DE3933896C1 - - Google Patents
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- DE3933896C1 DE3933896C1 DE3933896A DE3933896A DE3933896C1 DE 3933896 C1 DE3933896 C1 DE 3933896C1 DE 3933896 A DE3933896 A DE 3933896A DE 3933896 A DE3933896 A DE 3933896A DE 3933896 C1 DE3933896 C1 DE 3933896C1
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- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 29
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 28
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 25
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 11
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 6
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 235000019589 hardness Nutrition 0.000 description 12
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 6
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- MFEVGQHCNVXMER-UHFFFAOYSA-L 1,3,2$l^{2}-dioxaplumbetan-4-one Chemical compound [Pb+2].[O-]C([O-])=O MFEVGQHCNVXMER-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000521 B alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 Fluoride ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910000003 Lead carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/10—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium characterised by the organic bath constituents used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
- C25D5/12—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
- C25D5/14—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium two or more layers being of nickel or chromium, e.g. duplex or triplex layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum unmittelbaren oder mittelbaren
Abscheiden einer hochkorrosionsbeständigen technischen Hartchromschicht
auf der Oberfläche eines Werkstückes aus Metall aus einem wäßrigen,
Chromsäure und Sulfationen enthaltenden Arbeitselektrolyten bei einer
konstanten kathodischen Stromdichte, dessen Stromausbeute durch einen
Zusatz von zumindest einer gesättigten, aliphatischen Sulfonsäure
mit maximal zwei Kohlenstoffatomen und maximal sechs Sulfonsäuregruppen
und/oder einen Zusatz von deren Salzen oder Halogenderivaten
optimiert ist, und wobei die Hartchromschicht eine Dicke von zumindest
2 µm und eine Mindesthärte von 900 HV 0,1 nach DIN ISO 4516 aufweist.
Die Sulfonsäure kann auch in dem Elektrolyten durch chemische
oder elektrochemische Reaktionen geeignete Ausgangsstoffe gebildet
werden. - Bei den Werkstücken handelt es sich vorzugsweise um solche
aus Stahl, Aluminium oder Kupfer.
In bezug auf die Optimierung der
Stromausbeute durch die genannten Zusätze wird auf die DE-PS
34 02 554 verwiesen. Stromausbeute bezeichnet das Verhältnis der
praktischen zur theoretischen Metallabscheidung an der Kathode.
Sie ist bei dem Verfahren des vorstehend beschriebenen grundsätzlichen
Aufbaus durch die Menge des Zusatzes optimierbar. Es
versteht sich, daß der Arbeitselektrolyt im übrigen nach Maßgabe
unterschiedlicher Verchromungsaufgaben und angepaßter Betriebsbedingungen
verändert werden kann, und zwar auch durch übliche
Zusätze anderer Zweckbestimmungen oder durch einen Aufbau mit zusätzlichen
Fluoridionen oder Fluorokomplexen. Stets muß jedoch die
beschriebene Optimierung der Stromausbeute durchführbar sein, die
zwar im Falle des Einsatzes von Fluorverbindungen weniger stark
ausgeprägt sein kann als im Falle von Elektrolyten ohne Fluorverbindungen.
Vorzugsweise wird im Rahmen der Erfindung mit einem
Arbeitselektrolyten ohne Fluorverbindungen gearbeitet. Die technische
Hartchromschricht dient der technisch-funktionellen Verchromung von
Werkstücken aus Metall, insbesondere aus Stahl oder aus einer Aluminiumlegierung.
Sie wird meistens unmittelbar auf den Grundwerkstoff
aufgebracht. Es können aber auf dem Grundwerkstoff auch vorab
Unterschichten aus Kupfer, Kupferlegierungen, Nickel, Zink, Zinklegierungen
oder stromlos abgeschiedene Nickel/Phosphor- oder Nickel/
Bor-Legierungen aufgebracht sein. Auch hinsichtlich üblicher Schichtdicken
unterscheidet sich eine technische Hartchromschicht von dekorativem
Glanzchrom, welches im Schichtdickenbereich von lediglich
0,2 bis 2 µm angewendet wird. Hartchromschichten sind dicker. In
der Praxis beginnt die technische Hartverchromung bei 2 µm. Häufig
ist der Bereich von 5 bis 100 µm. Solche Schichten dienen als Verschleiß-
und Korrosionsschutz. In gewissen Fällen werden auch technische
Hartchromschichten aufgebracht, deren Dicke bis in den Millimeterbereich
reicht. So können verschlissene Bauteile durch eine Hartchrombeschichtung
gleichsam aufgearbeitet werden.
Im Rahmen der bekannten Maßnahmen, von denen die Erfindung ausgeht
(DE-PS 34 02 554), wird bei der Abscheidung mit Gleichstrom
gearbeitet. Mit Gleichstrom lassen sich aus dem Arbeitselektrolyten
des eingangs beschriebenen grundsätzlichen Aufbaus bzw. eines wie
angegeben variierten Aufbaus glänzende Hartchromüberzüge abscheiden.
