DE69731379T2

DE69731379T2 - Farbbildröhre

Info

Publication number: DE69731379T2
Application number: DE69731379T
Authority: DE
Inventors: Tatsuya Fukaya-shi YAMAZAKI
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1996-12-25
Filing date: 1997-12-25
Publication date: 2005-10-20
Anticipated expiration: 2017-12-26
Also published as: WO1998029891A1; CN1216151A; CN1118845C; EP0896359B1; KR19990087393A; JPH10241597A; US6204599B1; EP0896359A4; KR100272721B1; DE69731379D1; EP0896359A1

Description

GEBIET DER TECHNIK
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Farbbildröhre, und insbesondere auf eine an der inneren Plattenoberfläche einer Farbbildröhre angeordnete Loch- bzw. Schattenmaske.
Stand der Technik
Im allgemeinen umfasst eine Farbbildröhre einen Kolben, der aus einer Platte 2 mit einem im wesentlichen rechteckigen wirksamen Abschnitt 1 mit einer gekrümmten Innenfläche und einem Trichter 3 mit einer Trichterform, die mit der Platte 1 zusammengefügt ist, gebildet ist, wie 3 zeigt. Ein Leuchtstoffschirm 4 mit drei Farbleuchtstoffschichten, die jeweils blaue (B), grüne (G) und rote (R) Lichtstrahlen emittieren, ist an der Innenfläche des wirksamen Abschnitts 1 der Platte 2 ausgebildet. Außerdem ist eine Lochmaske 6, die an ihrer Innenfläche eine im wesentlichen rechteckige und gekrümmte wirksame Oberfläche 5 aufweist, welche eine große Anzahl von Elektronenstrahl-Durchgangslöchern zum Passierenlassen von Elektronenstrahlen hat, gegenüber dem Leuchtstoffschirm 4 angeordnet.
Eine Elektronenkanonenanordnung 9 zum Emittieren der drei Elektronenstrahlen 8B, 8G und 8R ist in einem Hals 7 des Trichters 3 angeordnet. Die drei von der Elektronenkanonenanordnung 9 emittieren Elektronenstrahlen 8B, 8G und 8R werden durch eine Ablenkvorrichtung 10 abgelenkt, die an der Außenfläche des Trichters 3 angebracht ist. Wenn die Elektronenstrahlen 8B, 8G und 8R durch die Elektronenstrahl-Durchgangslöcher der Lochmaske 6 treten und den Leuchtstoffschirm 4 in der Horizontal- und Vertikalrichtung abtasten, wird ein Farbbild angezeigt.
Bei solchen Farbbildröhren, insbesondere bei einer In-Line-Farbbildröhre, welche die drei in einer Linie auf der gleichen horizontalen Ebene angeordneten Elektronenstrahlen 8B, 8G und 8R emittiert, weist jede der drei Farbleuchtstoffschichten des Leuchtstoffschirms 4 eine in der Vertikalrichtung langgezogene Streifenform auf. Demgemäß hat die Lochmaske 6 Anordnungen von Elektronenstrahl-Durchgangslöchern, von denen jede eine Vielzahl von in einer Linie entlang der Nebenachsrichtung der wirksamen Oberfläche 5 angeordneten Elektronenstrahl-Durchgangslöchern aufweist. Die mehreren Anordnungen von Elektronenstrahl-Durchgangslöchern sind parallel entlang der Hauptachsrichtung der wirksamen Oberfläche 5 angeordnet.
Die Lochmaske 6 hat als Farbauswahlelektrode ursprünglich eine Funktion, die drei Elektronenstrahlen 8B, 8G und 8R, welche die Elektronenstrahl-Durchgangslöcher passiert haben, unter verschiedenen Winkeln auf den entsprechenden drei Farbleuchtstoffschichten landen zu lassen und sie Licht emittieren zu lassen. Um ein Bild mit einer zufriedenstellenden Farbreinheit auf dem Leuchtstoffschirm 4 anzuzeigen, müssen die drei Elektronenstrahlen 8B, 8G und 8R, die unter verschiedenen Winkeln durch die Elektronenstrahl-Durchgangslöcher getreten sind, zuverlässig auf den entsprechenden drei Farbleuchtstoffschichten zum Landen gebracht werden.
