DE19859469C2 - Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten - Google Patents
Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von SubstratenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Behandeln von
Substraten, insbesondere Halbleiterwafern, mit den Merkmalen des Anspruchs 1 bzw. 13.
Vorrichtungen mit einer er
sten Behandlungseinheit und einem über der ersten Behand
lungseinheit vertikal bewegbaren Substrathalter sowie
Verfahren zum Behandeln von Substraten, insbesondere
Halbleiterwafern, bei dem ein ein Substrat tragender Sub
strathalter in eine Behandlungsposition über eine erste
Behandlungseinheit bewegt wird, eine erste Substratbe
handlung durchgeführt wird, und der Substrathalter nach
der ersten Substratbehandlung vertikal angehoben wird, sind beispielswei
se aus der US 5 222 310 bekannt, die ein Behandlungs
becken sowie einen vertikal darüber bewegbar angeordneten
Deckel aufweist, der als Substrathalter ausgebildet ist.
Bei der bekannten Vorrichtung bzw. dem bekannten Verfah
ren wird ein vom Deckel getragener Wafer in das Behand
lungsbecken eingeführt, behandelt und nach der Behandlung
und anschließendem Anheben des Deckels durch eine Sub
strathandhabungsvorrichtung vom Deckel abgenommen. Bei
dieser Vorrichtung ist es somit notwendig, den Wafer für
eine nachfolgende Waferbehandlung mit der Substrathandha
bungsvorrichtung zu einer weiteren Behandlungseinheit zu
bewegen und gegebenenfalls in einen weiteren Substrathal
ter einzusetzen.
Bei jeder Handhabung des Substrats besteht jedoch die Ge
fahr, daß das Substrat beschädigt wird. Darüber hinaus
ist der für die Behandlungseinheiten verfügbare Raum in
der Regel begrenzt. Darüber hinaus besteht durch das Vor
sehen zweier unabhängiger Behandlungseinheiten ein großer
Raumbedarf. Außerdem muß das Substrat häufig im feuchten
Zustand transportiert werden, was zu verstärkten Kontami
nationsproblemen führen kann.
Aus der JP 10-4079 A ist eine Vorrichtung zur Behandlung
von Substraten bekannt von der in der Erfindung angegangen wird. Bei dieser Vorrichtung wird ein
zu behandelndes Substrat auf einem unten liegenden Sub
strathalter abgelegt, der über eine untenliegende Welle
vertikal bewegbar ist. Die Welle erstreckt sich durch den
Boden einer ersten Behandlungseinrichtung und positio
niert den Substrathalter in einem ersten Schritt in der
ersten Behandlungseinrichtung. Anschließend wird der Sub
strathalter mit dem Substrat vertikal aus der ersten Be
handlungsvorrichtung herausgehoben und eine zweite, zwei
teilige Behandlungseinrichtung wird von der Seite her um
den Substrathalter herumbewegt, so daß eine zweite Be
handlungsvorrichtung oberhalb der ersten Behandlungsvor
richtung gebildet wird. Dabei muß die zweite Behandlungs
einrichtung im Bereich der Welle sowie im Bereich der
Schnittstelle der zwei Teile der Behandlungseinrichtung
abgedichtet werden, was die Bewegungssteuerung dieser
Teile sowie die dafür erforderlichen Kosten erheblich er
höht.
Aus der DE 196 526 A1 ist eine Vorrichtung und ein Verfah
ren zum Behandeln von Substraten in einem Fluidbehälter
bekannt, wobei eine Haube zur Aufnahme der Substrate
oberhalb des Fluidbehälters positionierbar ist. Die Haube
weist eine Substrat-Führungs- und Halteeinrichtung auf,
welche einen sicheren Transport der Substrate innerhalb
der Haube gewährleistet.
Aus der JP 6-163 505 A ist eine Halbleitersubstratreini
gungsvorrichtung bekannt, bei der mehrere feststehende
Kammern in vertikaler Richtung übereinander angeordnet
sind, die sequentiell mit Substraten bestückt werden kön
nen.