Dabei wird vielfach darauf geachtet, daß der Gleichstrom eine
Restwelligkeit kleiner als 5% aufweist, da bei zu hoher Restwelligkeit
mehr oder weniger matte Niederschläge entstehen können, deren
Härte nachteilig abnimmt. Die im Rahmen der bekannten Maßnahmen
erzeugten Hartchromschichten zeigen feine Risse bei großer Rißdichte,
sie sind also mikrorissig. Ihre Korrosionsbeständigkeit ist befriedigend,
jedoch verbesserungsfähig.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das eingangs beschriebene
Verfahren so zu führen, daß die Korrosionsbeständigkeit der Hartchromschicht
weiter verbessert wird, - und zwar bei nach wie vor
möglichst hoher Stromausbeute.
Zur Lösung dieser Aufgabe lehrt die Erfindung, daß bei der Abscheidung
mit gepulstem Gleichstrom einer Pulsfrequenz im Bereich zwischen
einer unteren, von der gewählten kathodischen Stromdichte abhängigen
kritischen Pulsfrequenz F U und einem oberen, von der optimierten
Stromausbeute bei gleicher Stromdichte abhängigen kritischen Pulsfrequenzpunkt
F O gearbeitet wird, wobei die untere kritische Pulsfrequenz
F U für den Arbeitselektrolyten dadurch bestimmt wird, daß
die Pulsfrequenz/Stromdichte-Kurve meßtechnisch aufgenommen wird,
unterhalb der eine Abscheidung mit einer geringeren als der Mindesthärte
und oberhalb der eine glänzende, rißfreie Abscheidung mit einer
größeren als der Mindesthärte erfolgt, wobei der obere kritische Pulsfrequenzpunkt
F O für den Arbeitselektrolyten dadurch bestimmt wird,
daß bei der gleichen Stromdichte für die optimierte Stromausbeute
die Stromausbeute/Pulsfrequenz-Kurve meßtechnisch aufgenommen wird,
und zwar bis zu dem oberen kritischen Pulsfrequenzpunkt F O, an dem
bei zunehmender Pulsfrequenz die glänzende, rißfreie Abscheidung
in eine zunehmend rissige Abscheidung übergeht, und daß in dem
Bereich zwischen der unteren kritischen Pulsfrequenz F U und dem
oberen kritischen Pulsfrequenzpunkt F O die Einschaltdauer des gepulsten
Gleichstromes so niedrig gewählt wird, daß eine glänzende,
praktisch rißfreie Abscheidung erfolgt. Unterhalb der Pulsfrequenz/
Stromdichte-Kurve erfolgt eine für Hartverchromungszwecke wegen zu
geringer Härte kaum brauchbare Abscheidung. Sie erscheint im allgemeinen
matt und rauher als glänzende Abscheidungen. Sie ist häufig
auch rissig oder mikrorissig. Einschaltdauer bezeichnet die Summe
der Pulszeiten bezogen auf die gesamte Behandlungszeit des Werkstückes
in dem Elektrolyten. Sie wird in Prozent angegeben. Praktisch
rißfrei bedeutet, daß die Anzahl der Risse im Vergleich zu der Anzahl
der Risse bei den bekannten glänzenden Hartchromabscheidungen
verschwindend klein ist, und daß die Risse die Phänomenologie der
Abscheidung korrosionstechnisch praktisch nicht mehr beeinflußt. Nach
bevorzugter Ausführungsform der Erfindung wird im Rahmen der vorstehend
angegebenen Grundlehre in einem kathodischen Stromdichtebereich
von 10 bis 1200 A/dm² gearbeitet, wie es auch im Rahmen
der bekannten Maßnahmen, die mit Gleichstrom arbeiten, üblich ist,
jedoch ist erfindungsgemäß der arithmetische Mittelwert der Stromdichte
des gepulsten Gleichstromes gemeint. Im Rahmen der Erfindung
liegt die kathodische Stromausbeute zumeist im Bereich von 10 bis
25%. Erfindungsgemäß besteht die Möglichkeit, die Hartchromabscheidung
mehrschichtig vorzunehmen, und zwar derart, daß zuerst eine
rißfreie Hartchromschicht und darauf, ohne Unterbrechung, aus dem
gleichen Arbeitselektrolyten eine glänzende, rissige Hartchromschicht
abgeschieden wird. Um diese Abscheidung der zweiten feinrissigen
bis mikrorissigen Schicht zu bewirken, sind lediglich die Parameter
so zu wählen, daß die vorstehend angegebene Grundlehre und der daraus
resultierende Bereich zwischen der unteren kritischen Pulsfrequenz
F U und dem oberen kritischen Pulsfrequenzpunkt F O verlassen werden.
Um dieses zu bewirken, und um darüber hinaus für einen vorgegebenen
Arbeitselektrolyten die Pulsfrequenz/Stromdichte-Kurve sowie
die Stromausbeute/Pulsfrequenz-Kurve aufzunehmen, empfiehlt die Erfindung,
daß mit einer Stromquelle gearbeitet wird, bei der die Stromdichte,
die Pulsfrequenz und die Einschaltdauer variierbar sind. Es
versteht sich, daß im Rahmen der Erfindung mit den verschiedenen
Pulsformen gearbeitet werden kann.