Für diesen Zweck muss eine vorbestimmte Passbeziehung (matching relationship) zwischen den drei Farbleuchtstoffschichten und den Elektronenstrahl-Durchgangslöchern der Lochmaske 6 aufgestellt werden, und außerdem muss die Passbeziehung während des Betriebs der Farbbildröhre erhalten werden. Mit anderen Worten muss der Zwischenraum zwischen der Innenfläche des wirksamen Abschnitts 1 der Platte 2, d. h. der Leuchtstoffschirm 4 und die wirksame Oberfläche 5 der Lochmaske 6, d. h. ein sogenannter q-Wert, immer in einem vorbestimmten zulässigen Bereich gehalten werden.
Bei der Lochmasken-Farbbildröhre sind Elektronenstrahlen, welche die Elektronenstrahl-Durchgangslöcher der Lochmaske 6 passieren und den Leuchtstoffschirm 4 erreichen, ein Drittel oder weniger der von der Elektronenkanonenanordnung 9 emittieren Elektronenstrahlen wegen ihres Funktionsprinzips. Die restlichen Elektronenstrahlen kollidieren mit anderen Abschnitten als den Elektronenstrahl-Durchgangslöchern und werden in Wärmeenergie umgewandelt, wobei die Lochmaske 6 erwärmt wird. Infolgedessen expandiert eine Lochmaske, die beispielsweise aus einem kohlenstoffarmen Stahl mit starkem Wärmedehnungskoeffizienten besteht, zum Leuchtstoffschirm 4 hin, d. h., sie bewirkt eine Wölbung, wie durch eine abwechselnd lang und kurz gestrichelte Linie in 4 gezeigt ist. Falls es zu einer Wölbung kommt, ändert sich die Position eines Elektronenstrahl-Durchgangslochs 12. Wenn der Abstand zwischen dem Leuchtstoffschirm 4 und der Lochmaske 6 außerhalb des zulässigen Maßes fällt, ändert sich die Größe einer Strahllandeverschiebung auf einem Leuchtstoffschirm 11 in Abhängigkeit von der Luminanz und der Dauer eines auf den Bildschirm zu zeichnenden Bildmusters. Insbesondere, wenn ein Bildmuster mit hoher Luminanz lokal angezeigt wird, kann es zu einer lokalen Wölbung kommen, wie 4 zeigt. Die Strahllandung verschiebt sich in kurzer Zeit und die Landungsverschiebegröße erhöht sich.
Eine Lochmaske zum Reduzieren der Landungsverschiebegröße ist in der japanischen Patentanmeldung Nr. 7-175830 offenbart.
Für die Landungsverschiebung infolge einer lokalen Wölbung wurde ein Experiment durchgeführt, bei dem eine Signalvorrichtung zum Erzeugen eines rechteckigen, fensterförmigen Musters benutzt wurde, um eine Struktur mit hoher Luminanz 14 mit einer rechteckigen Fensterform auf den Bildschirm zu zeichnen, wie in 5 gezeigt ist, und der Strahllandungs-Verschiebebetrag wurde gemessen, während die Form und Position dieser Struktur mit hoher Luminanz 14 geändert wurde, wobei das folgende Ergebnis erhalten wurde. Bei diesem Messexperiment wurde ein längliches Muster hoher Luminanz mit Breitstromstrahlen entlang der Nebenachsrichtung des Bildschirms gezeichnet, d. h. entlang einer der Y-Achse in 5 entsprechenden Vertikalachse. Dieses Experiment ergab, dass bei Anzeige des Musters bzw. der Struktur hoher Luminanz an einer Position, die um etwa 1/3 einer Breite w der Hauptachse von dem Bildschirmzentrum entlang der Hauptachse getrennt war, d. h. der Horizontalachse entsprechend der in 5 gezeigten x-Achse, wurde die Strahllandungsverschiebung maximiert. Insbesondere wurde die Strahllandungsverschiebung in einem elliptischen Bereich 15 am Zwischenabschnitt des Bildschirms gemäß 6 maximiert. Das Funktionsprinzip ist bereits erläutert worden.