Die JP 10-242 106 A zeigt eine Vorrichtung, bei der ein
Substrate aufnehmendes Becken entlang einer Schiene be
wegt wird und mit unterschiedlichen Behandlungs
fluidanschlüssen verbunden werden kann, um unterschiedli
che Behandlungen innerhalb des selben Beckens durchzufüh
ren.
Ausgehend von dem oben genannten Stand der Technik, ins
besondere der JP 10-4079 A, liegt der Erfindung daher die
Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung vorzusehen, welche auf
einfache und kostengünstige Weise die Handhabungsschritte
zwischen unterschiedlichen Substratbehandlungen reduziert
und Abdichtungsprobleme zwischen geteilten Behandlungs
einrichtungen eliminiert.
Ausgehend von der aus der JP 10-4079 A bekannten Vorrich
tung wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß der Substrat
halter außerhalb der ersten und zweiten Behandlungs
einheiten geführt ist und die zweite Behandlungseinheit
einteilig ist. Hierdurch wird der Aufbau der Behandlungs
einheiten vereinfacht, da sich die Führung nicht durch
die Behandlungsbecken hindurch erstreckt und somit eine
Abdichtung an der Welle des Substrathalters entfällt.
Durch die Einteiligkeit der Behandlungseinrichtung werden
ferner die Abdichtungsprobleme im Bereich der Schnitt
stelle zwischen unterschiedlichen Teilen einer Behand
lungseinheit eliminiert. Die Vorrichtung ist somit im
Aufbau einfacher und kostengünstiger. Darüber hinaus wird
verhindert, daß eine Medienverschleppung infolge von an
der Welle anhaftenden Medien auftritt.
Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ist die zweite
Behandlungseinheit geradlinig bewegbar, während sie bei
einer anderen Ausführungsform verschwenkbar ist.
Vorteilhafterweise weist die zweite Behandlungseinheit
eine Spülvorrichtung auf. Substrate, insbesondere Halb
leiterwafer, müssen häufig während eines mehrere Schritte
umfassenden Herstellungsvorgangs, und insbesondere nach
bestimmten Behandlungsschritten gespült werden, so daß
sich eine Spülvorrichtung als zweite Behandlungseinheit
oberhalb einer ersten Behandlungseinheit anbietet. Gemäß
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung
weist die zweite Behandlungseinheit eine Trocknungsvor
richtung auf. Bei einer vorhergehenden Naßbehandlung ist
es insbesondere notwendig, daß das zuvor behandelte Sub
strat möglichst rasch, das heißt ohne daß es vorher von
einer Handhabungsvorrichtung transportiert werden muß, in
einer Trocknungsvorrichtung kontrolliert getrocknet wird.
Dabei ist es besonders vorteilhaft, wenn die zweite Be
handlungseinheit eine kombinierte Spül- und Trocknungs
vorrichtung umfaßt.
Bei einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist ein
Teil des Substrathalters auf die zweite Behandlungsein
heit auflegbar. Durch Auflegen eines Teils des Substrat
halters auf die zweite Behandlungseinheit ist es bei ei
nem zweiteiligen Substrathalter möglich, einen der Teile
abzulegen, während der andere angehoben wird, um einen
Zugriff auf das Substrat zu ermöglichen.
Bei einer weiteren besonders bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung ist wenigstens eine weitere, dritte Behand
lungseinheit und ein über der dritten Behandlungseinheit
vertikal bewegbarer zweiter Substrathalter vorgesehen,
wobei die zweite Behandlungseinheit in einer angehobenen
Position des zweiten Substrathalters zwischen den zweiten
Substrathalter und die dritte Behandlungseinheit bewegbar
ist. Durch Vorsehen einer dritten Behandlungseinheit kann
die bewegbare zweite Behandlungseinheit abwechselnd für
die erste und dritte Behandlungseinheit verwendet werden,
so daß zusätzlich Platz eingespart werden kann, da die
zweite Behandlungseinheit zwei anderen Behandlungseinhei
ten zugeordnet ist. Darüber hinaus ergibt sich dadurch
auch eine Kostenersparnis da eine Behandlungseinheit ein
gespart werden kann.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist es
jedoch auch möglich, mehr als zwei, beispielsweise auf
einem Kreis angeordnete Behandlungseinheiten vorzusehen,
die in entsprechender Weise von einer gemeinsamen Behand
lungseinheit, die sich beispielsweise in der Mitte der
übrigen Behandlungseinheit befindet, nacheinander bedient
werden.
