DE3935084A1 - Verfahren und geraet zur gasregulierung in einem halogengaslaser - Google Patents

Verfahren und geraet zur gasregulierung in einem halogengaslaser

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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Gasregulierung in einem Halogengaslaser und ein Gerät dazu, und insbesondere die Einspeisung des Halogengases in das Gasregulierungsgerät.
Ein Beispiel eines Halogengaslasergeräts von diesem Typ wird in der japanischen Patentanmeldung (OPI) Nr. 63-84 183 vorgeschlagen (die Bezeichnung "OPI", wie sie oben benutzt wird, bedeutet eine "ungeprüfte veröffentlichte Anmeldung").
Ein Excimerlasergerät verwendet ArF, KrF, XeCl oder XeF als sein laseraktives Medium. In einem Excimerlasergerät wird die Pulsentladung zwischen der Anode und der Kathode in einer Mischung aus einem inerten Gas wie Ar, Kr oder Xe und einem Halogengas wie F2, NF3, Cl2 oder HCl oder einer Halogengaszusammensetzung hervorgerufen, um den Laserstrahl zu erzeugen. Die Betriebsdauer des Excimerlasergerätes wird durch Faktoren wie Verschlechterung des Lasergases, Verschlechterung der Laserreflexionsspiegel, Verschlechterung des Schaltelements, Verschlechterung des Hauptkondensators und Verschlechterung der Vorionisation, etc. ungünstig beeinflußt. Gegen jeden dieser Faktoren sind Anstrengungen unternommen worden, um die Betriebsdauer des Excimerlasergerätes zu verlängern. Da die oben erwähnten inerten Gase im allgemeinen teuer sind, ist das Excimerlasergerät so konstruiert, daß es in einer abgedichteten Röhre betrieben wird.
Da jedoch die Halogengase eine hohe chemische Reaktivität besitzen, tritt eine bemerkenswerte chemische Reaktion an den Elektroden auf, die dadurch das Gas verschlechtert.
Fig. 1 ist eine Ansicht, die das oben beschriebene Excimerlasergerät mit einem gasreproduzierenden bzw. umwälzenden System zeigt. Das in einem Laserschwingungsabschnitt 1 verwendete Halogengas wird in einer abgeschlossenen Art durch einen lasergaszirkulierenden bzw. umwälzenden Weg 2, einen Staubfilter 3, eine Umwälzpumpe 4, einen Ultraviolettstrahlen anwendenden Abschnitt 6 und eine Tieftemperatur- bzw. Kühlfalle 5 zirkuliert bzw. umgewälzt.
Fig. 2 ist eine perspektivische Teilansicht, wobei Teile weggeschnitten sind, die den Ultraviolettstrahlen anwendenden Abschnitt 6 in dem Gaszirkulationsweg zeigen. Wie in Fig. 2 gezeigt wird, sind ein Gasrohr 6 b und eine Ultraviolettstrahlen erzeugende Lampe 6 c parallel zueinander in einem elliptisch-zylindrischen reflektierenden Spiegel 6 a angeordnet, und die elektrische Leistung von einer Stromquelle 6 d wird an die Ultraviolettstrahlen erzeugende Lampe 6 c zugeführt.
Das durch den Laserschwingungsabschnitt 1 verwendete Halogengas ist eine Mischung aus Chlorwasserstoff (HCl), Xenon (Xe) und Helium (He). Die Wellenlänge des austretenden Laserstrahls ist 308 nm. Diese Gase reagieren und verändern sich in dem Elektrodenabschnitt. Ein Teil des Chlorwasserstoffgases wird in Wasserstoff (H2) und Chlorgas (Cl2) zerlegt, und als Ergebnis davon wird die Chlorwasserstoff-Gasdichte verringert und folglich die Intensität des Laserausgangs bzw. die Leistung verringert. Das verschlechterte, Wasserstoffgas und Chlorgas enthaltende Gas, das entlang des Lasergaszirkulationswegs 2 strömt, wird zu einem Staubfilter 3 geschickt, wo feste Materialien daraus entfernt werden. Das so behandelte Gas wird durch die Umwälzpumpe 4 an den Ultraviolettstrahlen anwendenden Abschnitt 6 geliefert. Wenn das Wasserstoffgas und das Chlorgas in dem Ultraviolettstrahlen anwendenden Abschnitt 6 der ultravioletten Strahlung ausgesetzt ist, reagieren sie wie folgt:
Folglich wird das Chlorwasserstoffgas HCl wiedererzeugt. Das so wiedererzeugte Gas HCl wird an die Tieftemperatur- bzw. Kühlfalle 5 geschickt, wo Verunreinigungen mit hohem Siedepunkt daraus entfernt werden. Das so behandelte Gas wird an den Laserschwingungsabschnitt 1 zurückgeführt.
