DE4200069A1

DE4200069A1 - Verfahren und vorrichtung zum erzeugen von rohneon

Info

Publication number: DE4200069A1
Application number: DE4200069A
Authority: DE
Inventors: Michael Wayne Wisz
Original assignee: Union Carbide Industrial Gases Technology Corp
Current assignee: Union Carbide Industrial Gases Technology Corp
Priority date: 1991-01-07
Filing date: 1992-01-06
Publication date: 1992-07-09
Anticipated expiration: 2012-01-07
Also published as: CA2058779C; US5100446A; JPH04295587A; JP2579261B2; DE4200069C2; CA2058779A1

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Erzeugen von Neon durch Zerlegen von Luft in ihre Bestandteile.

Neon eignet sich als Füllgas für Lampen und Leuchtreklameröhren. Außerdem wird Neon in Flugzeug-Leuchtfeuern verwendet, weil Neonlicht Nebel durchdringen kann, wozu andere Lichtarten nicht in der Lage sind.

Neon wird durch Tieftemperaturdestillation von Luft erzeugt, wobei ein von einer Tief temperatur-Luftzerlegungsanlage kommender Strom durch eine Neonreinigungskette hindurch geleitet wird, zu der eine Neonsäule und ein Tieftemperaturadsorptionssystem gehören, um ein Rohneonprodukt zu erzeugen, das dann einer Neonraffinerie zugeht, um ein raffiniertes Neonprodukt zu erhalten. Neon liegt in Luft in einer Konzentration von nur etwa 18 Teilen pro Million (ppm) vor. Wegen dieser niedrigen Konzentration und auch weil die Neonsäule und das Tieftemperaturadsorptionssystem erhebliche Käl temengen benötigen, um erfolgreich zu arbeiten, muß aus der Tieftemperatur-Luftzer legungsanlage ein relativ großer Strom entnommen werden, um Rohneon zu erzeugen. Dieser von der Luftzerlegungsanlage abgehende Strom belastet die Anlage in erhebli chem Maße und beeinträchtigt deren Betrieb bezüglich der Erzeugung der anderen Luftkomponenten.

Es ist daher erwünscht, ein Verfahren und eine Vorrichtung bereitzustellen, die es er lauben, Rohneon aus einer Luftzerlegungsanlage zu erzeugen, ohne daß die Luftzerle gungsanlage so stark belastet wird, wie dies bei konventionellen Rohneon-Produktions verfahren der Fall ist.

Der Erfindung liegt dementsprechend die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Erzeugen von Rohneon unter Verwendung einer Tieftemperatur-Luft zerlegungsanlage zu schaffen, bei denen die Belastung der Luftzerlegungsanlage im Vergleich zu konventionellen Rohneon-Fertigungsprozessen verringert ist.

Ein erfindungsgemäßes Verfahren zum Erzeugen von Rohneon ist dadurch gekenn zeichnet, daß

A) ein neonhaltiger Lufteinsatzstrom in eine Luftzerlegungsanlage eingeleitet wird und in der Luftzerlegungsanlage durch Tieftemperaturrektifikation ein erstes neonhalti ges Fluid erzeugt wird, dessen Stickstoffkonzentration und Neonkonzentration hö her als diejenigen der Einsatzluft sind;
B) das erste neonhaltige Fluid von der Luftzerlegungsanlage in eine Neonsäule einge leitet und in der Neonsäule ein zweites neonhaltiges Fluid erzeugt wird, dessen Stickstoffkonzentration niedriger als die des ersten neonhaltigen Fluids ist und des sen Neonkonzentration höher als die des ersten neonhaltigen Fluids ist;
C) zweites neonhaltiges Fluid durch ein Adsorberbett hindurchgeleitet und in dem Bett bevorzugt Stickstoff adsorbiert wird, um ein Rohneonprodukt zu erzeugen, dessen Neonkonzentration höher als die des zweiten neonhaltigen Fluids ist; und
D) das Adsorberbett bei einem Druck desorbiert wird, der niedriger als der Druck ist, bei dem die Adsorption des Verfahrensschrittes (C) durchgeführt wird, und bei der Desorption anfallendes Endgas in die Luftzerlegungsanlage eingeleitet wird.