Um zu verhindern, daß die Behandlungsvorgänge der ersten
und der dritten Behandlungseinrichtung sich gegenseitig
über die gemeinsame Verwendung des zweiten Substrathal
ters beeinflussen, in dem zum Beispiel Kontaminationen
von einer Behandlungseinheit in die andere übertragen
werden, sind die erste und dritte Behandlungseinheit im
wesentlichen gleich. Für den Fall, daß die Gefahr von Be
einflussungen durch die gemeinsame Verwendung der zweiten
Behandlungseinheit ausgeschlossen ist, können die erste
und dritte Behandlungseinheit auch unterschiedlich sein.
Vorteilhafterweise ist die zweite Behandlungseinheit in
eine zwischen der ersten und der dritten Behandlungsein
heit befindliche Ruheposition bewegbar, in der die zweite
Behandlungseinheit keine Behandlung durchführt und auch
keine der ersten und dritten Behandlungseinheiten beein
trächtigt bzw. überlappt. Dabei muß die Ruheposition
nicht notwendigerweise zwischen der ersten und dritten
Behandlungseinheit liegen. Es ist auch möglich die zweite
Behandlungseinheit in irgendeine Position zu bewegen, in
der sie keine der ersten und dritten Behandlungseinheiten
beeinträchtigt bzw. überlappt.
Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Er
findung ist die erste Behandlungseinheit eine Metall-
Plattierungseinheit. Vorteilhafterweise ist eine Handha
bungsvorrichtung zum Be- und Entladen des Substrathalters
vorgesehen.
Die erfindungsgemäße Aufgabe wird bei einem Verfahren zum
Behandeln von Substraten, insbesondere Halbleiterwafern,
gelöst, das die folgenden Verfahrensschritte aufweist:
Bewegen eines ein Substrat tragenden Substrathalters in eine Behandlungsposition über einer ersten Behandlung seinheit; Durchführen einer ersten Substratbehandlung;
Bewegen eines ein Substrat tragenden Substrathalters in eine Behandlungsposition über einer ersten Behandlung seinheit; Durchführen einer ersten Substratbehandlung;
Anheben des Substrathalters nach der ersten Substratbe
handlung; Bewegen einer zweiten Behandlungseinheit zwi
schen den angehobenen Substrathalter und die erste Be
handlungseinheit; und Durchführen einer zweiten Substrat
behandlung dadurch gelöst, daß der Substrathalter außer
halb der ersten und zweiten Behandlungseinheiten geführt
wird und die zweite Behandlungseinheit einteilig ist. Bei
diesem Verfahren ergeben sich dieselben Vorteile, die zu
vor unter Bezugnahme auf die Vorrichtung ausgeführt wur
den. Bevorzugte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen
Verfahrens ergeben sich aus den Unteransprüchen, wobei
sich wiederum die oben unter Bezugnahme auf die Vorrich
tung ausgeführten Vorteile ergeben.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand eines bevorzugten
Ausführungsbeispiels unter Bezugnahme auf die Figuren er
läutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Draufsicht auf eine Waferbe
handlungsstation mit mehreren Behandlungsvor
richtungen;
Fig. 2 eine schematische Seitenansicht einer Behand
lungsvorrichtung in einer ersten Behandlungspo
sition;
Fig. 3 eine schematische Seitenansicht der Behand
lungsvorrichtung in einer zweiten Behandlungs
position;
Fig. 4 eine Querschnittsansicht durch eine erste Be
handlungsstation mit einem darüber befindlichen
Substrathalter;
Fig. 5 eine schematische Querschnittsansicht durch ei
ne zweite Behandlungseinheit mit darüber be
findlichem Substrathalter.
