JPH07263777A - レーザーガス精製装置 - Google Patents
レーザーガス精製装置Info
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- JPH07263777A JPH07263777A JP3077164A JP7716491A JPH07263777A JP H07263777 A JPH07263777 A JP H07263777A JP 3077164 A JP3077164 A JP 3077164A JP 7716491 A JP7716491 A JP 7716491A JP H07263777 A JPH07263777 A JP H07263777A
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- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
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- Lasers (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 気体レーザー放電室のレーザーガスを精製装
置へ導いて精製する。 【構成】 液体窒素を使用してレーザーガスから不純物
を凍結除去するエキシマレーザーおよびＦ2 レーザーの
レーザーガス精製装置において、上記凍結除去の温度は
液体窒素１２の液面１４上方の圧力によって調節するよ
うにした。
置へ導いて精製する。 【構成】 液体窒素を使用してレーザーガスから不純物
を凍結除去するエキシマレーザーおよびＦ2 レーザーの
レーザーガス精製装置において、上記凍結除去の温度は
液体窒素１２の液面１４上方の圧力によって調節するよ
うにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、液体窒素を使用して
レーザーガスから不純物を凍結除去し、この凍結除去の
温度を調節自在とした、とくにエキシマおよびＦ2 レー
ザー用のレーザーガス精製装置に関する。
レーザーガスから不純物を凍結除去し、この凍結除去の
温度を調節自在とした、とくにエキシマおよびＦ2 レー
ザー用のレーザーガス精製装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】エキシマおよびＦ2 レーザー等のパルス
式ガスレーザーは、ガス放電によって励起されるが、ガ
ス放電の際とくにガス放電電極における燃焼、化学反応
およびレーザー装置の窓など壁からの脱着によってレー
ザーガスが汚染される。このような汚濁物や不純物によ
ってレーザー装置の効率および寿命が損なわれることに
なる。また通常導入されるガスが最初から汚染されてい
るものである。
式ガスレーザーは、ガス放電によって励起されるが、ガ
ス放電の際とくにガス放電電極における燃焼、化学反応
およびレーザー装置の窓など壁からの脱着によってレー
ザーガスが汚染される。このような汚濁物や不純物によ
ってレーザー装置の効率および寿命が損なわれることに
なる。また通常導入されるガスが最初から汚染されてい
るものである。
【０００３】従来、レーザーガスはガス放電室から精製
装置へ導かれ、その後このガスはガス放電室に再び再循
環されることが知られている。また、このガス精製法
は、液体窒素の温度において凍結除去法により行われて
いることも知られている。
装置へ導かれ、その後このガスはガス放電室に再び再循
環されることが知られている。また、このガス精製法
は、液体窒素の温度において凍結除去法により行われて
いることも知られている。
【０００４】低温実験によれば、例えばＦ2 レーザーの
場合、低温ガス精製装置の凍結除去の操作温度範囲が７
７Ｋ（液体窒素の大気圧における一般温度）以下のかな
り低いものになると、レーザー出力が大きく増加される
ことが示されている。
場合、低温ガス精製装置の凍結除去の操作温度範囲が７
７Ｋ（液体窒素の大気圧における一般温度）以下のかな
り低いものになると、レーザー出力が大きく増加される
