DE3932063A1

DE3932063A1 - Lochmaske fuer eine farb-kathodenstrahlroehre

Info

Publication number: DE3932063A1
Application number: DE3932063A
Authority: DE
Inventors: Takeo Fujimura
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 1989-01-27
Filing date: 1989-09-26
Publication date: 1990-08-02
Anticipated expiration: 2009-09-27
Also published as: JPH02199745A; JPH0824034B2; DE3932063C2; US4973879A

Description

Die Erfindung betrifft eine Lochmaske für eine Farb-Kathoden strahlröhre.

Eine Farb-Kathodenstrahlröhre mit einer Lochmaske weist einen Leuchtschirm auf, der eine Vielzahl von leuchtenden Streifen hat, die in regelmäßigen Abständen zueinander parallel angeordnet sind, weiterhin ist eine Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung vorhanden, die auch als Elektronenkanone zu bezeichnen und gegenüber von dem Leuchtschirm angeordnet ist, und es ist weiterhin eine Lochmaske vorgesehen, welche eine Vielzahl von Elektronenstrahllöchern aufweist (nachfolgend einfach als "Löcher" bezeichnet), welche in einer vorgegebenen relativen Beziehung zu den leuchtenden Streifen angeordnet ist. Die Lochmaske ist im Innenraum der Kathodenstrahlröhre im wesentlichen parallel zu und benachbart zu dem Leuchtschirm angeordnet.

Die Stromdichte (nämlich die Anregungsdichte) in einem bestimm ten Abschnitt des Elektronenstrahls, welcher von der Elektro nenkanone aus projiziert wird, ist nicht immer konstant und hat gewöhnlich eine Gauß′sche Verteilung oder eine Dichte- Verteilung, welche einer derartigen Verteilung angenähert ist. Der Elektronenstrahl wird durch ein Ablenkjoch abgelenkt, welches an der Außenseite der Röhre der Farb-Kathodenstrahl röhre benachbart zu dem Elektronenkanonenpunkt der Elektronen kanone angebracht ist und dann tritt der Elektronenstrahl in die Lochmaske in der Weise ein, daß Abtastlinien oder Abtast zeilen senkrecht zu den Leuchtstreifen in regelmäßigen Abstän den gebildet werden.

Ein Teil des Elektronenstrahls geht durch die Löcher hindurch, welche in der Lochmaske vorhanden sind und gelangt auf den Leuchtschirm so daß dort in selektiver Weise leuchtende Streifen erzeugt werden, welche Licht emittieren.

Jedes der Löcher in der Lochmaske hat eine rechteckige Form außerdem eine im wesentlichen konstante Länge und wird durch eine Brücke unterteilt, welche in der Richtung senkrecht zu den Abtastlinien oder Abtastzeilen eine im wesentlichen kon stante Breite aufweist. Diese Löcher sind in einer Flucht im wesentlichen parallel zu den leuchtenden Streifen angeordnet und stehen in einer bestimmten Beziehung zu diesen Streifen, so daß dadurch für jede Linie oder Zeile eine Lochgruppe gebildet wird. In jeder der Lochgruppen sind Brücken vorgesehen, so daß die relativen Zwischenräume oder Abstände P _S der Löcher in den jeweiligen Linien oder Zeilen im wesentlichen konstant sind.

Die Brücken sind an den Schnittpunkten der Achsen der Loch gruppen vorgesehen, und eine Mehrzahl von parallelen Linien, welche senkrecht zu den Linien der Lochgruppen verlaufen. Dies bedeutet daß auf der Lochmaske eine Mehrzahl von Loch gruppen in Linien angeordnet sind und eine Mehrzahl von parallelen Linien senkrecht zu den Achsen dieser Löcher vor handen ist, wie es oben beschrieben wurde. Diese Achsen und die parallelen Linien bilden ein imaginäres Gitter auf der Lochmaske und die Brücken sind an den Schnittpunkten des imaginären Gitters angeordnet. Wenn die parallelen Linien oder Zeilen in einem vorgegebenen Abstand P _A=P _S/2 vorhanden sind, wird eine Brücke zuerst an einen Schnittpunkt angeordnet und weitere Brücken werden in Reihen an Schnittpunkten diagonal zu dem vorher genannten Schnittpunkt angeordnet. In diesem Falle sind in Bezug auf die angrenzenden Löcher die Brücken in einem Abstand von P _A angeordnet.

Auf diese Weise sind alle Brücken regelmäßig auf der Lochmaske angeordnet, und zwar mit einer Periodizität in der axialen Richtung der Löcher. Wenn bei dieser Anordnung die Abtastlinien oder Abstastzeilen welche durch den Elektronenstrahl gebil det werden, in regelmäßigen Abständen auf der Lochmaske an geordnet sind, ist die Menge oder der Betrag des Elektronen strahls welcher durch jedes Loch der Lochmaske hindurchgeht, in verschiedenen Löchern unterschiedlich und daher sind die Mengen oder Beträge der Lichtemission der fluoreszierenden Substanz bei den einzelnen Löchern voneinander verschieden. Insgesamt treten Interferenz-Streifen in einem Abstand auf, welcher größer ist als der Abstand der Löcher P _S in der axialen Richtung und der Abschnitt P _B der Abtastlinien oder Abtastzeilen. Diese Interferenz-Streifen werden als Moir´ oder auch als Moir´-Muster bezeichnet, welches manchmal eine extreme Ungleichförmigkeit in der Periode oder der Intensi tät der Lichtemission hervorruft, so daß dadurch die Bild qualität stark leidet. Die Entstehung eines Moir´s oder eines Moir´-Musters wird nachfolgend leicht analytisch erläutert.

Zunächst wird die Verteilung der Anregungsdichte auf einem Leuchtschirm für den Fall erläutert, daß der Elektronenstrahl ohne Lochmaske auf dem Leuchtschirm auftrifft. Wenn derjenige Punkt, an welchem der Elektronenstrahl auf den Leuchtschirm auftrifft, als Anregungspunkt bezeichnet wird, bewegen sich die Anregungspunkte linear in einer Richtung (diese Richtung wird als Richtung X bezeichnet), und zwar auf Grund der Ab tastung des Elektronenstrahls, so daß dadurch eine Abtastlinie oder Abtastzeile entsteht. Die Abtastzeilen sind in regel mäßigen Abständen in der Richtung (diese Richtung wird als Richtung Y bezeichnet) angeordnet, welche senkrecht zu der Richtung X verläuft so daß dadurch ein Feld gebildet wird. Eine Wiederholung dieser Vorgänge läßt ein Bild auf dem Bild- oder Leutchtschirm entstehen.

Die Anregungsdichte, welche auf dem Leuchtschirm zu erzeugen ist, der keine Lochmaske hat, ist bei der Abtastung der Abtast zeilen für jeden Wert von Y in der Richtung X konstant, wenn der Elektronenstrahlstrom konstant ist, hat jedoch in der Richtung Y gemäß der Darstellung in Fig. 9 eine Periodizität. Wenn angenommen wird, daß die Periodizität eine Anregungs dichte-Verteilungsfunktion T _B (Y) ist, so wird die Funktion T _B (Y) durch die folgende Gleichung (1) dargestellt, welche durch eine Fourier-Reihen-Verteilung erreicht wird:

wobei P _B den Abstand zwischen den Abtastzeilen darstellt, welche in regelmäßigen Intervallen oder Abständen angeordnet sind. Es ist hier angenommen, daß eine Abtastzeile ausgewählt wird und deren Mitte bei Y=0 festgelegt wird und alle Ab tastzeilen eine in Bezug auf die Mittellinien der entsprechen den Verlängerungen eine symmetrische Anregungsdichte-Verteilung haben. Die Funktionen B ₀, B ₁... sind Konstanten, welche aus der Anregungsdichte des Abschnittes des stationären Elektronen strahls oder dergleichen berechnet wurden.

Die Fig. 10A und 10B sind schematische Darstellungen des periodischen Mosaik-Musters des Leuchtschirms und des licht emittierenden Abschnittes einer herkömmlichen Farb-Kathoden strahlröhre mit einer Lochmaske.

Ein lichtemittierender Abschnitt 1, wie er in dar Fig. 10A dargestellt ist, hat eine in wesentlichen rechteckige Form und entspricht einem (nicht dargestellten) Loch einer Loch maske. In jeder Zeile sind die lichtemittierenden Abschnitte 1 durch solche Abschnitte 2 unterteilt, die kein Licht emittie ren und die den Brücken der Lochmaske entsprechen und in einem regelmäßigen Abstand P _S in der Richtung Y angeordnet sind.

Die relative Position zwischen dem lichtemittierenden Abschnitt 1 und dem Abschnitt 2, welcher kein Licht emittiert wird im wesentlichen durch die Spezifikation des Loches der Lochmaske festgelegt welche zwischen dem Leuchtschirm und der Elektro nenkanone angeordnet ist, auf Grund der Struktur der Farb- Kathodenstrahlröhre, wie es an sich bekannt ist.

Diese relative Position wird etwas vergrößert auf den Leucht schirm projiziert. Genau genommen ist die Spezifikation des lichtemittierenden Bereiches 1 und des Bereichs 2, welcher kein Licht emittiert, nicht die Spezifikation der Lochmaske selbst, hat jedoch im wesentlichen dieselbe Bedeutung. Zur Vereinfachung wird nachfolgend die Dikussion auf der Lochmaske durch die Diskussion auf dem Leuchtschirm ersetzt. Mit anderen Worten, der lichtemittierende Abschnitt 1 entspricht dem Loch der Lochmaske und der Abschnitt 2, welcher kein Licht emittiert, entspricht der Brücke zwischen den Löchern.