In Fig. 1 ist eine Draufsicht auf eine Behandlungsstati
on 1 mit unterschiedlich konfigurierten Behandlungsvor
richtungen 3, 4 und 5 dargestellt. Die Darstellung von
unterschiedlich konfigurierten Behandlungsvorrichtungen
in einer Behandlungsstation dient nur als Beispiel, um
die bevorzugten Konfigurationsmöglichkeiten für die er
findungsgemäße Behandlungsvorrichtung darzustellen. In
der Regel werden in einer Behandlungsstation 1 nur eine
Konfigurationsart der Behandlungsvorrichtung verwendet.
Die Behandlungsvorrichtungen 3, 4 und 5 sind in zwei Rei
hen mit einem dazwischen befindlichen Freiraum 7 angeord
net, in dem ein Wafer-Handhabungs-Roboter 10 beweglich
angeordnet ist. An einer Stirnseite der Waferbehandlungs
station 1 sind für jede der zwei Reihen von Waferbehand
lungsvorrichtungen 3, 4, 5 je eine Waferkassette 11, 13
vorgesehen, aus denen der Wafer-Handhabungs-Roboter 10
Wafer 15 entnimmt und in Substrathalter der Behandlungs
vorrichtung 3, 4, 5 einsetzt bzw. umgekehrt Wafer 15 aus
dem Substrathalter entnimmt und in die Kassette 11 oder
13 einsetzt. Zwischen den Waferkassetten 11 und 13 ist
eine Wafer-Vorausrichtungseinheit 17 vorgesehen, auf der
ein von einer Kassette 11 oder 13 entnommener Wafer 15
zunächst abgelegt wird, um eine genaue Vorausrichtung zu
erhalten.
Die Waferbehandlungsvorrichtung 5, welche den einfachsten
Aufbau der erfindungsgemäßen Behandlungsvorrichtung
zeigt, ist schematisch in Seitenansicht in den Fig. 2
und 3 dargestellt. Die Waferbehandlungsvorrichtung 5
weist eine Metall-Plattierungsvorrichtung 20, einen mit
tels einer Hubvorrichtung 23 vertikal bewegbaren Sub
strathalter 22, sowie eine horizontal bewegbare Spül- und
Trocknungsvorrichtung 25 auf. Die Metall-Plattierungsvor
richtung 20, der Substrathalter 22 und die Spül- und
Trocknungsvorrichtung 25 werden nachfolgend unter Bezug
nahme auf die Fig. 4 und 5 näher beschrieben.
Wie in Fig. 2 zu sehen ist, kann der Substrathalter 22
in eine über der Metall-Plattierungsvorrichtung 20 be
findliche Position (siehe auch Fig. 4) abgesenkt werden,
in der eine Metall-Plattierung vorgenommen wird. Nach der
Metall-Plattierung wird der Substrathalter 22 angehoben,
und die Spül- und Trocknungsvorrichtung 25 wird zwischen
den Substrathalter 22 und die Metall-Plattierungsvorrich
tung eingefahren. Danach wird der Substrathalter 22 in
eine Position abgesenkt in der eine Spülung und Trocknung
eines in dem Substrathalter befindlichen Substrats durch
geführt wird (siehe Fig. 5). Anschließend wird der unte
re Teil 41 des Substrathalters 22 auf der Spül- und
Trocknungsvorrichtung 25 abgelegt, so daß der Wafer mit
dem Wafer-Handhabungs-Roboter 10 entnommen werden kann.
Der entnommene Wafer wird durch einen neuen Wafer er
setzt, der Substrathalter wird geschlossen und angehoben.
Die Spül- und Trocknungsvorrichtung wird aus dem Bereich
des Substrathalters 22 weggefahren und der Substrathalter
senkt dann wieder den neuen Wafer für eine Behandlung in
der Metall-Plattierungsvorrichtung 20 ab.
