktivität hat das Patch-Clamp-Verfahren Wissenschaftler in die Lage versetzt, Manipulationen mit spannungsabhängigen Kanälen durchzuführen. Diese Verfahren umfassen das Einstellen der Polarität der Elektrode in der Patch-Pipette und die Änderung der Salzlösungs-Zusammensetzung, um die freien Ionenpegel in der Badlösung zu moderieren.
  • Das Patch-Clamp-Verfahren stellt eine wesentliche Entwicklung in der Biologie und Medizin dar, da dieses Verfahren die Messung des Ionenstroms durch einzelne Ionenkanal-Proteine ermöglicht und auch die Untersuchung der Reaktionen der einzelnen Ionenkanäle auf Medikamente. Kurz gesagt, wird bei einem standardmäßigen Patch-Clamp-Verfahren eine dünne Glaspipette (mit einem Durchmesser von ungefähr 0,5 bis 2 μm) verwendet. Die Spitze dieser Patch-Pipette wird gegen die Oberfläche der Zellmembran gedrückt. Die Pipettenspitze dichtet dicht mit der Zelle ab und isoliert einige wenige Ionenkanal-Proteine in einem winzigen Patch der Membran.
  • Die Aktivität dieser Kanäle kann individuell gemessen werden (Einzelkanal-Aufzeichnung); alternativ kann der Patch aufgerissen werden, wodurch Messungen der Kanalaktivität der gesamten Zellmembran ermöglicht werden (Gesamtzellen-Aufzeichnung). Es kann ein Zugang mit hoher Leitfähigkeit zum Inneren der Zelle zur Durchführung von Messungen beispielsweise dadurch erzielt werden, dass die Membran dadurch zerrissen wird, dass in der Pipette ein unter dem Atmosphärendruck liegender Druck angelegt wird.
  • Sowohl während der Einkanal-Aufzeichnung als auch der Gesamtzellen-Aufzeichnung kann die Aktivität einzelner Kanal-Unterarten dadurch charakterisiert werden, dass eine „festgeklemmte Spannung" über die Membran angelegt wird. Bei dem Spannungs-Clamp-Verfahren wird der Membranstrom bei einem konstanten Membranpotential aufgezeichnet. Oder – genauer gesagt – der Verstärker liefert genau den Strom, der erforderlich ist, um das Membranpotential auf einem Pegel zu halten, der durch den Experimentator festgelegt wurde. Somit können Ströme, die sich aus dem Öffnen und Schließen von Ionenkanälen ergeben, die Membran nicht wieder aufladen.
  • 1 zeigt ein vereinfachtes Diagramm des grundlegenden Betriebs eines dem Stand der Technik entsprechenden Standard-Spannungs-Clamp-Verstärkers, wie z.B. des EPC-9 Verstärkers von HEKA Elektronik. Eine Elektrode 6 innerhalb einer Pipette 4 ist mit dem negativen Anschluss eines Rückkopplungsverstärkers verbunden, während die Klemmspannung (die auf eine geerdete Badelektrode bezogen ist) mit einem positiven Anschluss (von Stim. In.) verbunden und als Spannungsüberwachungsausgangssignal verfügbar gemacht ist. Da davon ausgegangen wird, dass die gemessene Pipettenspannung und die Klemmspannung identisch sind, wird an der Pipettenelektrode beständig ein Korrekturpotential zugeführt, während ein Strom durch den großen Rückkopplungswiderstand erzwungen wird. Nach der Inversion wird der Strom als Analogspannung am Strom-Monitor-Ausgang verfügbar gemacht.
  • Die Zeitauflösung und die Spannungssteuerung bzw. Regelung bei solchen Experimenten sind beeindruckend, häufig im Bereich von ms oder μs. Ein Haupthindernis für die Patch-Clamp-Technologie als allgemeines Verfahren beim pharmakologischen Screening war jedoch die begrenzte Anzahl von Verbindungen, die pro Tag getestet werden konnten (typischerweise nicht mehr als 1 oder 2). Auch kann die äußerst langsame Rate des Lösungswechsels, der um die Zellen und die Patches herum durchgeführt werden kann, ein beträchtliches Hindernis bilden.
  • Eine Haupteinschränkung für den Durchsatz des Patch-Clamp-Verfahrens ist die Lokalisierung und das Clampen von Zellen und der Pipette sowie die Beschaffenheit des Zuführsystems, das die gelöste Verbindung zu den Zellen und Patches leitet.
  • Bei üblichen Patch-Clamp-Einrichtungen werden die Zellen in Experimentalkammern eingebracht, die kontinuierlich von einer physiologischen Salzlösung durchströmt werden. Die Ausbildung der Zellen-Pipetten-Verbindung in diesen Kammern ist zeitraubend und schwierig. Verbindungen werden dadurch zugeführt, dass der Einlass auf ein Ventil umgewechselt wird, das mit einer kleinen Anzahl von Zuführflaschen verbunden ist. Die erforderlichen Volumina der Trägerflüssigkeit und der zu testenden Probe sind groß. Es wurden Systeme mit hohem Durchsatz für die Durchführung von Patch-Clamp-Messungen vorgeschlagen, die typischerweise aus einem Substrat mit einer Vielzahl von Stellen bestehen, die ausgebildet sind, um Zellen in einer Messkonfiguration zu halten, so dass die elektrischen Eigenschaften der Zellmembran ermittelt werden können.
  • Das US-Patent 5,187,096 für Rensselaer beschreibt eine Vorrichtung zum Überwachen der Zellen-Substrat-Impedanz von Zellen. Die Zellen werden direkt auf den Elektroden kultiviert, die dann mit einer Vielzahl von Zellen bedeckt sind, so dass eine Messung von einzelnen Zellen nicht durchgeführt werden kann.
  • WO-98/54294, Leland Stanford, beschreibt ein Substrat mit Vertiefungen, die Elektrodenanordnungen enthalten. Das Substrat mit den Vertiefungen und den Elektroden (Metallelektroden) wird aus Silizium unter Verwendung von CVD (Chemischer Dampfabscheidung) und von Ätz-Verfahren hergestellt und umfasst Siliziumnitrid-Passivierungs-Schichten, welche die Elektroden umgeben. Die Zellen werden direkt auf der Elektrodenanordnung kultiviert. Das Substrat ist geeignet, elektrophysiologische Eigenschaften zu messen, und es wird eine Vielzahl von Mess-Schemata beschrieben.
  • WO 99/66329, Cenes, beschreibt ein Substrat mit in Vertiefungen angeordneten Perforationen und Elektroden, die auf jeder Seite des Substrats vorgesehen sind. Das Substrat wird dadurch hergestellt, dass ein Siliziumsubstrat mit einem Laserstrahl perforiert wird, und es kann mit einem Anti-Haftmaterial auf der Oberfläche beschichtet sein. Das Substrat ist geeignet, Giga-Dichtungen mit Zellen dadurch zu bilden, dass die Zellen auf den Perforationen unter Verwendung eines Unterdrucks positioniert werden, der einen Flüssigkeitsstrom durch die Perforationen erzeugt, oder dadurch, dass eine Anti-Haft-Schicht vorgesehen wird, welche die Perforationen umgibt, oder dadurch, dass die Zellen elektrisch geführt werden. Die Zellen können durch EM-Felder oder chemische Verfahren permeabilisiert werden, um eine Gesamtzellen-Mess-Konfiguration zu schaffen. Alle Perforationen und somit alle messbaren Zellen in einer Vertiefung teilen sich eine Arbeitselektrode und eine Referenzelektrode, siehe 1; somit können keine Messungen an einzelnen Zellen durchgeführt werden.
  • WO 99/31503, Vogel et al., beschreibt eine Messeinrichtung mit einer Aperfur, die in einer Vertiefung auf einem Substrat (Träger) angeordnet ist und zwei Abteile voneinander trennt. Die Messvorrichtung umfasst zwei Elektroden, die auf den beiden Seiten der Apertur angeordnet und geeignet sind, eine Zelle an der Aperturöffnung zu positionieren. Das Substrat kann hydrophobe und hydrophile Bereiche besitzen, um die Positionierung der Zellen an der Aperturöffnung zu unterstützen.
  • WO 00/73784 (mit dem Prioritätsdatum vom 28.05.1999 und einem Veröffentlichungsdatum vom 7.12.2000), Case Western Reserve University, beschreibt ein Verfahren zum Messen des Ab- und Zuflusses von chemischen Medikamenten, wie z.B. Doxorubicin aus einer bzw. in eine Zelle, wie z.B. einer menschlichen Krebszelle oder einer anderen biologischen Zelle. Das Verfahren umfasst das Einführen des Medikaments in die Zelle beispielsweise dadurch, dass die Zelle in ein Kulturmedium eingetaucht wird, welches das Medikament enthält, oder durch direkte Injektion in die Zelle. Die das Medikament enthaltende Zelle wird dann in ein medikamentenfreies flüssiges Medium eingetaucht und der Ab- bzw. der Zufluss des Medikaments aus der bzw. in die Zelle wird mit einer elektrochemischen Ausrüstung gemessen. Zur Erfassung des Abflusses einer kleinen Zellpopulation oder einer einzigen Zelle kann die Signalstärke dadurch erhöht werden, dass das Medikament an einer Arbeitselektrode vorkonzentriert wird, und dadurch, dass die Sauerstoffkonzentration des Mediums um die Zelle herum erhöht wird. Eine Zelle oder eine kleine Gruppe von Zellen, die untersucht werden sollen, können auf einem Substrat dadurch räumlich positioniert werden, dass ein kleiner Bereich des Substrates mit einer Schicht aus hydrophilem Material überzogen wird, an welchem die Zelle haftet.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung sieht ein Substrat und ein Verfahren vor, die zur Ermittlung oder Überwachung von Strömen optimiert sind, welche durch Strukturen fließen, die Ionenkanäle enthalten, wie z.B. durch Zellmembranen, mit einem hohen Durchsatz und einer hohen Zuverlässigkeit und unter Bedingungen, die bezüglich der Einflüsse realistisch sind, denen Zellen oder Zellmembranen unterworfen sind. Somit kann man sich auf die Ergebnisse, die unter Verwendung des Substrates und des Verfahrens gemäß der Erfindung erzielt werden, beispielsweise die Variationen in der Ionenkanalaktivität als Ergebnis einer Beeinflussung der Zellmembran beispielsweise mit verschiedenen Testverbindungen, als echte Manifestationen der tatsächlichen Einflüsse verlassen, und es werden keine Artefakte durch das Mess-System eingeführt, so dass die Ergebnisse als gültige Basis für die Untersuchung von elektrophysiologischen Phänomenen verwendet werden können, die im Zusammenhang mit der Leitfähigkeit oder der Kapazität von Zellmembranen unter gegebenen Bedingungen stehen.