Das vorgeschlagene Gasregulierungsgerät für einen Halogengaslaser ist wie oben beschrieben aufgebaut. Daher wird im Falle eines ein Chlorwasserstoffgas (HCl) als sein Halogengas verwendendes Excimerlasergerät das durch Zersetzung gebildete Wasserstoffgas (H2) und Chlorgas (Cl2) zur Wiederherstellung eines Chlorwasserstoffgases (HCl) verwendet, wobei die Betriebsdauer des Arbeitsgases einigermaßen verlängert werden kann. Andererseits tritt im Falle eines Excimerlasergeräts mit einem Fluorgas (F2) noch folgende Schwierigkeit auf: In dem Excimerlasergerät wird durch die elektrische Entladung zwischen den Elektroden ein Fluorid gebildet, und daher ist es schwierig, ein Fluorgas wiederherzustellen, um die Betriebsdauer des Lasergases zu erhöhen.
Dementsprechend ist es die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die oben beschriebenen Schwierigkeiten, die ein herkömmmliches, das Halogengas wiederherstellende Gerät begleiten, zu beseitigen. Insbesondere ist es Zweck der Erfindung, ein Verfahren zur Gasregulierung in einem Excimerlasergerät zur Aufrechterhaltung eines Fluorgases mit einem vorbestimmten Wert durch dessen Messung zu schaffen.
Weiter soll mit der Erfindung ein Halogengas wiederherstellendes Gerät geschaffen werden, in dem die Dichte des Halogengases in einem Excimerlasergerät, der ein Fluorgas verwendet, bei einem vorbestimmten Wert durch dessen genaue Messung aufrechterhalten wird, und die Instandhaltung des Gassystems dementsprechend vereinfacht wird.
Die obige und andere Aufgaben der vorliegenden Erfindung können durch Bereitstellung eines Gasregulierungssystems in einem Halogengaslasergerät erreicht werden, das entsprechend der Erfindung umfaßt: einen Filter zum Erhalt einer geringen Menge eines verschlechterten Gases aus dem stromaufwärts gelegenen Teil des Lasergaszirkulationsweges, um es in ein Gas mit niedrigem Siedepunkt umzuwandeln; und einen Gasdetektor zum Messen der Dichte des so gebildeten Gases mit niedrigem Siedepunkt, um die Halogengasdichte abzuschätzen und, wenn die Dichte niedriger als ein vorbestimmter Wert ist, ein Anweisungssignal zur Versorgung mit Halogengas auszugeben.
In dem Gasregulierungsgerät entsprechend der Erfindung wird das verschlechterte, von dem stromaufwärts gelegenen Teil des Lasergaszirkulationswegs erhaltene Gas in ein Gas mit niedrigem Siedepunkt umgewandelt und die Dichte des letzteren wird dabei gemessen, um die Halogendichte abzuschätzen. Wenn die Dichte niedriger als ein vorbestimmter Wert ist, wird Halogengas in hoher Dichte eingespeist, um die Dichte des Halogengases in dem System auf einem vorbestimmten Wert aufrechtzuerhalten.
In dem Falle, wo das Halogengas ein Fluorgas ist, liefert das Gas mit niedrigem Siedepunkt ein Wasserstoffgas (H2) und Calciumfluorid (CaF2). In diesem Fall wird z.B. die Dichte des Wasserstoffgases gemessen, um die Dichte des verschlechterten Wasserstoffgases zu messen.