Grundsätzlich ist es bekannt, bei der Hartchromabscheidung mit gepulstem
Gleichstrom zu arbeiten (vgl. T. Pearson, J. C. Dennis, "Effect
of pulsed current on the properties of electrodeposited chromium",
Vortrag gelegentlich des 12th World Congress Of Surface Finishing
vom 4. bis 7. Oktober 1988 in Paris). Dabei wurden auch mehr oder
weniger glänzende, praktisch rißfreie Abscheidungen erzielt. Es wurde
jedoch im Rahmen der bekannten Maßnahmen zur Erzielung der mehr
oder weniger glänzenden, praktisch rißfreien Abscheidungen mit sehr
neidrigen Pulsfrequenzen im Bereich von 16 bis 500 Hz gearbeitet,
die Reproduzierbarkeit ist nicht gesichert. Arbeitet man nach der
Lehre der Erfindung, so liegt die Pulsfrequenz zumeist im Bereich
von 500 bis 5000 Hz. Die Einschaltdauer liegt zumeist im Bereich von
30 bis 70%.
Die erreichten Vorteile sind darin zu sehen, daß erfindungsgemäß
reproduzierbar die eingangs definierten Hartchromschichten erzeugt
werden können, die bei üblichen Hartchrom-Schichtdicken glänzend
und praktisch rißfrei sind und gleichzeitig mit verhältnismäßig
hoher kathodischer Stromausbeute abgeschieden werden. Von besonderem
Vorteil ist die Tatsache, daß zusätzlich eine Hartchromschicht aufgebracht
werden kann, die eine feinrissige bis mikrorissige Deckverchromung
darstellt und häufig aus Gründen besserer Gleiteigenschaften
gewünscht wird. Das Rißnetzwerk wirkt dabei wie Öltaschen.
An den Ergebnissen ändert sich nichts, wenn der gepulste Gleichstrom
durch integrierte, anodisch wirkende Impulsstromanteile modifiziert
wird, solange deren Pulsfrequenz sehr klein ist und deren Stromdichte
nicht zu groß ist.
Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß zur Abscheidung einer
glänzenden, praktisch rißfreien, hochkorrosionsfesten Hartchromschicht
aus einem Arbeitselektrolyten des eingangs beschriebenen grundsätzlichen
Aufbaus drei Voraussetzungen erfüllt sein müssen, nämlich
- a) die Pulsfrequenz muß um so höher sein, je größer die für den Verchromungsvorgang gewählte kathodische Stromdichte ist,
- b) die Pulsfrequenz darf jedoch in bezug auf die optimierte Stromausbeute nicht zu hoch sein,
- c) die Einschaltdauer muß ausreichend weit vom Gleichstrombetrieb entfernt gewählt werden.
Die Erfindung gibt zu a) und b) eindeutige Kriterien an. Die entsprechende
Einschaltdauer gemäß c) läßt sich unschwer durch Versuche
ermitteln.
Im folgenden wird die Erfindung anhand von graphischen Darstellungen
und eines Ausführungsbeispiels ausführlicher erläutert. Dabei
zeigt
Fig. 1 eine Kurve der kritischen Pulsfrequenz in Abhängigkeit von
der Stromdichte,
Fig. 2 eine Kurve der optimierten Stromausbeute in Abhängigkeit
von der Pulsfrequenz,
Fig. 3 Tabellen 1 und 2 zu einem speziellen Ausführungsbeispiel.
In der Fig. 1 wurde für einen speziellen, erfindungsgemäß aufgebauten
Arbeitselektrolyten eine Pulsfrequenz/Stromdichte-Kurve qualitativ
dargestellt. Auf der Ordinatenachse wurde die Pulsfrequenz aufgetragen,
auf der Abszissenachse die Stromdichte als arithmetischer
Mittelwert. Unterhalb der dargestellten Kurve, die mit der Stromdichte
ansteigt, erhält man Hartchromabscheidungen in matter, rissiger oder
rißfreier Form mit einer geringeren als der Mindesthärte. Oberhalb
der Kurve erhält man rißfreie, glänzende Hartchromabscheidungen
mit einer größeren als der Mindesthärte. Die Kurve gibt daher in
Abhängigkeit von der Stromdichte die untere kritische Pulsfrequenz
F U an. Als Parameter erscheint an der Kurve die Einschaltdauer E.
Andere Einschaltdauern führen zu den anderen Kurven, wie es die
in Fig. 1 gestrichelte Kurvenschar andeutet. - Wenn mit t₁ die Dauer
eines idealen rechteckigen Stromimpulses und mit t₂ die Dauer der
Strompause bezeichnet wird, so gilt für die Pulsfrequenz
F=1/(t₁+t₂) in Hz. Die Einschaltdauer ist definiert als
E=100 · t₁/(t₁+t₂) in Prozent. - Es versteht sich, daß die Pulsfrequenz/Stromdichte-Kurve nur so weit aufgenommen wird, wie eine
eindeutige Abhängigkeit der kritischen Pulsfrequenz von der Stromdichte
besteht.
In der Fig. 2 wurde für den gleichen Elektrolyten eine ausgewählte
Stromdichte i₁ sowie die gleiche Einschaltdauer E der in Fig. 1 ausgezogen
gezeichneten Kurve für eine spezielle Abscheidungsaufgabe
eine Stromausbeute/Pulsfrequenz-Kurve qualitativ dargestellt, wobei
die Stromausbeute, wie angegeben, durch die Menge des Zusatzes von
zumindest einer gesättigten, aliphatischen Sulfonsäure mit maximal
zwei Kohlenstoffatomen und maximal sechs Sulfonsäuregruppen und/
oder einem Zusatz von deren Salzen oder Halogenderivaten optimiert
wurde. Die Ordinatenachse zeigt die Stromausbeute, auf der Abszissenachse
wurde die Pulsfrequenz aufgetragen. Man erkennt in der Kurve
der optimierten Stromausbeute einen oberen kritischen Pulsfrequenzpunkt
F O. Jenseits dieses Punktes F O wurde die Kurve strichpunktiert
fortgeführt, um anzudeuten, daß man jenseits dieses Punktes eine
zunehmend rissige Abscheidung erhält. Andere gewählte Stromdichten
und andere Einschaltdauern führen zu anderen Kurven. So entsteht
eine Kurvenschar, wie sie in Fig. 2 gestrichelt gezeichnet angedeutet
ist.
Stets kann in einem Bereich zwischen F U und F O die Einschaltdauer
so gewählt werden, daß glänzende, praktisch rißfreie Hartchromschichten
üblicher Dicke mit einer größeren als der Mindesthärte entstehen.
Die Erfahrung zeigt, daß der Bereich zwischen F U und F O aufgeweitet
werden kann, wenn die Schichtdicke des Hartchromüberzuges
möglichst gering gehalten wird. Mit anderen Worten wird die Möglichkeit
der rißfreien Abscheidung immer dann besonders gut, wenn
mit nicht zu großen Sichtdicken gearbeitet wird. Arbeitet man mit
sehr niedrigen kathodischen Stromdichten, z. B. 10 bis 20 A/dm²,
so werden sogar hochgänzende, rißfreie Chromüberzüge erreicht,
die auch als dekorativer Glanzchrom gut geeignet sind.
Ein Elektrolyt für die Abscheidung einer Hartchromschicht auf der
Oberfläche eines Werkstückes aus Stahl wurde wie folgt aufgebaut:
Chromsäure als CrO₃|300 g/l | |
Schwefelsäure | 1,3% (bezogen auf den CrO₃-Gehalt) |
Ammoniumfluoroctansulfonat | 10 mg/l (als Netzmittel) |
Anoden | PbSn5 oder platiniertes Titan bzw. platiniertes Pd-legiertes Titan |
Im Falle des Einsatzes platinierter Anoden wird dem Elektrolyten
zusätzlich 1 g/l Bleicarbonat beigegeben. Der Elektrolyt zeigte in
dieser Zusammensetzung bei Gleichstrombetrieb der Abscheidung eine
kathodische Stromausbeute von 16%. Die kathodische Stromausbeute wurde
durch Zusatz von 3,2 g/l einer gesättigten, aliphatischen Sulfonsäure
mit einem Kohlenstoffatom und einer Sulfonsäuregruppe, wie dargelegt,
optimiert, und zwar auf 27%. In beiden Fällen betrug die kathodische
Stromdichte 50 A/dm² und die Elektrolyttemperatur 55°C.
Danach wurde auf eine Abscheidung mit gepulstem Gleichtrom umgestellt,
und es wurden für verschiedene Einschaltdauern bestimmte noch zu
erläuternde Pulsfrequenz/Stromdichte-Kurven aufgenommen. Im einzelnen
wurde dazu wie folgt vorgegangen:
Auf Kolbenstangen von 7 mm Durchmesser aus dem Werkstoff C 45 k
- feingeschliffen und gebürstet mit einer Rauhtiefe R z kleiner
1,5 µm - wird Hartchrom abgeschieden, nachdem sie zuvor nach üblichen
galvanotechnischen Regeln gereinigt und entfettet wurden. Dabei wird in
Abhängigkeit von der jeweils eingestellten gemittelten kathodischen
Stromdichte bei vorgegebener Einschaltdauer E des Pulses diejenige
kritische Pulsfrequenz F u in Abhängigkeit von der Stromdichte
bestimmt, bei der die Abscheidung vom matten Aussehen mit Härten
kleiner 900 HV 0,1 in ein glänzendes Aussehen mit Härten größer 900 HV
0,1 übergeht. Bei allen Versuchen wird die Elektrolyttemperatur bei
55°C gehalten. Die abgeschiedene Schichtdicke der Hartchromüberzüge
beträgt jeweils ca. 25 µm.
Es versteht sich, daß der Übergangsbereich vom matten in das glänzende
Aussehen fließend ist, zumal die tatsächlichen örtlichen kathodischen
Stromdichten infolge der Werkstückgeometrie unvermeidbar variieren. Die
zu bestimmenden kritischen Pulsfrequenzen F u stellen also Mittelwerte
in diesem Übergangsbereich dar. Dabei wird für den erfindungsgemäßen
glänzenden Bereich der Hartchromabscheidung gleichzeitig lichtmikroskopisch
der Rißzustand (rissig oder rißfrei) geprüft.