  • Dies ist der Fall, weil der Strom durch einen oder mehrere Ionenkanäle direkt unter Verwendung von reversiblen Elektroden gemessen wird, wie dies im folgenden erläutert ist, bei denen es sich typischerweise um Silber/Silberhalid-Elektroden, wie z.B. Silberchlorid-Elektroden handelt, die sowohl als Messelektroden als auch als Referenzelektroden verwendet werden.
  • Das Substrat und das Verfahren gemäß der Erfindung können nicht nur für Messungen an Zellmembranen sondern auch an anderen Strukturen verwendet werden, die Ionenkanäle enthalten, wie z.B. an künstlichen Membranen. Die Erfindung ermöglicht die Durchführung mehrerer Tests, wie z.B. elektrophysiologischer Messungen an Ionentransfer-Kanälen und Membranen gleichzeitig und voneinander unabhängig. Das Substrat der Erfindung bildet ein vollständiges und einfach zu handhabendes Mikrosystem, das nur kleine Mengen von Trägerflüssigkeit (einer physiologischen Salzlösung, die mit den Zellen isotonisch ist, d.h. normalerweise eine Osmolarität von 150 millimolarem NaCl oder einem anderen geeigneten Salz aufweist) und kleine Mengen von Testproben verwendet.
  • Gemäß einem Gesichtspunkt betrifft die Erfindung eine Baueinheit, die folgendes umfasst:
    ein ebenes Substrat, das einen ersten Oberflächenbereich und einen gegenüberliegenden zweiten Oberflächenbereich besitzt, wobei der erste Oberflächenbereich eine Vielzahl von Plätzen aufweist, von denen jeder geeignet ist, eine Ionenkanäle enthaltende Struktur aufzunehmen, die in einer Flüssigkeit enthalten ist, und von denen jeder einen in ihm verlaufenden Durchgang durch das Substrat aufweist, wobei der Durchgang den ersten Oberflächenbereich und den zweiten Oberflächenbereich miteinander verbindet und wobei der Durchgang Wände besitzt und so dimensioniert ist, dass er eine Ionenkanäle enthaltende Struktur hält,
    eine Vielzahl von Messelektroden, von denen jede einem entsprechenden Platz zugeordnet ist,
    eine oder mehrere Referenzelektroden, wobei die Messelektroden und die entsprechende Referenzelektrode oder Referenzelektroden Elektroden sind, die in der Lage sind, dann, wenn sie miteinander in einem elektrolytischen Kontakt stehen und wenn zwischen ihnen eine Potentialdifferenz angelegt wird, durch die Abgabe von Ionen durch eine Elektrode und die Aufnahme von Ionen durch die andere Elektrode zwischen sich einen Strom fließen zu lassen, und ist
    dadurch gekennzeichnet, dass
    jeder der Plätze in der Lage ist, eine Dichtung mit hohem elektrischen Widerstand zu schaffen, die zwischen einem Berührungsbereich der äußeren Oberfläche einer Ionenkanäle enthaltenden Struktur, die an diesem Platz gehalten wird, und dem umgebenden ersten Oberflächenbereich des Substrates oder längs der Wände des Durchgangs gebildet wird, wobei die Dichtung dann, wenn sie ausgebildet ist, eine Domäne, die auf der einen Seite der Dichtung definiert ist und von der Ionenkanäle enthaltende Struktur gebildet wird und in elektrolytischem Kontakt mit der Messelektrode steht, von einer Domäne trennt, die auf der gegenüberliegenden Seite der Dichtung von der Ionenkanäle enthaltenden Struktur gebildet wird und in elektrolytischem Kontakt mit der entsprechenden Referenzelektrode steht, wodurch ein Strom, der zwischen der Referenzelektrode und entsprechenden Messelektroden und durch die Ionenkanäle enthaltende Struktur fließt, ermittelt und/oder überwacht werden kann,
    wobei die Elektroden mit der Baueinheit integriert sind und wobei die Baueinheit weiterhin eine Vielzahl von Strömungskanal-Strukturen umfasst, die in dem Substrat erzeugt sind, um Flüssigkeit an die Vielzahl von Plätzen zu liefern.
  • Gemäß einem anderen Gesichtspunkt betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Ausbildung einer Ganzzellen-Messkonfiguration zum Ermitteln und/oder Überwachen einer elektrophysiologischen Eigenschaft eines oder mehrerer Ionenkanäle von einer oder mehreren Ionenkanäle enthaltenden Strukturen, wobei dieses Verfahren folgende Schritte umfasst:
    Bereitstellen einer Baueinheit, die folgendes aufweist: ein ebenes Substrat, das einen ersten Oberflächenbereich und einen gegenüberliegenden zweiten Oberflächenbereich aufweist, wobei dieses Substrat eine Vielzahl von Plätzen in dem ersten Oberflächenbereich des Substrates besitzt, von denen jeder geeignet ist, eine Ionenkanäle enthaltende Struktur zu halten, und von denen jeder einen in ihm ausgebildeten Durchgang durch das Substrat hindurch aufweist, der den ersten Oberflächenbereich und den zweiten Oberflächenbereich miteinander verbindet, wobei der Durchgang Wände besitzt und so dimensioniert ist, dass er eine Ionenkanäle enthaltende Struktur hält und eine Dichtung mit hohem Widerstand zwischen der Ionenkanäle enthaltenden Struktur und dem Substrat längs der Wände des Durchgangs oder um diese herum bildet, und eine Vielzahl von Messelektroden, von denen jede einem entsprechenden Platz zugeordnet ist, und eine oder mehrere Referenzelektroden,
    Zuführen einer Trägerflüssigkeit zu einem oder mehreren Plätzen unter Verwendung einer Vielzahl von Strömungskanal-Strukturen, die in dem Substrat ausgebildet sind, wobei die Trägerflüssigkeit eine oder mehrere Ionenkanäle enthaltende Strukturen enthält und die Trägerflüssigkeit mit dem ersten Oberflächenbereich des Substrates in Berührung steht,
    Positionieren wenigstens einer der Ionenkanäle enthaltenden Strukturen an einer entsprechenden Anzahl von Plätzen,
    Ausbilden einer einen hohen elektrischen Widerstand aufweisenden Dichtung zwischen einem Berührungsbereich der äußeren Oberfläche einer Ionenkanäle enthaltenden Struktur, die an dem Platz gehalten wird, und einem ersten Oberflächenbereich des Substrates, um die Wände des Durchgangs herum oder längs dieser Wände, wobei die Dichtung dann, wenn sie ausgebildet ist, eine Domäne, die auf der einen Seite der Dichtung durch die Ionenkanäle enthaltende Struktur definiert ist und in elektrolytischem Kontakt mit der Messelektrode steht, von einer Domäne trennt, die auf der gegenüberliegenden Seite der Dichtung definiert ist und von der Ionenkanäle enthaltenden Struktur gebildet wird und in elektrolytischem Kontakt mit der entsprechenden Referenzelektrode steht,
    Suchen nach einer Dichtung mit hohem elektrischen Widerstand zwischen einer Ionenkanäle enthaltenden Struktur, die an einem Platz in dem ersten Oberflächenbereich des Substrates oder längs der Wände des besagten Durchgangs gehalten wird, mit dem die den hohen elektrischen Widerstand besitzende Dichtung ausgebildet werden soll, durch nacheinander erfolgendes Anlegen einer ersten elektrischen Potentialdifferenz zwischen der Messelektrode, die dem Platz zugeordnet ist, und einer Referenzelektrode, Überwachen eines ersten Stroms, der zwischen der Messelektrode und der Referenzelektrode fließt, und Vergleichen dieses ersten Stromes mit einem vorbestimmten Schwellenstrom, und dann, wenn der erste Strom im wesentlichen der vorbestimmte Schwellenstrom ist, Zulassen des Platzes als Platz, der eine akzeptable Dichtung zwischen der Ionenkanäle enthaltenden Struktur und dem ersten Oberflächenbereich des Platzes aufweist, und
    Ausbilden einer Ganzzellen-Konfiguration an zugelassenen Plätzen,
    wodurch ein dritter Strom, der durch Ionenkanäle der Ionenkanäle enthaltenden Struktur zwischen der Messelektrode und den Referenzelektroden fließt, bestimmt und/oder überwacht werden kann.