Bei der in der japanischen Patentanmeldung Nr. 7-175830 offenbarten Farbbildröhre (siehe auch EP 0 692 810A ) wird, um die Strahllandungsverschiebung zu minimieren, das Intervall zwischen Anordnungen von Elektronenstrahl-Durchgangslöchern der Lochmaske 6 in Abhängigkeit von der Position auf der wirksamen Oberfläche 5 geändert. Genauer gesagt, ist in einem orthogonalen Koordinatensystem, das das Zentrum der wirksamen Oberfläche 5 als Ursprung verwendet, und die Haupt- und Nebenachsen der wirksamen Oberfläche als Koordinatenachsen, ein Intervall PH(N) zwischen einer (N – 1)ten Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung und einer N-ten Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung von einer durch den zentralen Abschnitt der wirksamen Oberfläche 5 passierenden Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung zu der Peripherie der wirksamen Oberfläche 5 entlang der Hauptachsrichtung durch eine biquadratische Funktion von N gegeben: PH(N) = A + BN2 + CN4 wobei A, B und C biquadratische Funktionen eines Koordinatenwerts y entlang der Hauptachsrichtung sind, und C vorübergehend mit einer Zunahme im Absolutwert des Koordinatenwerts y vorübergehend abnimmt und dann wieder zunimmt.
Bei dieser Lochmaske 6 erhöht sich das Intervall zwischen Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen, die durch einen vom Zentrum der wirksamen Oberfläche 5 um ein Drittel der Hauptachsrichtungsbreite w der wirksamen Oberfläche 5 getrennten Abschnitt hindurchgehen, nahe der Haupt achse, wenn der Absolutwert des Koordinatenwerts in der Nebenachsrichtung der wirksamen Oberfläche 5 zunimmt. Das Intervall wird auf der Basis der biquadratischen Funktion bzw. Funktion vierten Grades des Koordinatenwerts y entlang der Nebenachsrichtung in dem orthogonalen Koordinatensystem eingestellt, das einen Umkehrpunkt innerhalb der wirksamen Oberfläche 5 aufweist.
Wenn jedoch das Intervall zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen, die aneinandergrenzen, auf der Basis einer solchen Funktion vierten Grades eingestellt wird und die Strahllandungsverschiebung reduziert werden kann, ist das Verhältnis der Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs zu dem Intervall zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen ungeeignet bzw. unangemessen, da die Lochgröße gemäß einer relativ einfachen Gleichung festgelegt wird. Aus diesem Grund kann das Bild, wenn die Farbbildröhre Licht emittiert, nahe einem in 6 gezeigten Punkt P3 dunkel sein und an einem Punkt P4 eine andere Färbung als weiß haben, was zu einer Verschlechterung der Qualität eines Weißbildes führt.
In 7 ist das Intervall zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen der wirksamen Lochmaskenoberfläche auf der Basis der oben beschriebenen Funktion vierten Grades definiert. Aus diesem Grund ist das Intervall an einem Punkt M2 groß und an einem Punkt M3 klein. Andererseits ist die Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs durch eine relativ einfache quadratische Funktion oder dergleichen am Zwischenabschnitt zwischen dem Bildschirmzentrum und dem Ende der wirksamen Oberfläche so definiert, dass das Loch eine geeignete Größe am Bildschirmzentrum sowie am Ende der wirksamen Oberfläche aufweist. Die Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs kann an dem Punkt M2 kleiner sein oder an dem Punkt M3 größer sein als die angemessene Größe.
Genauer gesagt wird am Punkt M2, an dem das Intervall zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen relativ groß ist, die Hauptachsrichtungsgröße des Elektronen strahl-Durchgangslochs klein. Am Punkt M3, an dem das Intervall zwischen dem Elektronenstrahlen-Durchgangslochanordnungen relativ klein ist, wird die Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangs groß. Aus diesem Grund ist das Bild am Punkt M2 dunkel und am Punkt M3 hell, was eine Irregularität der Luminanz ergibt.
Angenommen, dass über der wirksamen Oberfläche der Lochmaske 6 die Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs gemäß einer einfachen quadratischen Funktion oder einer Funktion vierten Grades an vier Punkten O, M4, M5 und M6 in 7 eingestellt ist. In 8 sind die Hauptachsrichtungsgrößen von Elektronenstrahl-Durchgangslöchern von dem Punkt M1 auf der Hauptachse, der vom Zentrum der wirksamen Oberfläche der Lochmaske 6 um etwa ein Drittel einer Hauptachsrichtungsbreite w der wirksamen Oberfläche getrennt ist, bis zu dem Punkt M2, der entlang der Nebenachsrichtung um ein Viertel einer Breite H der Nebenachse getrennt ist, durch eine Gradkurve angegeben.
