DE4003119A1 - Automatische entwicklungsvorrichtung und -verfahren - Google Patents
Automatische entwicklungsvorrichtung und -verfahrenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur automatischen
Entwicklung von Mustern, die geschrieben wurden, und ein
Verfahren zur Entwicklung unter Verwendung der Vorrichtung.
Es ist ein Stand der Technik bekannt (beispielsweise gemäß
der japanischen offengelegten Patentschrift Nr.
1 35 838-1987) zum Eintauchen eines elektrisch leitenden
Körpers auf den ein vorgegebenes Muster auf einen
Fotolackfilm geschrieben wurde, der auf eine Oberfläche
des Körpers, aufgebracht wurde, in eine Entwicklerlösung,
die eine Elektrode enthält, worauf die Größe des Stroms,
der zwischen dem elektrisch leitenden Körper und der
Elektrode fließt, als Grundlage verwendet wird, um den
Punkt zu bestimmen, bei dem die Entwicklung des
geschriebenen Musters beendet ist. Gemäß diesem Stand der
Technik wird ein organisches Lösungsmittel als
Entwicklerlösung verwendet, der ein elektrolytisches
Material zugegeben worden ist (beispielsweise
Methylisobutylketon, das eine Lösung von 1 mM (Millimol)
Tetrabutylammoniumperchlorat enthält. Ferner ist
MODEL-MX-1000N von Nagase Sangyo (K.K.) ein Beispiel eines
zwei Flüssigkeiten umfassenden Gemischsystems, das dazu
verwendet wird, um ein elektrolytisches Material einem
organischen Lösungsmittel oder einer Entwicklerlösung
hinzuzufügen.
In derartigen Entwicklerlösungen zeigt, wenn die Elektrode
und der Leiter, auf welchem ein Muster geschrieben wurde,
in die Lösung eingetaucht sind, der zwischen dem
elektrisch leitenden Körper und der Elektrode fließende
Strom einen klaren Scheitel oder mehrere Scheitel und
dieser Scheitel wird zur Bestimmung verwendet, wann die
Entwicklung des geschriebenen Musters beendet ist.
Beispielsweise liegt ein Substrat vor, auf dem eine Anzahl
Muster geschrieben wurden, beispielsweise eine Fotomaske,
bei welcher Chrom auf eine Grundplatte aus Quarz
aufgedampft wurde und anschließend PMMA
(Polymethylmethacrylat) als der Elektronenstrahlresist
aufgebracht und Muster mit 2 µm Linien und Abständen,
Muster mit 25 µm Linien und Abständen und Muster mit
100 µm Linien und Abständen auf dieses PMMA geschrieben
wurden. Wird die Entwicklung unter Verwendung der
vorstehend aufgeführten Technologie für dieses elektrisch
leitende Substrat durchgeführt, so ist der Strom, der
zwischen der Elektrode und dem elektrisch leitenden Körper
fließt, in Fig. 4 mit 1 1 angegeben. Somit erscheinen die
jeweiligen Scheitel A, B und C für Muster von 100 µm,
20 µm und 2 µm. Wird daher der Punkt, bei dem die
Entwicklung beendet ist, lediglich durch Verwendung des
Scheitels bestimmt, wie dies bei dem Stand der Technik
durchgeführt wird, so wird der Punkt A irrtümlich an der
Stelle bestimmt, an der die Entwicklung beendet ist,
ungeachtet des Umstands, daß der Punkt, bei dem die
Entwicklung tatsächlich beendet ist, gemäß Fig. 4 der
Punkt C sein sollte, und dadurch wird das Problem eines
resultierenden Abfalls der Abmessungsgenauigkeit des
Musters verursacht.
Dieses Problem tritt auf, weil die Entwicklerlösung selbst
einen hohen Widerstand hat und dies eine Ladung von
Elektronen verursacht, was zu zwei elektrischen Schichten
führt. Diese Erscheinung liegt häufig vor, wenn die
Empfindlichkeit der Entwicklerlösung zu stark angehoben
wird.