Mit der Erfindung wird ferner eine Vorrichtung zum Erzeugen von Rohneon geschaf fen, die versehen ist mit

A) einer Luftzerlegungsanlage;
B) einer Neonsäule und einer Anordnung zum Überleiten von Fluid von der Luft zerlegungsanlage in die Neonsäule;
C) einem Adsorberbett, einer Anordnung zum Überleiten von Fluid von der Neon säule zu dem Adsorberbett und einer Anordnung zum Gewinnen von Rohneonprodukt aus dem Adsorberbett und
D) einer Anordnung zum Desorbieren des Adsorberbettes unter Bildung von Endgas sowie einer Anordnung zum Überleiten von Endgas von dem Adsorberbett in die Luft zerlegungsanlage.

Unter dem Begriff "Säule" wird vorliegend eine Destillations- oder Fraktioniersäule oder -zone verstanden, d. h. eine Kontaktsäule oder -zone, in welcher flüssige und dampfför mige Phasen im Gegenstrom miteinander in Kontakt gebracht werden, um eine Tren nung eines Fluidgemisches zu bewirken, beispielsweise indem die dampfförmigen und flüssigen Phasen auf einer Folge von in lotrechter Richtung in Abstand voneinander liegenden Böden oder Platten, die innerhalb der Säule montiert sind, und/oder auf Füllkörpern miteinander in Kontakt gebracht werden. Bezüglich weiterer Einzelheiten von Destilliersäulen wird verwiesen auf Chemical Engineer′s Handbook, 5. Ausgabe, herausgegeben von R.H. Perry und C.H. Chilton, McGraw-Hill Book Company, New York, Abschnitt 13, "Distillation" B.D.Smith und andere, Seite 13-3, "The Continuous Distillation Process". Unter dem Begriff Doppelsäule wird vorliegend eine Anordnung verstanden, bei der eine mit höherem Druck arbeitende Säule (im folgenden kurz als Hochdrucksäule bezeichnet) mit ihrem oberen Ende in Wärmeaustauschbeziehung mit dem unteren Ende einer unter niedrigerem Druck arbeitenden Säule (im folgenden kurz als Niederdrucksäule bezeichnet) steht.

Eine ausführlichere Diskussion von Doppelsäulen findet sich in Ruheman "The Separa tion of Gases", Oxford University Press, 1949, Kapitel VII, Commercial Air Separation.

Verfahren zum Kontakttrennen von dampfförmigen und flüssigen Phasen hängen von dem Unterschied der Dampfdrücke der betreffenden Komponenten ab. Die Kompo nente mit höherem Dampfdruck (d. h. die flüchtigere oder die niedrigsiedende Kompo nente) sucht sich in der Dampfphase zu konzentrieren, während sich die Komponente mit niedrigem Dampfdruck (d. h. die weniger flüchtige oder hochsiedende Komponente) in der flüssigen Phase zu konzentrieren sucht. Unter Destillation wird ein Trennver fahren verstanden, bei dem durch Erhitzen eines Flüssigkeitsgemisches die flüchtige Komponente(n) in der Dampfphase konzentriert wird bzw. werden und dadurch eine Konzentration der weniger flüchtigen Komponente(n) in der flüssigen Phase erfolgt. Eine partielle Kondensation ist ein Trennverfahren, bei dem durch Abkühlen eines Dampfgemisches die flüchtige Komponente(n) in der Dampfphase konzentriert wird bzw. werden und dadurch eine Konzentration der weniger flüchtigen Komponente(n) in der flüssigen Phase erfolgt. Eine Rektifikation oder kontinuierliche Destillation ist ein Trennverfahren, bei dem aufeinanderfolgende partielle Verdampfungs- und Kondensa tionsvorgänge kombiniert werden, wie sie bei einer Gegenstrombehandlung der Dampf- und Flüssigkeitphasen erhalten werden. Das Inkontaktbringen der Dampf- und Flüssig keitsphasen im Gegenstrom erfolgt adiabatisch und kann einen integralen oder differen tiellen Kontakt zwischen den Phasen einschließen. Trennprozeßanordnungen, die von dem Prinzip der Rektifikation Gebrauch machen, um Gemische zu trennen, werden häufig als Rektifikationssäulen, Destillationssäulen oder Fraktioniersäulen bezeichnet.