ことが示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ガス放電レーザーは、
使用するガス混合物によって異なる波長とすることがで
きる。一般にある波長のレーザー放射を得るにはガスだ
けが用いられる。エキシマレーザーとして操作する際、
ガス放電にＦ2 ガスを使用しなくて、ＫｒおよびＸｅガ
ス（ＡｒＦは別）のような希ガスを加えると、低温凍結
除去によるレーザーガス精製は、７７Ｋより高い温度で
行わなければならない。
使用するガス混合物によって異なる波長とすることがで
きる。一般にある波長のレーザー放射を得るにはガスだ
けが用いられる。エキシマレーザーとして操作する際、
ガス放電にＦ2 ガスを使用しなくて、ＫｒおよびＸｅガ
ス（ＡｒＦは別）のような希ガスを加えると、低温凍結
除去によるレーザーガス精製は、７７Ｋより高い温度で
行わなければならない。
【０００６】この発明の目的は、このような点に鑑みて
なされたもので、７７Ｋ以下および以上の種々の温度に
おいてレーザーガスから不純物の凍結除去を簡単かつ経
済的に行うレーザーガス精製装置を提供する。
なされたもので、７７Ｋ以下および以上の種々の温度に
おいてレーザーガスから不純物の凍結除去を簡単かつ経
済的に行うレーザーガス精製装置を提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段および作用】上記課題を解
決するため、レーザーガス精製装置の凍結除去部に、所
定温度に選択的に設定できる加熱装置を設けることが考
えられるであろう。しかしこのような解決法は、温度を
７７Ｋ以下にすることができなく、また液体窒素の消費
量が増大することになる欠点を有する。
決するため、レーザーガス精製装置の凍結除去部に、所
定温度に選択的に設定できる加熱装置を設けることが考
えられるであろう。しかしこのような解決法は、温度を
７７Ｋ以下にすることができなく、また液体窒素の消費
量が増大することになる欠点を有する。
【０００８】これに対して、本発明による解決法は、液
体（または固体）窒素上方の圧力によって凍結除去温度
を調節するものである。
体（または固体）窒素上方の圧力によって凍結除去温度
を調節するものである。
【０００９】部分真空圧力（大気圧に対する圧力）で操
作するときは、凍結除去部が７７Ｋ以下になるような温
度で行われるが、過剰圧力（大気に対する圧力）で操作
するときは、凍結除去部が７７Ｋ以上になるように温度
を設定できる。
作するときは、凍結除去部が７７Ｋ以下になるような温
度で行われるが、過剰圧力（大気に対する圧力）で操作
するときは、凍結除去部が７７Ｋ以上になるように温度
を設定できる。
【００１０】このように本発明装置は、大きな変形を施
すことなく、使用レーザーガスの種類によって、レーザ
ーガス不純物の凍結除去を行う所望温度に設定できるよ
うにする。液体窒素で達成できる温度範囲は、大気圧に
おける液体窒素の温度以下まで拡げられるので、その結
果あるガスに対してレーザー装置の効率が増大され、加
熱する必要はなく、温度７７Ｋ以上における液体窒素の
消費量は、比較的に少なくなる。
すことなく、使用レーザーガスの種類によって、レーザ
ーガス不純物の凍結除去を行う所望温度に設定できるよ
うにする。液体窒素で達成できる温度範囲は、大気圧に
おける液体窒素の温度以下まで拡げられるので、その結
果あるガスに対してレーザー装置の効率が増大され、加
熱する必要はなく、温度７７Ｋ以上における液体窒素の
消費量は、比較的に少なくなる。
【００１１】さらに、本発明の別の変形も、次のような
事実認識に基づくものである。即ち、とくにＦ2 レーザ
ー装置（使用ガスはＦ2 およびＨｅ）において、レーザ
ー操作前にガスを低温精製しておけば、ガスを新たに充
填してもレーザー出力がかなり増大されることである。
ここで最良の結果は、Ｆ2 がちょうど凝縮しはじめる温
度の６３Ｋにおいて観察される。
事実認識に基づくものである。即ち、とくにＦ2 レーザ
ー装置（使用ガスはＦ2 およびＨｅ）において、レーザ
ー操作前にガスを低温精製しておけば、ガスを新たに充