Der Abstand P _S entspricht dem Zwischenraum zwischen den Brücken, die in der Richtung Y auf der Lochmaske angeordnet sind.

Wenn der Elektronenstrahl auf der Oberfläche der Lochmaske mit einer konstanten Elektronen-Energie auftrifft (Anregungsdichte), geht ein Teil davon durch die Löcher hindurch und bringt den Leuchtschirm dazu, Licht zu emittieren. Hierbei wird angenommen, daß die Leuchtdichte oder Lumineszenz an einem Punkt des Leucht schirms (welche im wesentlichen der Durchlässigkeit der Loch maske an dem Punkt entspricht, welcher den Punkt des Leucht schirms zugeordnet ist) die Strahlungsausbeute oder Lichtaus beute dieses Punktes des Leuchtschirmes ist.

Die Strahlungsausbeuten an jedem Wert von Y werden über die Breite von X gemittelt, welche ausreichend größer ist die Zwischenräume zwischen den Linien oder Zeilen der Lochgruppen der Lochmaske.

Die auf diese Weise bestimmte Strahlungsausbeute T _A (Y) ist eine periodische Funktion von 1/2 des Abstandes oder Zwischen raumes P _S, nämlich P _A zwischen den benachbarten Brücken in derselben Linie oder Zeile. T _A (Y) wird durch die folgende Gleichung (2) dargestellt, welche durch eine Fourier-Verteilung erreicht wird:

wobei die Ordinate Y dieselbe ist wie in der Gleichung (1).

Die durchschnittliche Leuchtdichte oder Lumineszenz L(Y) jedes Punktes des Leuchtschirmes welcher Licht emittiert, wenn der Leuchtschirm durch den Elektronenstrahl angeregt wird, läßt sich folgendermaßen ableiten und darstellen.

Es wird angenommen daß die Leuchtdichte oder Lumineszenz bei einem Wert von Y, welcher über die Breite über von X gemittelt ist, welche ausreichend größer ist als der Zwischenraum zwischen den Linien oder Zeilen der Lochgruppen der Lochmaske, eine durchschnittliche Leuchtdichte oder Lumineszenz bei dem Wert von Y ist und die Funktion L(Y) wiedergegeben wird. Die Funk tion L(Y) ergibt sich als das Produkt aus der Anregungsdichte- Verteilung T _B (Y) auf dem Leuchtschirm, der mit keiner Lochmaske ausgestattet ist, welche durch die Gleichung (1) dargestellt ist, und der durchschnittlichen Strahlungsausbeute T _A (Y), welche durch die Gleichung (2) dargestellt ist. Somit ergibt sich:

In der Gleichung (3) stellt der erste Term die durchschnittliche Leuchtdichte oder Lumineszenz des Leuchtschirmes dar, der zweite Term die Verteilung der lichtemittierenden Abschnitte des Leuchtschirms, nämlich das Muster der Lichtemission selbst, welches von der Verteilung der Löcher auf der Lochmaske ab hängt, und der dritte Term stellt das Muster der Abtastlinien oder Abtastzeilen selbst dar.

Der vierte Term kann in folgende Formel umgewandelt werden:

Die zwei periodischen Funktionsterme, welche (m/P _A+n/P _B) in der Gleichung (4) enthalten sind, welche Funktionen der Abstandsperiode sind (regelmäßiger Abstand), und zwar kleiner als jedes Muster der Verteilung der Löcher auf der Lochmaske und jedes Muster der Abtastzeilen, stellen kein Problem dar, jedoch führen die periodischen Funktionsterme, welche (m/P _A-n/P _B) enthalten, welche periodische Funktionen sind, die eine Möglichkeit mit sich bringen, daß ein sehr großer Abstand entsteht, zu einem großen Streifenmuster, welches mit dem bloßen Auge zu sehen ist und sich in der Richtung X erstreckt, und zwar in Abhängigkeit von dem Abstand und der Amplitude, so daß ein sogenanntes Moir´-Muster entsteht wodurch der Leuchtschirm sehr undeutlich wird. Obwohl nach der oben niedergelegten Erläuterung in den Gleichungen (2) und (3) T _A (Y) und L(Y) sehr große Werte in verhältnismäßig weiten Bereichen von X annehmen, sind zwei Zeilen von Lochgruppen praktisch ausreichend, um den Durchschnittswert in einer Lochmaske bisher hauptsächlich zu bestimmen, wie es auch aus der Fig. 9 anschaulich hervorgeht. Derselbe angeregte Zustand wird in der Richtung X in Intervallen oder Abständen von zwei Zeilen wiederholt, so daß ein weiteres Streifen muster entsteht, welches sich in der Richtung X ausdehnt.

Der Term, welcher in der Gleichung (4) ein Moir´ erzeugt, kann folgendermaßen umgeformt und dargestellt werden:

wobei

α _m = (A²_m + A²_0m)^1/2

Dies bedeutet, die Amplitude der Lichtintensität ist α _mB_n/2 und die Teilung oder der Abstand ist

P _AP_B/(mP_B-nP _A) (7)

Dieses Muster ist unterschiedlich, in Abhängigkeit von den Werten von m und n wenn (m, n) bestimmt wird, ist auch das Muster bestimmt. Nunmehr wird angenommen, daß das Moir´ welches einem bestimmten Paar von (m, n) entspricht, ein Moir´ des Modus (m, n) ist.

Die Werte α _m und B _n sind im allgemeinen im Bereich von m=1 bis 5 und n=1 bis 5 von Bedeutung. Da jedoch die Werte α _m und B _n im allgemeinen abnehmen, wenn die Werte m und n zunehmen ist die Betrachtung aller Kombinationen von m und n im Bereich von m+n 6 ausreichend. Mit anderen Worten, eine allgemeine Farb-Kathodenstrahlröhre mit einer Lochmaske muß so gebaut sein, daß sie keine hinderlichen Moir´-Muster dieser Modus-Arten aufweist.

Um eine Farb-Kathodenstrahlröhre derart zu entwerfen, daß sie keine störenden Moir´-Muster aufweist, können zwei wesentliche Maßnahmen in Betracht gezogen werden, die jedoch jeweils die folgenden Probleme aufwerfen.

Eine erste Maßnahme besteht darin, den Zwischenraum oder Ab stand zwischen den Brücken der Lochmaske in Bezug auf dieje nigen Bereiche in den Fig. 10A und 10B, welche kein Licht emittieren, derart einzustellen, daß der regelmäßige Abstand eines Moir´-Musters so klein und unauffällig wie möglich wird. Genauer gesagt der regelmäßige Abstand eines Moir´s wird durch P _AP_B/(m P _B-n P _A) dargestellt, so daß der Zwischenraum P _A zwischen den Brücken P _S so bestimmt wird, daß kein sehr großer Wert des Moir´-Abstandes in dem oben beschriebenen Bereich von m und n auftritt, mit anderen Worten, es soll die Möglichkeit ausgeschlossen werden daß m P _B=n P _A auch nur annähernd er füllt ist.

In einer gewöhnlichen Farb-Kathodenstrahlröhre mit einer Loch maske ist der Zwischenraum P _B zwischen den Abtastzeilen im allgemeinen als Betriebsbedingung zu bezeichnen. Daher wird P _A, nämlich der Zwischenraum zwischen Lochmaskenbrücken in geeigneter Weise in Bezug auf den vorgegebenen Wert P _B gewählt, so daß das Moir´ eines beliebigen Modus keinen so großen Abstand aufweist, daß er stören würde.

Diese Methode ist relativ ausführlich beispielsweise von A.M. Morrell et al auf den Seiten 50 bis 62 in dem Buch "Color Television Picture Tubes" (Academic Press Inc. New York und London, 1974) beschrieben worden.

Es sind jedoch für eine Methode, welche den regelmäßigen Abstand eines Moir´-Musters soweit wie möglich dadurch ver mindert, daß der Abstand der Brücke in der Richtung Y in geeigneter Weise gewählt wird, Grenzen der Wirksamkeit ge setzt.

Es sind beispielsweise, genau genommen, die Abstände oder Zwischenräume P _B zwischen den Abtastzeilen einer gewöhnlichen Farb-Kathodenstrahlröhre nicht konstant und ändern sich in einem bestimmten Bereich durch eine leichte Veränderung eines Regelzustandes oder einer Versorgungsspannung.

Es ist auch notwendig, dafür zu sorgen, daß das Moir´-Muster selbst dann nicht stört, wenn die Kathodenstrahlröhre in verschiedenen Systemen angewandt wird, beispielsweise bei NTSC und PAL, in welchen die Anzahl der Abtastzeilen 525 bzw. 625 beträgt. Wenn P _A so gewählt wird daß der Abstand eines Moir´-Musters bei einem speziellen Modus so weit vermindert wird, daß keine störende Wirkung mehr auftritt, dann kann P _A für einen Abstand eines Moir´-Musters von zumindest einem weiteren Modus eine Störung darstellen.

Allgemein gesprochen wenn der Abstand P _A der Brücken in der Richtung Y gewählt wird, wird der Bereich von P _A in Bezug auf den vorgegebenen Abstand P _B der Abtastzeilen grob be stimmt und es wird angenommen daß derjenige Punkt, an welchem der Abstand des Moir´-Musters eines Modus der von Bedeutung ist, wenn ein verhältnismäßig großer Wert als P _A eingestellt wird, demjenigen Abstand des Moir´-Musters eines Modus gleicht, der von Bedeutung ist, wenn ein verhältnismäßig kleiner Wert als P _A eingestellt wird der Kompromiß-Wert P _A ist. Dieser Kompromiß ist jedoch oft unvollständig und wenn die Charak teristik in dem Falle, in welchem der Abstand P _B zwischen den Abtastzeilen verändert wird, in Betracht gezogen wird, ist die endgültige Charakteristik allgemein sehr unbefriedi gend.