Wenn die Gradkurve von Hauptachsrichtungsgrößen von Elektronenstrahl-Durchgangslöchern durch eine quadratische Kurve 50 oder eine biquadratische Kurve 51 dargestellt wird, ergibt sich eine Fehlerabweichung von einer Ideal-Gradkurve 52 am Punkt M2. Wenn dieser Fehler zu groß oder zu klein in Bezug auf die Ideal-Gradkurve 52 ist, verschlechtert sich die Farbreinheit eines Weißbildes.
Offenbarung der Erfindung
Die vorliegende Erfindung ist getätigt worden, um das obige Problem zu lösen und ihre Aufgabe ist, eine Farbbildröhre bereitzustellen, die ein zufriedenstellendes Weißbild anzeigen kann. Um diese Aufgabe zu lösen, stellt die vorliegende Erfindung eine Farbbildröhre bereit, wie sie in Anspruch 1 oder Anspruch 2 definiert ist.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird eine Farbbildröhre bereitgestellt mit: einer Elektronenkanonenanordnung zum Emittieren mehrerer Elektronenstrahlen, einer Lochmaske, die eine im wesentlichen rechteckige wirksame Oberfläche aufweist, auf der Elektronenstrahl-Durchgangslöcher zum Durchlassen der mehreren von der Elektronenkanonenanordnung emittierten Elektronenstrahlen ausgebildet sind, und wobei mehrere Elektronenstrahl-Durchgangsloch-Anordnungen, die jeweils durch Anordnen der mehreren Elektronenstrahl-Durchgangslöcher entlang einer Nebenachse parallel zu einer kurzen Seite der wirksamen Oberfläche ausgebildet sind, entlang einer Hauptachse parallel zu einer langen Seite der wirksamen Oberfläche angeordnet sind, und einem Leuchtstoffschirm zum Emittieren von Licht beim Auftreffen der Elektronenstrahlen auf diesen, die durch die Elektronenstrahl-Durchgangslöcher der Lochmaske passiert sind, wobei in einem orthogonalen Koordinatensystem, das eine Mitte der wirksamen Oberfläche der Lochmaske als Ursprung sowie eine durch den Ursprung hindurchgehende Hauptachse und eine durch den Ursprung hindurchgehende Nebenachse als Koordinatenachsen verwendet, eine Größe in Hauptachsrichtung jedes der in der Lochmaske ausgebildeten Elektronenstrahl-Durchgangslöcher auf der Basis einer Funktion des orthogonalen Koordinatensystems so definiert ist, dass sich die Größe in Abhängigkeit von einer Position der wirksamen. Oberfläche ändert, und auf der Nebenachse die Lochgröße zunächst abnimmt und dann von dem Ursprung zur Langseite der wirksamen Oberfläche hin zunimmt, zunächst zunimmt und dann von einem Punkt auf der Hauptachse, der von dem Ursprung durch 1/3 einer Länge der Hauptachse getrennt ist, zu der langen Seite entlang der Nebenachse abnimmt, und auf der kurzen Seite der wirksamen Oberfläche zunächst abnimmt und dann von einem Ende der Hauptachse zu einer Ecke der wirksamen Oberfläche hin zunimmt.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird auch eine Farbbildröhre bereitgestellt mit: einer Elektronenkanonenanordnung zum Emittieren mehrerer Elektronenstrahlen, einer Lochmaske, die eine im wesentlichen rechteckige wirksame Oberfläche aufweist, auf der Elektronenstrahl-Durchgangslöcher zum Durchlassen der mehreren von der Elektronenkanonenanordnung emittierten Elektronenstrahlen ausgebildet sind, und wobei mehrere Elektronenstrahl-Durchgangsloch-Anordnungen, die jeweils durch Anordnen der mehreren Elektronenstrahl-Durchgangslöcher entlang einer Nebenachse parallel zu einer kurzen Seite der wirksamen Oberfläche ausgebildet sind, entlang einer Hauptachse parallel zu einer langen Seite der wirksamen Oberfläche angeordnet sind, und einem Leuchtstoffschirm zum Emittieren von Licht beim Auftreffen der Elektronenstrahlen auf diesen, die durch die Elektronenstrahl-Durchgangslöcher der Lochmaske passiert sind, wobei in einem orthogonalen Koordinatensystem, das eine Mitte der wirksamen Oberfläche der Lochmaske als Ursprung sowie eine durch den Ursprung hindurchgehende Hauptachse und eine durch den Ursprung hindurchgehende Nebenachse als Koordinatenachsen verwendet, eine Größe in Hauptachsrichtung jedes der in der Lochmaske ausgebildeten Elektronenstrahl-Durchgangslöcher auf der Basis einer Funktion des orthogonalen Koordinatensystems so definiert ist, dass sich die Größe in Abhängigkeit von einer Position auf der wirksamen Oberfläche ändert, und auf der Nebenachse die Lochgröße von dem Ursprung zu einem Zwischenabschnitt zwischen der Hauptachse und der langen Seite zu der langen Seite der wirksamen Oberfläche hin im wesentlichen konstant ist, und von dem Zwischenabschnitt an abnimmt, von einem Punkt auf der Hauptachse, der von dem Ursprung durch 1/3 einer Länge der Hauptachse getrennt ist, bis zu dem Zwischenabschnitt zwischen der Hauptachse und der langen Seite im wesentlichen konstant ist, von dem Zwischenabschnitt an zunimmt und auf der kurzen Seite der wirksamen Oberfläche von einem Ende Hauptachse zu einer Ecke der wirksamen Oberfläche hin zunimmt.