Fig. 1 zeigt die so aufgenommene Pulsfrequenz/Stromdichte-Kurvenschar
schematisch.
Für eine spezielle durchzuführende Hartverchromung wurde entsprechend
der Werkstückoberfläche eine rechnerische mittlere kathodische Stromdichte
von 50 A/dm² gewählt. Daraus ergibt sich gemäß Fig. 1 für
eine Einschaltdauer von 50% eine untere kritische Pulsfrequenz F u=
1000 Hz.
Für diese ausgewählte kathodische Stromdichte wurde die Stromausbeute/
Pulsfrequenz-Kurve aufgenommen unter Beibehaltung der Einschaltdauer
zumindest bis zum oberen kritischen Pulsfrequenzpunkt F o, bei dem
die Hartverchromung zwar weiterhin glänzend mit Härten größer
900 HV 0,1 ausfällt, aber wiederum rissig wird. Durch Variation der
Stromdichte und/oder der Einschaltdauer erhält man eine Stromausbeute/
Pulsfrequenz-Kurvenschar mit den jeweiligen oberen kritischen
Pulsfrequenzpunkten.
Diese Stromausbeute/Pulsfrequenz-Kurvenschar ist in Fig. 2 schematisch
dargestellt. Im einzelnen wurde zur Ermittlung dieser Kurvenschar
wie folgt vorgegangen:
Die Abscheidung erfolgt auf Kolbenstangen in gleicher Weise wie für
Fig. 1 mit Schichtstärken von ca. 25 µm. Die Ermittlung der kathodischen
Stromausbeute als Verhältnis der praktischen zur theoretischen
Metallabscheidung an der Kathode in % erfolgt dabei durch Wägung der
abgeschiedenen Chrommenge sowie Messung der hierfür aufgewendeten
Ampere-Minuten. Die Berechnung über das Abscheidungsäquivalent nach
Faraday ist jedem Fachmann bekannt.
Die lichtmikroskopische Feststellung des beginnenden rissigen Zustands
am oberen kritischen Pulsfrequenzpunkt F o kann Schwierigkeiten
bereiten. Eine sichere Aussage wurde durch Korrosionsbeständigkeitsuntersuchungen
im Salzsprühtest (DIN 50 021-SS, ASTM B 117-73 oder ISO
3768-1976) erhalten. Es ist nämlich jedem Fachmann bekannt, daß ca.
25 µm starke mit Gleichstrom abgeschiedene Hartchromüberzüge nur
Beständigkeiten kleiner 100 h im Salzsprühtest erreichen, wenn der
Überzug glänzend und rissig oder mikrorissig ist. Ergeben sich nun
unter Pulsbedingungen deutlich höhere Standzeiten im Salzsprühtest, so
ist dies ein Beweis für die praktische Rißfreiheit solcher Überzüge.
Die Tabelle 1 in Fig. 3 bezieht sich auf das obige Beispiel mit
der mittleren kathodischen Stromdichte 50 A/dm² bei einer Einschaltdauer
von 50% und der Elektrolyttemperatur 55°C. Sie offenbart
den günstigen Pulsfrequenz-Arbeitsbereich für glänzende, praktisch
rißfreie und damit hochkorrosionsbeständige Hartverchromungen.
Die Tabelle 1 zeigt, daß für jede Pulsfrequenz im Bereich zwischen
der unteren kritischen Pulsfrequenz F u=1000 Hz und der oberen
kritischen Pulsfrequenz F o=4000 Hz die Regel gilt, daß bei der
angegebenen Stromdichte im angegebenen Pulsfrequenzbereich die Einschaltdauer
so niedrig gewählt werden kann, daß eine glänzende, praktisch
rißfreie und hochkorrosionsbeständige Hartchromabscheidung der
verlangten Härte entsteht.
Die Tabelle 2 in Fig. 3 zeigt dagegen, daß jedoch rissige Hartchromschichten
mit weitaus schlechterer Korrosionsbeständigkeit entstehen, wenn man im
angegebenen Pulsfrequenzbereich die Einschaltdauer zu groß wählt. Aus
der Tabelle 1 ist ferner ersichtlich, daß rissige Überzüge auch
dann erhalten werden, wenn mit einer Pulsfrequenz gearbeitet wird, die
außerhalb des angegebenen Pulsfrequenzbereiches liegt.
Die Versuche wurden mit anderen Stromdichten wie 40 A/dm² oder
60 A/dm² wiederholt. Die vorstehende Regel wurde bestätigt. Die
vorstehende Regel wurde auch bei Versuchen mit Elektrolyten anderer
Zusammensetzung bestätigt.
Wie bereits dargelegt können Einstellungen einer zu hohen Einschaltdauer
und/oder einer zu hohen Pulsfrequenz, die zu glänzenden, aber rissigen
Abscheidungen führen, dazu benutzt werden, auf der glänzenden und
praktisch rißfreien Unterschicht eine glänzende, rissige Deckschicht
möglichst ohne Stromunterbrechung abzuscheiden. Auf diese Weise lassen
sich also Doppelhartchromschichten mit besseren Gleiteigenschaften
herstellen. Wird eine Einschaltdauer E=100% eingestellt, so bedeutet
dies, daß die Abscheidung der Deckschicht mit Gleichstrom erfolgt.