  • Eine Ionenkanäle enthaltende Struktur in einer Lösung kann zu einem Platz auf einem Substrat entweder durch aktive oder passive Einrichtungen geführt werden. Wenn die Ionenkanäle enthaltende Struktur mit dem Platz in Berührung kommt, beispielsweise mit dem Substrat um eine Elektrode herum, bilden die Kontaktoberflächen eine Dichtung mit hohem elektrischen Widerstand (eine Giga-Dichtung) an dem Platz, d.h. um die Elektrode herum, so dass eine elektrophysiologische Eigenschaft des Ionenkanals unter Verwendung der betreffenden Elektrode gemessen werden kann. Eine solche elektrophysiologische Eigenschaft kann der Strom sein, der durch den Teil der Membran der Ionenkanäle enthaltenden Struktur geleitet wird, der von der Giga-Dichtung umgeben ist.
  • Im vorliegenden Zusammenhang bezeichnet der Ausdruck „Giga"-Dichtung normaler weise eine Dichtung mit wenigstens einem GΩ (Giga-Ohm) und dies ist die Größe einer Dichtung, die normalerweise als Minimum angestrebt wird, doch können für bestimmte Arten von Messungen, bei denen die Ströme groß sind, niedrigere Werte als Schwellenwerte ausreichend sein.
  • Die Ganzzellen-Konfiguration kann dadurch erzielt werden, dass zwischen der Messelektrode, die jedem zugelassenen Platz zugeordnet ist, und einer Referenzelektrode eine Reihe von Impulsen mit einer zweiten elektrischen Potentialdifferenz angelegt wird, sowie durch das Überwachen eines zweiten Stroms, der zwischen der Messelektrode und der Referenzelektrode fließt, und das Unterbrechen der Reihe von Impulsen mit einer zweiten elektrischen Potentialdifferenz immer dann, wenn der zweite Strom einen vorbestimmten Schwellenwert überschreitet, wodurch der Teil der Ionenkanäle enthaltenden Struktur aufgerissen wird, der sich am nächsten an der Messelektrode befindet.
  • Alternativ kann die Ganzzellen-Konfiguration dadurch erhalten werden, dass der Teil der Ionenkanäle enthaltenden Struktur, der sich am nächsten an der Messelektrode befindet, eine Wechselwirkung mit einer Poren bildenden Substanz unterworfen wird.
  • Es sei darauf hingewiesen, dass im vorliegenden Zusammenhang der Ausdruck „Ganzzellen-Konfiguration" nicht nur Konfigurationen bezeichnet, in denen eine ganze Zelle mit dem Substrat an einem Messplatz in Berührung gebracht und punktiert worden ist oder mit einer Poren bildenden Substanz für einen elektrischen Kontakt mit dem Inneren der Zelle geöffnet worden ist, sondern auch Konfigurationen, bei denen ein ausgeschnittener Zellmembran-Patch so angeordnet worden ist, dass die äußere Oberfläche der Membran „nach oben" zu einer aufzubringenden Testprobe weist.
  • Wenn es sich bei der Messelektrode, die einem Platz zugeordnet ist, um eine aus einer Vielzahl von Elektroden auf dem Substrat handelt, und wenn die Ionenkanäle enthaltende Struktur eine von vielen solchen Strukturen in einer Lösung ist, ist es möglich, viele solche vorbereiteten Messanordnungen auf einem Substrat zu erzielen. Eine typische Messung umfasst das Hinzufügen einer speziellen Testprobe zur Messanordnung; aus diesem Grund ist jede Messanordnung von den anderen Messanordnungen getrennt, um eine Vermischen der Testproben und eine elektrische Leitung zwischen den Anordnungen zu vermeiden.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNG
  • Die Erfindung wird im Folgenden noch mehr im Einzelnen unter Bezugnahme auf die beigefügte Zeichnung beschrieben; in dieser zeigen:
  • 1 wie oben erwähnt, ein Diagramm einer typischen bekannten elektronischen Schaltung für Spannungs-Clamp-Messungen,
  • 2 eine schematische Darstellung von Beispielen von Substraten, welche Plätze mit Elektroden zum Halten von Zellmembranen oder künstlichen Membranen aufweisen,
  • 3A3D Querschnitts-Seitenansichten von Substraten, welche die unterschiedlichen bis 3D Schichten wiedergeben, die in Wafer-Bearbeitungs-Technologie (Abscheidungs- /Fotolithographie-/Ätz-Technologie) hergestellt worden sind,
  • 4A eine Querschnitts-Seitenansicht eines anderen Aufbaus eines Substrates, das Plätze mit Elektroden zum Halten von Zellmembranen oder künstlichen Membranen aufweist,
  • 4B eine Draufsicht auf die Struktur aus 4A,
  • 5 eine Vergrößerung von Plätzen, die von einem Bereich aus hydrophobem Material umgeben sind,
  • 6 einen Testbezirk mit einem Array von Elektroden, die mit einer Reihe von Kontakten verbunden sind, und
  • 7 ein Flussdiagramm für ein Verfahren zur Erkennung, ob eine Zelle mit einem Substrat, beispielsweise um eine Elektrode herum, eine Giga-Dichtung bildet.
  • BEZUGSZEICHENLISTE
    Figure 00090001
  • BESCHREIBUNG VON BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Substrat mit einer Vielzahl von Elektroden an Stellen, die geeignet sind, Zellen (oder andere Ionenkanäle enthaltende Strukturen) aufzunehmen oder festzuhalten, so dass die Zellmembran und die Substratzwischenfläche eine Giga-Dichtung um eine Elektrode herum erzeugen, die es möglich macht, elektrophysiologische Eigenschaften der Zellmembran zu ermitteln oder zu überwachen. Es sei darauf hingewiesen, dass dann, wenn der Ausdruck „Zelle" oder „Zellmembran" in der vorliegenden Beschreibung verwendet wird, es in Abhängigkeit vom Zusammenhang normalerweise möglich ist, jede andere Ionenkanäle enthaltende Struktur, wie z.B. eine andere Ionenkanäle enthaltende Lipid-Membran oder eine Ionenkanäle enthaltende, künstliche Membran zu verwenden. Elektrophysiologische Eigenschaften können beispielsweise der Stromfluss durch einen Ionenkanal oder die Kapazität einer Ionenkanäle enthaltenden Membran sein. Es ist möglich, individuelle Testproben (typischerweise pharmakologische Medikamente) an jeder eine Zelle haltenden Stelle hinzuzugeben, so dass an jeder Zelle individuelle Experimente durchgeführt werden können. Ein Experiment kann sein, die Reaktion des Ionenübertragungs-Kanals auch die Zugabe einer Testprobe zu messen. Um individuelle Experimente durchzuführen, können unterschiedliche Testproben unterschiedlichen, eine Zelle festhaltenden Plätzen hinzugefügt werden. Einer oder mehrere eine Zelle haltende Plätze, an denen eine spezifische Testprobe hinzugefügt wird oder hinzugefügt werden soll, wird im Folgenden als Testbezirk bezeichnet.
  • Das Substrat der Erfindung ist typischerweise ein Bestandteil, der in einer Vorrichtung zur Durchführung von Messungen der elektrophysiologischen Eigenschaften von Ionentransfer-Kanälen in Lipid-Membranen, wie z.B. Zellen verwendet wird.
  • Die Vorrichtung ist so aufgebaut, dass sie Mittel zum Durchführen einer großen Anzahl von individuellen Experimenten in einem kurzen Zeitraum zur Verfügung stellt. Dies wird dadurch erzielt, dass ein Mikrosystem vorgesehen wird, das eine Vielzahl von Testbezirken aufweist, von denen jeder Plätze besitzt, die integrierte Messelektroden umfassen, und in dem eine geeignete Testproben-Zuführung vorgesehen ist. Jeder Testbezirk kann Mittel zum Positionieren der Zellen, zur Ausbildung einer Giga-Dichtung, zur Auswahl von Plätzen, an denen eine Giga-Dichtung ausgebildet worden ist, Messelektroden und eine oder mehrere Referenzelektroden umfassen. Dadurch ist es möglich, unabhängige Experimente in jedem Testbezirk durchzuführen und die Vorbereitung und die Messungen aller Experimente von einer zentralen Steuerungseinheit, wie z.B. einem Computer aus zu steuern. Aufgrund der kleinen Größe der Testbezirke ermöglicht die Erfindung die Durchführung von Messungen unter Verwendung von nur sehr kleinen Mengen von Trägerflüssigkeit und Testproben. Die vorliegende Erfindung schafft auch mehrere verschiedene Prozeduren zur Durchführung von Messungen; hierzu gehören Messungen an Fragmenten von Zellen und künstlichen Membranen.
  • Das Substrat, das Plätze mit Messelektroden aufweist (im Folgenden als Elektroden bezeichnet) kann auf verschiedene Weisen aufgebaut sein, von denen drei in den 2A bis 2C und weitere in den 4A und 4B dargestellt sind. Der Unterschied zwischen den Ausführungsformen ist der Aufbau der Plätze auf dem Substrat. Plätze sind geeignet, eine Ionenkanäle enthaltende Struktur, wie z.B. eine Zelle dadurch festzuhalten, dass das Oberflächenmaterial an der Stelle gut geeignet ist, eine Dichtung mit der Zellenmembran (oder Struktur-Membran) zu erzeugen, wie dies im Stand der Technik beschrieben wird. Solche Materialien umfassen Silizium, Kunststoff, reines Siliziumdioxid und andere Gläser, wie z.B. Quarz und Pyrex oder Siliziumoxid, das mit einem oder mehreren Dope-Mitteln dotiert ist, die aus der Gruppe Be, Mg, Ca, B, Al, Ga, Ge, N, P, As und den Oxiden dieser Elemente ausgewählt sind. Das Substrat selbst kann aus irgendeinem Material hergestellt sein, das für eine Wafer-Bearbeitungstechnologie geeignet ist, wie z.B. Silizium, Kunststoff, reines Siliziumdioxid und andere Gläsern, wie z.B. Quarz und Pyrex oder Siliziumdioxid, das mit einem oder mehreren Dope-Mitteln dotiert ist, die aus der Gruppe Be, Mg, Ca, B, Al, Ga, Ge, N, P, As ausgewählt sind. Silizium ist das zurzeit bevorzugte Substratmaterial.