Gemäß der Farbbildröhre der vorliegenden Erfindung kann das Verhältnis der Hauptachsrichtungsgröße jedes der Elektronenstrahl-Durchgangslöcher, welche die Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung bilden, zu dem Intervall (Zentrum – Zentrumslochintervall) zwischen Elektronenstrahl-- Durchgangslochanordnungen auf einen angemessenen Wert eingestellt werden. Beispielsweise kann an den Punkten M2, M3 und M4 gemäß 7 das Verhältnis der Größe des Elektronenstrahl-Durchgangslochs zu dem Intervall zwischen Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen auf einen angemessenen Wert eingestellt werden.
Aus diesem Grund kann die Farbbildröhre ein zufriedenstellendes Weißbild durch Unterdrückender Luminanz-Irregularität anzeigen.
Kurzbeschreibung der Zeichnungen
Es zeigen:
1. Eine perspektivische Ansicht zur Darstellung der Anordnung einer Lochmaske, die für eine Farbbildröhre gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet wird,
2 eine Teilschnittansicht, die schematisch die Anordnung der Farbbildröhre gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
3 eine Schnittansicht, die schematisch die Anordnung einer herkömmlichen Farbbildröhre zeigt,
4 eine Ansicht zur Erläuterung einer Strahllandungsverschiebung infolge einer Wölbung an einer Lochmaske,
5 eine Ansicht zur Erläuterung der Entstehungssituation einer lokalen Wölbung an der Lochmaske,
6 eine Ansicht zur Darstellung eines Bereichs, in dem eine Strahllandungsverschiebung wegen einer lokalen Wölbung an der Lochmaske entsteht,
7 eine Ansicht zur Erläuterung eines Problems der Lochmaske, bei dem sich das Intervall zwischen Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen an der Lochmaske auf der Basis einer quadratischen Funktion des Abstands der Nebenachsrichtung von der Hauptachse ändert,
8 eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen dem Abstand der Nebenachsrichtung und der Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs von einem Punkt M1 zu einem Punkt M2 gemäß 7,
9 eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen dem Abstand der Hauptachsrichtung von der Nebenachse und der Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs,
10 eine Tabelle zur Darstellung der Verhältnisse des Intervalls (Lochmaskenteilung) zwischen einander benachbarten Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen zu der Hauptachsrichtungsgröße (Schlitzgröße) des Elektronenstrahl-Durchgangslochs von dem Punkt M1 zu einem Punkt M3 in 7,
11 eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen dem Abstand der Hauptachsrichtung und dem Verhältnis der Schlitzgröße zu der Lochmaskenteilung gemäß 7 von dem Punkt M1 zum Punkt M3,
12 eine Ansicht zur Darstellung eines Verteilungsbeispiels der Hauptachsrichtungsgrößen von Elektronenstrahl-Durchgangslöchern in einem Quadrant der wirksamen Lochmaskenoberfläche einer 34-Inch-Farbbildröhre (86,36 cm), auf die die vorliegende Erfindung angewandt ist, und
13 eine Ansicht zur Darstellung eines weiteren Verteilungsbeispiels der Hauptachsrichtungsgrößen von Elektronenstrahl-Durchgangslöchern in dem Quadrant an der wirksamen Lochmasken-Oberfläche der 34-Inch-Farbbildröhre (86,36 cm), auf die die vorliegende Erfindung angewandt ist.
Erste Ausführungsform der Erfindung
Eine Farbbildröhre gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird nachstehend im Detail mit Bezug auf die beigefügte Zeichnung beschrieben.
