DE4009850C1 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Reinigen von Laser
gas, insbesondere für Excimer- und F2-Laser, unter Verwendung
von in einem Behälter angeordneten flüssigem Stickstoff zum Ausfrieren von Verunreinigungen
aus dem Lasergas, wobei die Ausfriertemperatur einstellbar ist.
Gepulste Gaslaser, wie Excimer- und F2-Laser, werden durch Gas
entladungen angeregt. Das Lasergas wird durch die Gasentladun
gen verunreinigt, insbesondere durch Abbrand an den Gasentla
dungselektroden, chemische Reaktionen und Desorptionen von den
Wänden, insbesondere den Fenstern des Lasers. Solche Verunrei
nigungen beeinträchtigen die Leistung und Lebensdauer des
Lasers. Auch das eingefüllte Gas ist in aller Regel von vornhe
rein schon verunreinigt.
Es ist im Stand der Technik bekannt, das Lasergas aus dem Gas
entladungsraum heraus zu einer Reinigungseinrichtung zu führen
und danach wieder in den Gasentladungsraum zu zirkulieren. Es
ist auch bekannt, diese Gasreinigung durch Ausfrierung bei
Temperaturen des flüssigen Stickstoffes durchzuführen.
Tieftemperaturexperimente z. B. bei F2-Lasern haben gezeigt, da8
eine erhebliche Steigerung der Laserleistung möglich ist, wenn
die Betriebstemperatur des Ausfrierbereiches des cryogenischen
Gasreinigers deutlich unterhalb von 77 K (typische Temperatur
flüssigen Stickstoffes bei Atmosphärendruck) liegt.
Gasentladungslaser können je nach der verwendeten Gasmischung
bei unterschiedlichen Wellenlängen emittieren. Dabei wird in
der Regel nur das Gas ausgetauscht, um einen Laser zu erhalten,
der Strahlung anderer Wellenlänge emittiert. Wird die Gasent
ladung nicht mit F2-Gas durchgeführt, sondern werden beim Be
trieb als Excimer-Laser, Edelgase wie Kr und Xe beigemischt
(außer ArF), so darf die Reinigung des Lasergases durch
cryogenisches Ausfrieren nur bei Temperaturen erfolgen, die
höher sind als 77 K.
Die DE 36 32 995 A1 beschreibt die Verwendung einer Kältefalle
unter Verwendung von insbesondere flüssigem Stickstoff, wobei
die Kältefalle dazu dient, im Vergleich mit dem Hauptedelgas
eines Excimerlasers bei tieferen Temperaturen siedende Verun
reinigungen auszufrieren.
Die Erfindung setzt sich das Ziel, eine Vorrichtung zum Reini
gen von Lasergas zu schaffen, die in einfacher und kostengün
stiger Weise ein Ausfrieren von Verunreinigungen aus dem Laser
gas bei unterschiedlichen Temperaturen unter- und oberhalb von
77 K ermöglicht.
Es wäre denkbar, diese Aufgabe dadurch zu lösen, daß im Aus
frierbereich der Vorrichtung eine Heizeinrichtung vorgesehen
wird, mit der wahlweise eine bestimmte Temperatur einstellbar
ist. Eine solche Lösung ermöglicht aber keine Temperaturen
unterhalb von 77 K und hat überdies den Nachteil, daß ein er
höhter Verbrauch von flüssigem Stickstoff erfolgt.
Die erfindungsgemäße Lösung sieht hingegen vor, daß die Aus
friertemperatur mittels des Druckes über dem flüssigen (ggf.
auch festen) Stickstoff eingestellt wird.
Bei Unterdruckbetrieb (Unterdruck in bezug auf die Atmosphäre)
wird eine Temperatur im Ausfrierbereich erreicht, die tiefer
liegt als 77 K, während bei Überdruckbetrieb (in bezug auf die
Atmosphäre) Temperaturen im Ausfrierbereich eingestellt werden
können, die oberhalb von 77 K liegen.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung ermöglicht also ohne wesent
liche Umbauten die Einstellung gewünschter Temperaturen zum
Ausfrieren von Verunreinigungen aus Lasergas, je nach der ver
wendeten Gasart. Der mit flüssigem Stickstoff erreichbare Tem
peraturbereich wird auf Werte tiefer als die Temperatur des
flüssigen Stickstoffs bei Atmosphärendruck ausgeweitet, so daß
die Laserleistung bei bestimmten Gasen erhöht werden kann. Es
ist keine Heizung erforderlich und der Verbrauch an flüssigem
Stickstoff bei Temperaturen oberhalb von 77 K ist relativ ge
ring.