  • Bei den Konstruktionen der 2A bis 2C sind die Plätze 14 an einer örtlich flachen Oberfläche auf dem Substrat 12 angeordnet. Örtlich flach bedeutet, dass die Oberfläche des Substrates eine gewisse Substruktur 13 mit einem Maßstab aufweisen kann, der größer ist als der von einem oder mehreren Plätzen, wie man der 2B entnimmt. Plätze und damit Elektroden 16 können innerhalb dieser Substruktur einzeln oder in Gruppen angeordnet werden.
  • Die Verfahren zur Herstellung der drei Konstruktionen aus 2 sind zueinander analog. Die 2A und 2B umfassen lediglich eine Unterteilung der Grundstruktur von 2C. Die Herstellung der Strukturen wird nun unter Bezugnahme auf die 3A und 6 beschrieben:
    Leitungen 18 aus leitfähigem Material werden auf der Oberfläche des Substrates dadurch ausgebildet, dass zunächst eine Schicht aus leitfähigem Material auf dem Substrat abgeschieden wird. Die Abscheidung von Materialien auf dem Substrat und auf anderen, in der Beschreibung erwähnten Oberflächen kann dadurch erfolgen, dass eine von mehreren Abscheidungstechnologien verwendet werden, wie z.B. Physical Vapour Deposition, das folgendes umfasst 1) Aufbringen von Material aus einer Dampfphase, 2) Sputtern und 3) Laserabtragung; Chemical Vapour Depositions-Verfahren, die umfasst 1) unter Atmosphärendruck erfolgende chemische Dampfabscheidung (APCVD), 2) unter niederem Druck erfolgende chemische Dampfabscheidung (LPCVD), 3) plasmaverstärkte chemische Dampfabscheidung (PECVD) und 4) lichtverstärkte chemische Dampfabscheidung; auch sind eine Rotationsbeschichtung und Wachstums-Verfahren möglich. Zweitens werden die einzelnen Leitbahnen in einem fotolithographischen Schritt definiert, und drittens wird leitfähiges Material, das nicht Teil einer Leitbahn ist, durch Ätzen entfernt. Die Leitbahnen sind vorzugsweise so definiert, dass ein Teil der Leitbahnen eine Linie von Kontaktflecken 20 bildet, während ein anderer Teil eine Anordnung von Messelektrodenteilen 16 und eine oder mehrere Referenzelektroden 8 bildet. Die Anordnung von Elektrodenteilen ist nicht notwendigerweise ein geordnetes Muster. Der Kontaktfleck und der Elektrodenteil sind vorzugsweise die beiden Endteile der Leitbahn, doch können sie irgendwelche Teile beispielsweise eines Musters von Leitbahnstreifen sein. Vorzugsweise besteht das leitfähige Material aus Metallen oder dotiertem Silizium.
  • Um die Elektroden und Kontakte auszubilden, wird das leitfähige Material, das keinen Teil der Elektroden oder Kontaktteil einer jeden Leitbahn bildet, mit einem isolierenden (hydrophilen) Film 22, beispielsweise Siliziumdioxid oder mehreren Schichten aus Siliziumnitrid und Siliziumdioxid abgedeckt. Dies wird in der Weise ausgeführt, dass die gesamte Oberfläche mit einer Schicht des isolierenden Films entweder durch thermische Oxidation von Silizium, physikalische oder chemische Dampfabscheidung oder Rotations-Schleuder-Beschichtung abgedeckt wird. Unter Verwendung eines Fotolithographie- und eines Ätzschrittes werden Teile des isolierenden Films entfernt, um die Leitbahnen freizulegen und dadurch Elektroden 16 und 8 und Kontaktflächen 20 auszubilden. Für einen besseren elektrischen Kontakt können die Elektroden (und Kontakte) mit Silber 24 beschichtet werden. Alternativ können in den Fällen Abhebe-Verfahren verwendet werden, in welchen mehrere Materialschichten in mehreren dünnen Lagen abgeschieden werden sollen. Hier wird ein Fotolack über dem Substrat abgeschieden und das auszubildende Muster wird in dem Fotolack durch Beleuchtung durch eine Maske hindurch hindurchgeführt, worauf ein Ätz-Schritt folgt. Eine Schicht aus Material, typischerweise ein Metall wird durch Dampfabscheidung auf der Struktur abgeschieden und der Fotolack wird aufgelöst, wodurch Metall in dem definierten Muster zurückbleibt. In diesem Stadium erscheint das Substrat wie in 7 dargestellt, wobei die dünnen Leitbahnen 18, welche die Elektroden und die Kontakte miteinander verbinden, durch einen isolierenden Film abgedeckt sind.
  • Optional werden, wie in 3A gezeigt, hydrophobe Bereiche 26, die vollständig die Elektrodenplätze oder Gruppen von Plätzen umgeben, unter Verwendung einer Kombination aus einer Abscheidung eines hydrophoben Materials wie z.B. Teflon und Fotolithographie ausgebildet. Das hydrophobe Material wird entweder durch Rotationsschleuder-Beschichtung, chemische Dampfabscheidung oder plasmaverstärkte chemische Dampfabscheidung abgeschieden. 2A zeigt eine mögliche Verwendung solcher Bereiche.
  • Schließlich wird vor der Verwendung eine Silberchloridschicht 28 auf der Elektrode 16 unter Verwendung einer elektrolytischen Behandlung ausgebildet. Die gleiche Vorgehensweise erfolgt normalerweise für alle Mess- und Referenzelektroden in den Substraten der Erfindung, um sie als Silber/Silberhalid-Elektroden wie z.B. Silber/Silberchlorid-Elektroden herzustellen.
  • 3B zeigt eine vergrößerte Darstellung eines Platzes, der eine Zelle 2 festhält, wobei die Dichtung 25 an dem Platz ausgebildet ist, der die AgCl-Schicht 28 umgibt. Bei der Herstellung der Elektrode wird ein großes Volumen einer AgCl-Schicht 28 auf der Oberseite des Silbers 24 vor der Abscheidung der Siliziumschicht 22 ausgebildet, wodurch eine starke Zufuhr von AgCl sichergestellt wird.
  • 3C zeigt eine Baueinheit, bei der die Messelektrode in einer kleinen Vertiefung 27 positioniert ist, wodurch die Dichtung zwischen der Membran und dem Rand der Vertiefung 27 gebildet wird. In Abhängigkeit von der Größe der Vertiefung 27 erlaubt diese Baueinheit eine stärkere Trennung der Membran und der Arbeitselektrode sowie ein größeres Volumen der Trägerflüssigkeit, welche die Elektrode umgibt.
  • 3D zeigt eine weitere Baueinheit, bei der die Arbeitselektrode in einer kleinen Vertiefung 27 wie in 3C positioniert ist. Hier wurde eine Poren bildende Substanz 40 an dem Platz abgeschieden, um durch die Wirkung der aufgelösten, Poren bildenden Substanz auf der Zelle eine Gesamtzellen-Mess-Konfiguration zu schaffen, wenn eine Zelle dort positioniert wird.
  • Bei der Konstruktion aus 4A ist ein Platz am Boden einer Vertiefung, eine geometrisch geformte Struktur auf dem Substrat. Die Funktion der Vertiefung ist sowohl eine Positionierung der Zelle 2 an dem Platz als auch die Abtrennung eines Festbezirks, der in diesem Fall aus einzelnen Plätzen besteht.
  • Ein Substrat mit einer Vertiefung, die wie eine stumpfkegelige Pyramide geformt ist, ist in 4A dargestellt, wobei eine Öffnung oder ein Durchgang 30 vom engen Ende der stumpfkegeligen Pyramide zum unteren Oberflächenteil des Substrates ebenfalls im Substrat ausgebildet ist, so dass die Vertiefung und der Durchgang auf diese Weise einen Trichter bilden. Eine Messelektrode 16 ist auf dem unteren Oberflächenteil des Substrates in der Nähe der Öffnung oder des Durchgangs angeordnet und eine Referenzelektrode 8 ist auf einer der Seitenoberflächen der Vertiefung vorgesehen, wie in 4A gezeigt. Vorzugsweise ist eine Leitungsanordnung 32 zum Anlegen eines Unterdrucks an den Durchgang auf der unteren Seite des Substrates vorgesehen. In einer bevorzugten Ausführungsform führt diese Leitungsanordnung zur oberen Seite des Substrates und kann die elektrische Verdrahtung für die Messelektrode mit umfassen.
  • Wenn oben der Ausdruck „Unterseite" verwendet wird, so bezieht sich dies lediglich auf die Ausrichtung der Zeichnung. Bei der Verwendung des Substrates gemäß der Erfindung ist es keine Bedingung, dass der erste Oberflächenteil des Substrates der obere Oberflächenteil und der zweite Oberflächenteil der untere Oberflächenteil ist. Mit anderen Worten, die Schwerkraft wird in Verbindung mit diesen sehr kleinen Strukturen nicht in wesentlichem Maße verwendet, und beispielsweise könnte die Anordnung gemäß 4A auch in einer Orientierung verwendet werden, die der Orientierung entspricht, die sich ergibt, wenn die Figur um einen Winkel von 180° (oder irgendeinen anderen Winkel für diesen Zweck) gedreht worden ist.
