Die Erfindung betrifft einen Elektrolyten und ein Verfahren
zur Erzeugung weißer oxidkeramischer halogenidresistenter
Oberflächenschichten auf Leichtmetallen oder deren Legie
rungen mittels plasmachemischer anodischer Oxidation.
Es ist bekannt, haftfeste, dichte und dicke Dispersions
schichten auf Metallen, speziell auf Eisen und Eisenwerk
stoffen, mittels anodischer Oxidation unter Funkenentladung
oder konventioneller thermischer Behandlung durch Abschei
dung aus dispersen Systemen zu erzeugen (DD-PS 1 51 330).
Der Nachteil dieser Lösung besteht darin,
- - daß ein ständiges Rühren der Suspension erfolgen muß, um
das Absetzen der dispersen Bestandteile zu vermeiden,
- - daß nach dem Abscheiden der Schichten bei 900° nachge
glüht werden muß und damit das Verfahren für Leichtmetalle
ungeeignet ist,
- - daß keine Angaben zur Haftfestigkeit in der Patentschrift
aufgezeigt sind.
Die Patentschriften DD 1 42 359; DD 1 42 360; DD 1 51 331;
DD 2 05 197; DD 2 09 661 und DD 2 18 637 stellen Lösungen für
Verfahren zur Herstellung von Oxidschichten auf Aluminium
werkstoffen, bzw. Verbunde auf Aluminiumwerkstoffen mittels
ANOF-Verfahren dar. Nachteilig an diesen Lösungen, wie auch
an der oben aufgeführten ist,
- - daß entweder keine Aussagen über die verwendeten Elektro
lyten getroffen werden - DD 1 51 331,
- - oder daß alle verwendeten Elektrolyte fluoridhaltig sind
und damit Probleme bei der Entsorgung aufwerfen,
- - daß keine konkreten Aussagen über die Haftfestigkeit der
erzeugten Schicht getroffen werden - PS-DD 1 42 360, DD 2 18 637,
- - daß durch das Auftreten einer "körnigen" Oberfläche nur
eine verminderte Haftfestigkeit zu erwarten ist - PS-DD 1 42 360,
- - daß keine Angaben zur Korrosionsbeständigkeit der herge
stellten Schicht zu entnehmen sind - PS-DD 2 09 661; DD 2 18 637 und
- - daß aufwendige Nachbehandlungen erhöhte Anforderungen
an die Produktionstechnologie stellen - PS-DD 2 05 197.
Allen aufgezeigten Lösungen ist zu eigen, daß derart be
schichtete Werkstoffe beispielsweise als Baugruppen in
aggressiven, halogenidhaltigen Medien ungeeignet sind.
Seit kurzen sind zyanid- und fluoridfreie und damit verbunden
gesundheits- und umweltfreundliche Elektrolyte zur
Erzeugung feinmattierter, jedoch tiefschwarzer Konversions
schichten auf Leichtmetallen oder deren Legierungen
bekannt, die mittels ANOF-Verfahren realisiert werden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Elektrolyten
zu entwickeln, der die Herstellung optisch weißer
halogenidresistenter Oberflächenschichten auf Leichtmetallen
oder deren Legierungen mittels plasmachemischer ano
discher Oxidation ermöglicht. Diese Aufgabe wird erfin
dungsgemäß dadurch gelöst, daß der Elektrolyt aus einer
wäßrigen Lösung von Kaliumdihydrogenphosphat, Natriumcar
bonat, Ethylendiamin und einer Ammoniak-Lösung besteht.
Dazu werden 0,4-0,7 mol/l Kaliumdihydrogenphosphat; 0,5-
0,6 mol/l Natriumcarbonat; 0,3-0,5 mol/l Ethylendiamin
und 0,3-0,5 mol/l 25prozentige Ammoniak-Lösung vermischt.
Ein wesentliches Ergebnis der Anwendung des erfindungsge
mäßen Elektrolyten besteht darin, daß mit ihm weiße,
halogenidresistente oxidkeramische Oberflächenschichten
hergestellt werden können, indem das Leichtmetall oder
dessen Legierungen mittels plasmachemischer anodischer
Oxidation in einem wäßrigen Elektrolyten bei einer Strom
dichte von 0,01-0,1 A · cm-2 eines Impulsstromes der
Frequenz von 200-1000 Hz und einer Spannung von 250-320 V
beschichtet wird. Diese Oberflächenschichten sind besonders
als Funktionsflächen auf Baugruppen aus Leichtmetall oder
dessen Legierungen im optischen Präzisionsgerätebau oder in
der Anlagentechnik zur Herstellung optischer Gläser, bzw.
von Preformen für Lichtwellenleiter mittels CVD-Verfahren
geeignet.