Die Erfindung ist im folgenden an Ausführungsbeispielen und anhand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 ein erläuterndes Diagramm, das die Anordnung eines herkömmlich vorgeschlagenen Halogengasexcimerlasergeräts veranschaulicht;
Fig. 2 eine perspektivische Ansicht, wobei Teile weggeschnitten sind, die den Ultraviolettstrahlen anwendenden Abschnitt in dem in Fig. 1 dargestellten Lasergerät zeigen;
Fig. 3 eine erläuternde Ansicht, die die Anordnung eines Halogengasexcimerlasergeräts nach einer Ausführung der vorliegenden Erfindung darstellt.
Eine bevorzugte Ausführung der vorliegenden Erfindung wird nun mit Bezug zu Fig. 3 beschrieben. In Fig. 3 sind ähnliche Teile und Komponenten durch dieselben Bezugszeichen wie in Fig. 1 bezeichnet.
Wie in Fig. 3 gezeigt, ist ein Laserschwingungsabschnitt 1 zur Erzeugung eines Laserstrahls bei Verwendung eines Fluorgases mit einem Lasergaszirkulationsweg 2 verbunden. In dem Zirkulationsweg 2 sind ein Staubfilter 3, eine Umwälzpumpe 4 und eine Tieftemperatur- bzw. Kühlfalle 5 in der gegebenen Reihenfolge geschaffen, der daher einen Umwälz- bzw. Zirkulationskreislauf bildet, durch den das Fluorgas gereinigt und an den Laserschwingungsabschnitt 1 zurückgeführt wird. Stromaufwärts auf den Lasergaszirkulationsweg 2 folgend, ist der Verbindungspunkt des Staubfilters 3 und der Umwälzpumpe 4 mit einem Gasregulierungsweg 7 verbunden, der durch ein Magnetventil 8, einen Filter 9 und ein Magnetventil 10 mit einer Gasspeicherkammer 11 verbunden ist. Eine Vakuumpumpe 13 ist mit der Gasspeicherkammer 11 durch ein Magnetventil 12 verbunden. Die Gasspeicherkammer 11 ist auch mit einem abzweigenden Weg 14 verbunden, der durch ein Magnetventil 15 mit einem Gasdetektor 16 verbunden ist. Der Gasdetektor 16 ist in dieser Ausführung von einem auf thermischer Leitung beruhenden Typus, und er weist die Dichte von Gas nach. Entsprechend der Dichte von Gas liefert der Gasdetektor 16 ein Steuersignal zur Steuerung eines an dem Auslaß einer ersten Halogengasspeicherkammer 17 ausgebildeten Magnetventils 18, das stromabwärts zu dem Lasergaszirkulationsweg 2 geöffnet wird, und eines Magnetventils 20, das zwischen der ersten Halogenspeicherkammer 17 und einer zweiten Halogenspeicherkammer 19 geschaffen ist.
In dem Falle, wo das so aufgebaute Halogengaslasergerät ein Fluorgas (F2) als sein hauptsächliches Halogengas verwendet, kann Argongas (Ar), Kryptongas (Kr), Neongas (Ne) und Heliumgas (He) als mischendes Gas zusätzlich zu dem Fluorgas verwendet werden. Die mischenden Gase, mit Ausnahme des Fluorgases, sind inerte Gase, und daher verbinden sie sich nicht wesentlich mit anderen Materialien (Atomen), mit Ausnahme jener, die sich in dem Laserschwingungsbereich in dem elektrischen Entladungsabschnitt befinden.
Es wird jedoch die Verbindung von Material des Entladungselektrodenmetalls und Fluorgas gebildet. Z.B. wird in dem Fall, wo die Entladungselektroden aus Nickel (Ni) sind, Nickelfluorid (NiF2) gebildet. Die Reaktion von Nickel, einem Elektrodenmaterial, mit Fluorgas, ist relativ gering, jedoch nicht so gering, daß sie außer Acht gelassen werden kann. Folglich ist eine allmähliche Abnahme der Fluorgasdichte nicht vermeidbar, und dementsprechend wird die Laserabgabe bzw. Intensität langsam verringert werden.