Der Zusatz der Alkylsulfonsäure, der zur Optimierung der
kathodischen Stromausbeute beigegeben wird, wirkt bei Abscheidungen mit
gepulstem Gleichstrom außerdem im hohen Maße glanzverbessernd, solange
Arbeitsbedingungen oberhalb der unteren kritischen Pulsfrequenz F u
eingehalten werden. Ein Mangel an diesem Zusatz macht sich - abgesehen
von zu niedrigen kathodischen Stromausbeuten - auch durch einen nachlassenden
Glanz des Hartchromüberzuges bemerkbar.
Bei der schon erwähnten Herstellung von Doppelschichten liegt es im
Rahmen der Erfindung, daß über eine strommengen- oder zeitabhängige,
schichtdickenanaloge, frei programmierbare Messung
die Pulsfrequenz und/oder die Einschaltdauer des gepulsten
Gleichstromes mit frei wählbarer Regelgeschwindigkeit automatisiert
zu solch höheren Pulsfrequenzen bis 5000 Hz oder darüber und/
oder zu solch höheren Einschaltdauern bis 100% einschließlich verschoben
werden, daß sich im weiteren Abscheidungsverlauf rissige
Abscheidungen anstelle von rißfreien Abscheidungen ergeben, wobei
nach Ende der Verchromung die anfänglichen Werte bezüglich der
Pulsfrequenz und/oder der Einschaltdauer automatisch zur Vorbereitung
des nächsten Verchromungszyklus wieder eingeregelt werden.
Claims (7)
1. Verfahren zum unmittelbaren oder mittelbaren Abscheiden einer
hochkorrosionsbeständigen technischen Hartchromschicht auf der Oberfläche
eines Werkstückes aus Metall aus einem wäßrigen, Chromsäure
und Sulfationen enthaltenden Arbeitselektrolyten bei einer konstanten
kathodischen Stromdichte, dessen Stromausbeute durch einen Zusatz
von zumindest einer gesättigten, aliphatischen Sulfonsäure mit maximal
zwei Kohlenstoffatomen und maximal sechs Sulfonsäuregruppen und/oder
einen Zusatz von deren Salzen oder Halogenderivaten optimiert ist,
und wobei die Hartchromschicht eine Dicke von zumindest 2 µm und
eine Mindesthärte von 900 HV 0,1 nach DIN ISO 4516 aufweist,
dadurch gekennzeichnet, daß bei der Abscheidung
mit gepulstem Gleichstrom einer Pulsfrequenz im Bereich
zwischen
einer unteren, von der gewählten kathodischen Stromdichte abhängigen kritischen Pulsfrequenz (F U) und einem oberen, von der optimierten Stromausbeute bei gleicher Stromdichte abhängigen kritischen Pulsfrequenzpunkt (F O)
gearbeitet wird, wobei die untere kritische Pulsfrequenz (F U) für den Arbeitselektrolyten dadurch bestimt wird, daß die Pulsfrequenz/ Stromdichte-Kurve meßtechnisch aufgenommen wird, unterhalb der eine Abscheidung mit einer geringeren als der Mindesthärte und oberhalb der eine glänzende, rißfreie Abscheidung mit einer größeren als der Mindesthärte erfolgt, wobei der obere kritische Pulsfrequenzpunkt (F O) für den Arbeitselektrolyten dadurch bestimmt wird, daß bei der gleichen Stromdichte für die optimierte Stromausbeute die Stromausbeute/ Pulsfrequenz-Kurve meßtechnisch aufgenommen wird, und zwar bis zu dem oberen kritischen Pulsfrequenzpunkt (F O), an dem bei zunehmender Pulsfrequenz die glänzende, rißfreie Abscheidung in eine zunehmend rissige Abscheidung übergeht, und daß in dem Bereich zwischen der unteren kritischen Pulsfrequenz (F U) und dem oberen kritischen Pulsfrequenzpunkt (F O) die Einschaltdauer des gepulsten Gleichstromes so niedrig gewählt wird, daß eine glänzende, praktisch rißfreie Abscheidung erfolgt.