  • Die in 4A gezeigte Vertiefung ist im Wesentlichen ein stumpfkegelig-pyramidenförmiger Hohlraum mit einem Loch 30 am Scheitel. Die Basis der Pyramide ist ein Quadrat. Der Scheitelwinkel der Pyramide ist 2 × 54,7°, die Wafer-Dicke d = 350–650 μm, die Seitenlänge am Scheitel der Pyramide ist w ≈ 30 μm, um Raum für eine Zelle zu lassen. Der Scheitel der Pyramide ist mit einer Siliziumdioxid-Membran 31 mit einer Dicke h ≈ 3 μm abgedeckt. In dieser Membran ist ein Loch mit einem Durchmesser a ≈ 0,1 bis 10 μm, beispielsweise 1–5 μm ausgebildet.
  • Die eine oder mehrere Vertiefungen umfassende Struktur kann auf mehrere ziemlich unterschiedliche Weisen hergestellt werden. Im Folgenden werden zwei unterschiedliche Herstellungsverfahren für die Basisstruktur zusammengefasst, nämlich das „Oxid-Zuerst-Verfahren" und das „Oxid-Zuletzt-Verfahren".
  • Oxid-Zuerst-Verfahren
  • Aufwachsen lassen von 3 μm nassem, thermischen SiO2, das das gesamte Substrat bedeckt.
  • Ausbilden des Lochs an der Bodenseite des Substrats durch Fotomaskierung und reaktives Ionenätzen zur Herstellung des Lochs durch das Oxid im Silizium-Substrat. Abscheiden von LPCVD-Siliziumnitrid für eine Ätzmaske auf beiden Seiten des Substrats. Definieren von Nitrid-Fenstern zur Ausbildung einer Pyramiden-Basisebene auf der oberen Seite des Substrates durch Fotomaskierung und reaktives Ionenätzen und nasses Oxidätzen (gepufferte Fluorsäure).
  • Ätzen der pyramidenförmigen Hohlräume durch die Fenster durch anisotropes Ätzen im Silizium. Dies erzeugt Pyramidenseiten mit einer Neigung von 54,7°.
  • Abziehen des Nitrid-Ätz-Stopps unter Verwendung von heißer H3PO4.
  • Wachsen lassen von 1 um nassem, thermischen SiO2, um den Körper des Silizium-Wafers elektrisch zu isolieren und um die Seiten der Pyramide abzudecken. Andere SiO2-Bereiche wachsen nicht wesentlich.
  • Oxid-Zuletzt-Verfahren
  • Ausbilden einer Ätz-Stopp-Schicht im Silizium (Bor-Dotierung) auf der Unterseite des Substrats unter Verwendung einer Dotierung durch Implantation oder epitaxiales Wachstum. Die Ätz-Stopp-Schicht ist typischerweise ungefähr 1 μm dick.
  • Abscheiden von LPCVD-Siliziumnitrid für eine Ätzmaske auf beiden Seiten des Substrats. Definieren von Nitrid-Fenstern zur Bildung einer Pyramidenbasis-Ebene auf der oberen Seite des Substrates durch Fotomaskierung und reaktive Ionenätzung und Nassoxid-Ätzung (gepufferte Fluorsäure).
  • Ätzen von pyramidalen Hohlräumen durch die Fenster durch anisotropes Ätzen im Silizium. Dies erzeugt Pyramidenseiten mit einer Neigung von 54,7°. Die Ätzung stoppt an der mit Bor dotierten Ätz-Stopp-Schicht um eine ungefähr 1 μm dicke Siliziummembran zu bilden.
  • Ablösen der Nitrid-Ätz-Stopp-Schicht unter Verwendung von heißer H3PO4.
  • Definieren des Lochs auf der Unterseite durch Fotomaskierung und reaktives Ionen-Ätzen des Siliziums.
  • Wachstum von nassem thermischen SiO2 zum Umwandeln der Siliziummembran in ein Oxid überall auf dem Substrat. Dieser Prozess lässt das Loch schrumpfen, da SiO2 auch innerhalb des Loches gebildet wird, das dadurch kleiner gemacht werden kann im Vergleich zu dem, was unter Verwendung von Fotolithographie möglich ist.
  • Bei beiden Produktionsverfahren gilt die Hauptsorge während der Herstellung der mechanischen Stabilität der SiO2-Membran mit dem Loch während des abschließenden Hochtemperatur-Oxidationsschritts. Das Oberflächenmaterial (hier SiO2) kann optional mit Siliziumnitrid beschichtet werden, um einen Beitrag zur elektrischen Leitfähigkeit zu verhindern.
  • Jetzt können die Mess- und Referenzelektroden ausgebildet werden. Die Messelektrode auf der Unterseite kann unter Verwendung von standardmäßigen Abscheide- und Fotolithographie-Verfahren ausgebildet werden. Die Referenzelektrode wird vorzugsweise unter Verwendung der Verdampfung von leitfähigem Material durch eine Schattenmaske oder durch Verwendung eines Elektrophorese-Lack-Verfahrens ausgebildet.
  • Weiterhin können Strömungskanalstrukturen zum Hinzugeben von Flüssigkeit zum Trichter möglicherweise im Substrat hergestellt werden, indem man einen Einström- und einen Ausström-Durchgang zum bzw. vom Trichter und sonst wo auf dem Substrat herstellt. Alternativ werden die Strömungskanäle unter Verwendung von normalen Ätz-Verfahren auf einem anderen Substrat ausgebildet, das auf die Oberseite des Substrats aufgebracht werden soll.
  • Die beschriebenen Merkmale sind vorzugsweise so angeordnet, dass ein einfacher Zugang zu allen Verbindungs-Ein- und -Auslässen von der Oberseite der Baueinheit her besteht, wie in 4B gezeigt (Absaugauslass 32, Kontakte zur Messelektrode 16 und zur Referenzelektrode 8). Diese bevorzugte Konfiguration ist für ein Anlegen an eine Einheit geeignet, die ähnliche aber umgekehrte Ein- und Auslässe auf der Oberseite der Baueinheit besitzt.
  • Es ist ein wesentlicher Gesichtspunkt, dass das Substrat Mittel zum Trennen der Testbezirke 15 liefern kann, wie in 2 gezeigt. Die Testbezirke enthalten vorzugsweise Volumina im Bereich von Nanolitern. Dies ist günstig, wenn man die erforderlichen Mengen der häufig teuren Testproben bedenkt; darüber hinaus nimmt die Zeit, die für das Mischen der Lösung durch Diffusion benötigt wird, mit abnehmenden Volumen ab.
  • In 2A sind die Testbezirke durch Verwendung von Oberflächenmaterialien definiert, die dazu dienen, hydrophobe Bereiche 26 und hydrophile Plätze 14 auf dem Substrat zu definieren, wie zuvor beschrieben. Wenn die Oberfläche durch eine wässrige Lösung, wie z.B. eine Salzlösung benetzt (aber nicht überschwemmt) wird, begrenzt sich die Flüssigkeit selbst auf die hydrophilen Bereiche und definiert dadurch die Testbezirke. Jeder hydrophile Bereich umfasst einige Plätze 14 mit Elektroden 16 und kann auch hydrophobe Bereiche mit kleinerem Maßstab umfassen.
  • Auf dem in 2B gezeigten Substrat sind die Testbezirke durch Unterteilungen 13 voneinander getrennt, die auf der Oberfläche des Substrates ausgebildet sind. Diese Unterteilungen können dadurch auf dem Rohsubstrat erzeugt werden, dass die Substratoberfläche mit einem Fotolack abgedeckt wird und die Vertiefungsöffnungen unter Verwendung einer Fotolithographie definiert werden. Ein Ätz-Schritt, auf den die Beseitigung des verbliebenen Fotolacks erfolgt, macht das Substrat bereit für die Ausbildung von Plätzen und Elektroden.
  • 2C zeigt ein Substrat, das mit Elektroden bedeckt ist, jedoch ohne irgendeine wesentliche Unterteilung. In diesem Fall werden die Testbezirke unter Verwendung eines Strukturteils 17 mit hohlen Unterteilungen/Kammern definiert, der auf die Oberseite des Substrats aufgebracht wird. Durch Herstellung eines engen mechanischen Kontakts mit dem Substrat bildet der Strukturteil geschlossene Kammern, von denen jede einen oder mehrere Plätze mit Elektroden enthält. Gegebenenfalls kann ein ähnliches Strukturteil auf die Oberseite eines jeden der in den 2A und 2B gezeigten Substrate aufgebracht werden.
  • Bei allen in 2 dargestellten Ausführungsformen muss eine Referenzelektrode innerhalb eines jeden Testbezirks angeordnet sein. Dies kann entweder dadurch realisiert werden, dass man eine Elektrode an einem Platz vorsieht, wo sie von keiner Zelle abgedeckt werden kann, oder eine Elektrode so groß wählt, dass sie von keiner Zelle abgedeckt werden kann, oder durch Dosieren der Anzahl von Zellen derart, dass die Zellen nicht alle Elektroden abdecken können. Diese letzte Option ermöglicht es, dass irgendeine der Messelektroden als Referenzelektrode dient.