Unter dem Begriff "Tieftemperatur-Rektifikationssystem" wird vorliegend eine Vorrich tung zur Durchführung eines Dampf/Flüssigkeits-Gegenstromtrennprozesses bei einer Temperatur von weniger als etwa 120°K verstanden, die mindestens eine Säule aufweist.

Unter dem Begriff "Luftzerlegungsanlage" wird vorliegend ein Tieftemperatur-Rektifi kationssystem verstanden, bei dem Luft als ein Einsatzstrom verwendet wird.

Unter dem Begriff "Neonsäule" wird vorliegend ein Tieftemperatur-Rektifikationssy stem verstanden, bei dem ein Neon und Stickstoff aufweisender Einsatzstrom zerlegt wird, um ein Fluid zu erzeugen, das reicher an Neon ist.

Unter dem Begriff "Endgas" wird vorliegend neonhaltiges Gas verstanden, das von einer Adsorptionstrenneinheit desorbiert wird.

Ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel des Verfahrens und der Vorrichtung nach der Er findung sind nachstehend anhand der Zeichnung näher erläutert. Die einzige Figur zeigt eine vereinfachte schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform der Rohneon-Produktionsanlage gemäß der Erfindung.

Bei der veranschaulichten Anordnung wird Einsatzluft 1, die zuvor verdichtet, von hoch siedenden Verunreinigungen, wie Wasser und Kohlendioxid gereinigt und gekühlt wurde, in eine Tieftemperatur-Luftzerlegungsanlage 2 eingeleitet. Die betreffende An ordnung mit Einsatzluftverdichter, Vorreiniger und Wärmetauschern, welche normaler weise den am warmen Ende sitzenden Teil der Anlage bildet, ist in der Figur nicht dar gestellt. Bei der veranschaulichten Ausführungsform wird die Luftzerlegungsanlage von einem Doppelsäulensystem gebildet, das eine Hochdrucksäule 3 und eine Niederdruck säule 4 aufweist, die im Bereich eines Hauptkondensators 5 in Wärmeaustauschbezie hung miteinander stehen. Einsatzluft 1 wird in die Hochdrucksäule 3 eingeleitet, die bei einem Druck arbeitet, der im allgemeinen im Bereich von 480 bis 1030 kPa liegt. In der Säule 3 wird die Einsatzluft durch Tieftemperaturrektifikation in eine stickstoffreichere und eine sauerstoffreichere Komponente zerlegt. Die stickstoffreichere Komponente wird als Dampf 6 in den Hauptkondensator 5 geleitet, wo sie durch indirekten Wärme austausch mit aufkochendem Sumpfprodukt der Säule 4 kondensiert wird. Die erhaltene kondensierte stickstoffreichere Komponente 7 wird zu der Säule 3 als Rücklauf zurück geführt.

Die sauerstoffreichere Komponente wird von der Säule 3 als flüssiger Strom 8 in die Säule 4 eingeleitet, die bei einem niedrigeren Druck als die Säule 3 arbeitet, der im all gemeinen im Bereich von 100 bis 170 kPa liegt. Außerdem wird ein Teil 0 des Stroms 7 entspannt und in die Säule 4 eingeleitet. Innerhalb der Säule 4 werden die Einsatzkom ponenten in Stickstoff, der als Strom 9 abgezogen wird, und in Sauerstoff getrennt, der als Strom 10 abgezogen wird. Der eine oder der andere oder beide diese Ströme können als Produkt gewonnen werden.