Eine zweite Maßnahme, eine Farb-Kathodenstrahlröhre so zu gestalten, daß ein Moir´-Muster nicht als Störung in Erschei nung tritt, besteht darin die Größe α _m in der Gleichung (5) auf einen vernachlässigbar kleinen Wert zu vermindern, wobei α _m einer der Gründe dafür ist, daß die Amplitude α _m B _n/2 der Lichtintensität eines Moir´s ansteigt. In Gleichung (5) ist α _m durch A _m und A _0m in Gleichung (2) bestimmt. Da sowohl A _m als auch A _0m die Phasenbeziehung der Lochanord nung darstellen und die Anordnung der Abtastzeilen auf der Lochmaske, tritt allgemein ein wesentliches Problem auf.

Mit anderen Worten, A _m und A _0m stellen die Größe der m-ten höheren Harmonischen in der periodischen Funktion dar, welche die durchschnittliche Strahlungsausbeute in der Richtung Y wiedergibt, welche durch die Anordnung der Löcher der Loch maske bestimmt wird, nämlich in einem bestimmten Bereich der Richtung X, dargestellt durch α _m.

Als Mittel zur Verminderung von α _m sind einige Methoden be kannt geworden.

Beispielsweise wird gemäß der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 32 596/1973 und der japanischen Offenlegungsschrift Nr. 33 473/1977 der Abstand zwischen den Brücken die zwischen den Löchern auf der Lochmaske vorhanden sind, in jeder Zeile konstant gehalten, die Abweichung P _A vom Abstand zwischen den Brücken in der angrenzenden Zeile wird auf einen anderen Wert als P _S/2 eingestellt, wie es in den Fig. 10A und 10B veranschaulicht ist, und dasselbe Muster wird in der Richtung X in Intervallen von zwei bis zu mehreren Zeilen wiederholt. Das Maß der Abweichung kann in einer Mehrzahl von Wiederholungs werten bestehen.

Nach dieser Methode ist es in der Tat möglich, einen speziel len Wert von α _m zu null werden zu lassen, es werden jedoch Muster, die voneinander etwas verschieden sind, in der Rich tung X in Intervallen von zwei oder mehreren Zeilen von Lochgruppen auf der Lochmaske wiederholt, oder es werden zumindest solche Muster, welche denselben Zustand in jeweils zwei oder mehreren Zeilen annehmen, in der Richtung Y bei jedem Abstand P _S wiederholt.

Mit anderen Worten, ein bestimmtes Muster einer bestimmten Größe wird periodisch wiederholt, und die entsprechende Erscheinung wird von einer hinreichend empfindlichen Beobachtungsperson als eine Zumutung für das Auge empfunden.

Ein weiteres Verfahren besteht darin, die Brücken statistisch anzuordnen und zwar unter Berücksichtigung des Umstandes, daß die regelmäßige Anordnung der Brücken auf der Lochmaske ein Moire-Muster hervorruft. Wenn die Brücken statistisch angeordnet werden, gilt die Gleichung (2) nicht, so daß dadurch ein Moir´-Muster verhindert wird. Diese Methode wird beispielsweise in den japanischen Offenlegungsschriften 744/1975, 40 072/1976 und 1 07 063/1976 beschrieben. Es ist jedoch erforderlich, bei der statistischen Anordnung der Brücken darauf zu achten, daß der Abstand zwischen den Brücken in einer Zeile einen vorgegebenen Wert nicht über schreitet, weil nämlich dann, wenn der Abstand größer als ein vorgegebener Wert wäre, mit anderen Worten, ein Loch einer Lochmaske eine größere Längsausdehnung hätte als einem vorgegebenen Wert entspricht, ein Problem in der Festigkeit der Lochmaske auftreten würde.

Wenn der Zwischenraum zwischen den Brücken der Löcher auf einer Lochmaske zu klein wäre, würde das Bild auf dem Bild schirm in diesem Bereich auch sehr dunkel. Weiterhin würde dann, wenn die Positionen der Brücken in den benachbarten Zeilen der Lochgruppen sehr eng nebeneinander liegen würden, d. h. sehr eng benachbarte Werte in den Y-Koordinaten annehmen würden das Bild auf dem Bildschirm im entsprechenden Bereich sehr dunkel, und wegen der geringen Brückendichte in der Umgebung würde ein Problem in der Festigkeit der Lochmaske entstehen.

Bei den oben beschriebenen bekannten Beispielen werden der statistischen Anordnung oder der Zufallsanordnung von Brücken daher bestimmte Grenzen gesetzt, um die oben beschriebenen Nachteile zu vermeiden, und es ergibt sich das Ergebnis, daß eine vollkommen statistische Anordnung unmöglich ist.

Die statistische Anordnung von Brücken wird im allgemeinen auch durch eine Ungleichförmigkeit auf Grund von Rauschen begleitet, es entsteht nämlich eine unregelmäßige Durchläs sigkeitsverteilung, die visuell zu beobachten ist und die allgemein als "Pfeffer und Salz", als Schnee oder als Sommer sprossen bezeichnet wird. Die statistische Anordnung von Brücken, mit den oben beschriebenen Restriktionen, hat eine geringere Wirkung im Hinblick auf die Beseitigung eines Moir´- Musters im Verhältnis zu dem Rauschen, welches durch die ungleichförmige Position der Brücken hervorgerufen wird, und es hat diese Methode daher bei der praktischen Anwendung einige Probleme.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die oben be schriebenen Probleme beim Stand der Technik zu überwinden und eine Farb-Kathodenstrahlröhre mit einer Lochmaske zu schaffen, welche eine neuartige Anordnung von Brücken hat die dazu in der Anlage ist, ein Moir´-Muster eines bestimmten Modus unschädlich zu machen, nämlich den Wert von α _m in Bezug auf einen speziellen Wert von m zu vermindern.

Um diese Aufgabe zu lösen, sieht die Erfindung im wesentlichen vor, eine Brücke in der Umgebung eines Punktes anzuordnen der nicht auf einem Schnittpunkt eines imaginären Gitters liegt, sondern einen Abstand U in der axialen Richtung des Loches einhält. Der Abstand U, welcher eines der stochastischen Ereignisse ist, die keine Abhängigkeit voneinander haben, wird stochastisch an jedem Schnittpunkt so bestimmt, daß die Abstände getrennt voneinander festgelegt werden. Die stocha stischen Ereignisse gehören zu dem Satz von stochastischen Phänomenen, welche eine Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion für den jeweiligen Schnittpunkt haben. Der Abstand U erfüllt auch die folgenden Bedingungen:

A) Q(U) = Q₁₂(U) + Q₃₄(U),
wobei Q₁₂(U), Q₃₄(U) symmetrisch sind in bezug auf U = 0
B) Q₁₂(U) = Q₁(U) + Q₂(U),
wobei Q₁(U), Q₂(U) symmetrisch sind in bezug auf
C) Q₃₄(U) = Q₃(U) + Q₄(U),
wobei Q₃(U), Q₄(U) symmetrisch sind in bezug auf
D) Im Falle von

In A) bis D) stellt m eine ganze Zahl von 1 bis 5 dar und P _A bedeutet einen Abstand von parallelen Linien, die senkrecht zu den Lochachsen verlaufen und das imaginäre Gitter bilden.

Wenn die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) die oben angegebenen Bedingungen A) bis D) erfüllt und die Positionen U der Brücken durch die Funktionen Q(U) bestimmt sind, wie es oben beschrieben wurde, ergeben sich die folgenden Vorteile:

1) Die Frequenz in Erscheinung der Position U wird durch die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) geregelt. Folglich wird das Spektrum (A _m, A _0m in der Gleichung (2)) in der axialen Richtung der Löcher (entsprechend der Richtung von Y beim Stand der Technik) der durchschnittlichen Lichtausbeute T _A (Y) in einem ausreichend breiten Bereich der Abtastrichtung (entsprechend der Richtung von X im Stand der Technik) gleich 0 und deswegen wird auch die Amplitude (α _m in der Gleichung (5) ) gleich 0. In dieser Weise wird das Moir´-Muster bei einem gewünschten m stark unterdrückt.
2) Die Streifen in der Abtastrichtung (Richtung X), welche durch die Anordnung der Löcher bei einem regelmäßigen Abstand hervorgerufen werden, werden durch die Abweichungsanordnung der Löcher auf Grund der Positionen U unterdrückt.
3) Durch Erfüllung der Bedingung D) wird eine Verminderung in der Festigkeit der Lochmaske vermieden, welche andernfalls durch die Abweichungsanordnung hervorgerufen würde. Das Moir´ und die Streifen in der Abtastrichtung werden somit unterdrückt, während zugleich die Festigkeit der Lochmaske aufrecht erhal ten wird.

Die Schnittpunkte, auf denen die Brücken angeordnet sind, werden in Übereinstimmung mit der Anordnung der leuchtenden Streifen gewählt. Beispielsweise wird ein Schnittpunkt zuerst bestimmt, und andere Schnittpunkte in den diagonalen Positionen im Gitter werden nachfolgend ausgewählt. Als Wahrscheinlich keitsverteilungsfunktionen Q(U) sind sowohl

1) eine kontinuierliche Wahrscheinlichkeitsdichte-Verteilungs funktion in Bezug auf die Position U als auch
2) eine diskrete Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion in Bezug auf die Position U verwendbar.