  • In Abhängigkeit von der speziellen Form des Substrats mit Elektroden wird die Zugabe von der die Zellen tragenden Flüssigkeit und der Zellen in einer der folgenden Weisen durchgeführt. Bei einer bevorzugten Ausführungsform sind die Testbezirke von oben zugänglich und es können Tröpfchen der Trägerflüssigkeit und Zellen an jedem Testbezirk mit Hilfe eines Dispersions- oder Pipettiersystems zugeführt werden. Es können auch Systeme wie ein Tintenstrahl-Druckerkopf oder ein Tröpfchenstrahl-Druckerkopf verwendet werden. Eine andere Möglichkeit ist ein nQUAD-Ansaugdispenser oder irgendeine andere Dispensier-/Pipettier-Vorrichtung, die geeignet ist, kleine Flüssigkeitsmengen zu dosieren. Alternativ werden die Trägerflüssigkeit und die Zellen auf das gesamte Substrat aufgebracht (beispielsweise durch Gießen der die Zellen enthaltenden Trägerflüssigkeit über das Substrat oder durch Eintauchen des Substrats in eine solche Flüssigkeit), wodurch Trägerflüssigkeit und Zellen einem jeden Testbezirk zugeführt werden. Da die Volumina der Trägerflüssigkeit und der späteren Testproben im Nanoliterbereich liegen, könnte die Wasserverdampfung ein Problem darstellen. Daher sollte in Abhängigkeit von dem speziellen Volumina die Handhabung der Flüssigkeiten auf dem Substrat vorzugsweise in einer Atmosphäre mit hoher Feuchtigkeit durchgeführt werden.
  • Falls die Testbezirke geschlossene Kammern sind, können sie nur durch ein System von Kanälen, d.h. ein Mikro-Flüssigkeits-Handhabungssystem zugänglich sein. Dies ist der Fall, wenn ein zweites Strukturteil 17 (2C) auf die Oberseite irgendeines der Substrate mit oder ohne Testbezirke aufgebracht wird. In diesem Fall müssen die Trägerflüssigkeit und die Zellen durch Einlasskanäle zugegeben werden, die typischerweise in dem zweiten Strukturteil 17 ausgebildet sind. Ein solches zweites Strukturteil kann beispielsweise aus Silizium hergestellt sein, wobei in diesem Fall Strömungskanäle unter Verwendung von standardmäßigen Fotolithographie- und Ätz-Verfahren ausgebildet werden können. Ein solches zweites Strukturteil kann auf die Oberseite einer jeden Ausführungsform aufgebracht werden.
  • Gemäß einem anderen Gesichtspunkt werden die Zellen direkt auf dem Substrat kultiviert, während dieses in ein Wachstumsmedium eingetaucht ist. Im optimalen Fall bilden die Zellen eine homogene Monoschicht (in Abhängigkeit von der Art der Zellen, die man wachsen lässt) auf der gesamten Oberfläche mit Ausnahme von Bereichen, in denen die Oberfläche absichtlich für ein Zellwachstum ungeeignet gemacht worden ist. Der Erfolg der Kultivierung von Zellen auf dem Substrat hängt in starken Maße vom Substratmaterial ab.
  • Bei noch einem anderen Aspekt kann eine künstliche Membran mit inkorporierten Ionenkanälen statt einer Zelle verwendet werden. Eine solche künstliche Membran kann aus einer gesättigten Lösung von Lipiden dadurch hergestellt werden, dass ein kleiner Klumpen des Lipids über einer Öffnung positioniert wird. Dieses Verfahren wird genau beispielsweise in „Ion Channel Reconstitution" von Christopher Miller, in Plenum 1986, S. 577 beschrieben. Wenn die Öffnungsgröße geeignet und eine polare Flüssigkeit, wie z.B. Wasser, auf beiden Seiten der Öffnung vorhanden ist, kann sich eine Lipid-Doppelschicht über der Öffnung ausbilden. Der nächste Schritt besteht darin, einen Protein-Ionenkanal in die Doppelschicht einzubringen. Dies kann dadurch erreicht werden, dass man Lipid-Bläschen mit eingebauten Ionenkanälen einer Seite der Doppelschicht zuführt. Die Bläschen können dann in eine Fusion mit der Doppelschicht beispielsweise durch osmotische Gradienten gezogen werden, wodurch die Ionenkanäle in die Doppelschicht aufgenommen werden.
  • Die Erzielung eines guten Kontaktes zwischen der Zelle und einer Glaspipette und dadurch die Erzeugung einer Giga-Dichtung zwischen einer Zelle und der Spitze der Pipette sind im Stand der Technik genau beschrieben. Um die Zelle zur Spitze der Pipette zu ziehen und auch um den erforderlichen Kontakt für die Erzielung der Giga-Dichtung herzustellen, ist es üblich, an die Pipette einen Unterdruck (Saugwirkung) anzulegen.
  • Im Fall der in den 2A bis 2C beschriebenen Substrate wird kein Unterdruck vorgesehen und die Positionierung der Zellen wird mit Hilfe anderer Mittel durchgeführt. Darüber hinaus wurde gezeigt, dass der bloße Kontakt zwischen der Zellmembran und dem Substrat, typischerweise einem ultrareinen Silizium, für die Zelle ausreichend ist, um eine gewisse Bindung zur Oberfläche herzustellen und eine Giga-Dichtung zu erzeugen.
  • Die Positionierung kann durch Elektrophorese durchgeführt werden, bei der ein elektrisches Feld von einer Elektrode die geladene Zelle zu ihr hin zieht. Negativ geladene Zellen werden zu positiven Elektroden gezogen und umgekehrt. Die elektrostatische Zugwirkung kann auch als Führungsmittel für eine Gruppe von Elektroden dienen. Alternativ kann in einem Testbezirk ein hydrophobes Material 26 die Oberfläche des Substrates mit Ausnahme von Bereichen unmittelbar um die Elektroden herum bedecken. Dies ist in 5 dargestellt. Dadurch können sich die Zellen nur an Elektrodenplätze 14 binden. Es ist möglich, diese beiden Verfahren gleichzeitig oder optional in Kombination mit einer geeigneten geometrischen Form der Substratoberfläche um die Elektroden herum anzuwenden, um die sinkenden Zellen zur Elektrode hin zu führen.
  • Bei einer anderen Ausführungsform sind die Dichte und das Muster von Plätzen und Messelektroden nahe zu gleich oder größer als die Dichte von Zellen, wenn diese gepackt werden, um die dichtestmögliche Packung auf der Substratoberfläche zu erzielen. Dies stellt sicher, dass dann, wenn eine ausreichende Anzahl von Zellen zugeführt wird, zumindest eine Elektrode durch eine Zelle bedeckt ist, ohne dass weitere Führungsmittel erforderlich sind.
  • Bei der in 4A dargestellten Ausführungsform werden eine oder mehrere Zellen 2 in einer Trägerflüssigkeit zugeführt und sinken zum unteren Ende des Trichters, wobei dies ein Beispiel für eine Positionierung durch geometrische Formgebung ist. Wenn eine Saugwirkung angelegt wird, zieht sie die Zelle zur Öffnung 30 und etabliert eine Verbindung zwischen der Zelle und der Öffnung, wodurch eine Giga-Dichtung erzeugt wird, welche die Öffnung innen und die Lösung voneinander trennt. Die Giga-Dichtung kann irgendeine Form annehmen, beispielsweise kreisförmig, oval oder rechtwinklig. Die Trägerflüssigkeit stellt einen elektrischen Kontakt zwischen der Zellmembran und der Referenzelektrode her. Die Zelle kann durch die Saugwirkung verformt werden und ein Fall, in dem sich die Zelle in die Öffnung hinein erstreckt, kann, wenn dies kontrolliert erfolgt, erwünscht sein.
  • Jeder Testbezirk enthält vorzugsweise mehrere Elektrodenplätze. Um zu erkennen, ob eine Elektrode durch eine Zelle bedeckt und durch eine Giga-Dichtung isoliert ist, werden Leckströme zwischen Elektroden oder zwischen Elektroden und der Referenzelektrode gemessen. Obwohl ein Testbezirk zahlreiche Elektroden enthalten kann, ist es eine einfache Aufgabe, nach Elektroden zu suchen, die durch Giga-Dichtungen isoliert sind, und diese Aufgabe ist für einen Computer gut geeignet.
  • Die 6 und 7 schlagen ein Schema für dieses Vorgehen vor, wobei die Elektroden 16 in einem Testbezirk eine nxm-Matrix (hier 3 × 3) bilden. Die Elektrodenverbindungen 18 führen zu einer Kontaktreihe 20 (Nr. 1–9) auf dem Substrat, die durch einen Computer einzeln mit Strom-Messeinrichtungen angewählt werden können. Eine Liste von durch eine Giga-Dichtung isolierten Elektroden kann unter Verwendung eines einfachen Verfahrens erstellt werden, das im Flussdiagramm der 7 skizziert ist. Zunächst (1) werden zwei Schleifen gebildet, um alle Einträge in der Matrix von Elektroden zu durchlaufen. In Schritt (2) wird die nxm-Anordnung der Matrix entfaltet, um eine individuelle Adressierung (3) von Elektrodenkontakten mit einer Elektrodenkontaktnummer N (Nr. 1–9) zu liefern. Der Strom bei einer zwischen dem Kontakt N und der Referenzelektrode 8, Kontaktnummer 0, angelegten Spannung wird bei (4) gemessen und sein Wert wird mit einem Schwellenwerfstrom ISchwelle verglichen (5) um zu ermitteln, ob die Elektrode durch eine Giga-Dichtung isoliert ist. Wenn eine Giga-Dichtung detektiert wird, wird die Kontaktnummer einer Liste von geeigneten Elektroden hinzugefügt (6) aus der eine Messelektrode ausgewählt wird (7). Dieses Schema liefert Informationen bezüglich der relativen Positionen von n, m geeigneten Elektroden. Diese Informationen können verwendet werden, um die optimale Messelektrode in Schritt (7) auszuwählen, doch kann dies weggelassen werden, so dass jede Elektrode einfach durch ihre Kontaktnummer N bekannt ist. Typischerweise wird pro Testbezirk nur eine Elektrode ausgewählt.