einer unteren, von der gewählten kathodischen Stromdichte abhängigen kritischen Pulsfrequenz (F U) und einem oberen, von der optimierten Stromausbeute bei gleicher Stromdichte abhängigen kritischen Pulsfrequenzpunkt (F O)
gearbeitet wird, wobei die untere kritische Pulsfrequenz (F U) für den Arbeitselektrolyten dadurch bestimt wird, daß die Pulsfrequenz/ Stromdichte-Kurve meßtechnisch aufgenommen wird, unterhalb der eine Abscheidung mit einer geringeren als der Mindesthärte und oberhalb der eine glänzende, rißfreie Abscheidung mit einer größeren als der Mindesthärte erfolgt, wobei der obere kritische Pulsfrequenzpunkt (F O) für den Arbeitselektrolyten dadurch bestimmt wird, daß bei der gleichen Stromdichte für die optimierte Stromausbeute die Stromausbeute/ Pulsfrequenz-Kurve meßtechnisch aufgenommen wird, und zwar bis zu dem oberen kritischen Pulsfrequenzpunkt (F O), an dem bei zunehmender Pulsfrequenz die glänzende, rißfreie Abscheidung in eine zunehmend rissige Abscheidung übergeht, und daß in dem Bereich zwischen der unteren kritischen Pulsfrequenz (F U) und dem oberen kritischen Pulsfrequenzpunkt (F O) die Einschaltdauer des gepulsten Gleichstromes so niedrig gewählt wird, daß eine glänzende, praktisch rißfreie Abscheidung erfolgt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in einem
kathodischen Stromdichtebereich von 10 bis 1200 A/dm² gearbeitet
wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß in einem kathodischen Stromausbeutebereich von 10 bis
25% gearbeitet wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß mit einer Pulsfrequenz im Bereich von 500 bis 5000 Hz gearbeitet
wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß mit einer Einschaltdauer des gepulsten Gleichstromes von
30 bis 70% gearbeitet wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß zuerst eine rißfreie glänzende Hartchromschicht und darauf,
vorzugsweise ohne Unterbrechung, im gleichen Elektrolyten eine glänzende,
rissige Hartchromschicht abgeschieden wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet,
daß mit einer Stromquelle gearbeitet wird, bei der die Stromdichte,
die Pulsfrequenz und die Einschaltdauer variierbar sind.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3933896A DE3933896C1 (de) | 1989-10-11 | 1989-10-11 | |
GB9021528A GB2236763B (en) | 1989-10-11 | 1990-10-03 | A process for the direct or indirect deposition of a highly corrosion resisting technical hard chromium plating layer |
ES9002531A ES2023577A6 (es) | 1989-10-11 | 1990-10-05 | Procedimiento para la deposicion indirecta o directa de una capa tecnica de cromo duro, muy estable frente a la corrosion. |
FR9012326A FR2652825B1 (fr) | 1989-10-11 | 1990-10-05 | Procede pour realiser le depot direct ou indirect d'une couche technique de chrome dur, tres resistante a la corrosion. |
JP2270685A JPH03207884A (ja) | 1989-10-11 | 1990-10-11 | 高耐食性の工業用硬質クロム層を直接的又は間接的に析出させる方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3933896A DE3933896C1 (de) | 1989-10-11 | 1989-10-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3933896C1 true DE3933896C1 (de) | 1990-10-11 |
Family
ID=6391241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3933896A Expired - Lifetime DE3933896C1 (de) | 1989-10-11 | 1989-10-11 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03207884A (de) |
DE (1) | DE3933896C1 (de) |
ES (1) | ES2023577A6 (de) |
FR (1) | FR2652825B1 (de) |
GB (1) | GB2236763B (de) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4011201C1 (en) * | 1990-04-06 | 1991-08-22 | Lpw-Chemie Gmbh, 4040 Neuss, De | Coating workpiece with chromium for improved corrosion resistance - comprises using aq. electrolyte soln. contg. chromic acid sulphate ions, and fluoro:complexes to increase deposition |
WO1992007117A1 (de) * | 1990-10-20 | 1992-04-30 | Ina Wälzlager Schaeffler Kg | Bauteil aus stahl mit galvanisch aufgebrachter korrosionsschutzschicht |
EP0668375A1 (de) * | 1994-02-18 | 1995-08-23 | INDUSTRIALE S.r.l. | Verfahren zur Herstellung galvanischer Dispersionsüberzüge von Hartchrom sowie auf diese Weise hergestellte verschleissfeste Überzüge |
DE4430923A1 (de) * | 1994-08-31 | 1996-03-07 | Schaeffler Waelzlager Kg | Galvanisches Chrombad |
USRE35860E (en) * | 1991-06-05 | 1998-07-28 | Mpb Corporation | Corrosion-resistant zinc-nickel plated bearing races |
DE10006151A1 (de) * | 2000-02-11 | 2001-09-06 | Heinz Busch | System mit einem Träger und einer Hartstoffbeschichtung |
EP1191129A2 (de) * | 2000-08-29 | 2002-03-27 | SOQI Inc. | Verfahren zur Metallplattierung |
DE19953318B4 (de) * | 1998-11-06 | 2004-09-30 | Tokico Ltd., Kawasaki | Chromplattierte Teile und Chromplattierungsverfahren |
USRE40386E1 (en) | 1998-11-06 | 2008-06-17 | Hitachi Ltd. | Chrome plated parts and chrome plating method |