Die Metall-Plattierungsvorrichtung 20 ist schematisch im
Querschnitt in Fig. 4 dargestellt, wobei zur Vereinfachung
der Darstellung ein Gehäuse der Vorrichtung nicht
dargestellt ist. Über einen Anschluß 30 wird ein ein ent
sprechendes Metall, wie beispielsweise Kupfer, enthalten
des Behandlungsfluid in eine erste Kammer 31 der Behand
lungsvorrichtung eingeleitet. Oberhalb der Kammer ist ein
sich nach oben öffnender Trichter 32 angeordnet, der in
Strömungsverbindung mit der Kammer 31 steht, so daß Strö
mungsmittel durch den Trichter nach oben strömen kann.
Oberhalb des Trichters ist eine Lochplatte 33 angeordnet,
welche die nach oben gerichtet Strömung des Behandlungs
fluids homogenisiert. Über der Lochplatte 33 und beab
standet dazu, ist eine Anodenanordnung 34 vorgesehen.
Um Wiederholungen zu vermeiden wird wegen weiterer Ein
zeilheiten der Metall-Plattierungsvorrichtung 20 auf die
am selben Tag von der Anmelderin der vorliegenden Anmel
dung angemeldete Patentanmeldung mit der Anmeldenummer P 198 59 466.6
und dem Titel "Vorrichtung und Verfahren zum
Behandeln von Substraten" Bezug genommen, die insofern
zum Gegenstand der vorliegenden Anmeldung gemacht wird.
Wie aus Fig. 4 und 5 zu ersehen ist, befindet sich ober
halb der Metall-Plattierungsvorrichtung 20 ein Substrat
halter 22, der aus einem Oberteil 40 und einem ringförmi
gen bzw. der Form des Substrats angepaßten Unterteil 41
besteht, zwischen denen ein Wafer 15 eingelegt ist. Das
Oberteil 40 und das Unterteil 41 werden über ein dazwi
schen angelegtes Vakuum zusammengehalten.
Um Wiederholungen zu vermieden wird für den weiteren Auf
bau des Substrathalters 22 auf die am selben Tag von der
Anmelderin der vorliegenden Anmeldung angemeldete Patent
anmeldung mit der Anmeldenummer P 198 59 467.4 und dem Ti
tel "Substrathalter" Bezug genommen, die insofern zum Ge
genstand der vorliegenden Anmeldung gemacht wird.
Fig. 5 zeigt schematisch eine Querschnittsansicht der
Spül- und Trocknungsvorrichtung 25, wobei zur Vereinfa
chung der Darstellung bestimmte Teile, wie zum Beispiel
ein äußeres Becken der Vorrichtung, weggelassen wurden.
Die Spül- und Trocknungsvorrichtung umfaßt einen Düsen
körper 50 mit einer erhöhten Düsenplatte 51, in der eine
Vielzahl von Düsen 52 angeordnet ist. Im Zentrum der Dü
senplatte 51 ist eine Öffnung vorgesehen, in die ein Ein
satz 53 mit einer von den Düsen 52 der Düsenplatte sepa
raten, nicht näher dargestellten Düse eingesetzt ist.
Über Fluid Einlässe 54 und 55 wird ein Fluid über eine
unterhalb der Düsenplatte 51 befindliche Kammer 56 einge
leitet, welches über die Düsen 52 austritt und auf ein
darüber befindliches Substrat 15 gerichtet wird. Über ei
nen Einlaß 57 wird die in dem Einsatz 53 befindliche Düse
mit einer Spülflüssigkeit zum Spülen des Substrats 15 be
aufschlagt. Das über die Einlässe 54, 55 eingeleitete
Fluid unterscheidet sich in der Regel von der Spülflüs
sigkeit, die über den Einlaß 57 eingeleitet wird.
Wie aus Fig. 5 weiter zu ersehen ist, besitzt die Spül-
und Trocknungsvorrichtung 25 eine gegenüber der Düsen
platte 51 tiefer liegende, die Düsenplatte 51 ringförmig
umgebende Fläche 58, die mehrere Stege 59 aufweist, von
denen einer in Fig. 5 zu sehen ist. Die erhöhten Stege 59
dienen als Ablage für das Unterteil 41 des Substrathalters
22 während eines Be- und Entladens des Substrathal
ters 22.