Weiterhin liegt einer Variante der Erfindung auch die Erkennt
nis zugrunde, daß bei insbesondere einem F2-Laser (mit den
Betriebsgasen F2 und He) die Laserleistung auch bei einer
frischen Gasfüllung deutlich gesteigert werden kann, wenn das
Gas vor dem Laserbetrieb cryogenisch gereinigt wird. Beste
Ergebnisse werden dabei bei einer Temperatur von 63 K beobach
tet, einer Temperatur, bei der eine Kondensation von F2 gerade
einsetzt.
Nachfolgend wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand
der Zeichnung näher erläutert. Die Figur zeigt eine Vorrichtung
zum Reinigen von Lasergas.
In einem Behälter 10 ist flüssiger Stickstoff 12 enthalten. Die
Oberfläche der flüssigen bzw. festen Phase des Stickstoffes 12
ist mit 14 bezeichnet.
Der Behälter 10 ist thermisch isoliert, beim dargestellten Aus
führungsbeispiel durch evakuierte Räume 16 in seinen Wänden.
Statt der Evakuierung kann auch Isolationsmaterial vorgesehen
sein.
Über eine Leitung 18 und ein Ventil 20 kann flüssiger Stick
stoff in den Behälter 10 nachgefüllt werden.
Mittels einer als solche bekannten Füllstands-Meßeinrichtung 22
wird der Füllstand des flüssigen Stickstoffs 12 in dem Behälter
10, also die Position der Oberfläche 14 der flüssigen Phase er
mittelt. Das Ergebnis wird an einem Meßgerät 24 angezeigt. In
die Füllstands-Meßeinrichtung 22 ist auch eine Temperatur-Meß
einrichtung integriert, deren Meßergebnis ebenfalls am Gerät 24
angezeigt wird.
Der Behälter 10 ist nach außen dicht abgeschlossen. Über der
Oberfläche 14 des flüssigen (oder ggf. festen) Stickstoffes 12
liegt eine Gasphase 26 vor, wobei der Druck in der Gasphase
aufgrund des dichten Abschlusses des Behälters 10 gegenüber der
äußeren Atmosphäre verschieden vom Atmospärendruck sein kann.
Der Behälter 10 ist oben durch einen Deckel 28 abgeschlossen.
Außer der bereits genannten Leitung 18 und der Füllstands-Meß
einrichtung 22 ragt auch eine Leitung 30 durch den Deckel 28 in
das Innere des Behälters 10. Alle Durchführungen bzw. Leitungen
sind vakuumdicht und Überdrucksicher durch den Deckel 28 ge
führt. Die Leitung 30 führt über ein Ventil 36 zu einer Vakuum
pumpe 34, die bei Betrieb und geöffnetem Ventil 36 Gase (im
wesentlichen flüssiger Stickstoff) aus dem Freiraum oberhalb
der Oberfläche 14 über eine Leitung 32 in die äußere Atmosphäre
fördert.
Weiterhin ist an die Leitung 30 ein Druckmeß- und Anzeigegerät
40 angeschlossen, das über eine weitere Leitung 38 mit einem
regel- und/oder einstellbaren Ventil 42 mit einer Leitung 44
verbunden ist, die ebenfalls zur äußeren Atmosphäre führt.
Der Behälter 10 weist einen Boden 46 auf, der zwecks einer gu
ten Wärmeleitung beim dargestellten Ausführungsbeispiel aus
Kupfer gefertigt ist. Unter dem Boden 46 ist mittels Schrauben
50, 52 eine Platte 48 montiert, die eine spiralförmige Leitung
54 gegen den Boden 46 klemmt. Durch die spiralförmige Leitung
54 strömt das zu reinigende Lasergas. Mittels eines Tempera
tursensors 56 ist die Temperatur im Ausfrierbereich an der Un
terseite des Bodens 46 meßbar und in eine zentrale Steuerung
eingebbar, mit der auch das Meßgerät 24 sowie alle Steuerein
richtungen für die gezeigten Ventile und Pumpen verbunden sind.
Durch Leitungen 58, 60 strömt Lasergas in die spiralförmige
Leitung 54 im Ausfrierbereich bzw. wieder heraus. Die Leitungen
58, 60 sind mit einem Wärmetauscher 62 verbunden. Vorzugsweise
ist der Wärmetauscher 62 durch koaxial angeordnete Rohre ge
bildet.
Gereinigtes Lasergas strömt durch eine Leitung 68, ein Ventil
66 und eine Leitung 64 zum Laser (nicht gezeigt), während zu
reinigendes Lasergas über eine Leitung 70, eine Gaszirkula
tionspumpe 72, ein Ventil 74 und eine Leitung 76 in den Wärme
tauscher 62 eintritt.