Der Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, eine
Vorrichtung zur automatischen Entwicklung von Mustern zu
schaffen, die geschrieben wurden, und ein
Entwicklerverfahren, das die Abmessungsgenauigkeit eines
Musters erhöhen kann, indem der Punkt, an dem die
Entwicklung beendet ist, selbst in dem Fall korrekt
bestimmt wird, bei welchem eine Mehrzahl von Mustern mit
verschiedener Breite geschrieben wurden.
Gemäß der erfindungsgemäßen automatischen
Entwicklungsvorrichtung wird das Verhältnis der
elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung auf ein
Optimum mittels eines Steuerbereichs gesteuert, der den
Erfassungswert eines Detektors verwendet, um das
Verhältnis der elektrischen Leitfähigkeit der
Entwicklerlösung zu ermitteln. Bei einer Entwicklerlösung,
für die das Verhältnis der elektrischen Leitfähigkeit auf
ein Optimum gesteuert wurde, besteht kein Einfluß einer
Elektronenladung in der Entwicklerlösung und es wird ein
klarer Scheitel beobachtet, der einen Punkt anzeigt, wo
die Entwicklung beendet ist, so daß es möglich ist, die
Abmessunggenauigkeit selbst in den Fällen zu verbessen, wo
mehrere Muster geschrieben werden sollen.
Ferner wird beim erfindungsgemäßen automatischen
Entwicklerverfahren der erfaßte Wert des Verhältnisses der
elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung als
Grundlage für die Steuerung der Menge des elektrolytischen
Materials verwendet, die in der Entwicklerlösung enthalten
ist, damit das Verhältnis der elektrischen Leitfähigkeit
der Entwicklerlösung optimal ist. Die Elektrode und der
Leiter, auf den ein vorgegebenes Muster geschrieben wurde,
werden in eine Entwicklerlösung eingetaucht, für die das
Verhältnis der elektrischen Leitfähigkeit auf diese Weise
gesteuert wurde. Anschließend wird der Wert des Stromes,
der zwischen der Elektrode und dem Leiter fließt, als
Grundlage zur Bestimmung des Punkts verwendet, bei dem die
Entwicklung des geschriebenen Musters beendet ist. Dadurch
ist es aus den vorstehend angegebenen Gründen möglich, das
Ausmaß der Abmessungsgenauigkeit des Musters selbst bei
Fällen zu erhöhen, bei denen mehrere Muster geschrieben
werden.
Zusammenfassend betrifft die Erfindung eine automatische
Entwicklungsvorrichtung, bei der ein elektrisch leitender
Körper, auf dem ein vorgegebenes Muster auf einem auf
einer Oberfläche des Körpers aufgebrachten Resistfilm
beschrieben wurde, in eine Entwicklerlösung eingebracht
wird, und die eine Elektrode enthält, und anschließend der
Wert der Änderung des Stroms, der zwischen dem elektrisch
leitenden Körper und der Elektrode fließt, als Grundlage
für die Bestimmung des Punkts verwendet wird, an dem die
Entwicklung des geschriebenen Musters beendet ist. Die
automatische Entwicklungsvorrichtung ist erfindungsgemäß
dadurch gekennzeichnet, daß die automatische
Entwicklungsvorrichtung umfaßt: eine Einrichtung zum
Einführen eines elektrolytischen Materials in die
Entwicklerlösung, eine Einrichtung zur Erfassung eines
Verhältnisses der elektrischen Leitfähigkeit der
Entwicklerlösung, und eine Einrichtung zur Steuerung der
Einführeinrichtung in solcher Weise, daß ein von der
Erfassungseinrichtung ermittelter Wert als Grundlage zur
Steuerung des Verhältnisses der elektrischen Leitfähigkeit
der Entwicklerlösung derart verwendet wird, daß ein
Endpunkt der Entwicklung klar angezeigt wird.