Das Be- und Entladen des Substrathalters 22 erfolgt durch
Ablegen des Unterteils 41 des Substrathalters 22 auf den
Stegen 59, Lösendes zwischen dem Oberteil 40 und dem Un
terteil 41 wirkenden Vakuums, und Anheben des Oberteils
40, so daß der Wafer 15 nunmehr frei auf dem Unterteil 41
liegt und von dem Wafer-Handhabungs-Roboter 10 ergriffen,
bzw. durch diesen in die somit erzeugte Öffnung einge
setzt werden kann.
Um Wiederholungen zu vermeiden wird für die weiteren Ein
zelheiten bezüglich des Aufbaus und der Funktion der
Spül- und Trocknungsvorrichtung 25 auf die am selben Tag
von der Anmelderin der vorliegenden Anmeldung angemeldete
Patentanmeldung mit der Anmeldenummer P 198 56 466.6 und
dem Titel "Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von
Substraten" Bezug genommen, die insofern zum Gegenstand
der vorliegenden Anmeldung gemacht wird.
Die in Fig. 1 dargestellte Behandlungsvorrichtung 3 un
terscheidet sich von der oben beschriebenen Behandlungs
vorrichtung 5 dadurch, daß die Spül- und Trocknungsvor
richtung 25 zwischen zwei Metall-Plattierungsvorrich
tungen 20 längs verschiebbar ist, so daß die Spül- und
Trocknungsvorrichtung 25 für beide Metall-Plattierungs
vorrichtungen einsetztbar ist. Dadurch wird, bei zusätz
licher Platzersparnis, ferner eine Spül- und Trocknungs
vorrichtung 25 eingespart. Bei der Behandlungsvorrichtung
3 ist, wie in Fig. 1 zu sehen ist, die Spül- und Trocknungsvorrichtung
25 zwischen zwei Metall-Plattierungs
vorrichtungen 20 plazierbar. Es ist aber auch denkbar,
daß zwischen den Metall-Plattierungsvorrichtungen 20 kein
ausreichender Raum für die Spül- und Trocknungsvorrich
tung vorhanden ist, so daß die Spül- und Trocknungsvor
richtung abwechseln über der einen und der anderen der
beiden Metall-Plattierungsvorrichtungen 20 angeordnet
ist, d. h. sich zwischen der jeweiligen Metall-Plattier
ungsvorrichtung 20 und dem Substrathalter 22 befindet,
wodurch weiterer Platz eingespart wird.
Bei der Behandlungsvorrichtung 4 gemäß Fig. 1 ist die
Spül- und Trocknungsvorrichtung 25 schwenkbar um eine
Achse 60 angeordnet. Die Spül- und Trocknungsvorrichtung
ist jeweils über eine der zwei Metall-Plattierungsvor
richtungen 20 schwenkbar. Alternativ ist die Spül- und
Trocknungsvorrichtung auch aus dem Bereich der Metall-
Plattierungsvorrichtungen 20 heraus schwenkbar, so daß
sie keine der beiden Vorrichtungen 20 überlappt, wie es
beispielsweise in Fig. 1 dargestellt ist.
Die vorliegende Erfindung wurde anhand bevorzugter Aus
führungsbeispiele der Erfindung beschrieben, ohne jedoch
auf diese speziellen Ausführungsbeispiele beschränkt zu
sein. Insbesondere können die Behandlungsvorrichtungen
unterschiedlicher Bauart sein und für andere Prozesse
dienen. So kann zum Beispiel anstatt der Metall-Plattier
ungsvorrichtung eine Spüleinheit eine chemische Behand
lungsvorrichtung oder ähnliches vorgesehen werden. Auch
die zweite horizontal bewegliche Behandlungseinrichtung
ist nicht auf eine Spül- und Trocknungsvorrichtung beschränkt.