Die Funktion der vorstehend beschriebenen Vorrichtung ist wie
folgt:
Zu reinigendes Lasergas strömt bei geöffnetem Ventil 74 über den Wärmetauscher 62, d. h. eines der dort vorgesehenen konzen trisch angeordneten Rohre und über das Rohr 58 zur spiralförmi gen Leitung 54 im Ausfrierbereich unter dem Boden 56 des Behäl ters 10. Dort wird das Lasergas auf die gerade am Boden 46 herrschende und mittels des Temperatursensors 56 gemessene Temperatur abgekühlt, wobei Verunreinigungen ausgefroren wer den. Der Ausfriervorgang und insbesondere die Art und Menge der dabei ausgefrorenen Bestandteile aus dem Lasergas hängen empfindlich von der Temperatur im Ausfrierbereich ab. Die Ein stellung dieser Temperatur wird weiter unten näher beschrieben. Das so abgekühlte und durch Ausfrierung (Kondensation) von un erwünschten Bestandteilen gereinigte Lasergas strömt durch das andere Rohr 60 zurück zum Wärmetauscher 62 und kühlt dort das über die Leitung 70 vom Laser kommende warme Gas vor, bevor dieses in die Leitung 54 des Ausfrierbereichs eintritt. Das ge reinigte Lasergas strömt dann weiter über die Leitung 68, das Ventil 66 und die Leitung 64 zum Entladungsraum des Lasers.
Zu reinigendes Lasergas strömt bei geöffnetem Ventil 74 über den Wärmetauscher 62, d. h. eines der dort vorgesehenen konzen trisch angeordneten Rohre und über das Rohr 58 zur spiralförmi gen Leitung 54 im Ausfrierbereich unter dem Boden 56 des Behäl ters 10. Dort wird das Lasergas auf die gerade am Boden 46 herrschende und mittels des Temperatursensors 56 gemessene Temperatur abgekühlt, wobei Verunreinigungen ausgefroren wer den. Der Ausfriervorgang und insbesondere die Art und Menge der dabei ausgefrorenen Bestandteile aus dem Lasergas hängen empfindlich von der Temperatur im Ausfrierbereich ab. Die Ein stellung dieser Temperatur wird weiter unten näher beschrieben. Das so abgekühlte und durch Ausfrierung (Kondensation) von un erwünschten Bestandteilen gereinigte Lasergas strömt durch das andere Rohr 60 zurück zum Wärmetauscher 62 und kühlt dort das über die Leitung 70 vom Laser kommende warme Gas vor, bevor dieses in die Leitung 54 des Ausfrierbereichs eintritt. Das ge reinigte Lasergas strömt dann weiter über die Leitung 68, das Ventil 66 und die Leitung 64 zum Entladungsraum des Lasers.
Die Temperatur am Boden 46 des Behälters 10 wird erfindungsge
mäß dadurch wahlweise variiert, daß der Druck der Gasphase 26
über der Oberfläche 14 so eingestellt wird, daß die Temperatur
des flüssigen Stickstoffs 12 den gewünschten Wert annimmt. Die
ser Wert kann oberhalb oder unterhalb von 77°K liegen. Hierzu
wird mittels der Vakuumpumpe 34 (bei geschlossenen Ventilen 20,
42 und geöffneten Ventil 36) der Freiraum über der Oberfläche
14 des flüssigen Stickstoffs (der ggf. auch fest sein kann) so
weit evakuiert, daß sich der flüssige Stickstoff auf den ge
wünschten Wert abkühlt, was der Temperatursensor 56 am Boden 46
mißt und der zentralen Steuerung anzeigt. Bei Unterdruckbetrieb
(Unterdruck im Raum über der Oberfläche 14 im Vergleich zum
äußeren Atmosphärendruck) können Temperaturen im Ausfrierbe
reich erreicht werden, die tiefer liegen als 77 K.
Sollen hingegen Temperaturen gleich oder größer als 77 K er
reicht werden, wird das Ventil 36 abgesperrt bzw. die Vakuum
pumpe 34 außer Betrieb gesetzt und es wird mittels des regel
baren bzw. einstellbaren Ventils 42 ein Überdruck im Raum über
der Oberfläche 14 eingestellt, bei dem sich der flüssige Stick
stoff 12 auf die gewünschte Temperatur bei oder oberhalb von
77 K einstellt. Hierzu übermittelt das Druckmeßgerät 40 ein
Druckmeßsignal an die zentrale Steuerung, die das Ventil 42 so
einstellt, daß ein gewünschter Soll-Druckwert erreicht wird,
bei dem die mittels des Temperatursensors 56 gemessene Tempe
ratur den gewünschten Wert hat, bei der das Lasergas optimal
durch Ausfrierung gereinigt wird.
