JPS63175425A - 電極構成体 - Google Patents
電極構成体Info
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- JPS63175425A JPS63175425A JP611987A JP611987A JPS63175425A JP S63175425 A JPS63175425 A JP S63175425A JP 611987 A JP611987 A JP 611987A JP 611987 A JP611987 A JP 611987A JP S63175425 A JPS63175425 A JP S63175425A
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Weting (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、レジストを利用するリソグラフィー技術にお
いて、レジストの現像工程または、導電層のエツチング
工程の終点を電気化学的に検出する装置に用いる電極構
成体に関する。
いて、レジストの現像工程または、導電層のエツチング
工程の終点を電気化学的に検出する装置に用いる電極構
成体に関する。
(従来の技術)
マスク上に所定のパターンを形成するためには。
マスク表面にレジストを塗布して露光又は電子線描画を
行なった後、現像液で現像し、更にエツチング液でエツ
チングを行なう、これらの工程で、現像又はエツチング
の終点は、通常時間管理することにより判定している。
行なった後、現像液で現像し、更にエツチング液でエツ
チングを行なう、これらの工程で、現像又はエツチング
の終点は、通常時間管理することにより判定している。
ところが、その処理時間、例えば現像時間はレジストの
塗布厚、ロフト間バラツキ、現像液温度。
塗布厚、ロフト間バラツキ、現像液温度。
劣化等により変動するため、近年の超LS IIIB造
工程の如く、パターン精度要求の厳しい場合には、その
要求に応えることが困難になってきている。
工程の如く、パターン精度要求の厳しい場合には、その
要求に応えることが困難になってきている。
そこで近年、これらの処理の終点を直接的に判定する手
法として電気化学的原理を応用した方法が提案されてい
る。
法として電気化学的原理を応用した方法が提案されてい
る。
この方法ではマスク上の導電層上にレジストを塗布した
ものと対極とを現像液又はエツチング液に浸漬し、マス
ク上の導電層と対極との間の電流−電位関係を測定する
ことにより終点を判定している。従って、この方法を実
施するためには、マスク上の導電層より電気的導通を得
るための電極を開発することが必須の条件であるが、こ
れらのマスク上の導電Mは絶縁体であるレジストで覆わ
れているため、金属電極をレジスト面へ圧接するだけで
は良好な電気的導通を得ることは困難であった。
ものと対極とを現像液又はエツチング液に浸漬し、マス
ク上の導電層と対極との間の電流−電位関係を測定する
ことにより終点を判定している。従って、この方法を実
施するためには、マスク上の導電層より電気的導通を得
るための電極を開発することが必須の条件であるが、こ
れらのマスク上の導電Mは絶縁体であるレジストで覆わ
れているため、金属電極をレジスト面へ圧接するだけで
は良好な電気的導通を得ることは困難であった。
(発明が解決しようとする問題点)
そこで、従来は上述した問題点を解決するために電極を
レジスト面にこすりつけることによりレジストを剥ぎ取
ったり、電極を2組用意し1両者間で電流を通じてその
際のジュール熱でレジストを溶解する等の方法が提案さ
れている。しかし。
レジスト面にこすりつけることによりレジストを剥ぎ取
ったり、電極を2組用意し1両者間で電流を通じてその
際のジュール熱でレジストを溶解する等の方法が提案さ
れている。しかし。
前者の場合にはレジストのダストが処理液に混入して欠
陥の原因となるという欠点がある。また。
陥の原因となるという欠点がある。また。
後者の場合には各種工程で多用される有機溶剤への引火
の危険があるため実用化はされていない。
の危険があるため実用化はされていない。
また1以上の各種解決策の全てに共通した問題点として
、上述の方法は全てレジスト面を貫通させて電気的導通
を得る方法であるため、マスクとしてしようされる際に
遮光層として非常に大切な役割を果たす導電層へ余分な
傷を与えてしまう他。
、上述の方法は全てレジスト面を貫通させて電気的導通
を得る方法であるため、マスクとしてしようされる際に
遮光層として非常に大切な役割を果たす導電層へ余分な
傷を与えてしまう他。
電極の配置によっては、電極近傍での現像ムラ。
エツチングムラを生ずるおそれがある。
本発明は上記の事情を考慮してなされたものであり、導
電層への損傷や、レジストダストの発生や、有機溶剤へ
の引火の危険性を招くことなく。
電層への損傷や、レジストダストの発生や、有機溶剤へ
の引火の危険性を招くことなく。
マスク上の導電層と良好な電気的導通を得ることが可能
な電極構成体を提供することを目的とするものである。
な電極構成体を提供することを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明の電極構成体は、導電層より電気的導通を得るた
めの電気的導通用導電片と、絶縁性支持体上のレジスト
が塗布された導電層から電気的導通を得る電気的導通用
導電片を絶縁性支持体側面へ圧接する機構とから構成さ
れている。
めの電気的導通用導電片と、絶縁性支持体上のレジスト
が塗布された導電層から電気的導通を得る電気的導通用
導電片を絶縁性支持体側面へ圧接する機構とから構成さ
れている。
(作用)
本願発明者等はフォトマスク製造に使用されるブランク
ス(ガラス、石英等の透明絶縁性支持体上へ、クロム、
タングステン等の遮光層用金属薄膜を蒸着、スパッタ等
により付着させたもの)を子細に観察した。その結果、
蒸着、スパッタ等の工程の際の回り込みによると思われ
る。クロム、タングステン等の金属薄膜の側面への付着
がブランクスのほぼ全数において、側面の一部または全
面にあること、また、この側面への回り込みは途中途切
れることなく、レジストが塗布されるべき表面の薄膜と
電気的導通を保っていることを見いだした。これより、
前述した構成を有する本発明に係る電極構成体を用いれ
ば、安定して電気的導通を得ることができる。
ス(ガラス、石英等の透明絶縁性支持体上へ、クロム、
タングステン等の遮光層用金属薄膜を蒸着、スパッタ等
により付着させたもの)を子細に観察した。その結果、
蒸着、スパッタ等の工程の際の回り込みによると思われ
る。クロム、タングステン等の金属薄膜の側面への付着
がブランクスのほぼ全数において、側面の一部または全
面にあること、また、この側面への回り込みは途中途切
れることなく、レジストが塗布されるべき表面の薄膜と
電気的導通を保っていることを見いだした。これより、
前述した構成を有する本発明に係る電極構成体を用いれ
ば、安定して電気的導通を得ることができる。
(実施例)
以下、添付図面を参照して本発明の実施例について説明
する。
する。
第1図は本発明に係わる電極構成体の一例を示した模擬
断面図である。第1図において、電極構成体1は、銅、
クロム、ステンレス等の金属でできた電気的導通用導電
片2と、電気的導通用導電片2をマスク6の側面へ圧接
するためのスプリング3.および電気的導通を外部へ引
き出すためのリードllX5とより構成されているつま
た。この電極構成体1はマスク支持体4に組込まれてい
る。
断面図である。第1図において、電極構成体1は、銅、
クロム、ステンレス等の金属でできた電気的導通用導電
片2と、電気的導通用導電片2をマスク6の側面へ圧接
するためのスプリング3.および電気的導通を外部へ引
き出すためのリードllX5とより構成されているつま
た。この電極構成体1はマスク支持体4に組込まれてい
る。
マスク支持体4は、第2図に示す如くマスク6を挟み込
むように構成されており、スプリング3により電気的導
通用導電片2をマスク6へ圧接した際に、マスク6が逃
げ出さないようになっている。
むように構成されており、スプリング3により電気的導
通用導電片2をマスク6へ圧接した際に、マスク6が逃
げ出さないようになっている。
また、電極構成体1を第2図中1y、1uとして示した
如くに複数設け、その間の電気抵抗を現像工程やエツチ
ング工程の開始前に測定することにより電気的導通の確
認を行なうことが可能となり、現像工程やエツチング工
程の電気化学的手法による終点判定の信頼性を更に向上
させることができるようになる。
如くに複数設け、その間の電気抵抗を現像工程やエツチ
ング工程の開始前に測定することにより電気的導通の確
認を行なうことが可能となり、現像工程やエツチング工
程の電気化学的手法による終点判定の信頼性を更に向上
させることができるようになる。
次に本発明に係わる第2の実施例を第3図を参照しなが
ら説明する。
ら説明する。
図中4.5.6は第1の実施例中で述べたものと同じで
あるため説明は省略する6本実施例においては、電気的
導通用導電片と電気的導通用導電片圧接機構を一枚の板
バネ7で兼用している。本方法によれば、実施例1に比
較し、部品点数が少なくなり構造が簡単になる分信頼性
の向上が望めるが、実施例1に比較し現像液やエツチン
グ液中へ露出する導電片面積が増加するため、測定され
る結果に誤差を含む危険性がある。そこで、本実施例の
一応用例として、板バネ7のうち、マスク6と接触する
部位以外を絶縁性の被膜で覆ってもよい。
あるため説明は省略する6本実施例においては、電気的
導通用導電片と電気的導通用導電片圧接機構を一枚の板
バネ7で兼用している。本方法によれば、実施例1に比
較し、部品点数が少なくなり構造が簡単になる分信頼性
の向上が望めるが、実施例1に比較し現像液やエツチン
グ液中へ露出する導電片面積が増加するため、測定され
る結果に誤差を含む危険性がある。そこで、本実施例の
一応用例として、板バネ7のうち、マスク6と接触する
部位以外を絶縁性の被膜で覆ってもよい。
また、本実施例の場合においても、実施例1にて述べた
のと同様に複数の電極構成体を設けることで、信頼性の
より一層の向上が計られる。
のと同様に複数の電極構成体を設けることで、信頼性の
より一層の向上が計られる。
次に本発明に係わる第3の実施例を第4図を参照しなが
ら説明する。
ら説明する。
図中2.5.6は第1の実施例中で述べたものと同じで
あるため説明は省略する0本実施例においては、電気的
導通用導電片圧接機構をマスク支持体4に兼用させてい
る。つまり、現像槽やエツチング槽の一部8に固定され
たマスク支持体4ヘマスク6を挿入すると、マスク支持
体4が図中の矢印9にて示した方向へ歪む、その歪みの
復元力で電気的導通用導電片2をマスク6の側面へ圧接
している。
あるため説明は省略する0本実施例においては、電気的
導通用導電片圧接機構をマスク支持体4に兼用させてい
る。つまり、現像槽やエツチング槽の一部8に固定され
たマスク支持体4ヘマスク6を挿入すると、マスク支持
体4が図中の矢印9にて示した方向へ歪む、その歪みの
復元力で電気的導通用導電片2をマスク6の側面へ圧接
している。
次に本発明にて示した各種電極構成体を用いて、例えば
レジストの現像終点を判定する場合について第5図を参
照して説明する。第5図において、現像層8内には有機
溶剤からなる現像液9が収納されている。この現像液9
内にはレジストに電子線描画を行ない、さらに上述のよ
うにして電気的導通用導電片とマスク導電層との電気的
導通を得た電極構成体1、および、マスク6、並びに、
対極10が浸漬される。電極構成体から取り出したリー
ド線は演算増幅器11の非反転入力端子に接続される。
レジストの現像終点を判定する場合について第5図を参
照して説明する。第5図において、現像層8内には有機
溶剤からなる現像液9が収納されている。この現像液9
内にはレジストに電子線描画を行ない、さらに上述のよ
うにして電気的導通用導電片とマスク導電層との電気的
導通を得た電極構成体1、および、マスク6、並びに、
対極10が浸漬される。電極構成体から取り出したリー
ド線は演算増幅器11の非反転入力端子に接続される。
この演算増幅器11はその出力端子と反転入力端子とを
接続することにより、増幅率1倍のインピーダンス変流
器を構成している。また、演算増幅器11の出力端子は
レコーダ12に接続される。
接続することにより、増幅率1倍のインピーダンス変流
器を構成している。また、演算増幅器11の出力端子は
レコーダ12に接続される。
一方、前記対極10から取り出したリード線はレコーダ
12に直接接続される。
12に直接接続される。
このような測定系では、現像終点前に急激な電位の変化
が観測され、この電位変化出現時間に予め設定された最
適な係数を乗じた時間を全現像時間とすることにより、
現像終点を精密に決定することができる。上記のような
電位変化は、マスク導電層と電極構成体との間の抵抗が
大きい場合は明瞭に捉えることが困難となるが、本発明
の電極構成体を使用することにより、そのようなおそれ
を減少させることが可能となる。
が観測され、この電位変化出現時間に予め設定された最
適な係数を乗じた時間を全現像時間とすることにより、
現像終点を精密に決定することができる。上記のような
電位変化は、マスク導電層と電極構成体との間の抵抗が
大きい場合は明瞭に捉えることが困難となるが、本発明
の電極構成体を使用することにより、そのようなおそれ
を減少させることが可能となる。
本発明の電極構成体を使用して、約500枚のマスク処
理を試みた結果、不良は0枚であった。それに対し、従
来法である、レジスト層を貫通して電気的導通を得る方
法では、約300枚の処理で48枚もの不良が出、その
損害は甚大であった。
理を試みた結果、不良は0枚であった。それに対し、従
来法である、レジスト層を貫通して電気的導通を得る方
法では、約300枚の処理で48枚もの不良が出、その
損害は甚大であった。
なお、本実施例ではレジスト現像工程での例を示したが
、本発明の電極構成体は、エツチング工程の終点判定へ
も適用できる。そして、このような現像終点を判定する
場合やエツチング′終点を判定する場合に、その電気化
学的変化を測定するための装置構成は、第5図に示した
ような電位変化を観測するものに限らず、電流変化をa
mするものでもよい。
、本発明の電極構成体は、エツチング工程の終点判定へ
も適用できる。そして、このような現像終点を判定する
場合やエツチング′終点を判定する場合に、その電気化
学的変化を測定するための装置構成は、第5図に示した
ような電位変化を観測するものに限らず、電流変化をa
mするものでもよい。
以上詳述した如く、本発明の電極構成体によれば、レジ
ストダストの発生や有機溶剤への引火の危険性を招くこ
となくマスク上の導電層と良好な電気的導通を安定に得
ることができ、ひいては現像終点やエツチング終点の基
準となる電気化学的変化を感度よく検出できる等、顕著
な効果を奏するものである。
ストダストの発生や有機溶剤への引火の危険性を招くこ
となくマスク上の導電層と良好な電気的導通を安定に得
ることができ、ひいては現像終点やエツチング終点の基
準となる電気化学的変化を感度よく検出できる等、顕著
な効果を奏するものである。
第1図は本発明の実施例1における電極構成体の模擬断
面図、第2図は本発明の実施例1における電極構成体の
配置を示す模式図、第3図は本発明の実施例2における
電極構成体の模擬断面図、第4図は本発明の実施例3に
おける電極構成体の模擬断面図、第5図は本発明の実施
例1における電極構成体を用いて現像終点を判定する場
合の装am成図である。 1・・・電極構成体、 2・・・電気的導通用sit片
3・・・電気的導通、用導電片圧接用スプリング4・・
・マスク支持体、 5・・・リード線6・・・マスク、
7・・・板バネ、 8川現像槽9・・・現像液、 1
0・・・対極、 11・・・演算増幅器12・・・レコ
ーダ。 第1図 第 2 因 第 3 図 第 4 図
面図、第2図は本発明の実施例1における電極構成体の
配置を示す模式図、第3図は本発明の実施例2における
電極構成体の模擬断面図、第4図は本発明の実施例3に
おける電極構成体の模擬断面図、第5図は本発明の実施
例1における電極構成体を用いて現像終点を判定する場
合の装am成図である。 1・・・電極構成体、 2・・・電気的導通用sit片
3・・・電気的導通、用導電片圧接用スプリング4・・
・マスク支持体、 5・・・リード線6・・・マスク、
7・・・板バネ、 8川現像槽9・・・現像液、 1
0・・・対極、 11・・・演算増幅器12・・・レコ
ーダ。 第1図 第 2 因 第 3 図 第 4 図
Claims (2)
- (1)電気的導通用導電片と、 該電気的導通用導電片を絶縁性支持体側面へ圧接する機
構とを有することを特徴とする絶縁性支持体上レジスト
塗布導電層導通用の電極構成体。 - (2)少なくとも2個以上の電気的導通用導電体を有す
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の電極構
成体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP611987A JPS63175425A (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 電極構成体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP611987A JPS63175425A (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 電極構成体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63175425A true JPS63175425A (ja) | 1988-07-19 |
Family
ID=11629619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP611987A Pending JPS63175425A (ja) | 1987-01-16 | 1987-01-16 | 電極構成体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63175425A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02205852A (ja) * | 1989-02-03 | 1990-08-15 | Toshiba Corp | 自動現像装置および方法 |
JP2006214711A (ja) * | 2005-01-06 | 2006-08-17 | Renias:Kk | 護身用盾 |
-
1987
- 1987-01-16 JP JP611987A patent/JPS63175425A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02205852A (ja) * | 1989-02-03 | 1990-08-15 | Toshiba Corp | 自動現像装置および方法 |
JP2006214711A (ja) * | 2005-01-06 | 2006-08-17 | Renias:Kk | 護身用盾 |
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