US10851464B1 (en) | 2015-05-12 | 2020-12-01 | Hitachi Automotive Systems, Ltd. | Method for producing chromium plated parts, and chromium plating apparatus |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5670265A (en) * | 1990-10-20 | 1997-09-23 | Ina Walzlager Schaeffler Kg | Steel component with an electroplated anti-corrosive coating and process for producing same |
JPH05161904A (ja) * | 1991-12-12 | 1993-06-29 | Mishima Kosan Co Ltd | 冷間圧延用ロール |
US5352266A (en) * | 1992-11-30 | 1994-10-04 | Queen'university At Kingston | Nanocrystalline metals and process of producing the same |
US20070068821A1 (en) | 2005-09-27 | 2007-03-29 | Takahisa Hirasawa | Method of manufacturing chromium plated article and chromium plating apparatus |
DE102004019370B3 (de) * | 2004-04-21 | 2005-09-01 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Herstellung einer strukturierten Hartchromschicht und Herstellung einer Beschichtung |
KR20220043575A (ko) | 2020-09-29 | 2022-04-05 | 주식회사 원탑플레이팅 | 크롬 도금 부품의 제조 방법 및 크롬 도금 장치 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3402554C2 (de) * | 1984-01-26 | 1987-09-10 | Lpw-Chemie Gmbh, 4040 Neuss, De |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3232854A (en) * | 1959-06-05 | 1966-02-01 | Diamond Alkali Co | Chromium plating |
US4092226A (en) * | 1974-12-11 | 1978-05-30 | Nikolaus Laing | Process for the treatment of metal surfaces by electro-deposition of metal coatings at high current densities |
DE2604628A1 (de) * | 1976-02-06 | 1977-08-11 | Rosenloecher Claus | Verfahren zur unmittelbaren galvanischen hartverchromung von nickel |
JPS5914977B2 (ja) * | 1978-07-27 | 1984-04-06 | 三菱電機株式会社 | 温度制御装置 |
US4789437A (en) * | 1986-07-11 | 1988-12-06 | University Of Hong Kong | Pulse electroplating process |
JPS6332874A (ja) * | 1986-07-24 | 1988-02-12 | Matsushita Electric Works Ltd | 蓄電池の温度センサ取付構造 |
IT1216808B (it) * | 1987-05-13 | 1990-03-14 | Sviluppo Materiali Spa | Processo di elettrodeposizione in continuo di cromo metallico e di ossido di cromo su superfici metalliche |
IT1215985B (it) * | 1988-03-04 | 1990-02-22 | Elca Srl | Procedimento elettrochimico per la realizzazione di rivestimenti di cromo e metalli simili mediante corrente pulsante ad inversione periodica della polarita' |
-
1989
- 1989-10-11 DE DE3933896A patent/DE3933896C1/de not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-10-03 GB GB9021528A patent/GB2236763B/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-10-05 ES ES9002531A patent/ES2023577A6/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-05 FR FR9012326A patent/FR2652825B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1990-10-11 JP JP2270685A patent/JPH03207884A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3402554C2 (de) * | 1984-01-26 | 1987-09-10 | Lpw-Chemie Gmbh, 4040 Neuss, De |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
PEARSON, T., DENNIS, J.: Vortrag Effect of pulsed current on the properties of electro- deposited chromium, veröffentlicht in Recueil des Conferences Proceedings, tome 2, S. 407- 416, zum 12th World Congress of Surface Finishing, 4.-7. Oktober 1988 in Paris * |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4011201C1 (en) * | 1990-04-06 | 1991-08-22 | Lpw-Chemie Gmbh, 4040 Neuss, De | Coating workpiece with chromium for improved corrosion resistance - comprises using aq. electrolyte soln. contg. chromic acid sulphate ions, and fluoro:complexes to increase deposition |
WO1992007117A1 (de) * | 1990-10-20 | 1992-04-30 | Ina Wälzlager Schaeffler Kg | Bauteil aus stahl mit galvanisch aufgebrachter korrosionsschutzschicht |
USRE35860E (en) * | 1991-06-05 | 1998-07-28 | Mpb Corporation | Corrosion-resistant zinc-nickel plated bearing races |
EP0668375A1 (de) * | 1994-02-18 | 1995-08-23 | INDUSTRIALE S.r.l. | Verfahren zur Herstellung galvanischer Dispersionsüberzüge von Hartchrom sowie auf diese Weise hergestellte verschleissfeste Überzüge |
DE4430923A1 (de) * | 1994-08-31 | 1996-03-07 | Schaeffler Waelzlager Kg | Galvanisches Chrombad |
DE19953318B4 (de) * | 1998-11-06 | 2004-09-30 | Tokico Ltd., Kawasaki | Chromplattierte Teile und Chromplattierungsverfahren |
USRE40386E1 (en) | 1998-11-06 | 2008-06-17 | Hitachi Ltd. | Chrome plated parts and chrome plating method |
DE10006151A1 (de) * | 2000-02-11 | 2001-09-06 | Heinz Busch | System mit einem Träger und einer Hartstoffbeschichtung |
EP1191129A2 (de) * | 2000-08-29 | 2002-03-27 | SOQI Inc. | Verfahren zur Metallplattierung |
EP1191129A3 (de) * | 2000-08-29 | 2006-05-17 | SOQI Inc. | Verfahren zur Metallplattierung |
US10851464B1 (en) | 2015-05-12 | 2020-12-01 | Hitachi Automotive Systems, Ltd. | Method for producing chromium plated parts, and chromium plating apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB9021528D0 (en) | 1990-11-14 |
GB2236763B (en) | 1993-11-17 |
ES2023577A6 (es) | 1992-01-16 |
FR2652825A1 (fr) | 1991-04-12 |
GB2236763A (en) | 1991-04-17 |
FR2652825B1 (fr) | 1993-12-24 |
JPH03207884A (ja) | 1991-09-11 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |