JPH02125416A - 電子ビーム露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子ビーム露光装置に関する。

〔従来の技術〕

従来、電子ビーム露光装置のカセットに保持されるマス
ク基板と電子ビーム露光装置とを電気的に導通させる方
法としては、カセットに固定された導通用ピンを板バネ
等を使用して、機械的にマスク基板を構成する被露光媒
体である電子ビームレジスト膜を貫通させ、その下のＣ
ｒ等の金属膜に接触させるという方法が用いられていた
。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来の機械的な導通方法では、導通用ピンをお
し当てる強さが不足した場合、電子ビームレジスト膜を
完全に貫通させることができないため、マスク基板が電
子ビームによりチャージアップし、描画精度が低下する
という欠点がある。

また、導通を完全にとるために導通用ピンをおし当てる
強さを増すと、マスク基板に大きな応力が加わり、たわ
み等が発生するために描画精度は低下するという欠点も
あった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の電子ビーム露光装置は、真空チャンバー内に設
けられたカセットと、前記カセットに固定され該カセッ
トに保持されるマスク基板の金属膜に接触させるための
導通用ピンと、前記金属膜に接触し該金属膜と金属膜上
の被露光媒体に接する前記導通用ピンとの間に電圧を印
加するための高電圧印加用電極とを含んで構成される。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。

第１図は本発明の一実施例の断面図である。

第１図において、真空チャンバー（図示せず）にはカセ
ット６が設けられており、このカセット６には板バネ４
に連結された導通用ピン５が固定されている。更に真空
チャンバー内には高電圧印加用電極８が設けられている
。以下その機能について説明する。

石英やガラス等からなる透明基板３上にＣｒ等からなる
金属膜２と電子ビームレジスト１とが形成されたマスク
基板７をカセット６にセットする。この時、マスク基板
７のパターン形成領域外には、導通用ピン５が電子ビー
ムレジスト１に板バネ４で押えられて接触する０次で、
高電圧印加用電極８の先端を、電子ビームレジスト１を
貫通できる強い力により金属膜２に接触させ、高電圧（
数百〜数千ボルト）を印加し、電子ビームレジスト１を
絶縁破壊させ、導通用ピン５と金属膜２とを完全に導通
させる。そしてマスク基板７上にパターン描画を行う時
は、この高電圧印加用電極８をマスク基板７上から取り
除く。

このように本実施例によれば、高電圧印加用電極８によ
る電圧印加により、導通用ピン５と金属膜２とを容易に
導通させることができるため、従来のように導通用ピン
５に強い力を加える必要がなくなる。従って、マスク基
板７にたわみ等は発生することはなくなり、描画精度は
向上したものとなる。また、強い力により金属膜２に接
触する高電圧印加用電極８は、描画時には取り除かれる
ので、描画精度を悪化させるということはない。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は、高電圧印加用電極を真空
チャンバー内に設け、この高電圧印加用電極をマクス基
板の金属膜に接触させて電圧を印加し被露光媒体を絶縁
破壊させるということにより、マスク基板と電子ビーム
露光装置本体との電気的導通を完全にとる事ができる。

従って、チャージアップや応力によりマスク基板に発生
するたわみ等をなくすことができるため、描画精度を向
上させることができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の断面図である。 １・・・電子ビームレジスト、２・・・金属膜、３・・
・透明基板、４・・・板バネ、５・・・導通用ピン、６
・・・カセット、７・・・マスク基板、８・・・高電圧
印加用電極。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 真空チャンバー内に設けられたカセットと、前記カセッ
   トに固定され該カセットに保持されるマスク基板の金属
   膜に接触させるための導通用ピンと、前記金属膜に接触
   し該金属膜と金属膜上の被露光媒体に接する前記導通用
   ピンとの間に電圧を印加するための高電圧印加用電極と
   を含むことを特徴とする電子ビーム露光装置。