Mit Blick auf das obige wird die Dichte des Halogengases sowie Fluorgas gemessen, und wenn die Dichte niedriger als ein vorbestimmter Wert wird, wird Gas ergänzt. Zu diesem Zweck werden zuerst die Magnetventile 8 und 15 geschlossen, während die Magentventile 10 und 12 geöffnet werden. In diesem Zustand wird die Vakuumpumpe 13 betrieben, bis ein vorbestimmter Grad von Vakuum erhalten wird. Nachdem das Vakuum den vorbestimmten Grad erreicht, werden die Magnetventile 10 und 12 geschlossen, und dann das Magnetventil 8 geöffnet. Als Folge wird das verschlechterte Gas veranlaßt, durch den Lasergaszirkulationsweg 2 und den Gasregulierungsweg 7 in den Filter 9 zu fließen. Der Filter 9 ist mit reaktivem Material 9 a gefüllt. Das reaktive Material 9 a reagiert mit dem verschlechterten Fluorgas, um ein Gas mit niedrigem Siedepunkt zu bilden. Wenn z.B. das reaktive Material 9 a Calciumhydrid (CaH2) ist, tritt die folgende Reaktion auf.
F₂ + CaH₂ → CaF₂ + H₂ (2)
Als eine Folge geht das Fluorgas verloren und ein Mischungsgas aus Argon (Ar), Krypton (Kr), Neon (Ne) und Helium (He) wird hergestellt. Danach, wenn das Magnetventil 10 geöffnet ist, wird das so hergestellte Mischungsgas in die Gasspeicherkammer 11 eingeführt und darin gespeichert. Da der Gesamtdruck des Mischungsgases in der Größenordnung von 0,3 MPa im allgemeinen in dem Excimerlasergerät mit Verwendung von Fluorgas ist, ist der Gasdruck in der Gasspeicherkammer 11 diesem Wert gleich. Wenn danach das Magnetventil 15 in einem Zustand, bei dem die Magnetventile 8, 10, 12, 18 und 20 geschlossen sind, geöffnet wird, wird das Mischungsgas veranlaßt, von der Gasspeicherkammer 11 durch den Nebenweg 14 in den Gasdetektor 16 zu fließen, und wird dann außerhalb eines Öffnung des Gasdetektors entladen. Während dieses Betriebes weist der Gasdetektor 16 die Wasserstoffgasdichte nach, die proportional zu der Fluorgasdichte ist. Wenn festgestellt wird, daß die Dichte gleich oder höher als ein vorbestimmter wird, wird nichts betrieben. Wenn andererseits die nachgewiesene Dichte weniger als ein vorbestimmter Wert ist, wird das Magnetventil 20 geöffnet. Als eine Folge wird das Fluorgas oder das Mischungsgas aus Fluorgas, Argongas, Kryptongas, Neongas (Ne) und Heliumgas aus der zweiten Halogengasspeicherkammer 19 in die erste Halogengasspeicherkammer 17 ergänzt. Die Aufnahmefähigkeit der ersten Halogengasspeicherkammer 17 ist zu 5% oder weniger in dem gesamten System des Halogengaslasergeräts festgesetzt, so daß die Zugabe von Gas den Gasdruck in dem System nicht wesentlich beeinflussen wird.
Danach betreibt der Gasdetektor 16 das Öffnen des Magnetventils 18, so daß Gas aus der ersten Halogengasspeicherkammer 17 den in Stromrichtung unten gelegenen Teil des Lasergaszirkulationswegs 2 entladen wird, und dann der Detektor das Schließen des Magnetventils 18 betreibt. So wird die Fluorgasdichte in dem System immer bei dem vorbestimmten Wert aufrechterhalten.
Der oben beschriebene Gasregelungskreislauf, bei dem die Gasdichte nachgewiesen und das Gas, wenn nötig, nach Bedarf ergänzt werden kann, kann zu jedem vorbestimmten Zeitabstand ausgeführt werden, oder er kann wenn nötig ausgeführt werden, oder vor und/oder dem Betrieb des Lasergeräts. Alternativ kann die Gasregelung in den Betriebsablauf eingeschlossen werden.