  • Die Aktivität dieser Kanäle kann elektrisch (Einzelkanalaufzeichnung) gemessen werden oder alternativ kann der Patch aufgerissen werden, was eine Messung der Kanalaktivität der gesamten Zellmembran ermöglicht (Ganzzellenaufzeichnung). Ein Zugang mit hoher Leitfähigkeit zum Inneren der Zelle zur Durchführung von Ganzzellen-Messungen kann auf wenigstens drei verschiedenen Wegen erzielt werden (alle Verfahren sind geeignet, doch können verschiedene Zellen unter Umständen mit verschiedenen Vorgehensweisen besser arbeiten):
    • a) Bei der in 4A gezeigten Ausführungsform kann die Membran durch Saugwirkung von der Öffnungsseite her zerrissen werden. Drücke, die kleiner sind als der Atmosphärendruck, werden entweder als kurze Impulse mit zunehmender Stärke oder als Rampen oder Stufen mit zunehmender Stärke angelegt. Das Reißen der Membran wird durch stark erhöhte kapazitive Stromspitzen (die die gesamte Zellmembran-Kapazität darstellen) in Reaktion auf einen Testimpuls mit gegebener Spannung detektiert.
    • b) Das Reißen der Membran durch angelegte Spannungsimpulse. Spannungsimpulse werden entweder als kurze Impulse mit zunehmender Stärke (von mV bis V) und Zeitdauer (μs bis ms) oder als Rampen oder als Stufen mit zunehmender Größe zwischen den Elektroden angelegt. Die Lipide, welche die Membran einer typischen Zelle bilden, werden durch die große elektrische Feldstärke von den Spannungsimpulsen beeinflusst, wodurch die Membran in der Nachbarschaft der Elektrode desintegriert. Das Reißen der Membran wird durch stark erhöhte kapazitive Stromspitzen in Reaktion auf einen Testimpuls mit gegebener Spannung detektiert.
    • c) Permeabilisierung der Membran. Das Aufbringen von Poren bildenden Substanzen (z.B. Antibiotika, wie z.B. Nystatin oder Amphotericin B) beispielsweise durch vorher erfolgende Abscheidung dieser Substanzen an der Stelle. Statt die Membran aufzureißen, wird der Membranwiderstand wahlweise durch die Inkorporation von permeabilisierenden Molekülen abgesenkt, was zu einer wirksamen Zellspannungs-Kontrolle über das Elektrodenpaar führt. Auf die Inkorporation folgen ein graduell abnehmender Gesamtwiderstand und eine zunehmende Kapazität.
  • In diesem Stadium ist ein Substrat mit einigen Elektroden geschaffen, von denen jede eine Zelle hält, wobei die ausgewählten Zellen eine Giga-Dichtung um ihre jeweiligen Elektroden herum bilden, was es der Elektrode ermöglicht, elektrophysiologische Eigenschaften der Ionen-Transferkanäle in der Zellmembran zu messen. Dies stellt den Hauptgesichtspunkt der Erfindung dar, nämlich das zur Verfügungstellen einer Vielzahl von vorbereiteten Probezellen zur Durchführung von elektrophysiologischen Experimenten. Darüber hinaus ist jede Zelle umgrenzt, um das individuelle Testen von Zellen zu ermöglichen. Der Rest dieser Beschreibung konzentriert sich auf das Aufbringen des auf diese Weise fertig gemachten Substrats.
  • Die Testproben müssen jeden Testbezirk individuell zugegeben werden, mit unterschiedlichen Testproben für jeden Testbezirk. Dies kann unter Verwendung der Verfahren zum Aufbringen der Trägerflüssigkeit mit der Ausnahme der Verfahren durchgeführt werden, bei denen die Trägerflüssigkeit dem Substrat als Ganzem zugeführt wird.
  • Nach dem Positionieren der Zelle in einer Messkonfiguration können mehrere elektrophysiologische Eigenschaften gemessen werden, wie z.B. der Strom durch die Ionenkanäle (Spannungs-Clamp) oder die Kapazität von Ionenkanäle enthaltenden Membranen. In jedem Fall sollte eine geeignete elektronische Messschaltung vorgesehen werden. Der Fachmann ist in der Lage, solche geeigneten Messschaltungen auszuwählen. Eine mögliche Schaltung für Spannungs-Clamp-Messungen ist oben unter Bezugnahme auf 1 beschrieben.
  • Im Fall von Spannungs-Clamp-Messungen führt der elektrische Strom, der von den Ionen-Übertragungskanälen in der Zellmembran geleitet wird, zu einer Ladungsübertragung von der Lösung (Referenzelektrode) zur Messelektrode typischerweise in der Größenordnung von pA bis μA (Pikoampere 10–12 A). Ein Verstärker mit niedrigem Rauschen ist vorgesehen, um diese Ströme zu messen. Die elektronischen Schaltungen können in eine separate Standardeinheit integriert sein, die Verbindung mit den beiden Elektroden und eventuell vorhandenen Strömungskanälen für die Zufuhr von Medikamenten hat.

Claims (26)

  1. Baueinheit, die folgendes umfasst: ein ebenes Substrat (12), das einen ersten Oberflächenbereich und einen gegenüber liegenden zweiten Oberflächenbereich besitzt, wobei der erste Oberflächenbereich eine Vielzahl von Plätzen (14) aufweist, von denen jeder geeignet ist, eine Ionenkanäle enthaltende Struktur (2) aufzunehmen, die in einer Flüssigkeit enthalten ist, und jeder von denen einen in ihm verlaufenden Durchgang (30) durch das Substrat aufweist, wobei der Durchgang den ersten Oberflächenbereich und den zweiten Oberflächenbereich miteinander verbindet und wobei der Durchgang Wände besitzt und so dimensioniert ist, dass er eine Ionenkanäle enthaltende Struktur hält, eine Vielzahl von Messelektroden (16), jede von denen einem entsprechenden Platz zugeordnet ist, eine oder mehrere Referenzelektroden (8), wobei die Messelektroden und die entsprechende Referenzelektrode oder Referenzelektroden Elektroden sind, die in der Lage sind, dann, wenn sie miteinander in einem elektrolytischen Kontakt stehen und wenn zwischen ihnen eine Potentialdifferenz angelegt wird, durch die Abgabe von Ionen durch die eine Elektrode und die Aufnahme von Ionen durch die andere Elektrode zwischen sich einen Strom fließen zu lassen, dadurch gekennzeichnet, dass jeder der Plätze (14) in der Lage ist, eine Dichtung mit hohem elektrischem Widerstand zu schaffen, die zwischen einem Berührungsbereich der äußeren Oberfläche einer Ionenkanäle enthaltenden Struktur, die an diesem Platz gehalten wird, und dem umgebenden ersten Oberflächenbereich des Substrates oder längs der Wände des Durchgangs (30) zu bilden, wobei die Dichtung dann, wenn sie ausgebildet ist, eine Domäne, die auf der einen Seite der Dichtung definiert ist und von der Ionenkanäle enthaltenden Struktur (2) gebildet wird und in elektrolytischem Kontakt mit der Messelektrode steht, von einer Domäne zu trennen, die auf der gegenüberliegenden Seite der Dichtung von der Ionenkanäle enthaltenden Struktur gebildet wird und in elektrolytischem Kontakt mit der entsprechenden Referenzelektrode (8) steht, wodurch ein Strom, der zwischen der Referenzelektrode (8) und entsprechenden Messelektroden (16) und durch die Ionenkanäle enthaltenden Struktur fließt, ermittelt und/oder überwacht werden kann, wobei die Elektroden (16, 8) mit der Baueinheit integriert sind und wobei die Baueinheit weiterhin eine Vielzahl von Strömungskanalstrukturen umfasst, die in dem Substrat erzeugt sind, um Flüssigkeit an die Vielzahl von Plätzen zu liefern.
  2. Baueinheit nach Anspruch 1, die weiterhin eine Leitungsanordnung (32) für ein Ansaugen umfasst, wobei die Leitungsanordnung die elektrische Verdrahtung für die Messelektrode umfasst.
  3. Baueinheit nach Anspruch 1 oder 2, bei der jeder Durchgang (30) mit Ansaugeinrichtungen verbunden ist, um es zu ermöglichen, ein Innenvolumen des Durchgangs eines ausgewählten Platzes einer Ansaugwirkung zu unterwerten, die einen Strom von Trägerflüssigkeit durch den Durchgang erzeugt, um Ionenkanäle enthaltende Strukturen zum Durchgang hin zu führen.
  4. Baueinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei der die Elektroden (16, 8) durch eine Waver-Bearbeitungstechnologie ausgebildet worden sind.
  5. Baueinheit nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der das Substrat (12) ein Silizium-Substrat ist und der Oberflächenbereich des Platzes, mit dem die Dichtung mit hohem elektrischen Widerstand erzeugt werden soll, ein Silizium-Oberflächenbereich ist, und bei der die Elektroden durch ein Verfahren ausgebildet worden sind, das ein Abscheide-Fotolithographie-Ätz-Verfahren umfasst.
  6. Baueinheit nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der die Vielzahl von Plätzen (14) in einer regelmäßigen Anordnung auf dem ersten Oberflächenbereich des Substrats angeordnet ist.
  7. Baueinheit nach Anspruch 6, bei der die regelmäßige Anordnung von Plätzen (14) wenigstens neun Plätze umfasst.
  8. Baueinheit nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der die Messelektroden (16) und die Referenzelektroden (8) Silber/Silberhalogenid-Elektroden sind.
  9. Baueinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei der die Messelektroden (16) und Referenzelektroden (8) Silber/Silberchlorid-Elektroden sind.