Weil Neon einen Siedepunkt hat, der wesentlich niedriger als der von Stickstoff ist, kon zentriert sich das in der Einsatzluft vorhandene Neon am Kopf der Hochdrucksäule, und es wird zusammen mit dem Strom 6 in den Hauptkondensator 5 geleitet. Während der Dampf im Strom 6 im Hauptkondensator 5 kondensiert, wird der verbleibende nichtkondensierte Dampf im oberen Teil des Hauptkondensators 5 zunehmend reicher an Neon, und zwar zusammen mit anderen niedrigsiedenden Komponenten der Luft, wie Wasserstoff und Helium. Ein erstes neonhaltiges Fluid wird von dem Hauptkondensator 5 als Dampfstrom 11 abgezogen und als Einsatz in eine Neonsäule 12 mit einer Durchflußmenge eingeleitet, die im Bereich von 0,1 bis 1,0% der der Luftzerlegungsanlage zugehenden Einsatzluft liegt. Vorzugsweise handelt es sich bei dem Hauptkondensator 5 um einen Differentialkondensator. Das erste neonhaltige Fluid 11 hat eine Neonkonzentration, die höher ist als diejenige der Einsatzluft ist. Im allgemeinen liegt die Neonkonzentration des ersten neonhaltigen Fluids im Bereich von 0,2 bis 2,0%.

Bei der in der Figur veranschaulichten Ausführungsform wird der Strom 11 in einen er sten Teil 13, der unmittelbar der Neonsäule 12 zugeht und in einen zweiten Teil 14 auf geteilt, der einem Sumpfaufkocher 15 zugeführt wird. Im Aufkocher 15 wird der zweite Teil 14 durch indirekten Wärmeaustausch mit aufkochendem Sumpfprodukt der Neon säule gekühlt, um durch Aufkochen für Dampf für die Neonsäule zu sorgen. Der erhal tene Strom 16 wird wieder mit dem Strom 13 vereinigt, und der kombinierte Strom 17 wird in die Neonsäule 12 eingeleitet.

Innerhalb der Neonsäule 12 wird das erste neonhaltige Fluid durch Tieftemperaturrekti fikation in einen mit Neon angereicherten Dampf und in eine mit Stickstoff angerei cherte Flüssigkeit getrennt. Der Dampf 18 wird in einen am Kopf der Neonsäule be findlichen Rücklaufkondensator 19 geleitet, wo der Dampf kondensiert wird. Der kon densierte Dampf wird als Rücklauf 20 für die Säule 12 zurückgeführt. Flüssigkeit 21 fällt im Sumpf der Neonsäule 12 an. Diese Flüssigkeit wird in die Siedeseite des Rücklauf kondensators 19 hinein entspannt und aufgekocht, um für die oben genannte Kondensa tion des Dampfs 18 zu sorgen. Erhaltener gasförmiger Stickstoff 22 wird aus der Säule 12 herausgeleitet.

Ein Teil des Dampfs 18 kondensiert nicht in dem am Kopf der Säule 12 angeordneten Rücklaufkondensator 19; in diesem Dampfteil ist das Neon konzentriert, das in die Neonsäule 12 zusammen mit dem ersten neonhaltigen Fluid eingeleitet wird. In diesem Dampf sind ferner niedrigsiedende Komponenten der Luft, wie Wasserstoff und Helium konzentriert.

Aus dem Rücklaufkondensator 19 wird ein Strom 23 als zweites neonhaltiges Fluid her ausgeleitet. Dieses zweite neonhaltige Fluid hat eine niedrigere Stickstoffkonzentration als das erste neonhaltige Fluid sowie eine höhere Neonkonzentration als das erste neonhaltige Fluid. Die Stickstoffkonzentration des zweiten neonhaltigen Fluids 23 liegt im allgemeinen im Bereich von 10 bis 30%, und die Neonkonzentration des zweiten neonhaltigen Fluids 23 liegt im allgemeinen im Bereich von 50 bis 65%. Der Rest des zweiten neonhaltigen Fluids besteht in erster Linie aus Helium und Wasserstoff.