In den anliegenden Zeichnungen zeigen:
Fig. 1 eine Darstellung, die die Gestaltung
eines Aufbereitungsabschnitts der
Entwicklerlösung bei einer
erfindungsgemäßen Ausführungsform
der automatischen
Entwicklungsvorrichtung angibt,
Fig. 2 und Fig. 3 Schnittdarstellungen der
Entwicklerbereiche einer
Ausführungsform der
erfindungsgemäßen automatischen
Entwicklungsvorrichtung,
Fig. 4 eine Kurve, die die Änderungen des
Stroms angibt, der zwischen einer
Elektrode und einem Leiter für den
Fall angibt, in dem die automatische
Entwicklungsvorrichtung einer
erfindungsgemäßen Ausführung
verwendet wird, und in dem Fall, wo
ein Stand der Technik verwendet
wird, und
Fig. 5 eine Kurve, die einen Vergleich der
Abmessungsgenauigkeit eines Musters
nach der Entwicklung für den Fall
angibt, in dem die automatische
Entwicklungsvorrichtung einer
erfindungsgemäßen Ausführungsform
verwendet wird, und in dem Fall, wo
ein Stand der Technik verwendet wird.
Nachstehend erfolgt eine Beschreibung einer bevorzugten
Ausführungsform einer erfindungsgemäßen automatischen
Entwicklungsvorrichtung unter Bezugnahme auf die
anliegenden Zeichnungen.
Die erfindungsgemäße automatische Entwicklungsvorrichtung
ist mit einem Aufbereitungsabschnitt für Entwicklerlösung
und einem Entwicklerbereich versehen. Fig. 1 stellt den
Aufbereitungsabschnitt für Entwicklerlösungen dar. Gemäß
Fig. 1 wird komprimierter Stickstoff in Behälter 3 A und 3 B
eingebracht, die Flüssigkeiten A und B enthalten (die
anschließend als "zu mischende Flüssigkeit" bezeichnet
werden), die vorab mit unterschiedlichen Verhältnissen der
elektrischen Leitfähigkeit hergestellt wurden. Ist dies
durchgeführt, so fließen die Flüssigkeiten A und B, die in
den Behältern 3 A und 3 B vorliegen, jeweils über
Einwegventile 4 A und 4 B, Strömungsmesser 5 A und 5 B und ein
Spiralrohr 7 in einen Mischtank 3 C, um die
Entwicklerlösung zu bilden. Dabei werden die Verhältnisse
der elektrischen Leitfähigkeit der Flüssigkeiten in den
Behältern 3 A, 3 B und 3 C jeweils durch Meßinstrumente 10 A,
10 B und 10 C für das Verhältnis der elektrischen
Leitfähigkeit erfaßt und die ermittelten Werte werden als
Grundlage für die Bestimmung der Einstellungen für den
Öffnungsgrad der Einwegventile 4 A und 4 B mit Hilfe einer
Flüssigkeitsgemischsteuerschaltung 9 verwendet. Nachdem
eine vorbestimmte Menge der Entwicklerlösung in den
Mischtank 3 C geströmt ist, steuert die
Flüssigkeitsgemischsteuerschaltung 9 den Öffnungsgrad
der Einwegventile 4 A und 4 B auf Null. Anschließend steuert
die Flüssigkeitsgemischsteuerschaltung 9 das
Umschaltventil 6, um Flüssigkeit A oder B in geringer
Menge durchzulassen, so daß das Verhältnis der
elektrischen Leitfähigkeit der Flüssigkeit A oder der
Flüssigkeit B innerhalb des Mischbehälters 3 C ein Optimum
(ein vorgegebener Wert) wird. Dabei liegt das Verhältnis
der elektrischen Leitfähigkeit, das als optimal angesehen
wird, innerhalb des Bereichs von 2 µ S/cm (S bedeutet
Siemens oder mho) bis 100 µ S/cm. Ferner ist jeder der
Behälter 3 A, 3 B und 3 C mit einem Rührwerk 8 a 1, 8 b 1 und
8 c 1 und mit Rührwerkswellen 8 a 2, 8 b 2 und 8 c 2
ausgestattet, die elektromagnetisch in Drehung versetzt
werden. Schließlich kann anstelle der Verwendung der
vorstehend erwähnten Rührwerke und Rührwerkswellen
Stickstoff (N2) oder ein anderes Gas aus Leitungen 11 A,
11 B und 11 C, die in Fig. 1 gestrichelt angegeben sind,
durch die Behälter 3 A, 3 B und 3 C hindurchgeperlt werden.