Claims (7)
1. Vorrichtung zum Reinigen von Lasergas, insbesondere für
Excimer- und F2-Laser, unter Verwendung von in einem Behälter
(10) angeordneten flüssigem Stickstoff zum Ausfrieren von
Verunreinigungen aus dem Lasergas, wobei die Ausfriertemperatur
einstellbar ist,
dadurch gekennzeichnet, daß die Ausfriertem
peratur mittels des Druckes über der Oberfläche (14) des flüs
sigen Stickstoffes (12) im abgeschlossenen Behälter (10) einge
stellt wird.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß der flüssige
Stickstoff (12) in einem Behälter (10) angeordnet ist, unter
dessen Boden (46) eine das Lasergas führende Leitung (54) zum
Ausfrieren der Verunreinigungen in gutem Wärmekontakt mit dem
Boden befestigt ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß der flüssige
Stickstoff (12) in einem Behälter (10) angeordnet ist, aus dem
eine Leitung (90) zu einer Ausfriereinrichtung (84) führt.
4. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß in den flüssigen
Stickstoff (12) enthaltenden Behälter (10) eine Leitung (30)
mündet, die an eine Vakuumpumpe (34) angeschlossen ist.
5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß mittels eines
Überdruckventils (42) im den flüssigen Stickstoff (12) enthal
tenden Behälter (10) ein Druck einstellbar ist, der über dem
Atmosphärendruck liegt.
6. Vorrichtung zum Reinigen von Lasergas, insbesondere für
einen F2-Laser, unter Verwendung von flüssigem Stickstoff zum
Ausfrieren von Verunreinigungen aus dem Lasergas,
dadurch gekennzeichnet, daß das Lasergas durch
Ausfrierung bei einer Temperatur von nicht mehr als 70 K
gereinigt wird.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet, daß das Lasergas bei
einer Ausfriertemperatur von nicht mehr als 66 K, vorzugsweise
nicht mehr als 63 K, gereinigt wird.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4009850A DE4009850C1 (de) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | |
US07/670,743 US5136605A (en) | 1990-03-27 | 1991-03-15 | Apparatus for purifying laser gas |
JP3077164A JPH07263777A (ja) | 1990-03-27 | 1991-03-18 | レーザーガス精製装置 |
US08/257,462 US5430752A (en) | 1990-03-27 | 1994-06-09 | Apparatus for purifying laser gas |
Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
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US (2) | US5136605A (de) |
JP (1) | JPH07263777A (de) |
DE (1) | DE4009850C1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4200990A1 (de) * | 1992-01-16 | 1993-07-22 | Linde Ag | Verfahren zur abtrennung von dampffoermigen komponenten aus einem dampf-traegergas-gemisch |
DE19635002A1 (de) * | 1996-08-30 | 1998-03-05 | Messer Griesheim Gmbh | Verfahren zur Online-Rückgewinnung von Xenon aus Narkosegas |
DE4428210C2 (de) * | 1994-08-09 | 2002-10-24 | Lambda Physik Ag | Verfahren zur cryogenischen Reinigung von XeF-Excimerlaser-Gasgemischen sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4009850C1 (de) * | 1990-03-27 | 1991-11-07 | Lambda Physik Gesellschaft Zur Herstellung Von Lasern Mbh, 3400 Goettingen, De | |
DE4132148C2 (de) * | 1991-09-26 | 1996-11-21 | Wb Laser Wegmann Baasel Laser | Pumpenanordnung für einen Gasentladungslaser |
US5377911A (en) * | 1993-06-14 | 1995-01-03 | International Business Machines Corporation | Apparatus for producing cryogenic aerosol |
US5366156A (en) * | 1993-06-14 | 1994-11-22 | International Business Machines Corporation | Nozzle apparatus for producing aerosol |
US5400603A (en) * | 1993-06-14 | 1995-03-28 | International Business Machines Corporation | Heat exchanger |
US6490307B1 (en) | 1999-03-17 | 2002-12-03 | Lambda Physik Ag | Method and procedure to automatically stabilize excimer laser output parameters |
US6389052B2 (en) | 1999-03-17 | 2002-05-14 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
US6965624B2 (en) * | 1999-03-17 | 2005-11-15 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
US6069909A (en) * | 1999-03-08 | 2000-05-30 | Xmr, Inc. | Excimer laser with improved window mount |
US6727731B1 (en) | 1999-03-12 | 2004-04-27 | Lambda Physik Ag | Energy control for an excimer or molecular fluorine laser |
US6714577B1 (en) | 1999-03-17 | 2004-03-30 | Lambda Physik Ag | Energy stabilized gas discharge laser |
US6381065B1 (en) | 1999-03-26 | 2002-04-30 | Tycom (Us) Inc. | Optical pump unit for an optical amplifier |
US6907058B2 (en) | 2000-01-25 | 2005-06-14 | Lambda Physik Ag | Energy monitor for molecular fluorine laser |
RU2206186C2 (ru) | 2000-07-04 | 2003-06-10 | Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований | Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы и устройство для его реализации |
US6721345B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-04-13 | Lambda Physik Ag | Electrostatic precipitator corona discharge ignition voltage probe for gas status detection and control system for gas discharge lasers |
US6804327B2 (en) * | 2001-04-03 | 2004-10-12 | Lambda Physik Ag | Method and apparatus for generating high output power gas discharge based source of extreme ultraviolet radiation and/or soft x-rays |
US6998620B2 (en) * | 2001-08-13 | 2006-02-14 | Lambda Physik Ag | Stable energy detector for extreme ultraviolet radiation detection |
BRPI0302019B1 (pt) | 2002-06-03 | 2017-02-21 | Praxair Technology Inc | método para produzir um gás de ressonador de laser de dióxido de carbono, e, método para cortar, modificar superfície, ou soldar um artigo |
US7094036B2 (en) * | 2003-09-24 | 2006-08-22 | The Boc Group Plc | Vacuum pumping system |
JP2006242484A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-14 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 蓄冷材、蓄冷器及び極低温蓄冷式冷凍機 |
US20110097253A1 (en) * | 2009-10-27 | 2011-04-28 | Fluoromer Llc | Fluorine purification |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3632995A1 (de) * | 1985-09-28 | 1987-04-02 | Central Glass Co Ltd | Verfahren zur reinigung von gasen fuer edelgashalogenidexcimerenlaser |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1207879A (en) * | 1982-09-06 | 1986-07-15 | Anthony J. Andrews | Condensers for gas purification and fractionation |
US4674092A (en) * | 1985-03-25 | 1987-06-16 | Coherent, Inc. | Miniature cryogenic pump method and apparatus for ion lasers |
EP0263994B1 (de) * | 1986-09-30 | 1991-03-06 | Siemens Aktiengesellschaft | Einrichtung zur Herstellung eines Gasgemisches |
JPH02112292A (ja) * | 1988-10-20 | 1990-04-24 | Mitsubishi Electric Corp | ハロゲンガスレーザのガス制御装置 |
EP0374287A1 (de) * | 1988-12-21 | 1990-06-27 | Coherent General, Inc. | Gaslaser |
US4977749A (en) * | 1989-04-25 | 1990-12-18 | Sercel Jeffrey P | Apparatus and method for purification of gases used in exciplex (excimer) lasers |
DE3919771A1 (de) * | 1989-06-16 | 1990-12-20 | Lambda Physik Forschung | Vorrichtung zum reinigen von lasergas |
DE4009850C1 (de) * | 1990-03-27 | 1991-11-07 | Lambda Physik Gesellschaft Zur Herstellung Von Lasern Mbh, 3400 Goettingen, De | |
US5073896A (en) * | 1991-04-18 | 1991-12-17 | Lumonics Inc. | Purification of laser gases |
-
1990
- 1990-03-27 DE DE4009850A patent/DE4009850C1/de not_active Expired - Lifetime
-
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1994
- 1994-06-09 US US08/257,462 patent/US5430752A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3632995A1 (de) * | 1985-09-28 | 1987-04-02 | Central Glass Co Ltd | Verfahren zur reinigung von gasen fuer edelgashalogenidexcimerenlaser |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4200990A1 (de) * | 1992-01-16 | 1993-07-22 | Linde Ag | Verfahren zur abtrennung von dampffoermigen komponenten aus einem dampf-traegergas-gemisch |
DE4428210C2 (de) * | 1994-08-09 | 2002-10-24 | Lambda Physik Ag | Verfahren zur cryogenischen Reinigung von XeF-Excimerlaser-Gasgemischen sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
DE19635002A1 (de) * | 1996-08-30 | 1998-03-05 | Messer Griesheim Gmbh | Verfahren zur Online-Rückgewinnung von Xenon aus Narkosegas |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5430752A (en) | 1995-07-04 |
US5136605A (en) | 1992-08-04 |
JPH07263777A (ja) | 1995-10-13 |
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