  10. Baueinheit nach einem der vorhergehenden Ansprüche, die eine erste Schicht aus einem hydrophoben Material (26) umfasst, das auf oder über der Oberfläche des Substrates angeordnet ist, wobei diese erste Schicht nur Teile der Oberfläche des Substrates bedeckt.
  11. Baueinheit nach Anspruch 10, bei der einer oder mehrere Plätze (14) in Teilen der Oberfläche des Substrates angeordnet sind, die von dieser ersten Schicht nicht bedeckt sind.
  12. Baueinheit nach einem der vorhergehenden Ansprüche, die eine oder mehrere Senken umfasst, die sich in das Substrat (12) hinein erstrecken und Senkenöffnungen aufweisen, die in dem ersten Oberflächenbereich ausgebildet sind, wobei jede Senke einen Bodenteil und einen Seitenteil aufweist, wobei wenigstens einige der Plätze (14) des ersten Oberflächenbereichs im Bodenteil der Senken angeordnet sind, um Flüssigkeit an die Vielzahl von Plätzen so abzugeben, dass eine Senke und ein Durchgang gemeinsam einen Trichter bilden.
  13. Baueinheit nach Anspruch 12, bei der die Vielzahl von Strömungskanalstrukturen es ermöglicht, zu einem oder mehreren Trichtern Flüssigkeit hinzuzufügen.
  14. Baueinheit nach Anspruch 13, bei der die Vielzahl von Strömungskanalstrukturen einen Einströmdurchgang und einen Ausströmdurchgang zu bzw. von dem einen oder mehreren Trichter umfasst.
  15. Baueinheit nach einem der Ansprüche 12 bis 14, bei der die Senken durch ein Verfahren ausgebildet worden sind, das ein Photolithographie-Ätz-Verfahren umfasst.
  16. Baueinheit nach Anspruch 15, bei der das Substrat (12) ein Siliziumsubstrat ist und bei der die Senken als stumpfkegelige Pyramiden ausgebildet sind, deren Böden von den Senken-Öffnungen gebildet werden und deren Seitenteile eine Neigung von 54,7° besitzen.
  17. Baueinheit nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der die Querdimension des Durchgangs (30) 1 bis 5 μm beträgt.
  18. Baueinheit nach einem der Ansprüche 12 bis 17, bei der eine Referenzelektrode (8) auf dem Seitenteil einer jeden Senke positioniert ist.
  19. Baueinheit nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der die Messelektrode (16), die jedem Platz zugeordnet ist, an dem entsprechenden Platz angeordnet ist.
  20. Baueinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 18, bei der die jedem Platz (14) zugeordnete Messelektrode (16) auf dem gegenüberliegenden zweiten Oberflächenbereich des Substrates (12) angeordnet ist.
  21. Baueinheit nach Anspruch 20, bei der die einem jeden Platz (14) zugeordnete Messelektrode (16) in der Nähe einer Öffnung des an dem betreffenden Platz ausgebildeten Durchgangs angeordnet ist.
  22. Baueinheit nach einem der vorhergehenden Ansprüche, die weiterhin für jeden der Plätze (14) eine elektronische Schaltung umfasst, die mit der entsprechenden Messelektrode (16) und der Referenzelektrode (8) oder einer der Referenzelektroden für die Erzeugung eines verstärkten Signals verbunden ist, das eine eindeutige Funktion eines durch Ionenkanäle zwischen den Elektroden fließenden Stroms ist.
  23. Verfahren zur Ausbildung einer Ganzzellen-Messkonfiguration zum Ermitteln und/oder Überwachen einer elektrophysiologischen Eigenschaft eines oder mehrerer Ionenkanäle von einer oder mehreren Ionenkanäle enthaltenden Strukturen (2), wobei dieses Verfahren folgende Schritte umfasst: Bereitstellen einer Baueinheit, die folgendes aufweist: ein ebenes Substrat, das einen ersten Oberflächenbereich und einen gegenüberliegenden zweiten Oberflächenbereich aufweist, wobei dieses Substrat eine Vielzahl von Plätzen (14) in dem ersten Oberflächenbereich des Substrates besitzt, von denen jeder geeignet ist, eine Ionenkanäle enthaltende Struktur zu halten und von denen jeder einen in ihm ausgebildeten Durchgang (30) durch das Substrat hindurch aufweist, der den ersten Oberflächenbereich und den zweiten Oberflächenbereich miteinander verbindet, wobei der Durchgang Wände besitzt und so dimensioniert ist, dass er eine Ionenkanäle enthaltende Struktur hält und eine Dichtung mit hohem Widerstand zwischen der Ionenkanäle enthaltenden Struktur und dem Substrat um oder längs der Wände des Durchgangs herum bildet, und eine Vielzahl von Messelektroden (16), von denen jede einem entsprechenden Platz zugeordnet ist, und eine oder mehrere Referenzelektroden (8), Zuführen einer Trägerflüssigkeit zu einem oder mehreren Plätzen unter Verwendung einer Vielzahl von Strömungskanalstrukturen, die in dem Substrat ausgebildet sind, wobei die Trägerflüssigkeit eine oder mehrere Ionenkanäle enthaltende Strukturen enthält und die Trägerflüssigkeit mit dem ersten Oberflächenbereich des Substrates in Berührung steht, Positionieren wenigstens einer der Ionenkanäle enthaltenden Strukturen an einer entsprechenden Anzahl von Plätzen, Ausbilden einer einen hohen elektrischen Widerstand aufweisenden Dichtung zwischen einem Berührungsbereich der äußeren Oberfläche einer Ionenkanäle enthaltenden Struktur, die an dem Platz gehalten wird, und einem ersten Oberflächenbereich des Substrates um die Wände des Durchgangs herum oder längs dieser Wände, wobei die Dichtung dann, wenn sie ausgebildet ist, eine Domäne, die auf der einen Seite der Dichtung durch die Ionenkanäle enthaltende Struktur definiert ist und in elektrolytischem Kontakt mit der Messelektrode steht, von einer Domäne trennt, die auf der gegenüberliegenden Seite der Dichtung definiert ist und von der Ionenkanäle enthaltenden Struktur gebildet wird und in elektrolytischem Kontakt mit der entsprechenden Referenzelektrode steht, Suchen nach einer Dichtung mit hohem elektrischen Widerstand zwischen einer Ionenkanäle enthaltenden Struktur (2), die an einem Platz (14) in dem ersten Oberflächenbereich des Substrates oder längs der Wände des besagten Durchgangs gehalten wird, mit dem die den hohen elektrischen Widerstand besitzende Dichtung ausgebildet werden soll, durch nacheinander erfolgendes Anlegen einer ersten elektrischen Potentialdifferenz zwischen der Messelektrode (16), die dem Platz zugeordnet ist, und einer Referenzelektrode (8), Überwachen eines ersten Stroms, der zwischen der Messelektrode und der Referenzelektrode fließt, und Vergleichen dieses ersten Stromes mit einem vorbestimmten Schwellenstrom und dann, wenn der erste Strom im wesentlichen der vorbestimmte Schwellenstrom ist, Zulassen des Platzes als Platz, der eine akzeptable Dichtung zwischen der Ionenkanäle enthaltenden Struktur und dem ersten Oberflächenbereich des Platzes aufweist, und Ausbilden einer Ganzzellen-Konfiguration an zugelassenen Plätzen, wodurch ein dritter Strom, der durch Ionenkanäle der Ionenkanäle enthaltenden Struktur zwischen der Messelektrode und den Referenzelektroden fließt, bestimmt und/oder überwacht werden kann.
  24. Verfahren nach Anspruch 23, bei dem der Schritt der Ausbildung einer Ganzzellen-Konfiguration an zugelassenen Plätzen das Anlegen einer Reihe von Impulsen mit einer zweiten elektrischen Potentialdifferenz zwischen der Messelektrode (16), die jedem zugelassenen Platz zugeordnet ist, und einer Referenzelektrode (8) umfasst, sowie das Überwachen eines zweiten Stroms, der zwischen der Messelektrode und der Referenzelektrode fließt, und Unterbrechen der Reihe von Impulsen mit einer zweiten elektrischen Potentialdifferenz immer dann, wenn der zweite Strom einen vorbestimmten Schwellenwert überschreitet, wodurch der Teil der Ionenkanäle enthaltenden Struktur zerrissen wird, der sich am nächsten an der Messelektrode befindet.
  25. Verfahren nach Anspruch 23 oder 24, bei dem der Schritt der Ausbildung einer Ganzzellen-Konfiguration an zugelassenen Plätzen das Unterwerfen des Teils der Ionenkanäle enthaltenden Struktur, der sich am nächsten an der Messelektrode befindet, einer Wechselwirkung mit einer Porenbildenden Substanz umfasst.
  26. Verfahren nach einem der Ansprüche 23 bis 25 und jedem hiervon abhängigem Anspruch, bei dem das Substrat an jedem der Plätze einen Durchgang aufweist, der den ersten und den zweiten Oberflächenbereich miteinander verbindet, wobei der Durchgang im wesentlichen in einem mittleren Teil des Oberflächenbereichs des Platzes angeordnet ist, mit dem die Dichtung mit dem hohen elektrischen Widerstand ausgebildet werden soll, und bei dem der Schritt des Positionierens einer oder mehrerer Ionenkanäle enthaltenden Strukturen an einem oder mehreren Plätzen den Schritt umfasst, ein Innenvolumen des Durchgangs eines ausgewählten Platzes einer Saugwirkung auszusetzen, die einen Strom von Trägerflüssigkeit durch den Durchgang erzeugt, um Ionenkanäle enthaltenden Strukturen zum Durchgang hin zu führen.
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