Ferner kann der Aufbereitungsabschnitt für die
Entwicklerlösung ein System sein, wie es vorstehend
beschrieben wurde, bei dem zwei Flüssigkeiten gemischt
werden, aber drei oder mehr Flüssigkeiten können ebenfalls
gemischt werden, um das optimale Verhältnis der
elektrischen Leitfähigkeit zu erhalten. Schließlich ist es
einfach, eine Entwicklerlösung mit dem erforderlichen
Verhältnis der elektrischen Leitfähigkeit zu erhalten,
wenn die Verhältnisse der elektrischen Leitfähigkeit der
jeweils zu vermischenden Flüssigkeiten sich um mehr als
einen Faktor 10 unterscheiden. Endlich kann vom Standpunkt
des Betriebs eine im Handel erhältliche Entwicklerlösung,
die nicht das elektrolytische Material enthält, als jede
der zu mischenden Flüssigkeiten verwendet werden. Wird
eine im Handel erhältliche Entwicklerlösung gekauft und
verwendet, so kann eine gekauft und als eine der
Flüssigkeiten zum Mischen verwendet werden, die ein
elektrolytisches Material (wie beispielsweise
Tetrabutylammoniumperchlorat) zugegeben hat, so daß das
Verhältnis der elektrischen Leitfähigkeit annäherungsweise
300 µ S/cm wird.
Nachstehend erfolgt eine Beschreibung eines
Entwicklerbereichs der erfindungsgemäßen
Entwicklungsvorrichtung unter Bezugnahme auf Fig. 2 und 3.
Gemäß Fig. 2 ist eine Antriebswelle 23, die durch die
Antriebskraft eines Motors 22 umläuft, in eine
Behandlungskammer 21 vom Mittelpunkt einer Bodenfläche der
Behandlungskammer 21 eingeführt, wobei die umlaufende
Antriebswelle 23 eine an ihr befestigte flache Bühne 24
hat. Innerhalb der umlaufenden Antriebswelle 23 und der
flachen Bühne 24 sind Durchflußöffnungen 24 vorgesehen,
durch welche Wasser konstanter Temperatur fließt und diese
Durchflußöffnungen 24 haben Öffnungen an der Oberfläche
der Seiten der umlaufenden Antriebswelle 23 außerhalb der
Behandlungskammer 21 und diese Öffnungen sind mit
Anschlußelementen 26, 26 versehen. Diese Anschlußelemente
26, 26 sind über einen elektronisch gesteuerten
isothermischen Behälter 27 und eine Pumpe 28 mit einer
Rohrleitung 29 verbunden, und Wasser mit konstanter
Temperatur wird der umlaufenden Antriebswelle 23 und der
flachen Bühne 24 zugeführt. Darüber hinaus ist in der
Nachbarschaft der Mündungen der Durchflußöffnungen 25, wo
die Anschlußelemente 26, 26 vorgesehen sind, eine
Abdichtung aus Dichtungswerkstoff 30 angebracht.