填してもレーザー出力がかなり増大されることである。
ここで最良の結果は、Ｆ2 がちょうど凝縮しはじめる温
度の６３Ｋにおいて観察される。
【００１２】
【実施例】以下、図面に基づいてこの発明の実施例を詳
細に説明する。添付図面において、対応する要素には、
同一の参照番号が付してある。
細に説明する。添付図面において、対応する要素には、
同一の参照番号が付してある。
【００１３】図において、液体窒素１２は容器１０内に
収容されている。窒素１２の液相または固相の表面は番
号１４で示す。
収容されている。窒素１２の液相または固相の表面は番
号１４で示す。
【００１４】容器１０は、その壁に設けた真空空間１６
によって熱的に絶縁されている。真空にする代りに絶縁
材料を用いてもよい。
によって熱的に絶縁されている。真空にする代りに絶縁
材料を用いてもよい。
【００１５】液体窒素の補充は、導管１８および弁２０
を介して容器１０に導入する。
を介して容器１０に導入する。
【００１６】容器１０内の液体窒素１２のレベル、即ち
液相面１４の位置は、公知の充填レベル測定装置２２に
よって決められる。測定結果は計器２４に表示される。
温度測定装置もレベル測定装置２２内に組込まれてい
て、測定結果の表示も同様に計器２４に行われる。
液相面１４の位置は、公知の充填レベル測定装置２２に
よって決められる。測定結果は計器２４に表示される。
温度測定装置もレベル測定装置２２内に組込まれてい
て、測定結果の表示も同様に計器２４に行われる。
【００１７】容器１０は外部に対して密封されている。
液体（または固体）の窒素の表面１４の上方には気相２
６が存在し、気相圧力は、容器１０が外気に対して密封
されているので、大気圧とは異なる。
液体（または固体）の窒素の表面１４の上方には気相２
６が存在し、気相圧力は、容器１０が外気に対して密封
されているので、大気圧とは異なる。
【００１８】容器１０はカバー２８で覆われている。導
管２８およびレベル測定装置２２の他に、導管３０もカ
バー２８を貫通して容器１０内部に入っている。これら
の導管や通路の全ては、過大圧力に対して気密になるよ
うにカバー２８を貫通している。導管３０は弁３６を経
て真空ポンプ３４に導かれている。弁３６が開かれる
と、真空ポンプ３４が作動してガス（本来は液体窒素）
を表面１４上の自由空間から導管３２を介して外気中に
運ぶ。
管２８およびレベル測定装置２２の他に、導管３０もカ
バー２８を貫通して容器１０内部に入っている。これら
の導管や通路の全ては、過大圧力に対して気密になるよ
うにカバー２８を貫通している。導管３０は弁３６を経
て真空ポンプ３４に導かれている。弁３６が開かれる
と、真空ポンプ３４が作動してガス（本来は液体窒素）
を表面１４上の自由空間から導管３２を介して外気中に
運ぶ。
【００１９】さらに、圧力測定兼表示装置４０は、導管
３０に接続すると共に別の導管３８を介して調整自在弁
４２に接続されて導管４４に至り、導管４４は外気まで
導かれている。
３０に接続すると共に別の導管３８を介して調整自在弁
４２に接続されて導管４４に至り、導管４４は外気まで
導かれている。
【００２０】容器１０は、底部４６を有し、これは図示
の実施例では熱伝導の良好な銅でできている。プレート
４８は、ねじ５０，５２によって底部４６の下方に装着
されると共にうず巻導管５４を底部４６に取付けてい
る。精製されるレーザーガスは、うず巻導管５４を貫流
する。底部４６の下側における凍結除去部の温度は、温
度センサ５６により測定されて中央制御部へ導かれる。
この中央制御部には計器２４および図示したすべての弁
およびポンプ用の制御手段も接続されている。
の実施例では熱伝導の良好な銅でできている。プレート
４８は、ねじ５０，５２によって底部４６の下方に装着
されると共にうず巻導管５４を底部４６に取付けてい
る。精製されるレーザーガスは、うず巻導管５４を貫流
する。底部４６の下側における凍結除去部の温度は、温
度センサ５６により測定されて中央制御部へ導かれる。
この中央制御部には計器２４および図示したすべての弁
およびポンプ用の制御手段も接続されている。
【００２１】レーザーガスは、導管５８，６０を貫流