Die Vorteile der Lösung ergeben sich im wesentlichen dadurch,
daß ein Elektrolyt entwickelt wurde,
- - der die Herstellung optisch weißer, halogenidresistenter
Oberflächenschichten auf Leichtmetallen oder deren Legie
rungen mittels plasmachemischer anodischer Oxidation ermög
licht,
- - welcher fluoridfrei ist und damit keine Probleme der
Entsorgung in sich birgt,
- - bei dessen Anwendung in der plasmachemischen anodischen
Oxidation Oberflächenschichten auf Leichtmetallen oder
deren Legierungen erzielt werden, die derart ausgerüstete
Werkstoffe als Material für Baugruppen in aggressiven
halogenidhaltigen Medien wirksam werden lassen. Dabei kann
beispielsweise ein wartungsaufwendiges und mit geringer
Lebensdauer behaftetes Material - wie PTFE aufgrund seiner
Kaltfließneigung - als Material für Baugruppen in CVD-
Anlagen zur Herstellung von Preformen für Lichtwellenleiter
ersetzt werden.
Die Erfindung soll anhand der folgenden, bevorzugten nicht
einschränkenden Beispiele erläutert werden.
Beispiel 1
Ein entfettetes und alkalisch gebeiztes Blech aus AlMg1SiMn
wird in einem Elektrolysebad, bestehend aus einer wäßrigen
Lösung aus 0,6 mol/l=80 g/l KH₂PO₄; 0,5 mol/l=140 g/l
Na₂CO₃ · 10 H₂O; 0,4 mol/l=25 ml/l Ethylendiamin und 0,4 mol/l=
25 ml/l 25prozentige NH₃-Lösung als Anode geschaltet
und mit Hilfe der plasmachemischen Oxidation bei einer
Stromdichte von 0,05 A · cm-2, einer Frequenz von 500 Hz
und einer Spannung von 300 V beschichtet. Man erhält eine
weiße, halogenidresistente, oxidkeramische Oberflächen
schicht von ca. 17 µm Schichtdicke. Die Remission beträgt
bei 540 nm 72 Prozent. Die mittlere Rauhigkeit RZ beträgt
2,5 µm; die Ausgangsrauhigkeit des unbeschichteten Blechs
beträgt RZ=0,6 µm.
Mit dem erfindungsgemäßen Elektrolyten ist eine Beschich
tungsvariante gegeben, die es ermöglicht, durch ihren hohen
Umgriff kompliziert geformte Bauteile zu beschichten und
diese Leichtmetallbauteile z. B. als diffuse Reflektoren
vorzugsweise dort im optischen Präzisionsgerätebau einzu
setzen, wo eine Lackierung der Oberfläche durch die Gefahr
der Kontamination nicht anwendbar ist.
Beispiel 2
Ein entfettetes und alkalisch gebeiztes Blech aus AlMg3
wird im gleichen Elektroylsebad, wie unter Beispiel 1
angegeben, plasmachemisch anodisch oxidiert. Bei gleicher
Stromdichte und Frequenz beträgt die Endspannung 260 V. Die
erhaltene weiße, halogenidresistente, oxikeramische Ober
flächenschicht besitzt eine Schichtdicke von ca. 10 µm. Die
Remission beträgt 1,8 µm, die Ausgangsrauhigkeit des unbeschichteten
Blechs beträgt RZ=0,6 µm.
Die Schichtdicke und die Rauhigkeit der Schicht kann in
jedem Fall über die Endspannung eingestellt werden. Für den
Beschichtungsprozeß wird gepulster Gleichstrom verwendet.
Die mit dem erfindungsgemäßen Elektrolyten erzeugten Ober
flächenschichten zeichnen sich durch eine gute Resistenz
gegenüber trockenen Halogenidverbindungen aus, wie sie beim
CVD-Prozeß, z. B. zur Herstellung von Preformen für Licht
wellenleiter verwendet werden. Nach einer dreimonatigen
Lagerung in einer Sauerstoffatmosphäre (OH-Gehalt 0,5 ppm),
die im Mittel 6,4 Volumenprozent SiCl₄; 1,1 Volumenprozent
GeCl₄ und 0,08 Volumenprozent POCl₃ enthielt, waren keine
Korrosionserscheinungen und Oberflächendefekte erkennbar.
Auch nach 24stündigem Tauchen im reinsten, flüssigen SiCl₄
konnte ebenfalls kein Flächenabtrag nachgewiesen werden.