DE548299C - Verfahren zur Herstellung von elektrischen Entladungsgefaessen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von elektrischen EntladungsgefaessenInfo
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- DE548299C DE548299C DEM108848D DEM0108848D DE548299C DE 548299 C DE548299 C DE 548299C DE M108848 D DEM108848 D DE M108848D DE M0108848 D DEM0108848 D DE M0108848D DE 548299 C DE548299 C DE 548299C
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/38—Exhausting, degassing, filling, or cleaning vessels
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Description
- Verfahren zur Herstellung von elektrischen Entladungsgefäßen Bei der Herstellung von Entladungsgefäßen ist es erforderlich, die Glaswände von Gasen und Wasserhäuten, die auf der inneren Oberiläche sitzen, zu befreien, damit diese Dämpfe während des Betriebes des Entladungsgefäßes die Entladung nicht schädlich beeinflussen. Dies wird im allgemeinen dadurch erreicht, daß man das Entladungsgefäß von außen erhitzt und währenddessen die von der Glaswand freigegebenen Dämpfe durch eine Pumpeinrichtung absaugt.
- Die Erfindung bezieht sich nun darauf, diese äußere Erhitzung zu vermeiden und dennoch ein genügendes Freiwerden der Glaswand von Dämpfen zu erreichen. Es ist zwar bekannt, die Glaswand durch Wärmestrahlung der Elektroden während deren Entgasung zu erhitzen, jedoch kann man durch diesen Entgasungsprozeß im besten Falle nur eine sehr dünne Schicht der Oberfläche gasfrei machen. Bei längerem Liegen des Entladungsgefäßes treten jedoch aus den unmittelbar darunterliegenden Teilen Gase an die Oberfläche, die zu einer Inkoristanz der Entladungserscheinung Veranlassung geben. Erfindungsgemäß wird es nun etwa an die Oberfläche kommenden Gasen vollkommen unmöglich gemacht, in die Entladungsbahn einzudringen. Sobald keine Gase mehr von den verschiedenen Teilen freigegeben werden, wird ein in der Röhre vorhandenes Getter zum Verdampfen gebracht. Dies setzt sich auf der soeben gasfrei gemachten Glaswand nieder, ehe etwa anderweitig frei werdende Gase Gelegenheit haben, von der Glaswand aufgefangen zu werden, weil das ,auf der Glasoberfläche in fein verteiltem Zustande befindliche Metall alle auftretenden Gasreste sofort bindet.
- Besonders zweckmäßig hat sich dieses Verfahren für Entladungsgefäße kleiner geometrischer Dimensionen erwiesen. So wird der Effekt z. B. erreicht, wenn man die strahlende Oberfläche der Anode etwa Zoo bis 25o qmm und die der bestrahlten gegenüberliegenden Glaswand etwa Soo bis iooo qmm groß wählt. Es ist dabei angenommen, daß die Temperatur der strahlenden Anode auf etwa 7oo bis goo° gebracht wird.
- Da die Metallschicht durch dieses Verfahren in vollkommen gasfreiem Zustand auf der Glasoberfläche niedergeschlagen wird, hat sie die Fähigkeit, später auftretende Gase, wie sie etwa durch die Belastung des Entladungsgefäßes, durch äußere Erwärmung usw. aus den Elektroden oder aus den tieferen Schichten des Glases frei werden, in weitgehendem Maße zu binden.
- Auch hierin liegt, gegenüber der bisherigen Methode, ein Vorteil. Bei dem bekannten Verfahren, bei dem die Glas-,vand durch äußere Erwärmung gasfrei gemacht wird, dann die Innenteile entgast werden und dann der Getterstoff verdampft wird, nimmt nämlich die Glaswand einen Teil der Gasmengen, die bei der Entgasung der Metallteile frei werden, wieder auf; sie ist also zur Zeit der Verdampfung des Getters nicht in dem gasfreien Zustande wie gemäß oben beschriebenem Verfahren.
Claims (1)
- PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Herstellung von elektrischen Entladungsgefäßen, bei denen die innere Glaswand durch Wärmestrahlung der inneren Teile des Entladungsgefäßes während deren Entgasung entgast wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Glaswand unmittelbar nach ihrer Entgasung mit einem Getter bedeckt wird. $. Entladungsgefäß zur Ausübung des Verfahrens nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der strahlenden Elektrode mindestens ein Fünftel der Größe der gegenüberliegenden zu entgasenden Glaswand besitzt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEM108848D DE548299C (de) | 1929-02-16 | 1929-02-16 | Verfahren zur Herstellung von elektrischen Entladungsgefaessen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEM108848D DE548299C (de) | 1929-02-16 | 1929-02-16 | Verfahren zur Herstellung von elektrischen Entladungsgefaessen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE548299C true DE548299C (de) | 1932-04-09 |
Family
ID=7326534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEM108848D Expired DE548299C (de) | 1929-02-16 | 1929-02-16 | Verfahren zur Herstellung von elektrischen Entladungsgefaessen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE548299C (de) |
-
1929
- 1929-02-16 DE DEM108848D patent/DE548299C/de not_active Expired
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