Das in der Zeichnung veranschaulichte Ausführungsbeispiel stellt eine bevorzugte Aus führungsform dar, bei welcher Wasserstoff aus dem zweiten neonhaltigen Fluid entfernt wird, bevor dieses Fluid durch das Adsorberbett hindurchgeleitet wird. Bei diesem Aus führungsbeispiel wird der Strom 23 mittels eines Erhitzers 24 erhitzt. Ein so erhaltener erhitzter Strom 25 geht zusammen mit Sauerstoff 27 einem katalytischen Reaktor 26 zu. Bei dem im katalytischen Reaktor 26 vorgesehenen Katalysator handelt es sich vorzugs weise um einen Palladiumkatalysator. In dem katalytischen Reaktor 26 reagieren der Sauerstoff und Wasserstoff miteinander in einer exothermen Reaktion unter Bildung von Wasser. Ein Strom 28 wird aus dem katalytischen Reaktor 26 abgeführt, in einem Kühler 29 gekühlt und als Strom 30 einem Abscheider 31 zugeführt, wo kondensiertes Wasser als Strom 32 abgezogen wird. Das resultierende zweite neonhaltige Fluid 33 wird dann durch das Adsorberbett hindurchgeleitet.

Das vorliegend verwendete Adsorberbett enthält ein Adsorptionsmittel, das Stickstoff bevorzugt gegenüber Neon adsorbiert. Bei dem Adsorptionsmittel handelt es sich vor zugsweise um ein Molekularsieb, beispielsweise einen Zeolithen vom Typ 5A.

Das zweite neonhaltige Fluid wird durch das Adsorberbett bei einem erhöhten Druck hindurchgeleitet, der vorzugsweise im Bereich von 410 bis 970 kPa liegt. Bei diesem er höhten Druck wird der Stickstoff von dem Bett gegenüber Neon bevorzugt adsorbiert, wodurch ein Rohneonprodukt erzeugt wird, das im wesentlichen keinen Stickstoff enthält. Es versteht sich, daß von dem Adsorberbett auch eine gewisse Menge Neon adsorbiert wird. Das Rohneonprodukt hat eine Neonkonzentration im Bereich von 70 bis 80%. Der Rest besteht im wesentlichen im vollem Umfang aus Helium. Die Stick stoffkonzentration des Rohneonprodukts liegt im allgemeinen bei weniger als 50 ppm. Ein Vorteil des vorliegend erläuterten Verfahrens besteht darin, daß das Adsorberbett bei einem Druck arbeitet, der im wesentlichen gleich demjenigen der Säulenanordnung ist, so daß keine zusätzliche Verdichteranordnung benötigt wird.

Vorzugsweise enthält das Adsorberbett auch Aktivkohle, wobei das Molekularsieb die obere Hälfte des Adsorberbettes einnimmt, während sich Aktivkohle in der unteren Hälfte des Adsorberbettes befindet. Wenn eine katalytische Wasserstoffbeseitigung der vorstehend erläuterten Art erfolgt, enthält das dem Adsorberbett zugehende zweite neonhaltige Fluid zusätzlich Sauerstoff und Wasserdampf. Der Sauerstoff ist auf über schüssigen Sauerstoff zurückzuführen, der in den katalytischen Reaktor eingeleitet wird, um sicherzustellen, daß der Wasserstoff vollständig beseitigt wird. Der Wasserdampf geht auf eine unvollständige Kondensation des Wasserdampfs in dem den katalytischen Reaktor verlassenden Strom zurück. Die Aktivkohle hat die Aufgabe, den Wasserdampf zu adsorbieren und für eine Chemosorption des Sauerstoffs zu sorgen, so daß das Roh neonprodukt im wesentlichen weder Sauerstoff noch Wasserdampf enthält.

Außerdem wird eine gewisse Menge an Sauerstoff von dem Molekularsieb-Adsorpti onsmittel adsorbiert. Die Sauerstoffkonzentration in dem Rohneonprodukt liegt im all gemeinen bei weniger als 50 ppm.

Das anfallende Rohneonprodukt wird dann gewonnen und einer Neonraffinerie zugelei tet, um Produktneon mit einer Neonreinheit von 99,99% oder mehr zu erzeugen.

Das Adsorberbett wird bei einem Druck desorbiert, der niedriger als der Druck ist, bei dem die oben erläuterte Adsorption durchgeführt wird. Im allgemeinen erfolgt die Desorption bei einem Druck im Bereich von 21 bis 97 kPa. Vorzugsweise liegt das Ver hältnis zwischen dem Druck während der Adsorption (dem Adsorptionsdruck) und dem Druck während der Desorption (dem Desorptionsdruck) im Bereich von 7 bis 20. Die Niederdruckdesorption kann mittels einer Vakuumpumpe erfolgen, die in einer mit dem Bett verbundenen Leitung sitzt.