In Übereinstimmung mit der Bedingung D) gilt die folgende Gleichung in Bezug auf (1):

und es gilt die folgende Gleichung in Bezug auf (2):

Es ist möglich, den erwarteten Effekt dadurch zu erreichen, daß entweder die Funktion (1) oder die Funktion (2) gewählt wird.

Genauer gesagt, verschiedene Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktionen Q(U) werden für (1) nachfolgenden angegeben:

(1a) Im Bereich von gleichförmige Verteilung
(1b) Bei hat eine Spitze bei (Zwei-Spitz-Dreieck-Verteilung)
(1c) Im Bereich von gleichförmige Verteilung und im Bereich von Verteilung mit konstanter Neigung (trapezförmige Verteilung).

Verschiedene Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktionen Q(U) können für (2) folgendermaßen angenommen werden:

(2a) Bei Q(U) nimmt denselben von 0 verschiedenen Wert an.
(2b) Bei nimmt denselben von 0 verschiedenen Wert an.

Diese Funktionen Q(U) (1a) bis (1c), (2a) und (2b) können die charakteristischen Vorteile der Erfindung hervorbringen. Es versteht sich von selbst, daß die Wahrscheinlichkeitsver teilungsfunktionen Q(U), welche andere Wellenformen haben, auch angenommen werden können, solange sie die Bedingungen A) bis D) erfüllen.

Die Erfindung wird nachfolgend beispielsweise anhand der Zeichnung beschrieben; in dieser zeigen:

Fig. 1 einen Teilgrundriß der Anordnung einer ersten Aus führungsform einer erfindungsgemäßen Kathodenstrahl röhre mit einer Lochmaske, in welcher eine Brücke 12 dargestellt ist, welche mit einer Abweichung von U angeordnet ist, die durch die Wahrscheinlichkeits verteilungsfunktion Q(U) bestimmt wurde, welche ein wesentliches Merkmal der vorliegenden Erfindung dar stellt;

Fig. 2 ein Verteilungsdiagramm, welches die Wellenform der Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) veran schaulicht die in der ersten Ausführungsform gemäß Fig. 1 verwendet wird wobei die Wahrscheinlichkeits verteilungsfunktion Q(U) eine Funktion einer Zwei- Spitz-Dreieck-Verteilung ist;

Fig. 3A bis 3D Verteilungsdiagramme zur Erläuterung der Arbeitsweise die angewandt wird, um in der ersten Ausführungsform ein Moir´-Muster zu beseitigen, wobei Fig. 3A ein Verteilungsdiagramm der durchschnittli chen Strahlungsausbeute T _A (Y) unter der Annahme der Existenz einer Lochmaske darstellt;

Fig. 3B ein Verteilungsdiagramm der durchschnittlichen Strahlungsausbeute T ₀ (Y) unter der Annahme, daß keine Lochmaske vorhanden ist;

Fig. 3C ein Verteilungsdiagramm der Reduktionen T ₁ (Y), T ₂ (Y), T ₃ (Y) und T ₄ (Y) in der durchschnittlichen Strahlungs ausbeute, welche durch eine Lochmaske hervorgerufen wird;

Fig. 3D ein Verteilungsdiagramm der Cosinus-Komponente der durchschnittlichen Strahlungsausbeute T _A (Y) bei m=3 und P _A=0,66;

Fig. 4 ein Verteilungsdiagramm, welches die Wellenform der Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) darstellt, welche in einer zweiten Ausführungsform der Erfindung verwendet wird, wobei die Wahrscheinlichkeitsverteilungs funktion Q(U) eine Funktion einer gleichförmigen Ver teilung ist;

Fig. 5 ein Verteilungsdiagramm, welches die Wellenform der Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) veran schaulicht welche in einer dritten Ausführungs form der Erfindung verwendet wird, wobei die Wahr scheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) in Bezug auf die Position U der Brücke diskret ausgebildet ist und mit U auf dieselbe Höhe ansteigt, und zwar symmetrisch in Bezug auf U=±P _A/4m;

Fig. 6 ein Verteilungsdiagramm, welches die Wellenform der Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) veran schaulicht, die in einer vierten Ausführungsform der Erfindung verwendet wird, wobei die Verteilungsfunk tion Q(U) in Bezug auf die Position U der Brücke diskret ist und bei U=±P _A/4m auf dieselbe Höhe wie bei der dritten Ausführungsform ansteigt;

Fig. 7A und 7B Verteilungsdiagramme der Wahrscheinlichkeits verteilungsfunktion Q(U) welche in einer fünften Ausführungsform der Erfindung verwendet wird, und zwar

Fig. 7A ein Verteilungsdiagramm der Komponenten Q ₁, Q ₂, Q ₃ und Q ₄ der Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) und

Fig. 7B ein Verteilungsdiagramm der Wahrscheinlichkeitsver teilungsfunktion Q(U), welche dadurch erreicht wird, daß eine Synthese aus diesen Komponenten gebildet wird, wobei die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) eine Funktion einer trapezförmigen Verteilung ist;

Fig. 8 ein Entwurfsschema zur Beseitigung eines Moir´-Musters, welches den Abstand eines Moir´-Musters in der Loch maske bei einer Farb-Kathodenstrahlröhre veranschau licht, welche denjenigen Systemen entspricht, die zwei verschiedene Anzahlen von Abtastzeilen haben;

Fig. 9 ein Verteilungsdiagramm der Anregungsdichte-Ver teilungsfunktion T _B (Y) für den Fall, daß keine Lochmaske vorhanden ist und

Fig. 10A und 10B den Vorgang der Lichtemission des Leucht schirms einer Farb-Kathodenstrahlröhre mit einer Lochmaske bei einer herkömmlichen Brücken-Anordnung und zwar

Fig. 10A ein Verteilungsdiagramm eines Abschnittes der Licht emittiert und eines Abschnittes, der kein Licht emittiert, und

Fig. 10B ein Verteilungsdiagramm der durchschnittlichen Strahlungsausbeute T _A (Y).

Ausführungsformen der Erfindung werden nachfolgend unter Bezugnahme auf eine Kathodenstrahlröhre mit einer Lochmaske beschrieben. Dabei hat der Leuchtschirm eine effektive Länge von 425 mm in der Richtung Y des Schirms, welcher für zwei Systeme verwendet wird, von denen das eine 1030 Abtastlinien in der effektiven Länge aufweist, wobei der Abstand P _B zwischen den Abtastlinien 0,413 mm beträgt, während das andere System 900 Abtastlinien aufweist, wobei der Abstand P _B zwischen den Abtastlinien beispielsweise 0,472 mm beträgt.

Es wird nun angenommen, daß der durchschnittliche Abstand P _S zwischen den Brücken in einer Linie von Löchergruppen dazu dienen soll, auf etwa 1,2 mm in dem Licht der Lumineszenz und der Stärke der Lochmaske eingestellt zu werden. Genauer gesagt, diese numerischen Werte auf der Lochmaske sollten zuerst auf dem Leuchtschirm diskutiert werden, und sie müssen danach unter Berücksichtigung der Werte auf der tatsächlichen Lochmas ke durch geeignete Reduktion berechnet werden. Es wird jedoch hier angenommen, daß die numerischen Werte der folgenden Terme in der Lochmaske die Werte auf dem Leuchtschirm verwenden, wie sie sind.

Da der durchschnittliche Abstand P _S zwischen den Brücken in einer Zeile von Löchergruppen etwa 1,2 mm beträgt, wenn eine herkömmliche Lochmasken-Anordnung gemäß Fig. 10 verwendet wird, gilt P _A=1/2P _S mit anderen Worten, P _A beträgt etwa 0,6 mm.

Wenn die räumliche Periode (der regelmäßige Abstand) eines Moir´s bei jedem m, n im Bereich von m+n 6 und bei P _A von 0,6± 0,1 mm nach derjenigen Methode berechnet wird, welche unter Bezugnahme auf die Gleichung (5) beschrieben wird, ergeben sich die in der Fig. 8 veranschaulichten Ergebnisse.

Die durchgezogene Linie entspricht dem System mit 1030 Abtast linien und die unterbrochene Linie dem System mit 900 Abtast linien. Wenn der Abstand eines Moir´s groß ist, besteht ein Problem, da jedoch die Abstände von Moir´s außer demjenigen der Modus-Arten (m, n) = (1, 1) (2, 1) und (3, 2) gemäß Fig. 8 hinreichend klein sind, so daß sie nicht gezeigt sind, wird die Fig. 8 mit der zugehörigen Beschreibung übergangen.

Wie aus der Fig. 8 hervorgeht, ergibt sich in Verbindung mit den zwei Systemen welche zwei Arten von Abtastlinien aufweisen, daß dann, wenn P _A = 0,57 mm und P _A = 0,66 mm, der Moir´-Abstand in den Bereichen des Modus und von P _A gemäß Fig. 8 ein Minimum wird. Dabei rufen diejenigen Modus-Arten Probleme hervor, wenn P _A = 0,57 mm, welche in dem System mit 900 Abtastlinien mit (1, 1) bezeichnet werden, welche in dem System mit 1030 Abtastlinien mit (3, 2) bezeichnet werden, und es treten wei terhin in dem Modus (3, 2) in beiden Systemen Probleme auf, wenn P _A=0,66 mm.

Das Moir´ des Modus (1, 1) hat eine sehr große Lumineszenz- Amplitude (α1, B 1) und ist schwierig zu beseitigen. Wenn P _A=0,66 mm angenommen wird, beträgt der Moir´-Abstand etwa 3,3 mm und kann nicht weiter vermindert werden. Selbst dann, wenn der Zwischenraum zwischen den Abtastlinien anfangs den eingestellten Wert annimmt, wenn er sich aus dem einen oder anderen Grund ändert, nimmt der Moir´-Abstand rasch zu, so daß dadurch der Schirm sehr undeutlich wird.

Bei einer gewöhnlichen Farb-Kathodenstrahlröhre muß der Moir´-Abstand nicht über 2 mm liegen. Wenn der tolerierbare Moir´-Abstand 2 mm beträgt, ist nur der Modus (3, 2) von Bedeutung und die anderen Modus-Arten führen nicht zu Proble men.

Anstatt daher den Moir´-Abstand des Modus (3, 2) weiter zu vermindern, wird die Funktion α ₃ B ₂ in der Gleichung (5) auf ein Maß vermindert, so daß a ₃=0 gilt, wodurch verhindert wird, daß ein Moir´ zu beobachten ist, als Amplitude der Intensität der Leuchtdichte oder der Lumineszenz, unabhängig vom Abstand des Moir´s.

Die Fig. 1 zeigt die Anordnung von Löchern auf einer Lochmas ke in einer ersten Ausführungsform des Erfindungsgegenstandes.

Die Löchergruppen bilden Linien oder Zeilen, welche parallel in der Richtung Y verlaufen, und parallele Zeilengruppen 100 sollen die gesamte Oberfläche der Lochmaske mit einem Inter vall von 0,66 mm bedecken.

Gruppen von geraden Linien 101 (welche die gesamte Oberfläche der Lochmaske parallel zur Richtung Y überdecken) sollen durch die Mittelpunkte der jeweiligen Lochgruppen auf der Lochmaske hindurchgehen, und ein imaginäres Gitter, welches sich schnei dende oder kreuzende Gruppen von parallelen Linien 100 und geraden Linien 101 aufweist, wird angenommen. Ein vorgegebener Schnittpunkt wird zunächst ausgewählt und jeder andere Schnitt punkt wird sowohl in der Richtung X als auch in der Richtung Y dann herausgenommen. Viele Koordinatensysteme (U-Koordinaten systeme) in einem kleinen Bereich, wobei jeweils der Schnitt punkt als Ursprung und die Richtung von +U als Richtung +Y gelten werden angenommen. In der Fig. 1 ist nur ein Koordi natensystem dargestellt.

In dem U-Koordinatensystem ist der Mittelpunkt 102 der Brücke 12 in der Position U angeordnet. Die Werte von U in Bezug auf die jeweiligen Schnittpunkte sind jedoch nicht konstant und werden für die jeweiligen Koordinatensysteme (Ursprungspunkte) als eines der stochastischen Ereignisse bestimmt, und zwar unabhängig von dem Satz der stochastischen Phanomene, die eine bestimmte Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) ha ben. Wenn angenommen wird, daß die Wahrscheinlichkeitsver teilungsfunktion Q(U) eine Wahrscheinlichkeitsdichte-Funktion Q(U) darstellt, um die Wahrscheinlichkeit dafür anzugeben, daß der Wert von U einen Wert im Bereich von einem speziellen U und U + Δ U als Q(U) Δ U annimmt, so gilt für Q(U) folgendes:

a) Q(U) ist die Summe der zwei Funktionen Q ₁₂ (U) und Q ₃₄ (U), welche zueinander symmetrisch in Bezug auf U=0 sind.
b) Q ₁₂ (U) ist die Summe der zwei Funktionen Q ₁ (U) und Q ₂ (U), welche symmetrisch zueinander in Bezug auf U=-0,055 sind. Q ₃₄ (U) ist die Summe der zwei Funktionen Q ₃ (U) und Q ₄ (U), welche symmetrisch zueinander in Bezug auf U=0,055 sind.

Der Wert 0,055 wird dadurch erreicht, daß der Zwischenraum 0,66 zwischen den parallelen Linien oder Zeilen 100 mit 1/3×4 multi pliziert wird (3 entspricht m=3).

c) Q(U) beinhaltet U=-0,11 und +0,11 und nimmt einen Wert an, der von 0 verschieden ist, jedoch nur in diesem Bereich.

Der Wert 0,11 ergibt sich dadurch, daß der Abstand 0,66 zwischen den parallelen Zeilen 100 mit dem Faktor 1/3×2 (3 entspricht m = 3) multipliziert wird.

Die erste Ausführungsform ist weiterhin dadurch gekennzeichnet, daß Q(U) eine in der Fig. 2 veranschaulichte Form aufweist.

Dies bedeutet, Q(U) hat eine Form, welche dadurch gebildet ist, daß die jeweiligen Punkte (-0,11, 0), (-0,055, 9,09), (0,0) (0,055, 9,09) und (0,11, 0) durch eine gerade Linie kombiniert werden. Die jeweiligen Intervalle oder Abschnitte der geraden Linie werden so gewählt, daß sie gleich Q ₁ (U), Q ₂ (U), Q ₃ (U) und Q ₄ (U) sind, und es wird weiterhin angenommen, daß Q ₁ bis Q ₄ in den anderen, nicht dargestellten, Intervallen gleich 0 ist.

Genauer gesagt, um einen mathematischen Widerspruch zwischen der Symmetrie der Verbindungspunkte der Intervalle und der Kontinuität der entsprechenden Funktionen an den Verbindungs punkten zu vermeiden, ist eine leichte Modifikation in der Definition der Funktion an den Verbindungspunkten der Inter valle erforderlich. Da jedoch praktisch kein Einfluß auftritt, wird eine solche Modifikation oder Anpassung nachfolgend in einigen Fällen vernachlässigt.

Die Beschreibung der Intervalle oder Abschnitte, nämlich die Gleichheitszeichen in den geschlossenen Abschnitten und den offenen Abschnitten halten die Symmetrie nicht immer strikt ein, welche durch die Erfindung postuliert und herbeigeführt wird, es erfolgt jedoch eine modifizierte Interpretation, wenn es erforderlich ist, welche sich aus den Bedingungen der Erfindung ohne weiteres ergibt.

Nach dieser Anordnung können A 3 und Ao 3, nämlich α3 den Wert von 0 annehmen.

Bei der Berechnung der durchschnittlichen Strahlungsausbeute oder Lichtausbeute T _A (Y) in der Gleichung (2) ist es erforder lich, die Durchschnittswerte der Strahlungsausbeuten für jeden Wert von Y in einem Bereich von X zu bilden, welcher ausreichend breiter ist als der Zwischenraum zwischen den Zeilen der Loch gruppen. Wenn in dieser Ausführungsform jedoch die Wahrschein lichkeit, nämlich der erwartete Wert der Position der Brücke in Betracht gezogen wird, ist die Berechnung für die zwei Zeilen von Lochgruppen ausreichend, mit anderen Worten, für die Breite von X, welche durch 2P _H in der Fig. 1 dargestellt ist.

Wenn beliebige vorgegebene, benachbarte Zeilen von Lochgruppen ausgewählt werden und eine der Ursprungspunkte bei Y=0 angenommen wird, ergibt sich die durchschnittliche Strahlungs ausbeute T _A (Y), nämlich die durchschnittliche Durchlässigkeit der Lochmaske und zwar unter Beachtung des erwarteten Wertes der Position einer Brücke, wie es in der Fig. 3A dargestellt ist.

W veranschaulicht die Breite eines Loches der Lochmaske in der Richtung X. T _A (Y) wird durch W/P _H veranschaulicht, außer für die Umgebung von Y=0 und in der Umgebung des Punktes, welcher von Y=0 um Vielfache von ± 0,66 entfernt ist.

Die durchschnittliche Strahlungsausbeute T _A (Y) in der Umgebung von Y=0 und der Umgebung derjenigen Punkte, die von Y=0 um die Vielfachen von ± 0 66 entfernt sind (nachfolgend wird die durchschnittliche Strahlungsausbeute nur in der Umgebung von Y=0 als representatives Beispiel beschrieben) wird aus der Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(Y) berechnet, welche den erwarteten Wert oder den Erwartungswert der zentralen Position der Brücke und die Breite der Brücke in der Richtung von Y darstellt. Da diese Bestimmung jedoch eine komplizierte Berechnung dessen darstellt, was als Faltung bezeichnet wird wird die durchschnittliche Strahlungsausbeute T _A (Y) in diesen Bereichen nachfolgend graphisch betrachtet.

Die Funktion oder Kurve in der Fig. 3A ist eine Funktion, welche durch Überlagerung des lokalen Durchschnittswertes der Strah lungsausbeute durch eine Brücke, nämlich die Reduktion in der durchschnittlichen Druchlässigkeit der Lochmaske auf T ₀ (Y)=W/P _H (konstant) erreicht wird, so daß sich eine Funktion ergibt, welche unter der Annahme erreicht wird, daß keine Brücke 12 auf der Lochmaske gemäß Fig. 3B vorhanden ist.

Die Verminderung in der durchschnittlichen Strahlungsausbeute T _A (Y) ist unterschiedlich, und zwar in Abhängigkeit von der Lage der zentralen Position 102 der Brücke 12. Die Lage der zentralen Position U 102 der Brücke 12 wird in die folgenden vier Fälle unterteilt:

(1) -0,11U < -0,055.
(2) -0,055U < 0
(3) 0U < 0,055
(4) 0,055U < 0,11

Wenn die Wahrscheinlichkeiten des Auftretens der Brücke in den jeweiligen Intervallen (1) T ₁ (Y), (2) T ₂ (Y), (3) T ₃ (Y) und (4) T ₄ (Y) beträgt, und zwar in Übereinstimmung mit den Intervallen Q ₁ (U), Q ₂ (U), Q ₃ (U) und Q ₄ (U) in Fig. 2, werden diese Intervalle durch die graphische Darstellung durch die Fig. 3C veranschaulicht.

Der Grund dafür, daß T ₁ (Y) beispielsweise über den Bereich von -0,11 Y < -0,055 (den Bereich von Q ₁ (U) ) hinausgeht, besteht darin, daß die Brücke 12 eine Breite in der Richtung von Y aufweist.

Gemäß den Charakteristiken (a) und (b) der Form der Wahr scheinlichkeitsverteilungsfreguenz Q(U) welche den Erwartungs wert der Position in der Brücke darstellt, sind T ₁ (Y) und T₄(Y), und T₂(Y) und T₃(Y) jeweils symmetrisch in bezug auf Y = 0, und T₁(Y) und T₂(Y) und T₃(Y) und T₄(Y) sind symmetrisch in bezug auf Y = -0,055 und Y = + 0,055.

Die Fig. 3D zeigt in graphiescher Darstellung die Funktion

A₃ in der Gleichung (2) erhält man aus der Gleichung der Fourier-Verteilung gemäß

Der Integrationsbereich von -0,33 bis +0,33 wird in Übereinstimmung mit einer Periode der periodischen Funktion T _A (Y) gewählt, um die Erläuterung zu vereinfachen. Der Bereich ist jedoch nicht immer auf den oben angegebenen Bereich be schränkt, so lange die Breite 0,66 beträgt.

Gemäß der obigen Beschreibung gilt mit

T _A(Y) = T₁(Y) + T₂(Y) + T₃(Y) + T₄(Y) (9)

wie es auch aus den Bedingungen (b) und (c) sowie aus den Fig. 3C und 3D hervorgeht.

und weiterhin

Daher gilt A₃ = 0.

In ähnlicher Weise wird unter Verwendung einer Gleichung die Fourier-Verteilung A₀₃ folgendermaßen dargestellt:

Somit ist es möglich zu zeigen daß A ₀₃=0 ist und zwar in derselben Weise wie A ₃.

In diesem Fall löschen sich die Terme der Integration T ₁ (Y) und T ₄ (Y) und T ₂ (Y) und T ₃ (Y) gegenseitig aus, und zwar in Übereinstimmung mit den Bedingungen (a) und (b).

Da A ₃ und A ₀₃ gleich null sind, ergibt sich α ₃=0 aus der Gleichung (6). Da das Moir´ oder das Moir´-Muster keine Fluktuation in der Amplitude der Lumineszenz bewirkt, besteht daher kein Problem, unabhängig von dem Abstand.

Nach dieser Methode unterscheiden sich die Brücken 12 stocha stisch voneinader und in dieser Beziehung gibt sie die Positionen in der bekannten Zufallsanordnung wieder. Jedoch sind die Positionen der Brücken 12 in dieser Ausführungsform derart verteilt, daß sie eine vorgegebene Wahrscheinlichkeits dichte-Verteilungsfunktion haben, so daß ein Moir´ eines speziellen Modus beseitigt wird, und es ist daher möglich, das Moir´ desjenigen Modus wirksam zu beseitigen, der von Bedeutung ist, obwohl der Bereich, in welchem die Brücken vorgesehen (bewegt) werden, verhältnismäßig schmal ist.

Daher wird eine Art von Ungleichmäßigkeit, welche auf dem Leuchtschirm erscheinen kann, auf diese Weise vermindert, und es ist möglich, die Bildqualität auf dem Leuchtschirm oder Bildschirm synthetisch zu verbessern.

Dies bedeutet, daß es möglich ist, eine Farb-Kathodenstrahl röhre mit einer Lochmaske zu bauen, bei welcher besonderer Wert auf andere Faktoren als ein Moir´ gelegt wird, beispiels weise auf die Strahlungsausbeute und die Stärke der Lochmaske, so daß dadurch eine Farb-Kathodenstrahlröhre mit besonders gutem Wirkungsgrad erreicht werden kann.

Aus der oben niedergelegten Beschreibung ergibt sich, daß diese Ausführungsform dieselbe Wirkung auf die durchschnitt liche Strahlungsausbeute bei einem bestimmten Wert von Y hat, wie die Kathodenstrahlröhre ein bestimmtes Maß an Elektronenstrahl-Durchlässigkeit aufweist, welches im Bereich der Brücke 12 von null verschieden ist, der erheblich auf geweitet ist. Mit anderen Worten, es wird ein ähnlicher Effekt wie die Verminderung des Kontrastes der Brücke 12 erreicht, die im allgemeinen eine schwarze Farbe annimmt.

Wenn in einer herkömmlichen Lochmaske der regelmäßige Abstand P (oder entsprechend P _A) der Löcher in der Richtung Y stärker als um ein bestimmtes Maß angehoben wird erscheinen die Zeilen der Brücken 12 in der Form von getrennten schwarzen Linien in der Richtung X, so daß die Annahme eines Wertes von P _S (oder P _A) größer als eine vorgegebene Länge unmöglich ist. Nach der vorliegenden Ausführungsform des Erfindungsgegenstan des ist es jedoch möglich, durch den oben beschriebenen Effekt der Kontrastverminderung einen größeren Wert als im Stand der Technik zu erreichen.

Bei dieser Ausführungsform des Erfindungsgegestandes ist die Position des Ursprungs (Y=0) der ausgewählt wurde, von der bei den Gleichungen (1) und (2) verwendeten Position ver schieden, wobei die Mitte einer Abtastzeile bei Y=0 einge stellt wird, aber es haben die erreichten Ergebnisse keine Beziehung zu der Lage des Ursprungs.

Obwohl das Lochöffnungsverhältnis der Lochmaske in der Richtung X, nämlich das Verhältnis der Breite der Löcher zu der gesam ten Breite des lichtemittierenden Abschnittes in der Richtung X mit W/P _H angenommen wird und dieses Lochöffnungsverhältnis einfach so angenommen wird, daß es als Faktor zur Berechnung der Strahlungsausbeute des Leuchtschirms oder Bildschirms in der hier in Rede stehenden Farb-Kathodenstrahlröhre brauchbar ist, wird die Breite des lichemittierenden Bereiches in der Richtung X oft durch die schwarzen Streifen geregelt, welche kein Licht emittieren und welche als schwarze Matrix zu be zeichnen sind und auf dem Leuchtschirm oder Bildschirm vor handen sind, um die Toleranz zu ermöglichen, welche zur Ein stellung erforderlich ist, und zwar durch Regelung der Breite der leuchtenden Streifen, anstatt der Breite der Löcher der Lochmaske.

Da in dieser Ausführungsform des Erfindungsgegenstandes jedoch der Phosphor (der lichtemittierende Bereich) in der Richtung X nur den Wert von T ₀ (Y) in der Fig. 3B regelt und im wesent lichen keine Beziehung zu einem Moir´ hat, werden entsprechende Modifikationen nicht erläutert.

Um die jeweiligen Positionen U der Brücken aus der vorgegebenen Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) zu berechnen, wird eine Methode zur Umwandlung der Zufallszahlen, welche mit einer regelmäßigen Wahrscheinlichkeit in einem geeigneten Intervall für jede Brücke erzeugt werden, in einen Wert von U angenommen, der auf der Basis von Q(U) bestimmt wird. Da die Einzelheiten dieses Verfahrens fast selbstverständlich sind, wird hier keine weitere Erklärung dafür gegeben.

Die Form von Q(U) zur Beseitigung des Moir´s beim Modus m=3, wenn der Durchschnittswert P _A=0,66 mm beträgt, in dem a ₃ zu null gemacht wird, ist nicht auf die in dieser Ausführungs form gezeigte Form beschränkt, es kann vielmehr eine beliebige Form verwendet werden, solange Q(U) die Bedingungen (a) bis (d) erfüllt.

Deshalb ist beispielsweise Q(U) mit einer gleichförmigen Verteilung im Bereich von -0,11 U 0,11 gemäß Fig. 4 auch als zweite Ausführungsform in die vorliegende Erfindung eingeschlossen. Im Falle der zweiten Ausführungsform wird das Verhältnis der Mitte U der Brücke, welches einen Wert in der Umgebung der Endbereiche des Intervalls annimmt, nämlich -0,11 oder +0,11, im Vergleich zu der ersten Ausführungs form gemäß Fig. 2 vergrößert. Dies bedeutet, daß die Möglich keit dafür groß ist, daß die Brücke vom Maximum in der speziel len Richtung abweicht, und daß die Möglichkeit dafür groß ist, daß derart abweichende Brücken sich in einem speziellen kleinen Bereich sammeln. Deshalb kann im Hinblick auf die Stärke der Lochmaske, insbesondere wegen der hohen Möglichkeit der Erzeugung einer nicht gleichförmigen Ausdehnung beim Gießen einer im allgemeinen sphärischen Lochmaske, welche eine ungünstige Ungleichmäßigkeit auf dem Leuchtschirm oder Bildschirm hervorruft, die zweite Ausführungsform im Vergleich zu der ersten Ausführungsform gemäß Fig. 2 nicht immer empfoh len werden.

In der ersten und in der zweiten Ausführungsform Q(U) gibt es eine Verteilungsfunktion der wahrscheinlichkeitsdichte, die sich zumindest in einem bestimmten Bereich von U kontinuier lich verteilt. Jedoch kann Q(U) eine Verteilungsfunktion der Wahrscheinlichkeit darstellen, welche diskret einen von null verschiedenen Wert nur bei bestimmten Werten von U annimmt.

In diesem Falle sollte die Bedingung (D) folgendermaßen geändert werden:

U hat einen Wert zwischen -0,11 und +0,11.

Als ein Beispiel einer solchen Funktion Q(U) wird eine dritte Ausführungsform des Erfindungsgegenstandes gemäß Fig. 5 ange führt. In dieser Ausführungsform hat die Wahrscheinlichkeits dichte-Verteilungsfunktion Q(U) eine gleiche Wahrscheinlich keit von 0,25 (=1/4) an vier Punkten von U, nämlich -0,0825 -0,0275, 0,0275 und 0,0825, welche jeweils Q ₁ (U) bis Q ₄ (U) entsprechen.

In einer vierten Ausführungsform hat die Wahrscheinlichkeits verteilungsfunktion Q(U) eine Wahrscheinlichkeit von 0,5 (=1/2) an zwei Punten von U, nämlich -0,055 und 0,055, wie es in der Fig. 6 dargestellt ist.

Mit anderen Worten, eine gleiche Wahrscheinlichkeit erscheint an den beiden der zwei Werte von U. In diesem Falle entsprechen die zwei Werte Q ₁₂ (U) und Q ₃₄ (U) und werden als die Summe von Q ₁ (U) und Q ₂ (U), und Q ₃ (U) und Q ₄ (U) jeweils angesehen, welche den gleichen Betrag haben.

Jedoch bringt die Verwendung der Wahrscheinlichkeitsverteilungs funktion Q(U), welche eine derart kleine Anzahl von Punkten von U ≠ 0 aufweist, eine Möglichkeit dafür mit sich, daß einige Brücken denselben Wert haben, welche auf der Lochmaske örtlich in einer Folge benachbart zueinander angeordnet sind, und dieser Bereich scheint einen Mangel zu haben, der eine Regel mäßigkeit zeigt. Folglich scheint manchmal in dem Bild auf dem Bildschirm ein Streifen-Fehler zu sein. Somit ist die erste Ausführungsform nicht immer empfehlenswert.

In den Ausführungsformen, welche in den Fig. 1 bis 6 veran schaulicht sind, wird ein Moir´ (Moir´-Muster) des Modus m=3 beseitigt, wenn P _A=0,66 mm, in dem α ₃=0 wird.

Die vorliegende Erfindung wird auch auf einen vorgegebenen Wert P _A und m anwendbar.

Konkret gesagt, wenn der reguläre Zwischenraum zwischen den parallen Linien oder Zeilen 100 gemäß Fig. 1 imaginar in regelmäßigen Intervallen oder Abschnitten in der Richtung von X=P _H vorgesehen wird, und viele Ursprungspunkte und U-Koordinatensysteme gemäß der obigen Beschreibung festgelegt werden, wobei die Mitte der Brücke in jedem Koordinatensystem in der Position U angeordnet wird, werden die jeweiligen Werte von U für die entsprechenden Koordinatensysteme (Ur sprungspunkte) als eines der unabhängigen stochastischen Ereignisse bestimmt, welche aus dem Satz von stochastischen Phänomenen erreicht werden, die eine bestimmte Wahrschein lichkeitsverteilungsfunktion Q(U) haben.

Wenn angenommen wird, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungs funktion Q(U) ist, dann hat Q(U) die folgenden Charakteristiken:

(A) Q(U) ist die Summe von zwei Funktionen Q₁₂(U) und Q₃₄(U), welche symmetrisch zueinander in bezug auf U = 0 sind.
(B) Q₁₂(U) ist die Summe von zwei Funktionen Q₁(U) und Q₂(U), welche symmetrisch zueinander in bezug auf Q(U) = -P _A/4m sind.
Q₃₄(U) ist die Summe von zwei Funktionen Q₃(U) und Q₄(U), welche symmetrisch zueinander in bezug auf U = P _A/4m sind.
(C1) Q(U) nimmt einen von null verschiedenen Wert nur in dem Bereich zwischen -P _A/2m und P _A/2m an.
(D1) Mit Q(U) als Verteilungsfunktion einer Wahrscheinlichkeitsdichte ergibt sich:

Wenn Q(U) eine diskrete Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion ist, welche einen von null verschiedenen Wert nur bei bestimmten Werten von U hat, so ergibt sich

im Bereich von -P _A/2m und P _A/2m.

Derjenige Bereich, in welchem Q(U), gemäß den Bedingungen (C1) und (D1) einen von null verschiedenen Wert annimmt, ist nicht immer auf den Bereich von -P _A/2m und P _A/2m beschränkt um den Wert a _m zu null werden zu lassen, was sich aus der oben zu den Fig. 3A bis 3D gegebenen Erlauterungen ergibt.

Mit anderen Worten, die notwendigen Bedingungen für α ₃=0 sind (A) und (B) der Bereich von U in (C1) und (D1) kann breiter sein. Wenn jedoch der Bereich ±P _A/2 überschritten wird besteht eine Möglichkeit, in demjenigen Bereich zu überschreiten in welchem die benachbarte Brücke, die davon um P _B entfernt ist, existieren kann, so daß dadurch die Anordnung der Brücken für die Lochmaske unnütz wird.

Deshalb werden folgende Bedingungen allgemeiner anstelle von (C1) und (D1) verwendet.

(C) Q(U) nimmt einen von null verschiedenen Wert nur im Bereich zwischen -P _A/2 und P _A/2, an
(D) Wenn Q(U) eine Verteilungsfunktion einer Wahrscheinlichkeitsdichte ist, ergibt sich

Wenn Q(U) eine diskrete Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion ist, welche nur bei bestimmten Werten von U einen von null verschiedenen Wert annimmt, ergibt sich im Hinblick auf alle Werte, die im Bereich von -P _A/2 und P _A/2 möglich sind

Als Beispiel einer Anwendung dieser Funktionen auf P _A=0,66 und m=3, wird in den Fig. 7A und 7B eine fünfte Ausführungs form des Erfindungsgegenstandes veranschaulicht.

Die Fig. 7A zeigt Q ₁ (U) bis Q ₄ (U) und die Fig. 7B zeigt die Verteilungsfunktion Q(U) der Wahrscheinlichkeitsdichte, welche durch die Summe davon bestimmt wird.

In dieser Ausführungsform ist der Bereich der Verteilung von Q(U) auch breit, und die Position der Brücke weicht manchmal stark von der durchschnittlichen Position (U=0) ab, so daß diese Ausführungsform im Vergleich zu anderen Ausführungsformen nicht immer empfehlenswert ist. Bei der fünften Ausführungsform ist jedoch zu beachten, daß deshalb, weil derselbe Wert von U sich kaum in einem speziellen Bereich sammelt, diese Ausführungs form nützlich ist, wenn der Wert von m groß ist.

Der Bereich der Werte von U ist oben beschrieben worden. Bei der vorliegenden Erfindung ist es wünschenswert, daß der Wert von U so nahe wie möglich bei null liegt, so daß die Veränderung der Brücke nicht deutlich hervortritt, so daß das Gefühl von Unordnung in der Form von Rauschen eliminiert wird und die mechanische Festigkeit der Lochmaske erhalten bleibt. Deshalb sind die Bedingungen (A), (B), (C1) und (D1) praktisch die nützlichsten.

Sogar unter den Bedingungen (A), (B), (C1) und (D1) ist der Bereich von U verschieden, und zwar in Abhängigkeit von dem Wert von m. Die vorliegende Erfindung erweist sich dann am vorteilhaftesten, wenn m=3, 4 oder 5, und zwar vom Stand punkt des Gefühls von Unordnung und der Festigkeit der Loch maske.

Bei den oben beschriebenen Ausführungsformen und nach allge meiner Regel bedeuten die letzten Bedingungen (d), (d1), (D1) und (D) daß eine Brücke im Ursprung vorgesehen sein sollte, und es ist nicht immer notwendig die Position durch Verwen dung der Formel oder Gleichung zu regeln. Jedoch sind diese Bedingungen dann nützlich, wenn eine spezielle Funktion für die konkrete Berechnung von U aus den Zufallszahlen der gleich förmigen Verteilung erreicht werden soll.

Es versteht sich von selbst daß die Wahrscheinlichkeits verteilungsfunktion Q(U) viele andere Formen haben kann.

Die Form der Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) ist weitgehend in zwei Typen unterteilt, nämlich eine Form die genommen wird, wenn Q(U) sich kontinuierlich in Bezug auf U verändert mit anderen Worten, für den Fall, der als eine Verteilungsfunktion einer Wahrscheinlichkeitsdichte anzusprechen ist, und eine weitere Form, welche dann genommen wird, wenn Q(U) einen von null verschiedenen Wert in Bezug auf die begrenzte Anzahl von speziellen U-Werten annimmt, mit anderen Worten, für den Fall einer diskreten Wahrschein lichkeitsverteilung. Da jedoch beide Situationen ganz gleich sind, wie es oben erläutert wurde, ist die kombinierte Ver wendung dieser Formen unter einigen Umständen möglich. Die Bedingungen (D) und (D1) in diesem Fall werden leicht aus einer allgemeinen Regel der Wahrscheinlichkeit abgeleitet.

Es ist möglich, verschiedene Formen von Q(U) in Übereinstim mung mit den Positionen auf der Lochmaske zu verwenden. In diesem Falle muß die Form von Q(U) natürlich allmählich und kontinuierlich von einem Bereich auf einen anderen Bereich verändert werden.

Weiterhin ist es in einem speziellen Fall auch möglich, die Form von Q(U) derart einzustellen, daß die Bedingungen (A) bis (D) nur in demjenigen Bereich oder Abschnitt erfüllt sind, in welchem das Moir´ der Lochmaske am deutlichsten in Er scheinung tritt, und eine völlig unterschiedliche Verteilungs funktion in den anderen Bereichen oder Abschnitten einzustellen. In einer allgemeinen Lochmaske ist die Festigkeit einschließ lich der Gleichförmigkeit der Festigkeit des Umfangsbereiches wichtig, um die Press-Stabilität und die mechanische Formbe ständigkeit zu gewährleisten. Von diesem Standpunkt aus ist es wünschenswert, daß die Brücken nur bei U=0 in einem Umfangsbereich vorhanden sind, nämlich in den längeren Seitenabschnitten und den kürzeren Seitenabschnitten (von den letzteren ist erfahrungsgemäß bekannt, daß sie besonders bedeutsam sind) einer Lochmaske für eine allgemeine Farb- Kathodenstrahlröhre, welche einen rechteckigen Leuchtschirm oder Bildschirm hat.

Dem gemäß kann man in der Umgebung des Umfangsbereiches die Bedingung (B) aufgeben, so daß allmählich die Form von Q(U) derart verändert wird, daß ein hoher Wert nur am Punkt Q(U)=0 genommen wird.

Genauer gesagt, die horizontale Breite des Schirms einer Farb- Kathodenstrahlröhre, bei welcher der Schirm eine Höhe von 425 mm aufweist, beträgt etwa 755 mm. In diesem Fall wird die folgende Anordnung von Brücken als ein Beispiel genannt. Die vier Bedingungen (A), (B) (C) und (D) werden in diesen Abschnitten erfüllt, außer bei einer Breite von 30 mm von beiden horizontalen Endbereichen entfernt, nämlich von den kürzeren Seitenabschnitten, und an beiden Endabschnitten von 30 mm Breite, Q(U) wird allmählich verändert, während die Bedingung von (B) verlassen wird, bis in den Linien oder Zeilen der äußersten Lochgruppen, alle Brücken an den Punkten U=0 eingestellt sind.

In dieser Struktur erscheint das in Rede stehende Moir´ in beiden Endabschnitten von 30 mm Breite, da jedoch die Form der Funktion sich allmählich verändert, tritt der Fall nicht ein, daß das Moir´ plötzlich an den Endabschnitten auftritt. Da weiterhin beide Endabschnitte kaum visuelle Aufmerksamkeit anziehen, ist das Moir´ praktisch vernachlässigbar.

Der Grund dafür, daß P _A auf den Wert 0,66 bei den Ausführungs formen einschließlich der numerischen Werte eingestellt wird, besteht darin, daß eine herkömmliche Betrachtungsweise für die Verminderung der Teilung bzw. des Abstandes des Moir´s beim Modus (3, 2) angewandt wurde. Da jedoch nunmehr α ₃=0 möglich ist, stellt die Teilung oder der regelmäßige Abstand des Moir´s bei diesem Modus theoretisch kein Problem dar. Es ist daher möglich, einen anderen Wert als P _A=0,66 zu wählen und andere numerische Werte zu verwenden. Beispielsweise ist in der Fig. 8 der Wert von P _A0, welcher etwas geringer ist als 0 66, klar vorzuziehen. Wenn die Farb-Kathodenstrahlröhre nur für das System mit 1030 Abtast zeilen verwendet wird, läßt sich feststellen, daß der kleinere Wert von P _A vorzuziehen ist.

Da gemäß der oben niedergelegten Beschreibung gemäß der Er findung die Brücken der Lochgruppen um den Betrag stochastisch verschoben werden, welcher in einem bestimmten Bereich be stimmt wird und die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion derart gewählt wird, daß dasjenige Moir´, welches am stärk ste stört, bei einem speziellen Modus beseitigt wird, ist es möglich, eine Farb-Kathodenstrahlröhre herzustellen, welche eine Lochmaske aufweist, die dazu in der Lage ist, die Streifen einschließlich einer Veränderung in den Ab ständen zwischen den Abtastzeilen vernachlässigbar werden zu lassen.

Weiterhin sind gemäß der Erfindung eine ausgezeichnete Hellig keit und Festigkeit erreichbar.

Claims

1. Lochmaske für eine Farb-Kathodenstrahlröhre mit einem Leuchtschirm, der eine Mehrzahl von leuchtenden Streifen aufweist, die parallel zueinander angeordnet sind mit einer Elektronenkanone, die gegenüber vom Leuchtschirm angeordnet ist, um einen Elektronenstrahl auf den Leucht schirm zu projizieren, und mit einer Lochmaske, die in einer vorgegebenen Position zwischen dem Leuchtschirm und der Elektronenkanone angeordnet ist, wobei die Lochmaske mit einer Mehrzahl von Elektronenstrahllöchern ausgestat tet ist, die in Längsrichtung und parallel zu den leuch tenden Streifen in einer vorgegebenen örtlichen Beziehung dazu verlaufen, und wobei die Elektronenstrahllöcher durch Brücken in der Längsrichtung unterteilt sind, dadurch gekennzeichnet,
daß die Brücken auf der Basis eines beliebigen vorgegebenen Punktes angeordnet sind, der aus den Schnittpunkten eines imaginären Gitters ausgewählt ist, welches aus einer Viel zahl von parallelen Linien zusammengesetzt ist, die senk recht zu der Längsrichtung der Elektronenstrahllöcher in regelmäßigen Intervallen P _A und den Achsen der Elektronen strahlen angeordnet sind,
daß die Brücken in einer Position angeordnet sind, welche von dem genannten Punkt in der axialen Richtung der Elektronenstrahllöcher um einen Abstand U abweicht, welcher derart bestimmt ist, daß die folgenden Bedingungen erfüllt sind:
wobei die Position U als eines der stochastischen Ereig nisse festgelegt ist, die beide zu dem Satz der stocha stischen Phänomene gehören und eine Wahrscheinlichkeits verteilungsfunktion Q(U) haben, die unabhängig voneinander existieren und getrennt voneinander für den jeweiligen Schnittpunkt, wobei die Wahrscheinlichkeitsverteilungs funktion Q(U) die folgenden Bedingungen erfüllt:

A) Q(U) = Q₁₂(U) + Q₃₄(U),
wobei Q₁₂(U), Q₃₄(U) symmetrisch in bezug auf U = 0 sind
B) Q₁₂(U) = Q₁(U) + Q₂(U),
wobei Q₁(U), Q₂(U) symmetrisch in bezug auf sind
C) Q₃₄(U) = Q₃(U) + Q₄(U),
wobei Q₃(U), Q₄(U) symmetrisch in bezug auf sind
D) Im Falle von wobei m eine ganze Zahl von 1 bis 5 darstellt.

2. Lochmaske nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Schnittpunkte derart gewählt sind, daß ein belie biger vorgegebener Schnittpunkt zuerst ausgewählt wird, und Schnittpunkte die diagonal zu dem erstgenannten Schnittpunkt in dem Gitter nachfolgend der Reihe nach ausgewählt werden.

3. Lochmaske nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Schnittpunkte aus denjenigen Schnittpunkten ausge wählt werden, welche in einem vorgegebenen Bereich der Lochmaske angeordnet sind.

4. Lochmaske nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) eine Verteilungsfunktion der Wahrscheinlichkeitsdichte ist, die kontinuierlich in Bezug auf die Positionen U ist.

5. Lochmaske nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Verteilungsfunktion Q(U) eine gleichförmige Vertei lung in dem Bereich von aufweist.

6. Lochmaske nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) eine Zwei-Spitz-Rechteck-Verteilung aufweist, in welcher Q(U) bei gleich null ist und Q(U) einen Spitzenwert bei aufweist.

7. Lochmaske nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) eine trapezförmige Verteilung aufweist, in welcher Q(U) eine gleichförmige Verteilung im Bereich von hat, und daß eine konstante Neigungsverteilung im Bereich von vorhanden ist.

8. Lochmaske nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) eine Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion ist, die in Bezug auf die Position U diskret ist.

9. Lochmaske nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) bei denselben von null verschiedenen Wert aufweist.

10. Lochmaske nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) nur bei denselben von null verschiedenen Wert aufweist.

11. Lochmaske nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) eine Verteilungsfunktion der Wahrscheinlichkeitsdichte ist, welche in Bezug auf die Positionen U kontinuierlich aus gebildet ist.

12. Lochmaske nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) eine gleichförmige Verteilung im Bereich von hat.

13. Lochmaske nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) eine Zwei-Spitz-Rechteck-Verteilung hat, in welcher Q(U) bei gleich null ist und daß Q(U) bei einen Spitzenwert hat.

14. Lochmaske nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) eine trapezförmige Verteilung aufweist, in welcher Q(U) eine gleichförmige Verteilung im Bereich von hat, und daß eine konstante Neigungsverteilung im Bereich von vorhanden ist.

15. Lochmaske nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) eine Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion ist die in Bezug auf die Position U diskret ist.

16. Lochmaske nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) bei denselben von null verschiedenen Wert aufweist.

17. Lochmaske nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) nur bei denselben von null verschiedenen Wert aufweist.

18. Lochmaske nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) eine Verteilungsfunktion der Wahrscheinlichkeitsdichte ist, welche in bezug auf die Position U kontinuierlich ausge bildet ist.

19. Lochmaske nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion Q(U) eine Wahrscheinlichkeitsverteilungsfunktion ist, welche in bezug auf die Position U diskret ausgebildet ist.