Schließlich sind an der Oberseite der flachen Bühne 24
Substrataufnahmefinger 31 vorgesehen und weiterhin ist der
Bodenabschnitt der Behandlungskammer 21 mit Zylindern 32,
32 ausgestattet, deren distale Enden einen
Behandlungsrahmen 33 halten, der den Umfang der flachen
Bühne 24 umgibt. Wird dieser Behandlungsrahmen 33
angehoben, so wird der Spalt zwischen der Bodenfläche der
flachen Bühne 24 luftdicht verschlossen, um einen Behälter
für die Entwicklung zu bilden. Dabei ist die
Behandlungskammer 21 durchbohrt und das Innere des
Behälters für die Entwicklerlösung, der durch die flache
Bühne 24 und den Behandlungsrahmen 33 gebildet wird, ist
mit einer Zufuhrleitung 34 versehen, die Entwicklerlösung
zuführt, die durch den in Fig. 1 angegebenen
Aufbereitungsabschnitt für Entwicklerlösung hergestellt
wurde.
Ferner ist eine Seitenwand der Behandlungskammer 21 mit
einer Substrateinführöffnung 35 und einer
Substratausgabeöffnung 36 ausgestattet. Die Außenseite der
Substratausgabeöffnung 36 ist mit einem Förderer 37 und
einem Einführarm 38 versehen, um ein Substrat in die
Behandlungskammer 21 einzuführen, beispielsweise ein
Glassubstrat mit einem aufgebrachten Chromfilm, das den
Behandlungen eines Harzauftrags, eines Einbrennens und
einer Elektronenstrahlbeschriftung unterzogen wurde.
Ferner ist die Außenseite der Substratausgabeöffnung 36
mit einem Förderer 39 und einem Ausgabearm 40 versehen, um
das Substrat aus der Behandlungskammer 21 zu entnehmen und
es auf den Förderer 39 aufzubringen, der das Substrat zur
nachfolgenden Behandlung transportiert.
Schließlich ist ein neuer Abschnitt der Behandlungskammer
21 mit einer Düse 41 ausgestattet, die Spüllösung sprüht.
Die Behandlungsflüssigkeiten, wie die Entwicklerlösung und
die Spüllösung, fließen von einer Auslaßöffnung 42, die im
Bodenabschnitt der Behandlungskammer 21 vorgesehen ist,
von dieser nach außen. Diese Auslaßöffnung 42 kann auch
als Austrittsöffnung für die Gasatmosphäre im Inneren der
Behandlungskammer 21 verwendet werden.
Nachfolgend wird die Entwicklung eines Substrats unter
Verwendung der vorstehend beschriebenen
Entwicklungsvorrichtung erläutert.
Zunächst werden die Zylinder 32, 32 betätigt und der
Behandlungsrahmen 31 wird angehoben, so daß ein
Entwicklerlösungsbehälter, der luftdicht abgedichtet ist,
mit der Bodenfläche der flachen Bühne 24 gebildet wird.
Anschließend wird die Entwicklerlösung mit vorbestimmter
Temperatur aus der Zufuhrleitung 34 dem Inneren des
Entwicklerbehälters zugeführt, der durch die flache Bühne
24 und den Behandlungsrahmen 33 gebildet wird.
Anschließend, nachdem ein Zylinder und dergleichen (in der
Figur nicht angegeben) die Substrateinführöffnung 35
geöffnet haben, bringt der Einführarm 38 ein Substrat 53
auf die Substrataufnahmefinger 31 und die Entwicklung
beginnt. Darüber hinaus werden während der Entwicklung in
den Fällen, in denen ein Temperatursensor in die
Entwicklerlösung eingetaucht ist und die Temperatur der
Entwicklerlösung von der eingestellten Temperatur
abweicht, Steuersignale vorzugsweise an eine
Temperatursteuereinrichtung des elektronisch gesteuerten
isothermischen Behälters 27 rückgeführt, um die Temperatur
der Entwicklerlösung genau zu steuern. Dann wird der
Strom, der zwischen der Bezugselektrode 55, die in die
Entwicklerlösung eingetaucht ist, und der leiterseitigen
Elektrode 56, die am Substrat gebildet wird, als Grundlage
für eine Schaltung 60 zur Bestimmung des Endpunkts der
Entwicklung verwendet, um den Endpunkt der Entwicklung für
das Muster zu bestimmen, das auf dem auf dem Substrat
aufgebrachten Fotolack geschrieben wurde. Die Bildung der
leiterseitigen Elektrode 56 wird in der japanischen
offengelegten Patentschrift Nr. 1 38 728-1988 angegeben und
wird deshalb hier nicht näher beschrieben. Nachdem der
Endpunkt der Entwicklung bestimmt wurde, werden die
Zylinder 32, 32 betätigt und der Behandlungsrahmen 33 wird
abgesenkt, um die Entwicklerlösung abzulassen und die
Entwicklung zu beenden. Darauf wird der Motor 22 in
Drehung versetzt, um die Spülflüssigkeit aus der Düse 41
zu sprühen und das Spülen durchzuführen. Weiterhin wird
die flache Bühne 24 mit einer hohen Drehzahl von etwa 2000
Umdrehungen/min zur Trocknung des Substrats 53 gedreht.
Darauf entfernt der Entnahmearm 40 das Substrat 53 aus den
Substrataufnahmefingern 31 und bringt es von der
Behandlungskammer 21 nach außen, bevor es am Förderer 39
befestigt und zur folgenden Behandlung weiterbewegt wird.
Mittels einer derartigen automatischen
Entwicklungsvorrichtung ist es möglich, automatisch das
Eintauchverfahren durchzuführen, indem ein
Entwicklerbehälter durch das Anheben des
Behandlungsrahmens 33 gebildet wird, das Substrat 53
eingebracht wird, die Entwicklerlösung zugeführt wird und
die Entwicklerlösung durch Absenken des Behandlungsrahmens
33 abgelassen wird.
Ferner ist es möglich, ein unmittelbares Spülen durch
Versprühen der Spülflüssigkeit aus der Düse 41 auszuführen
und es ist somit möglich, ein höheres Genauigkeitsniveau
zu erzielen, da kein Auflösen des Fotolackmusters erfolgt
während das Substrat 53 befördert wird.
Schließlich erfolgt bei der vorausgehend beschriebenen
Ausführungsform die Temperatursteuerung der
Entwicklerlösung während der Entwicklung durch strömendes
Wasser von konstanter Temperatur zur flachen Bühne 24,
jedoch kann Wasser einer konstanten Temperatur auch dem
Behandlungsrahmen zugeführt werden. Das für die
Temperatursteuerung verwendete Fluid ist nicht auf Wasser
begrenzt, da Gase, Glyzerin oder einige andere
Wärmeübertragungssolvens ebenfalls verwendet werden
können. Ferner war bei der vorstehenden Ausführungsform
der Temperatursensor in die Entwicklerlösung eingetaucht
und die durch diesen Temperatursensor durchgeführte
Rückkopplungssteuerung kann auch die Temperatur der
Entwicklerlösung überwachen, sie integrieren und eine
Kompensation bezüglich der Entwicklerzeit durchführen,
während die Entwicklung durchgeführt wird.
Schließlich kann gemäß Fig. 3 ein Thermoelement 44 an der
Kontaktfläche der flachen Bühne 24 und des
Behandlungsrahmens 33 zur Entwicklerlösung angebracht
sein, so daß eine direkte Temperatursteuerung der
Entwicklerlösung durchgeführt wird. In diesem Falle ist es
erwünscht, daß Kühlluft in die Leitung 29 und die
Durchflußöffnung 25 eingeblasen wird, um die der
Kontaktfläche mit dem Thermoelement 44 gegenüberliegende
Seite zu kühlen, so daß die Effizienz des Thermoelements
44 erhöht wird.
Schließlich macht ferner das Umströmen eines
temperaturgesteuerten inerten Gases (beispielsweise
Stickstoff) um den Behandlungsrahmen 33 und das Austreten
des Gases aus der Austrittsöffnung 42 oder einer anderen
Austrittsöffnung, die an einer von der Austrittsöffnung 42
unterschiedlichen Stelle angeordnet ist, es möglich, daß
die Temperatursteuerung der Entwicklerlösung genauer
durchgeführt wird. Jedoch ist es erwünscht, den
Gasaustritt während des Entwicklervorgangs zu sperren.
Wie vorstehend beschrieben wurde, ist es bei der
erfindungsgemäßen automatischen Entwicklungsvorrichtung
möglich, die Entwicklung elektrisch leitender Substrate,
die mit Mustern mit 2 µm Linien und Abständen, Mustern
mit 25 µm Linien und Abständen und Mustern mit 100 µm
Linien und Abständen beschrieben sind, derart
durchzuführen, daß ein Verhältnis der elektrischen
Leitfähigkeit für die Entwicklerlösung mit der richtigen
Empfindlichkeit hergestellt werden kann, wobei der
Stromscheitel zwischen jenem des 25 µm Musters und
jenem des 2 µm Musters auftritt (siehe Punkt D der
Kurve 1 2 in Fig. 4). Dadurch wird, wie in Fig. 5
angegeben ist, die Abmessungsgenauigkeit der Muster bei
Verwendung der erfindungsgemäßen automatischen
Entwicklungsvorrichtung besser (siehe Kurve h 2) und hat
weniger Streuung als die Abmessungsgenauigkeit der Muster
unter Verwendung des Stands der Technik (siehe Kurve h 1).
Wie vorausgehend beschrieben wurde ist es erfindungsgemäß
möglich, eine Entwicklerlösung mit einem optimalen
Verhältnis der elektrischen Leitfähigkeit für die
Musterarten, die Fotolackarten und die
Behandlungsbedingungen herzustellen und die
Abmessungsgenauigkeit der Muster zu verbessern.
Ferner ist es durch Steuerung des Verhältnisses der
elektrischen Leitfähigkeit möglich, den Einfluß des
Näherungseffekts und anderer Kennzeichen von
Elektronenstrahlen abzuschätzen oder den Status
(beispielsweise das Musterungsverhältnis) der durch die
Elektronenstrahlen belichteten Muster, und dadurch
abhängig von dem Ausmaß eines derartigen Einflusses eine
Kompensation zu gestatten.
Claims (6)
1. Automatische Entwicklungsvorrichtung, bei der ein
elektrisch leitender Körper, auf dem ein vorgegebenes
Muster auf einem auf einer Oberfläche des Körpers
aufgebrachten Resistfilm beschrieben wurde, in eine
Entwicklerlösung eingebracht wird, und die eine
Elektrode enthält, und anschließend der Wert der
Änderung des Stroms, der zwischen dem elektrisch
leitenden Körper und der Elektrode fließt, als
Grundlage für die Bestimmung des Punkts verwendet
wird, an dem die Entwicklung des geschriebenen Musters
beendet ist,
dadurch gekennzeichnet, daß
die automatische Entwicklungsvorrichtung umfaßt:
eine Einrichtung (3 C, 4 A, 4 B, 6, 7) zum Einführen eines elektrolytischen Materials in die Entwicklerlösung,
eine Einrichtung (10 A, 10 B) zur Erfassung eines Verhältnisses der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung, und
eine Einrichtung (9) zur Steuerung der Einführeinrichtung in solcher Weise, daß ein von der Erfassungseinrichtung ermittelter Wert als Grundlage zur Steuerung des Verhältnisses der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung derart verwendet wird, daß ein Endpunkt der Entwicklung klar angezeigt wird.
eine Einrichtung (3 C, 4 A, 4 B, 6, 7) zum Einführen eines elektrolytischen Materials in die Entwicklerlösung,
eine Einrichtung (10 A, 10 B) zur Erfassung eines Verhältnisses der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung, und
eine Einrichtung (9) zur Steuerung der Einführeinrichtung in solcher Weise, daß ein von der Erfassungseinrichtung ermittelter Wert als Grundlage zur Steuerung des Verhältnisses der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung derart verwendet wird, daß ein Endpunkt der Entwicklung klar angezeigt wird.
2. Automatische Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Einführeinrichtung eine Einrichtung umfaßt, um
eine Entwicklerflüssigkeit, die das elektrolytische
Material nicht enthält und eine Entwicklerflüssigkeit,
die das Elektronenabgabematerial enthält, miteinander
zu mischen.
3. Automatische Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Einführeinrichtung eine Einrichtung umfaßt, um
eine Anzahl von Flüssigkeiten miteinander zu
vermischen, die vorab eingestellt wurden und die
Verhältnisse der elektrischen Leitfähigkeit aufweisen,
die sich um mehr als einem Faktor 10 unterscheiden.
4. Automatische Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Einführeinrichtung eine Anzahl Behälter (3 A, 3 B)
umfaßt, die Lösungsmittel für die Einstellung der
Verhältnisse der elektrischen Leitfähigkeit haben.
5. Automatische Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Behälter Rührwerke (8 a 1, 8 a 2, 8 b 1, 8 b 2)
haben.
6. Automatisches Entwicklerverfahren
gekennzeichnet durch folgende Schritte:
Einführen eines elektrolytischen Materials in eine Entwicklerlösung,
Erfassung eines Verhältnisses der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung,
ein erfaßter Wert des Verhältnisses der elektrischen Leitfähigkeit wird als Grundlage zur Steuerung der Menge des elektrolytischen Materials verwendet, das in die Entwicklerlösung auf der Grundlage eines durch die Erfassungseinrichtung ermittelten Werts eingeführt wird, so daß das Verhältnis der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung optimal wird,
Eintauchen eines elektrisch leitenden Körpers, auf den ein vorgegebenes Muster auf einer Oberfläche eines Körpers aufgebrachten Fotolackfilm geschrieben wurde, und einer stabilen Elektrode in einer Entwicklerlösung mit konstantem Verhältnis der elektrischen Leitfähigkeit, und
Bestimmung des Punkts, an dem die Entwicklung des geschriebenen Musters beendet ist, unter Verwendung der Größe des Stroms als Grundlage, der zwischen dem elektrisch leitenden Körper und der Elektrode fließt.
Einführen eines elektrolytischen Materials in eine Entwicklerlösung,
Erfassung eines Verhältnisses der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung,
ein erfaßter Wert des Verhältnisses der elektrischen Leitfähigkeit wird als Grundlage zur Steuerung der Menge des elektrolytischen Materials verwendet, das in die Entwicklerlösung auf der Grundlage eines durch die Erfassungseinrichtung ermittelten Werts eingeführt wird, so daß das Verhältnis der elektrischen Leitfähigkeit der Entwicklerlösung optimal wird,
Eintauchen eines elektrisch leitenden Körpers, auf den ein vorgegebenes Muster auf einer Oberfläche eines Körpers aufgebrachten Fotolackfilm geschrieben wurde, und einer stabilen Elektrode in einer Entwicklerlösung mit konstantem Verhältnis der elektrischen Leitfähigkeit, und
Bestimmung des Punkts, an dem die Entwicklung des geschriebenen Musters beendet ist, unter Verwendung der Größe des Stroms als Grundlage, der zwischen dem elektrisch leitenden Körper und der Elektrode fließt.
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- 1990-02-02 KR KR1019900001272A patent/KR910008709B1/ko not_active IP Right Cessation
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| KR900013347A (ko) | 1990-09-05 |
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