Das bei der Desorption des Adsorptionsbettes entstehende Endgas enthält im wesentli chen den gesamten Stickstoff, der in dem zweiten neonhaltigen Fluid vorhanden war. Im allgemeinen liegt die Stickstoffkonzentration in dem Endgas im Bereich von 40 bis 60%. Das Endgas enthält auch eine gewisse Menge an Neon und zwar im allgemeinen bei ei ner Konzentration im Bereich von 30 bis 50%. Daneben kann das Endgas Sauerstoff, Wasserdampf und Helium enthalten. Das Endgas wird von dem Adsorberbett in die Luftzerlegungsanlage geleitet.

Bei der in der Zeichnung veranschaulichten bevorzugten Ausführungsform sind vier Ad sorberbetten vorgesehen, so daß in mindestens einem Bett eine Adsorption erfolgt, wäh rend ein anderes Bett desorbiert wird, um für einen gleichförmigeren Produktstrom zu sorgen.

Wie in der Zeichnung dargestellt ist, wird das zweite neonhaltige Fluid 33 in eines von vier Adsorberbetten 34, 35, 36 und 37 eingeleitet. Während in diesem Bett die Adsorp tion erfolgt, werden die drei anderen Betten entspannt, desorbiert oder wiederaufge drückt. Der Strom durch die Betten wird durch zweckentsprechende Ventile und Zeit geber gesteuert, die nicht dargestellt sind. Das Rohneonprodukt wird als Strom 38 abge führt, während das Endgas als Strom 39 entnommen wird. Eine Vakuumpumpe 40 hat die Aufgabe, das betreffende Adsorberbett zu desorbieren und das Endgas 41 zurück zu der Luftzerlegungsanlage zu leiten. Wie in der Zeichnung dargestellt ist, kann das End gas zusammen mit der Einsatzluft in die Luftzerlegungsanlage eingeleitet werden. Vor zugsweise wird das Endgas in den Einlaß des Einsatzluftverdichters eingeleitet, der in der Zeichnung nicht dargestellt, aber am Anfang des Warmendteils der Anlage vorgese hen ist.

Bei dem vorliegenden Verfahren erfolgt die Adsorption bei einer Temperatur, die im wesentlichen der Außentemperatur entspricht. Eine Tieftemperaturadsorption wird vermieden, und der Kältebedarf des Verfahrens ist gegenüber demjenigen von konven tionellen Systemen vermindert. Der Strom von der Luftzerlegungsanlage in die Neon säule kann wesentlich niedriger als bei konventionellen Verfahren sein. Dies verbessert das Gesamtbetriebsverhalten der Luftzerlegungsanlage. Außerdem wird es dadurch möglich, ein Rohneonprodukt zu erzeugen, dessen Stickstoffgehalt wesentlich niedriger ist als dies bei konventionellen Systemen möglich ist. Eine kleine Menge an flüssigem Stickstoff kann der Neonsäule zugeführt werden, um die Kältezufuhr zu ergänzen, die zusammen mit dem Einsatzstrom der Neonsäule von der Luftzerlegungsanlage erfolgt. Die Endgasrückführung zu der Luftzerlegungsanlage führt zu einer beträchtlichen Stei gerung der Gesamtneonausbeute. Aufgrund des geschilderten Verfahrens wird Neon, das andernfalls verloren gegangen wäre, zurück zu der Luftzerlegungsanlage geleitet und schließlich als Rohneon gewonnen. Das beschriebene Verfahren, erlaubt es daher, ein Rohneonprodukt mit einem Wirkungsgrad zu erzeugen, der im Vergleich zu Wir kungsgraden deutlich verbessert ist, die mit konventionellen Anlagen erhalten werden können.