Beispielsweise könnte statt dessen eine reine
Trocknungseinheit oder beispielsweise eine Poliereinheit
vorgesehen werden. Auch ist es möglich, die Behandlungs
einheiten so auszubilden oder anzuordnen, daß die Wafer-
Behandlung nicht oder nicht nur von unten, sondern auch
von oben und/oder von der Seite erfolgt. Auch können mit
den Behandlungsvorrichtungen andere Substrate, wie z. B.
Glassubstrate, CD' oder DVD's anstelle der beschriebenen
Halbleiterwafer behandelt werden.
Claims (20)
1. Vorrichtung (3, 4, 5) zum Behandeln von Substraten
(15), insbesondere Halbleiterwafern, mit einer er
sten Behandlungseinheit (20), einem über der ersten
Behandlungseinheit (20) vertikal verstellbaren Sub
strathalter (22), und einer zweiten Behandlungsein
heit (25), die in einer angehobenen Position des
Substrathalters (22) zwischen den Substrathalter und
die erste Behandlungseinheit (20) bewegbar ist, da
durch gekennzeichnet, daß der Substrathalter außer
halb der ersten und zweiten Behandlungseinheiten ge
führt ist und die zweite Behandlungseinheit eintei
lig ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die zweite Behandlungseinheit (25) geradlinig
bewegbar ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die zweite Behandlungseinheit (25) verschwenkbar
ist.
4. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Behandlungs
einheit (25) eine Spülvorrichtung aufweist.
5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Behandlungs
einheit (25) eine Trocknungsvorrichtung aufweist.
6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Teil (41) des Substrathalters
(22) auf die zweite Behandlungseinheit
(20) auflegbar ist.
7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
gekennzeichnet durch eine dritte Behandlungseinheit
(20) und einen über der dritten Behandlungseinheit
vertikal verstellbaren zweiten Substrathalter (22),
wobei die zweite Behandlungseinheit (25) in einer
angehobenen Position des zweiten Substrathalters
(22) zwischen den zweiten Substrathalter (22) und
die dritte Behandlungseinheit (20) bewegbar ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die erste und dritte Behandlungseinheit (20, 20)
im wesentlichen gleich sind.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die erste und dritte Behandlungseinheit (20, 20)
unterschiedlich sind.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9, da
durch gekennzeichnet, daß die zweite Behandlungsein
heit (25) in eine zwischen der ersten und der drit
ten Behandlungseinheit (20, 20) befindliche Ruheposi
tion bewegbar ist.
11. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens die erste Be
handlungseinheit (20) eine Metall-Plattierungsein
heit ist.
12. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
gekennzeichnet durch eine Handhabungsvorrichtung
(10) zum Be- und Entladen des Substrathalters (22).
13. Verfahren zum Behandeln von Substraten (15), insbe
sondere Halbleiterwafern, mit folgenden Verfahrens
schritten:
- - Bewegen eines ein Substrat tragenden Substrat halters (22) in eine Behandlungsposition über einer ersten Behandlungseinheit (20);
- - Durchführen einer ersten Substratbehandlung;
- - Anheben des Substrathalters (22) nach der er sten Substratbehandlung;
- - Bewegen einer zweiten Behandlungseinheit (25) zwischen den angehobenen Substrathalter (22) und die erste Behandlungseinheit (20); und
- - Durchführen einer zweiten Substratbehandlung,
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet,
daß die zweite Behandlungseinheit (25) geradlinig
zwischen den angehobenen Substrathalter (22) und die
erste Behandlungseinheit (20) bewegt wird.
15. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet,
daß die zweite Behandlungseinheit (25) zwischen den
angehobenen Substrathalter (22) und die erste Be
handlungseinheit (20) geschwenkt wird.
16. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15, da
durch gekennzeichnet, daß mit der ersten Substratbe
handlung eine Metallplattierung durchgeführt wird.
17. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15, da
durch gekennzeichnet, daß mit der ersten Substratbe
handlung eine chemische Behandlung durchgeführt wird.
18. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 17, da
durch gekennzeichnet, daß mit der zweiten Substrat
behandlung eine Spülung des Substrats (15) durchge
führt wird.
19. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 18, da
durch gekennzeichnet, daß mit der zweiten Substrat
behandlung eine Trocknung des Substrats (15) durch
geführt wird.
20. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 19, da
durch gekennzeichnet, daß wenigstens ein Teil des
Substrathalters (22) zum Be- und Entladen der Sub
strate auf der zweiten Behandlungseinheit (25) abge
legt wird.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19859469A DE19859469C2 (de) | 1998-12-22 | 1998-12-22 | Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten |
PCT/EP1999/008861 WO2000038219A1 (de) | 1998-12-22 | 1999-11-18 | Vorrichtung und verfahren zum behandeln von substraten |
JP2000590198A JP2002533919A (ja) | 1998-12-22 | 1999-11-18 | 基板を処理するための装置および方法 |
EP99956014A EP1145289A1 (de) | 1998-12-22 | 1999-11-18 | Vorrichtung und verfahren zum behandeln von substraten |
KR1020017007998A KR20010089682A (ko) | 1998-12-22 | 1999-11-18 | 기판 프로세싱을 위한 장치 및 방법 |
US09/869,214 US6488987B1 (en) | 1998-12-22 | 1999-11-18 | Apparatus and method for processing substrates |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19859469A DE19859469C2 (de) | 1998-12-22 | 1998-12-22 | Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19859469A1 DE19859469A1 (de) | 2000-07-06 |
DE19859469C2 true DE19859469C2 (de) | 2002-02-14 |
Family
ID=7892265
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19859469A Expired - Fee Related DE19859469C2 (de) | 1998-12-22 | 1998-12-22 | Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6488987B1 (de) |
EP (1) | EP1145289A1 (de) |
JP (1) | JP2002533919A (de) |
KR (1) | KR20010089682A (de) |
DE (1) | DE19859469C2 (de) |
WO (1) | WO2000038219A1 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19911084C2 (de) * | 1999-03-12 | 2002-01-31 | Steag Micro Tech Gmbh | Vorrichtung zum Behandeln von Substraten |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH06163505A (ja) * | 1992-11-17 | 1994-06-10 | Nippon Steel Corp | 半導体基板の洗浄装置 |
JPH104079A (ja) * | 1996-06-18 | 1998-01-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
DE19652526A1 (de) * | 1996-04-22 | 1998-01-22 | Steag Micro Tech Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Behandeln von Substraten in einem Fluid-Behälter |
JPH10242106A (ja) * | 1997-02-26 | 1998-09-11 | Yamaha Corp | 洗浄装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4604027A (en) * | 1984-06-21 | 1986-08-05 | At&T Technologies, Inc. | Manipulator of articles and methods of moving articles over an extended distance |
JP3033009B2 (ja) * | 1994-09-09 | 2000-04-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
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EP0821395A3 (de) | 1996-07-19 | 1998-03-25 | Tokyo Electron Limited | Plasma Bearbeitungsgerät |
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KR100271764B1 (ko) * | 1997-12-24 | 2000-12-01 | 윤종용 | 반도체장치 제조용 현상 장치 및 그의 제어방법 |
-
1998
- 1998-12-22 DE DE19859469A patent/DE19859469C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-11-18 KR KR1020017007998A patent/KR20010089682A/ko not_active Application Discontinuation
- 1999-11-18 JP JP2000590198A patent/JP2002533919A/ja active Pending
- 1999-11-18 US US09/869,214 patent/US6488987B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-11-18 EP EP99956014A patent/EP1145289A1/de not_active Withdrawn
- 1999-11-18 WO PCT/EP1999/008861 patent/WO2000038219A1/de not_active Application Discontinuation
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Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Patent Abstracts of Japan & JP 06-163505 A * |
Patent Abstracts of Japan & JP 10-242106 A * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20010089682A (ko) | 2001-10-08 |
JP2002533919A (ja) | 2002-10-08 |
WO2000038219A1 (de) | 2000-06-29 |
US6488987B1 (en) | 2002-12-03 |
DE19859469A1 (de) | 2000-07-06 |
EP1145289A1 (de) | 2001-10-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |