JPS5831529A - 電子線露光装置用基板ホルダ− - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発Ｗ！Ａａ電子線露光装置において露光中に基板を保
持する基板ホルダーの改ｊＬＫ関するものである。

一般に集積回路製造工１１に用ｉられているホトリソグ
ラフィ用ホトマスクの基板は第１図に示すようにガラス
等の絶縁物基板１上にクロム等のメタル層２を形状し、
表面の反射率を低減する為の酸化り關ム等の酸化層３を
該メタル層２の上に形成した亀のが使用されている。

前記ホトマスク基板を用いた電子線露光方法によるホト
マスク製造は、皺ホトマスク基板表面に電子線レジスト
４を塗布し、該レジスト層に電子線を選択露光し、次に
現像、ポストベーク、エツチング工程を経てホトマスク
が製造される。このような方法ではホトマスク基板が絶
縁物である為照射された電子線ホトマスク基板上に帯電
し、電子線に影響を与え画質をそこなう結果となる。

そこで帯電を防止する為に前記ホトマスク基板のメタル
層を電気的に接地して、電荷を流出させる必要がある。

一般に前記メタル層を電気的に接地させる方法として、
第２図に示すように露光中に基板を保持する基板ホルダ
ー５に基板の表面に！する端子６を設け、誼端子６を電
気的アースに接地する方法がとられている。

しかし、前記基板ホルダーでは端子が表面に圧着して−
るだけである為、レジスト層４酸化層３等の絶縁層によ
りメタル層２と端子６との間に導通が取れず、帯電の原
因となっていた。

本発明社斯る点に鑑みなされたものであって、基板を電
気的に容易Ｋｌｉ地できる基板ホルダーを提供するもの
である。

本発明の特徴は基板上の電子線レジストを選択的に電子
線で照射する装置に用いられ、腋基板を保持する事を目
的とし、鉄基板の−１平面に接し、かつ電気的に接地で
きる端子と、前記基板の−１平面に接し、前記端子との
間に電圧を印加できる端子とを有する電子線露光装置基
板ホルダーにある。

以下図面を用ｉて本発明の詳細な説明する。

第３図は本発明による基板ホルダー５に電子線レジスト
４を塗布し九ホトマスク基板１を装填した概念図である
。端子６は基板ホルダー５に電気的に導通がとられてお
シ基板１０費面に圧着されている。端子８は基板ホルダ
ーに電気的に絶縁さこの状態では端子６と基板のメタル
層２とは電気的に絶縁されておシ、露光に適さない。端
子４と基板のメタル層２との間゛に導通をとる為には、
本発明による端子８と端子６０間に直流電圧９を印圧す
る事によ〕行なわる。印加された電圧は主に酸化層３、
レジスト層４の絶縁層にかかる。これらの層は一般に数
１００〜数１０００人であるため数十ボルトの電圧で絶
縁破壊を起し容易に端子６とメタル層２との導通がとれ
る。電圧の印加は露光装置内でも、装置外でも行なえる
事は言うまでもない。

本発明は以上の説明から明らかな如〈従来困難であった
絶縁層を通しての基板のアースへの導通が容易に行なえ
るように１電子ｉｉｎ光法に与える寄与は大きい。

【図面の簡単な説明】

第１ｒｉＡａ一般的なホトマスク基板に電子線レジスト
を塗布した状態を示す断面図である。第２図は従来の電
子線露光用基板ホルダーにホトマスク基板実装した状態
を示す断面図である。第３図嬬本発明の実施例の電子線
露光用基板ホルダーにホトマスク基板を実装し良状態を
示す断面図である冑、図において、ｌ紘ガラス基板、２
はメタル層、３は酸化層、４は電子線レジスト層、５は
基板ホルダー、６はアース端子、７は電子線、８は電圧
印加用端子、９は基板ホルダーに印加する直流電源であ
る。 第　１１Ｄ 第２図 第　３　区

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板上の電子線レジストを選択的に電子線で照射する装
   置に用いられ、賦基板を保持する電子線露光装置用基板
   ホルダーにお−て、該基板の一主平面に接しかつ電気的
   に接地できる端子と、前記基板の一主平面に接し前記端
   子との間に電圧を印加できる端子とを有する事を特徴と
   する電子線露光装置用基板ホルダー。