Claims

1. Verfahren zum Erzeugen von Rohneon, bei dem

A) ein neonhaltiger Lufteinsatzstrom in eine Luftzerlegungsanlage eingeleitet wird und in der Luftzerlegungsanlage durch Tieftemperaturrektifikation eine erstes neonhaltiges Fluid erzeugt wird, dessen Stickstoffkonzentration und Neonkonzentration höher als diejenigen der Einsatzluft sind;
B) das erste neonhaltige Fluid von der Luftzerlegungsanlage in eine Neonsäule eingeleitet und in der Neonsäule eine zweites neonhaltiges Fluid erzeugt wird, dessen Stickstoffkonzentration niedriger als die des ersten neonhalti gen Fluids ist und dessen Neonkonzentration höher als die des ersten neon haltigen Fluid ist;
C) zweites neonhaltiges Fluid durch ein Adsorberbett hindurchgeleitet und in dem Bett bevorzugt Stickstoff adsorbiert wird, um ein Rohneonprodukt zu erzeugen, dessen Neonkonzentration höher als die des zweiten neonhalti gen Fluid ist; und
D) das Adsorberbett bei einem Druck desorbiert wird, der niedriger als der Druck ist, bei dem die Adsorption des Verfahrensschrittes (C) durchgeführt wird, und bei der Desorption anfallendes Endgas in die Luftzerlegungsan lage eingeleitet wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Durchflußmenge des ersten neonhaltigen Fluids von der Luftzerlegungsanlage in die Neonsäule im Be reich von 0,1 bis 1,0% der Durchflußmenge der Luft ist, die in die Luftzerlegungs anlage eingeleitet wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Neonkonzen tration in dem ersten neonhaltigen Fluid im Bereich von 0,2 bis 2,0% liegt.

4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, daß die Neonkonzentration in dem zweiten neonhaltigen Fluid im Bereich von 50 bis 65% liegt.

5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Neonkonzentration in dem Rohneonprodukt im Bereich von 70 bis 80% liegt.

6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Adsorption des Verfahrensschrittes (C) bei einem Druck im Bereich von 410 bis 970 kPa durchgeführt wird.

7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Desorption des Verfahrensschrittes (D) bei einem Druck im Bereich von 21 bis 97 kPa durchgeführt wird.

8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis zwischen dem Druck während der Adsorption und dem Druck während der Desorption im Bereich von 7 bis 20 liegt.

9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite neonhaltige Fluid auch Wasserstoff enthält und daß dem zweiten neonhaltigen Fluid Sauerstoff zugeführt und Sauerstoff mit Wasserstoff unter Bil dung von Wasserdampf umgesetzt wird.

10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß Wasserdampf in dem Adsorberbett adsorbiert wird.

11. Vorrichtung zum Erzeugen von Rohneon mit

A) einer Luftzerlegungsanlage;
B) einer Neonsäule und einer Anordnung zum Überleiten von Fluid von der Luftzerlegungsanlage in die Neonsäule;
C) einem Adsorberbett, einer Anordnung zum Überleiten von Fluid von der Neonsäule zu dem Adsorberbett und einer Anordnung zum Gewinnen von Rohneonprodukt aus dem Adsorberbett; und
D) einer Anordnung zum Desorbieren des Adsorberbettes unter Bildung von Endgas sowie einer Anordnung zum Überleiten von Endgas von dem Ad sorberbett in die Luftzerlegungsanlage.

12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Luftzerlegungs anlage eine Doppelsäulenanlage mit einem Hauptkondensator ist.

13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Anordnung zum Überleiten von Fluid von der Luftzerlegungsanlage in die Neonsäule von dem Hauptkondensator ausgeht.

14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß das Adsorberbett Molekularsieb enthält.

15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Adsorberbett Molekularsieb und Aktivkohle enthüllt.

16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß zwi schen der Neonsäule und dem Adsorberbett ein katalytischer Reaktor vorgesehen ist.

17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Anordnung zum Desorbieren des Adsorberbettes eine Vakuumpumpe aufweist.

18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß vier Adsorberbetten vorgesehen sind, die sequentiell derart angeschlossen sind, daß in mindestens einem Bett eine Adsorption erfolgt, während in mindestens einem ande ren Bett eine Desorption erfolgt.