し、凍結除去部のうず巻導管５４内に入ってこれから出
る。導管５８，６０は、熱交換器６２に結合されてい
る。熱交換器６２は同心配列管で形成するのが好適であ
る。
し、凍結除去部のうず巻導管５４内に入ってこれから出
る。導管５８，６０は、熱交換器６２に結合されてい
る。熱交換器６２は同心配列管で形成するのが好適であ
る。
【００２２】精製されたレーザーガスは、導管６８，弁
６６および導管６４を通りレーザー装置（図示せず）に
入るが、精製されるレーザーガスは導管７０，ガス循環
ポンプ７２および導管７６を通って熱交換器６２に入
る。
６６および導管６４を通りレーザー装置（図示せず）に
入るが、精製されるレーザーガスは導管７０，ガス循環
ポンプ７２および導管７６を通って熱交換器６２に入
る。
【００２３】上述した精製装置の作用は次の通りであ
る。
る。
【００２４】弁７４を開くと、精製されるレーザーガス
は、熱交換器６２、即ちこれに設けた同心配列管の１つ
と導管５８とを経て、容器１０の底部５６下方の凍結除
去部にあるうず巻導管５４に流れる。そこでレーザーガ
スは、底部４６の温度まで冷却されると共に温度センサ
５６により測定され、不純物が凍結除去される。凍結除
去作用、特にレーザーガスから凍結除去される成分の種
類および量は、凍結除去部における温度に大いに左右さ
れる。この温度設定については、以下に詳しく述べる。
は、熱交換器６２、即ちこれに設けた同心配列管の１つ
と導管５８とを経て、容器１０の底部５６下方の凍結除
去部にあるうず巻導管５４に流れる。そこでレーザーガ
スは、底部４６の温度まで冷却されると共に温度センサ
５６により測定され、不純物が凍結除去される。凍結除
去作用、特にレーザーガスから凍結除去される成分の種
類および量は、凍結除去部における温度に大いに左右さ
れる。この温度設定については、以下に詳しく述べる。
【００２５】このようにして望ましくない成分を凍結除
去（凝縮）することによって冷却および精製されたレー
ザーガスは、管６０を貫流して熱交換器６２に戻り、こ
こで導管７０を経てレーザー装置から出てきた暖かいレ
ーザーガスを冷却する。この冷却されたレーザーガス
は、その後、凍結除去部の導管５４に流入する。精製さ
れたレーザーガスは導管６８，弁６６および導管６４を
経てレーザー装置の放電空間に流れる。
去（凝縮）することによって冷却および精製されたレー
ザーガスは、管６０を貫流して熱交換器６２に戻り、こ
こで導管７０を経てレーザー装置から出てきた暖かいレ
ーザーガスを冷却する。この冷却されたレーザーガス
は、その後、凍結除去部の導管５４に流入する。精製さ
れたレーザーガスは導管６８，弁６６および導管６４を
経てレーザー装置の放電空間に流れる。
【００２６】容器１０の底部４６における温度は、本発
明により次のように選択的に変えられる。即ち、液面１
４上方の気相２６の圧力の設定には、液体窒素１２の温
度が所望の値になるようにする。この値は、７７°Ｋ以
上または以下にする。この目的のために、弁２０，４２
を閉じると共に弁３６を開放して、液体窒素（または固
体であることもある）の表面１４上方の自由空間を真空
ポンプ３４によって排気をすることにより、液体窒素が
所望の温度になるまで冷却されるようにする。この温度
は、底部における温度センサ５６により測定し、中央制
御部に表示される。部分真空圧力（外気圧に対して表面
１４の上方空間の部分真空圧力）操作の場合には、凍結
除去部の温度は７７Ｋ以下で行なわれる。
明により次のように選択的に変えられる。即ち、液面１
４上方の気相２６の圧力の設定には、液体窒素１２の温
度が所望の値になるようにする。この値は、７７°Ｋ以
上または以下にする。この目的のために、弁２０，４２
を閉じると共に弁３６を開放して、液体窒素（または固
体であることもある）の表面１４上方の自由空間を真空
ポンプ３４によって排気をすることにより、液体窒素が
所望の温度になるまで冷却されるようにする。この温度
は、底部における温度センサ５６により測定し、中央制
御部に表示される。部分真空圧力（外気圧に対して表面
１４の上方空間の部分真空圧力）操作の場合には、凍結
除去部の温度は７７Ｋ以下で行なわれる。
【００２７】温度が７７Ｋに等しいかまたはこれより大
きくすれば、弁３６は閉じ、または真空ポンプが作動を
停止し、調整自在弁４２によって液面１４上方の空間に
過剰圧力が設定される。このとき液体窒素１２は７７Ｋ
またはこれより大きい所望温度になる。この目的のた
め、圧力測定装置４０は測定圧力信号を中央制御部に送
り、この中央制御部は弁４２を次のように設定する。即
ち、温度センサ５６の測定値が、レーザーガスが凍結除
去法によって最適に精製されるような温度の所望値にな
るよう、所望の基準圧力に設定する。
きくすれば、弁３６は閉じ、または真空ポンプが作動を
停止し、調整自在弁４２によって液面１４上方の空間に
過剰圧力が設定される。このとき液体窒素１２は７７Ｋ
またはこれより大きい所望温度になる。この目的のた
め、圧力測定装置４０は測定圧力信号を中央制御部に送
り、この中央制御部は弁４２を次のように設定する。即
ち、温度センサ５６の測定値が、レーザーガスが凍結除
去法によって最適に精製されるような温度の所望値にな
るよう、所望の基準圧力に設定する。
【００２８】図２は、レーザーガス精製装置の上記実施
例の変形例を示す。図２の変形例において、液体窒素は
容器１０から底部ホール８８および導管９０を通り同心
らせん管の外側ジャケットに入る。同心らせん管は凍結
除去部８４を形成する。液体窒素は、凍結除去部８４の
下端部においては同心らせん管部に入り、加熱されて恐
らく気相に遷移した後上方に上昇し、上昇管８０を経て
容器１０の上方部に入る。上昇管８０は、液体窒素の表
面１４の上方において容器１０に開口している。
例の変形例を示す。図２の変形例において、液体窒素は
容器１０から底部ホール８８および導管９０を通り同心
らせん管の外側ジャケットに入る。同心らせん管は凍結
除去部８４を形成する。液体窒素は、凍結除去部８４の
下端部においては同心らせん管部に入り、加熱されて恐
らく気相に遷移した後上方に上昇し、上昇管８０を経て
容器１０の上方部に入る。上昇管８０は、液体窒素の表
面１４の上方において容器１０に開口している。
【００２９】精製されるレーザーガスは、同心らせん管
で形成された凍結除去部８４の内側管の底部から上部へ
流れる。ここに到達すると、レーザーガスは図２の左側
に示した管９２を経て下方へ流れて予冷部８２に入る。
で形成された凍結除去部８４の内側管の底部から上部へ
流れる。ここに到達すると、レーザーガスは図２の左側
に示した管９２を経て下方へ流れて予冷部８２に入る。
【００３０】予冷部８２も同心らせん管で形成されてい
る。管９２から出た精製されて冷却されたレーザーガ
ス、は予冷部８２の同心らせん管の外側ジャケットに流
入する。一方で精製装置に入ってくる熱くて汚染された
レーザーガスは、予冷部８２の内側管に矢印Ｐ1 の方向
に入る。従って、入ってくる熱いレーザーガス（矢印Ｐ
1 ）は、凍結除去部８４に入る前に予冷部８２内で予冷
される。精製されたレーザーガスは、予冷部８２の外側
ジャケットから出てレーザー装置へ戻る。
る。管９２から出た精製されて冷却されたレーザーガ
ス、は予冷部８２の同心らせん管の外側ジャケットに流
入する。一方で精製装置に入ってくる熱くて汚染された
レーザーガスは、予冷部８２の内側管に矢印Ｐ1 の方向
に入る。従って、入ってくる熱いレーザーガス（矢印Ｐ
1 ）は、凍結除去部８４に入る前に予冷部８２内で予冷
される。精製されたレーザーガスは、予冷部８２の外側
ジャケットから出てレーザー装置へ戻る。
【００３１】
【発明の効果】本発明は、液体窒素を使用するレーザー
ガス精製装置において、液体窒素容器内の液面上方空間
の圧力を調整することによって、レーザーガスの不純物
を温度７７Ｋ以上または以下において簡単かつ経済的に
凍結除去できるようにする。
ガス精製装置において、液体窒素容器内の液面上方空間
の圧力を調整することによって、レーザーガスの不純物
を温度７７Ｋ以上または以下において簡単かつ経済的に
凍結除去できるようにする。
【図１】本発明によるレーザーガス精製装置の１つの実
施例を示す図、
施例を示す図、
【図２】本発明によるレーザーガス精製装置の変形例を
示す図である。
示す図である。
１０ 容器 １２ 液体窒素 １４ 液体窒素液面 ３０，５４，９０ 導管 ３４ 真空ポンプ ４２ 過剰圧力弁 ４６ 容器底部 ８４ 凍結除去部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 バスティング ディルク ドイツ国 ディ−3400 ゲッティンゲン, アム ヴィンターベルク 15 (72)発明者 シュタイン フューラー ゲルト ドイツ国 ディ−3406 ボーヴェンデン ミューレンヴェーク (72)発明者 フォス フランク ドイツ国 ディ−3400 ゲッティンゲン コンパーツベーク １ａ
Claims (7)
- 【請求項１】 液体窒素を使用してレーザーガスから不
純物を凍結除去し、およびこの凍結温度を調節自在とし
た、特にエキシマおよびＦ2 レーザー用のレーザーガス
精製装置において、上記凍結除去の温度は、上記液体窒
素（１２）の液面（１４）上方の圧力によって調節する
ことを特徴とするレーザーガス精製装置。 - 【請求項２】 不純物を凍結除去すべきレーザーガスを
導く導管を、底部（４６）下方においてこの底部と熱的
に良好な接触状態を保つように取付けた容器（１０）内
に、液体窒素（１２）を収容したことを特徴とする「請
求項１」記載のレーザーガス精製装置。 - 【請求項３】 凍結除去装置（８４）に至る導管（９
０）を設けた容器（１０）内に液体窒素（１２）を収容
したことを特徴とする「請求項１」記載のレーザーガス
精製装置。 - 【請求項４】 真空ポンプ（３４）に接続した導管（３
０）は、液体窒素を収容する容器（１０）に開口してい
ることを特徴とする前記請求項の何れかに記載のレーザ
ーガス精製装置。 - 【請求項５】 液体窒素（１２）を収容する容器（１
０）に設けた過剰圧力弁（４２）により、大気圧以上の
圧力に設定できることを特徴とする前記請求項の何れか
に記載のレーザー精製装置。 - 【請求項６】 液体窒素を使用してレーザーガスから不
純物を凍結除去する、とくにＦ2 レーザー用のレーザー
ガス精製装置において、温度７０Ｋ以下において、凍結
除去によりレーザーガス精製を行うことを特徴とするレ
ーザーガス精製装置。 - 【請求項７】 凍結除去温度は、６６Ｋ以下なるべくは
６３Ｋ以下においてレーザーガスの精製を行うことを特
徴とする「請求項６」記載のレーザーガス精製装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4009850A DE4009850C1 (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | |
| DE4009850.8 | 1990-03-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07263777A true JPH07263777A (ja) | 1995-10-13 |
Family
ID=6403172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3077164A Pending JPH07263777A (ja) | 1990-03-27 | 1991-03-18 | レーザーガス精製装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5136605A (ja) |
| JP (1) | JPH07263777A (ja) |
| DE (1) | DE4009850C1 (ja) |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4009850C1 (ja) * | 1990-03-27 | 1991-11-07 | Lambda Physik Gesellschaft Zur Herstellung Von Lasern Mbh, 3400 Goettingen, De | |
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