In der oben beschriebenen Ausführung kann, obwohl das Haupthalogengas Fluorgas ist, jedoch auch Chlorwasserstoffgas (HCl), Chlorgas (Cl2) oder ähnliches wahlweise benutzt werden.
Weiter kann in der oben beschriebenen Ausführung, obwohl das reaktive Material 9 a Calciumhydrid (CaH2) ist, es jedoch durch Natriumhydrogencarbonat (NaHCO3) ersetzt werden.
Weiter ist in der oben beschriebenen Ausführung der Gasdetektor von einem auf thermischer Leitung beruhenden Typus, kann jedoch z.B. durch einen Gasdetektor ersetzt werden, der zum Zeitpunkt der Entzündung bzw. Verbrennung Wärme erzeugt o.ä.
Aus der obigen Beschreibung ist es offensichtlich, daß die vorliegende Erfindung das folgende Gasregelungsgerät einschließt:
  • a) ein Gasregelungsgerät in einem Halogengasexcimerlasergerät mit Verwendung von Fluorgas, Fluorwasserstoffgas und Chlorgas als das Halogengas, bei dem, nachdem das Halogengas in ein Gas mit niedrigem Siedepunkt umgewandelt ist, die Halogengasdichte indirekt nachgewiesen wird, und entsprechend zu dem Halogengassignal neues Halogengas (noch nicht verschlechtert) in das Lasersystem eingefügt wird;
  • b) das wie in Paragraph (a) beschriebene Gasregelungsgerät, bei dem das Gas mit niedrigem Siedepunkt ein Wasserstoffgas ist;
  • c) das wie in Paragraph (a) beschriebene Gasregelungsgerät, bei dem das Verfahren zum Messen des Gases mit niedrigem Siedepunkt auf der Verbrennungswärme oder der thermischen Leitung beruht;
  • d) das wie in Paragraph (a) beschriebene Gasregelungsgerät, bei dem das Mittel zur Herstellung eines Gases mit niedrigem Siedepunkt einen mit Calciumhydrid (CaH2) oder mit Natriumhydrogencarbonat (NaHCO3) gefüllten Reaktionsfilter, und eine stromabwärts von dem Reaktionsfilter gelegene Gasspeicherkammer enthält;
  • e) das wie in Paragraph (a) beschriebene Gasregelungsgerät, bei dem das Aufnahmevermögen der Halogengasspeicherkammer 5% oder weniger als das beim gesamten System des Halogengaslasergeräts beträgt.
Wie oben beschrieben, kann mit dem Gasregelungsgerät der Erfindung die Gasdichte, die die Ausgabe des Lasergeräts bestimmt, mit hoher Genauigkeit nachgewiesen werden, und daher kann die Halogengasdichte in dem System des Gaslasergeräts auf einem vorbestimmten Wert aufrechterhalten werden. Daher kann die Aufrechterhaltung des Gaslasergeräts mit Leichtigkeit erreicht werden, d.h., das Gaslasergerät kann für eine lange Zeitdauer wartungsfrei betrieben werden.

Claims (22)

1. Gasregelungsgerät in einem ein Halogengas verwendenden Halogengasexcimerlasergerät, gekennzeichnet durch:
  • - Mittel zum Schwingen eines Lasers;
  • - Mittel zum Umwälzen des Halogengases, wobei die umwälzenden Mittel mit den laserschwingenden Mitteln in Verbindung stehen;
  • - Mittel zur Steuerung eines Flusses von in den Halogengas umwälzenden Mitteln zirkulierendem Halogengas;
  • - Mittel zur Speicherung von neuem Halogengas, wobei die neues Halogengas speichernden Mittel mit den umwälzenden Mitteln verbunden sind;
  • - Mittel zur Umwandlung des Halogengases in ein Gas mit niedrigem Siedepunkt; und
  • - Mittel zum Erfassen einer Dichte des Gases mit niedrigem Siedepunkt, wobei diese erfassenden Mittel mit den umwälzenden Mitteln verbunden sind, wobei die die Dichte erfassenden Mittel ein Signal an die neues Halogengas speichernde Mittel ausgeben, wenn die Dichte niedriger als ein vorbestimmter Wert ist, wodurch das neue Halogengas den umwälzenden Mitteln zugeführt wird.
2. Gasregelungsgerät in einem Halogengasexcimerlasergerät, gekennzeichnet durch:
  • - einen Laserschwingungsabschnitt;
  • - einen Weg zur Umwälzung eines Halogengases, wobei dieser Weg mit dem Laserschwingungsabschnitt verbunden ist;
  • - mit dem Weg verbundene Ventilmittel;
  • - eine stromabwärts von dem Lasergas umwälzenden Weg geöffnete Halogengasspeicherkammer;
  • - einen stromaufwärts mit dem Lasergas umwälzenden Weg in Verbindung stehenden Gasregelungsweg;
  • - einen Filter zum Filtern des durch den Gasregelungsweg geflossenen Halogengases, wobei dieser Filter ein Gas mit niedrigem Siedepunkt entläßt; und
  • - einen Gasdetektor zum Erfassen einer Dichte von dem aus dem Filter entlassenen Gas mit niedriger Dichte, wobei der Gasdetektor ein Signal an die Halogengas speichernde Kammer ausgibt, wodurch ein in dieser Kammer gespeichertes Halogengas stromabwärts von dem umwälzenden Weg bereitgestellt wird, wenn die Dichte dieses Gases mit niedrigem Siedepunkt niedriger als ein vorgegebener Wert eingeschätzt wird.
3. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Halogengas Fluorgas enthält.
4. Gasregelungsgerät nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein inertes Gas dem Fluorgas zugemischt ist.
5. Gasregelungsgerät nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das inerte Gas eine Gruppe umfaßt, die aus Argongas, Kryptongas, Neongas und Heliumgas besteht.
6. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Halogengas Chlorwasserstoffgas enthält.
7. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Halogengas Chlorgas enthält.
8. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gas mit niedrigem Siedepunkt ein Wasserstoffgas enthält.
9. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Filter ein Reaktionsmaterial darin enthält.
10. Gasregelungsgerät nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Reaktionsmaterial Calciumhydrid enthält.
11. Gasregelungsgerät nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Reaktionsmaterial Natriumhydrogencarbonat enthält.
12. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Gasdichtedetektor von einem Typ mit thermischer Leitung ist.
13. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Gasdichtedetektor zur Zeit der Verbrennung Wärme erzeugt.
14. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der gesamte Druck des Halogengases in der Größenordnung von 0,3 MPa ist.
15. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Halogengasspeicherkammer eine Aufnahmefähigkeit besitzt, die 5% oder weniger der des gesamten Systems des Lasergeräts beträgt.
16. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Gasregelungsbetrieb zu jedem vorbestimmten Intervall bzw. Zeitabschnitt ausgeführt wird.
17. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Gasregelungsbetrieb ausgeführt wird, wenn er nötig ist.
18. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Gasregelungsbetrieb vor dem Betrieb des Lasergeräts ausgeführt wird.
19. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Gasregelungsbetrieb nach dem Betrieb des Lasergeräts ausgeführt wird.
20. Gasregelungsgerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Gasregelungsbetrieb in die Betriebsabfolge eingeschlossen ist.
21. Verfahren zur Regelung eines Gases in einem Halogengasexcimerlasergerät, gekennzeichnet durch folgende Schritte:
  • - Umwandeln des Halogengases in ein Gas mit niedrigem Siedepunkt;
  • - Erfassen einer Dichte des Gases mit niedrigem Siedepunkt, und
  • - Zuführen von neuem Halogengas in das Gerät in Übereinstimmung mit dem Erfassungsergebnis.
22. Verfahren zur Regelung eines Gases nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß das neue Halogengas zugeführt wird, wenn die Dichte des Gases mit niedrigem Siedepunkt niedriger als ein vorbestimmter Wert ist.
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