DE4027999C2 - Verfahren zur Bildung einer keramischen Beschichtung durch Funkenentladung - Google Patents

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bildung einer keramischen Schicht bzw. eines keramischen Films auf der Oberfläche eines Metallsubstrats durch Anoden-Funken­ entladung, insbesondere ein Verfahren zur gleichzeitigen Abscheidung von feinen keramischen Teilchen und spezifischen feinen Teilchen mit keramischen Komponenten, gelöst in einem Bad, auf der Oberfläche eines Metallsubstrats mittels einer Funkenentladung in einem Bad, das eine Suspension, enthaltend diese Teilchen, umfaßt.

Keramische Filme, gebildet durch eine Anoden-Funkenentladung, weisen verschiedene ausgezeichnete Eigenschaften, wie elektrische Isolierungseigenschaften, niedrige Entgasungseigenschaften unter Ultrahochvakuum, Korrosionsbeständigkeit, Flexibilität und Adhäsion, auf und deshalb ist eine Funkenentladung als Technik zur Bildung von Filmen sehr wichtig geworden.

Es gibt eine Vielzahl von Patenten, die sich auf eine Filmbildung unter Verwendung von Funkenentladung beziehen. Beispielsweise offenbaren die US-PS 3 834 999 und 4 082 626 Verfahren zur Bildung von Filmen, die das Auflösen eines Alkalimetallsilikats oder eines Alkalimetallhydroxids oder einer Kombination aus solch einem Alkali mit einem Oxysäurekatalysator in Wasser und das Durchführen einer Funkentladung in der wäßrigen Lösung umfassen. Zusätzlich offenbart die JP-PS 58-17278 ein Verfahren zur Bildung eines Films unter Verwendung eines elektrischen Stroms mit einer spezifischen Wellenform, mit dem es möglich ist, einen Schutzfilm auf der Oberfläche eines Aluminiumsubstrats auf wirksame Weise als durch die vorstehenden Verfahren, die in den US-PS offenbart sind, zu bilden. JP-PS 59-28636 und 59-45722 offenbaren ebenfalls Verfahren zur Bildung eines gefärbten Schutzfilms mit einer Vielzahl von Farbtönen auf einem Aluminiumsubstrat, bei denen beispielsweise ein Metallsalz zu einem elektrolytischen Bad gegeben wird.

Andererseits offenbart die JP-PS 59-28637 ein Verfahren zur wirksamen Bildung eines Films auf einem Magnesium- oder Legierungssubstrat unter Verwendung eines elektrischen Stroms einer spezifischen Wellenform, und die JP-PS 59-28638 offenbart ein Verfahren zur Bildung eines Schutzfilms mit einer Vielzahl von Farbtönen.

DD-PS 156003 beschreibt ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Titan und Titanlegierungen. Darin wird in einem Einstufenprozeß unter Verwendung von Gleich- und/oder Wechsel- und Impulsspannungen eine Funkenentladung in einem wäßrigen Elektrolyten an der Phasengrenze Elektrolyt/Titan so durchgeführt, daß durch die Variation der Reaktionszeit in Struktur und Eigenschaft definierte Titanoxide oder auch Oxidschichten mit dispersen Einlagerungen und metallischen Abscheidungen erzeugt werden.

DD-PS 151330 beschreibt ein Verfahren, bei dem Dispersionsschichten auf Metallen, insbesondere auf Eisen und Eisenwerkstoffen, aus dispersen Systemen, z. B. Aluminat- und/oder Silikatlösungen, in denen feindispergierte Stoffe, wie B, B₄C, SiC, TiC, Na₃AlF₆, Al₂O₃, BaTiO₃, SrTiO₃, enthalten sind, anodisch unter Verwendung von Gleich- und/oder Impulsspannungen mit und ohne Ultraschall abgeschieden werden.

Gemäß US-PS 3812022 wird auf einer aluminiumhaltigen Oberfläche eine siliciumhaltige Pigmentbeschichtung durch Eintauchen des Metalles als Anode in ein wäßriges Bad eines Alkalisilikats, worin ein unlösliches Pigment dispergiert ist, und Durchleiten von Strom durch das Metall und das Bad, um eine Funkenentladung zu verursachen, hergestellt.

Die Verfahren, die in den vorstehend genannten Patenten offenbart sind, ermöglichen die Bildung von Filmen mit den vorstehenden Eigenschaften; die erhaltenen Filme besitzen jedoch eine geringe Härte, eine unzureichende dielektrische Durchschlagsspannung und eine niedrige Filmbildungsgeschwindigkeit in Abhängigkeit von der Art des elektrolytischen Bades. Diese Verfahren sind somit unbefriedigend.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, ein Verfahren zur wirksamen Bildung von keramischen Filmen bzw. Schichten sowohl mit einer Vielzahl von Farbtönen als auch mit ausgezeichneten Isolierungseigenschaften und Härte durch Anoden-Funkenentladung auf der Oberfläche eines Metallsubstrats zur Verfügung zu stellen.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Verfahren zur Bildung einer keramischen Schicht auf der Oberfläche eines Substrats durch Funkenentladung in einem elektrolytischen Bad, das dadurch gekennzeichnet ist, daß das elek­ trolytische Bad eine wäßrige Lösung eines Oxysäuresalzes, in der (i) feine Teilchen mit einer Teilchengröße von 0,01 bis 100 µm aus der Gruppe, bestehend aus Molybdändisulfid, fluoriertem Graphit und Tetrafluorethylenharz, und (ii) feine Teilchen mit einer Teilchengröße von 0,03 bis 100 µm aus der Gruppe, bestehend aus Al₂O₃, Al(OH)₃, SiO₂, 3Al₂O₃ · 2SiO₂, TiO₂, ZrO₂, Cr₂O₃, SiC, TiC, TiN, TiB, ZrB, BN, WC, WSi₂ und MoSi₂, dispergiert sind, umfaßt, und daß die Funkenentladung in dem elektrolytischen Bad bei einer Bad­ temperatur von 5 bis 90°C und einer Stromdichte von 0,2 bis 20 A/dm² über nicht weniger als 5 Min. durchgeführt wird, während der suspendierte Zustand der feinen Teilchen in dem Bad gewährleistet wird.

Durch das erfindungsgemäße Verfahren werden zusammengesetzte Keramikfilme mit ausgezeichneter Abriebbeständigkeit auf der Oberfläche eines Metallsubstrats durch Anoden-Funkenentladung zur Verfügung gestellt.

Beispiele für das erfindungsgemäß in dem elektrolytischen Bad enthaltene Oxysäuresalz sind Wolframate, Stannate, Molybdate, Borate, Aluminate und Phosphate. Zu dem elektrolytischen Bad können Metallionen, wie Ni-, Co-, Zn-, Ca-, Ba-, Mg-, Pb- oder Cr-Ionen oder Mischungen daraus in Form eines wasserlöslichen Salzes gegeben werden.

Die Konzentration des Oxysäuresalzes in der wäßrigen Lösung, die erfindungsgemäß als elektrolytisches Bad verwendet wird, beträgt vorzugsweise nicht weniger als 5 g/l, besonders bevorzugt 25 bis 200 g/l. Insbesondere wenn ein Oxysäuresalz in einer Menge, die etwa seiner Sättigung entspricht, verwendet wird, kann die höchste Filmbildungsgeschwindigkeit erreicht werden; der erhaltene Film ist jedoch oft ungleichmäßig, wenn die Konzentration des Oxysäuresalzes ansteigt. Aus diesem Grund wird die Konzentration geeigneterweise auf den vorstehend angegebenen Bereich beschränkt. Der pH-Wert des elektrolytischen Bades ist nicht besonders begrenzt, beträgt jedoch vorzugsweise 3 bis 13,5.

Die feinen Teilchen (ii), die in der wäßrigen Lösung unlöslich sind und darin dispergiert werden können, sind feine keramische Teilchen, die der wäßrigen Lösung zugegeben werden, und die gewählt werden aus Keramik vom Oxidtyp (Al₂O₃, Al(OH)₃, SiO₂, 3Al₂O₃×2SiO₂, TiO₂, ZrO₂ unnd Cr₂O₃) und Keramik vom Nichtoxidtyp (SiC, TiC, TiN, TiB, ZrB, BN, WC, WSi₂ und MoSi₂). Diese keramischen Teilchen können allein oder in Kombination verwendet werden.

Die Teilchengröße der keramischen Teilchen beträgt 0,03 bis 100 µm, insbesondere 0,03 bis 20 µm. Wenn ihre Teilchengröße erhöht wird, ist es schwierig, die keramischen Teilchen gleichzeitig abzuscheiden, und wenn sie gleichzeitig abgeschieden werden, ist der erhaltene Film nicht gleichmäßig.

Die Menge der feinen keramischen Teilchen, die dem elektrolytischen Bad zugegeben wird, kann willkürlich bestimmt werden in Abhängigkeit von der Art der Elektrolyten, in denen die feinen Teilchen dispergiert sind, und der Menge der zu dispergierenden feinen Teilchen. Sie liegt im allgemeinen bei bis zu 200 g/l, besonders bevorzugt bei 5 bis 100 g/l im Hinblick auf die Wirksamkeit der Abscheidung.

Die feinen Teilchen (i), die erfindungsgemäß verwendet werden, sind Molybdändisulfid, fluorierter Graphit, Tetrafluorethylenharz oder Mischungen daraus. Diese feinen Teilchen besitzen selbstgleitende Eigenschaften und werden deshalb in dem keramischen Film während der Funkenentladung aufgenommen, wodurch sich ein Film mit guter Abriebbeständigkeit ergibt.

Die Teilchengröße der feinen Teilchen mit selbstgleitenden Eigenschaften beträgt 0,01 bis 100 µm, vorzugsweise 0,03 bis 20 µm. Wenn ihre Teilchengröße erhöht wird, ist es schwierig, die keramischen Teilchen gleichzeitig abzuscheiden, und, wenn sie gleichzeitig abgeschieden werden, ist der erhaltene Film nicht gleichmäßig.

Die Menge der feinen Teilchen mit selbstgleitenden Eigenschaften, die dem elektrolytischen Bad zugegeben wird, kann willkürlich bestimmt werden in Abhängigkeit von der Art des Elektrolyten, in dem die feinen Teilchen dispergiert werden und der Menge der feinen Teilchen, die dispergiert werden. Sie liegt im allgemeinen bei bis zu 200 g/l, besonders bevorzugt bei 5 bis 100 g/l, im Hinblick auf die Wirksamkeit der Abscheidung.

Erfindungsgemäße Beispiele für Metallsubstrate, auf denen ein keramischer Film bzw. eine Schicht durch Funkenentladung gebildet werden kann sind solche aus Aluminium, Zirkonium, Titan, Niob, Magnesium und Legierungen davon.

Wenn ein Film auf einem Metallsubstrat durch Funkenentladung gebildet wird, muß das Substrat keiner speziellen Vorbehandlung ausgesetzt werden; es ist jedoch wünschenswert, die Oberfläche des Substrats beispielsweise durch Entfettung, Ätzung oder Waschen mit einer Säure ausreichend zu reinigen.

Eine unlösliche Elektrode wird als Kathode verwendet. Die Kathode kann beispielsweise aus Eisen, nichtrostendem Stahl oder Nickel gebildet sein.

In dem erfindungsgemäßen Verfahren wird die Funkenentladung in dem elektrolytischen Bad, das vorstehend definiert ist, durchgeführt, während der suspendierte Zustand der keramischen Teilchen in dem elektrolytischen Bad gewährleistet wird. Die feinen keramischen Teilchen lagern sich aufgrund der Schwerkraft oder ihres Eigengewichts ab, und deshalb ist es wichtig, die Funkenentladung durchzuführen, während der suspendierte Zustand der Teilchen auf übliche Weise aufrechterhalten wird. Die Beibehaltung des suspendierten Zustands kann durch Rühren oder Zirkulation des Elektrolyten durchgeführt werden.

Wenn feine Teilchen mit schlechten Dispersionseigenschaften verwendet werden, kann ein Dispergiermittel, beispielsweise ein oberflächenaktives Mittel, wie kationische, nichtionische oder anionische oberflächenaktive Mittel, zur Erreichung einer guten Dispersion verwendet werden.

Die Temperatur des elektrolytischen Bades während der Funkenentladung beträgt 5 bis 90°C, vorzugsweise 15 bis 60°C. Wenn sie zu niedrig ist, ist die Filmbildungsgeschwindigkeit durch die Funkenentladung niedrig, während sich ein ungleichmäßiger Film bilden kann, wenn die Temperatur zu hoch ist.

Wenn die verwendete Stromdichte zu niedrig ist, werden die feinen Teilchen kaum abgeschieden, während, wenn sie zu hoch ist, ein Film mit niedriger Teilchendichte oder ein grober Film bei hohen Stromteilen gebildet wird. Die Stromdichte beträgt deshalb 0,2 bis 20 A/dm², insbesondere bevorzugt 1 bis 5 A/dm².

Die Leistung bzw. Abgabe aus einer Kraftquelle kann ein direkter Strom mit irgendeiner Wellenform sein; vorzugsweise besitzt er jedoch Pulsform (rechteckige Wellenform), sägezahnartige Wellenform oder Gleichstromhalbwellenform.

Die Funkenentladungsanfangsspannung variiert in Abhängigkeit von verschiedenen Faktoren, wie der Wellenform des Ausgangsstroms aus der Gleichstromkraftquelle, der Konzentration des Oxysäuresalzes und der Temperatur des Bads, liegt jedoch geeigneterweise bei 50 bis 200 V. Weiterhin wird die während der Filmbildung beobachtete Spannung erhöht, wenn die Funkenentladung fortschreitet, und die Endspannung übersteigt manchmal 1000 V.

Die Elektrolysezeit variiert in Abhängigkeit von der gewünschten Dicke des erhaltenen Films. Wenn der erhaltene Film dünn ist, kann der Film jedoch nicht die spezifische Qualität zeigen. Deshalb muß die Elektrolyse über wenigstens 5 min durchgeführt werden. Im allgemeinen können praktisch annehmbare Filme mit einer Dicke von beispielsweise 2 bis 80 µm erhalten werden, wenn die Elektrolyse über 10 bis 60 min durchgeführt wird.

Erfindungsgemäß können auf wirksame Weise metallische Materialien mit Keramikfilmen bzw. -schichten mit hohen Isoliereigenschaften, großer Härte und einer Vielzahl von Farbtönen hergestellt werden.

Niedrige Entgasungseigenschaften, Korrosionsbeständigkeit und Schnelligkeitseigenschaften können einer Vorrichtung zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen durch Aufbringen eines keramischen Films auf die Ummantelung oder die Kammer eines Reaktionsbehälters der Vorrichtung gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren verliehen werden. Wenn weiterhin ein Aluminium- oder aluminiumverkleideter Kupferleiter mit einer keramischen Beschichtung versehen wird, kann ein elektrischer Draht erhalten werden, der mit einer keramischen Schicht mit hoher dielektrischer Durchschlagsspannung und hoher Flexibilität beschichtet ist und dessen Beschichtung kaum gebrochen wird, auch wenn die Schicht einen Riß hat.

Gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren ist der Farbton der erhaltenen Filme bzw. Schichten ziemlich weiß in Abhängigkeit von der Art der verwendeten feinen Teilchen, und deshalb kann das Verfahren ebenfalls als Weißungsbehandlung für Aluminiumkonstruktionsmaterialien verwendet werden.

Wenn ein keramischer Film auf einen Behälter für Kosmetika, umfassend ein Aluminiummaterial, gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren aufgebracht wird, kann ein Behälter für Kosmetika mit schönem Aussehen im Hinblick auf eine Vielzahl von Farbtönen und frei von Schlagmerkmalen erhalten werden.

Wenn ein keramischer Film auf ein Heizgerät aus Aluminium aufgebracht wird, kann ein Infrarot-Dunkelstrahler mit ausgezeichneten Infrarotdunkelemissionseigenschaften und frei von Schlagmerkmalen erhalten werden.

Außerdem ermöglicht es das erfindungsgemäße Verfahren, metallische Materialien mit einer darauf befindlichen keramischen zusammengesetzten Schicht mit ausgezeichneten Abriebeigenschafteen auf wirksame Weise herzustellen.

Wenn der erfindungsgemäß erhaltene zusammengesetzte Film bzw. Verbundfilm beispielsweise auf Gleitflächen von bewegbaren Teilen in einem Vakuumbehälter aufgebracht wird, kann eine Vorrichtung mit ausgezeichneten Gasentladungseigenschaften, Korrosionsbeständigkeit und Haltbarkeit erhalten werden. Wenn er auf die Gleitflächen von bewegbaren Teilen einer Vorrichtung aufgebracht wird, kann die Vorrichtung, die bei hoher Temperatur betrieben wird, wärmebeständig, korrosionsbeständig und haltbar gemacht werden.

Wenn der keramische Verbundfilm als Überzug für elektrische Drähte, die in einer Vakuum- oder Strahlungsatmosphäre verwendet werden, verwendet wird, können z. B. Signallinien, die eine ausgezeichnete Gasentladungseigenschaft und Korrosionsbeständigkeit besitzen und kaum zerstört werden aufgrund von Abrieb, wie Reibung, erhalten werden.

Die nachstehenden Beispiele erläutern die Erfindung.

Vergleichsbeispiel 1

Eine Aluminiumplatte wurde entfettet, mit einem Alkali geätzt und mit einer Säure aktiviert, um die Platte zu reinigen. Eine Funkenentladung wurde in einer Dispersion, erhalten durch Dispergieren von 3 g/l feiner Teilchen von fluorierten Graphit (erhältlich von Central Glass Co., Ltd. unter dem Handelsnamen Sefbon mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 2 µm) in einer 70 g/l wäßrigen Lösung von Na₄P₂O₇×10H₂O mit Hilfe von 0,3 g/l eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels (erhältlich von Nikka Chemicals Ltd. unter dem Handelsnamen Peltex 1225) unter Verwendung einer Aluminiumplatte als Anode und einer nichtrostenden Stahlplatte als Kathode durchgeführt. In dieser Stufe wurde der Elektrolyt ausreichend gerührt, um keine Sedimentation der feinen Teilchen des fluorierten Graphits zu bewirken, so daß ein gut suspendierter Zustand gewährleistet wurde. Die Funkenentladung wurde bei einer Stromdichte von 1 A/dm² und einer Temperatur von 40°C über 60 min durchgeführt, um einen Film mit einer Dicke von 10 µm zu ergeben. Der Film wurde durch einen Röntgenmikroanalysator analysiert. Als Ergebnis wurde die Gegenwart von Al, O, C und F nachgewiesen. Dies zeigt, daß ein keramischer Film, enthaltend fluoriertes Graphit, mit Sicherheit gebildet wurde.

Beispiel 1

Mit der gleichen Anode und Kathode, wie in Vergleichsbeispiel 1 verwendet, wurde eine Funkenentladung bei einer Stromdichte von 1 A/dm² und einer Temperatur von 40°C über 60 min in einer Lösung, erhalten durch Suspendieren von 40 g/l feiner Al₂O₃-Teilchen (erhältlich von Showa Denko K. K. unter dem Handelsnamen Reactive Alumina AL-160SG mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 0,4 µm) und einem Sol, worin 50 g/l feine MoS₂-Teilchen (erhältlich von Hitachi Power Metallurgy Co., Ltd. unter dem Handelsnamen Hitasol MA-407S) in 70 g/l einer wäßrigen Lösung von Na₄P₂O₇× 10H₂O dispergiert sind, durchgeführt. Als Ergebnis wurde ein zusammengesetzter Film mit einer durchschnittlichen Filmdicke von 15 µm erhalten, und die Gegenwart von Al, O, Mo und S wurde durch einen Röntgenmikroanalysator nachgewiesen. Dies zeigt, daß Molybdändisulfid gleichzeitig niedergeschlagen wurde.

Beispiel 2

Mit der gleichen Anode und Kathode, wie in Vergleichsbeispiel 1 verwendet, wurde eine Funkenentladung bei einer Stromdichte von 1 A/dm² und einer Temperatur von 30°C über 40 min in einer Lösung, erhalten durch Suspendieren von 40 g/l feiner Al₂O₃-Teilchen (erhältlich von Showa Denko K. K. unter dem Handelsnamen Reactive Alumina AL-160SG) in 70 g/l einer wäßrigen Lösung von Na₄P₂O₇×10H₂O, worin ein Sol, enthaltend 2 g/l feiner Tetrafluorethylenharzteilchen (erhältlich von Central Glass Co., Ltd. unter dem Handelsnamen Cefural Loove-I mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 3 µm) weiter dispergiert war mit Hilfe eines fluoratomhaltigen nichtionischen oberflächenaktiven Mittels (erhältlich von Dainippon Ink and Chemicals Inc. unter dem Handelsnamen Megafack F-142D) als Dispergiermittel, durchgeführt.

Als Ergebnis wurde ein zusammengesetzter Film mit einer durchschnittlichen Filmdicke von 14 µm erhalten, und die Gegenwart von Al, O, F und C wurde durch einen Röntgenmikroanalysator nachgewiesen. Dies zeigt, daß die feinen Tetrafluorethylenharzteilchen mit Sicherheit gleichzeitig abgeschieden wurden.

Vergleichsbeispiel 2

Mit einer Aluminiumplatte, die auf die gleiche Weise wie im Vergleichsbeispiel 1 gereinigt worden war und als Anode diente, und einer nichtrostenden Stahlplatte, die als Kathode diente, wurde eine Funkenentladung in einer 70 g/l wäßrigen Lösung von Na₄P₂O₇×10H₂O unter den gleichen Bedingungen wie in Vergleichsbeispiel 1 durchgeführt.

Die erhaltenen Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle I angegeben.

Die in der Tabelle I angegebenen Werte für die Filmdicke, Härte, dielektrische Durchschlagsspannung der Abriebbeständigkeit der Filme wurden gemäß den folgenden Verfahren bestimmt.

Filmdicke

Die Filmdicke wurde mit einem Dickenmeßgerät vom Wirbelstromtyp, Permascope E 110B (erhältlich von Fischer Company) bestimmt.

Härte

Ein Testprüfling wurde bei 110°C über 1 h getrocknet, abkühlen gelassen, die Spitze davon wurde flach und glatt poliert; ein spitzer Gegenstand (pencil) wurde fest gegen die beschichtete Oberfläche in einem Winkel von 45° gepreßt und auf der Oberfläche mit gleichförmiger Geschwindigkeit (3 cm/s) bewegt. Die Härte des Films wurde in bezug auf die Härte des spitzen Gegenstands bei der der Film in wenigstens 4 Messungen unter insgesamt fünf Durchgängen nicht gebrochen war, ausgedrückt.

Dielektrische Durchschlagsspannung

Die dielektrische Durchschlagsspannung wurde mit einem dielektrischen Durchschlagsvoltmeter vom Typ B-5110AF (erhältlich von Faice Co., Ltd.) gemäß dem Lackbeschichtungstestverfahren, das ein dielektrischer Festigkeitstest für feste elektrische Isoliermaterialien ist, (siehe JIS C2110) bestimmt.

Abriebbeständigkeit

Eine Suga-Abriebtestvorrichtung (erhältlich von Suga Tester Manufacturing Co., Ltd.) wurde zur Bewertung der Abriebbeständigkeit jedes Films unter den folgenden Bedingungen verwendet. In diesem Test wurde der vorhergehende Abrieb 100 ds (dopple strokes - Doppelstoß) durchgeführt.

Abriebstreifen
CC # 400
Testcyclus	400 ds
Belastung	500 gf
Geschwindigkeit der Reibungsbewegung	40 ds
Rad	Kautschuk

Claims (5)

1. Verfahren zur Bildung einer keramischen Schicht auf der Oberfläche eines Substrats durch Funkenentladung in einem elektrolytischen Bad, dadurch gekennzeichnet, daß das elek­ trolytische Bad eine wäßrige Lösung eines Oxysäuresalzes, in der (i) feine Teilchen mit einer Teilchengröße von 0,01 bis 100 µm aus der Gruppe, bestehend aus Molybdändisulfid, fluoriertem Graphit und Tetrafluorethylenharz, und (ii) feine Teilchen mit einer Teilchengröße von 0,03 bis 100 µm aus der Gruppe, bestehend aus Al₂O₃, Al(OH)₃, SiO₂, 3Al₂O₃ · 2SiO₂, TiO₂, ZrO₂, Cr₂O₃, SiC, TiC, TiN, TiB, ZrB, BN, WC, WSi₂ und MoSi₂, dispergiert sind, umfaßt, und daß die Funkenentladung in dem elektrolytischen Bad bei einer Bad­ temperatur von 5 bis 90°C und einer Stromdichte von 0,2 bis 20 A/dm² über nicht weniger als 5 Min. durchgeführt wird, während der suspendierte Zustand der feinen Teilchen in dem Bad gewährleistet wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Teilchengröße der feinen Teilchen bei 0,03 bis 20 µm liegt.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Funkenentladung bei einer Badtemperatur von 15 bis 60°C und einer Stromdichte von 1 bis 5 A/dm² über 10 bis 60 Min. durchgeführt wird.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der feinen Teilchen, die dem elektrolytischen Bad zugegeben wird, bei 5 bis 100 g/l liegt.

5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Substrat aus Aluminium, Zirkonium, Titan, Niob, Magnesium oder Legierungen davon eingesetzt wird.