2 ist eine Teilschnittansicht einer Farbbildröhre gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, vorgenommen entlang der Horizontalrichtung, d. h., der X-Achsenrichtung.
Die Farbbildröhre hat einen Kolben, der von einer Platte 21 mit einem im wesentlichen rechteckigen wirksamen Abschnitt 20 mit gekrümmter Innenfläche gebildet ist, sowie einen Trichter 22 mit einer Trichterform, der an die Platte 21 angefügt ist. Ein Leuchtstoffschirm 23 mit drei Farbleuchtstoffschichten, die jeweils blaue (b), grüne (G) und rote (R) Lichtstrahlen emittieren, ist an der Innenfläche des wirksamen Abschnitts 20 der Platte 21 ausgebildet. Jeder der drei Farbleuchtstoffschichten hat eine entlang der Nebenachsrichtung des wirksamen Abschnitts 20, d. h. in der Vertikalrichtung langgestreckte Streifenform. Außerdem ist eine Lochmaske 25 mit einer im wesentlichen rechteckigen und gekrümmten wirksamen Oberfläche 24 mit einer großen Anzahl von Elektronenstrahl-Durchgangslöchern zum Passierenlassen von Elektronenstrahlen, die wie später beschrieben angeordnet sind, an ihrer Innenfläche dem Leuchtstoffschirm 23 gegenüber angeordnet.
Eine Elektronenkanonenanordnung 28 zum Emittieren dreier Elektronenstrahlen 27B, 27G und 27R, die in einer Linie in der Horizontalrichtung angeordnet sind, d. h., der X-Achsrichtung, ist in einem Hals 26 des Trichters 22 angeordnet. Die drei Elektronenstrahlen 27B, 27G und 27R werden durch ein Magnetfeld abgelenkt, das von einer an der Außenfläche des Trichters 22 angebrachten Ablenkvorrichtung 29 erzeugt wird. Wenn die Elektronenstrahlen 27B, 27G und 27R die Elektronenstrahl-Durchgangslöcher der Lochmaske 25 passieren und den Leuchtstoffschirm 23 in der Horizontal- und Vertikalrichtung abtasten, wird ein Farbbild angezeigt.
Wie in 1 gezeigt ist, bilden die Elektronenstrahl-Durchgangslöcher der Lochmaske 25 eine Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung 32, in der mehrere Elektronenstrahl-Durchgangslöcher 31 entlang der Nebenachsrichtung der wirksamen Oberfläche 24 angeordnet sind, d. h. entlang der Vertikalachse entsprechend der in 1 gezeigten Y-Achse. Mehrere Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen sind parallel entlang der Hauptachsrichtung angeordnet, d. h. entlang der der X-Achse in 1 entsprechenden Horizontalachse.
Genauer gesagt wird ein orthogonales Koordinatensystem definiert, das ein Zentrum O der wirksamen Oberfläche der Lochmaske 25 als seinen Ursprung benutzt, und die Haupt- und Nebenachsen der wirksamen Oberfläche als Koordinatenachsen. Bei diesem orthogonalen Koordinatensystem ist ein Inter vall PH(N) zwischen einer (N – 1)ten Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung 32 und einer N-ten Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung 32 von der Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung 32, die durch das Zentrum O der wirksamen Oberfläche 24 der Lochmaske 25 hindurchgeht, d. h. dem Ursprung zu der Peripherie entlang der Hauptachsrichtung, durch eine Funktion vierten Grades von N gegeben: PH(N) = A + BN2 + CN4 wobei A, B und C Funktionen vierten Grades eines Koordinatenwerts y jeweils entlang der Nebenachsrichtung sind, und C vorübergehend abnimmt und dann wieder zunimmt, wenn der Absolutwert des Koordinatenwerts y zunimmt. Die Vielzahl von Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32, die sich entlang der Nebenachse erstrecken, sind in der Hauptachsrichtung angeordnet. Die Koeffizienten A und B dieser Gleichung verändern sich gemäß dem Koeffizienten C so, dass die wirksame Oberfläche 24 eine im wesentlichen rechteckige Form aufweist. Wenn das Intervall zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32 an der Schattenmaske 25 auf der Basis dieser Gleichung eingestellt wird, kann eine Änderung der Position des Elektronenstrahl-Durchgangslochs infolge einer lokalen Wölbung an der Lochmaske 25 verhindert werden, so dass die Strahllandungsverschiebung vermieden werden kann.
An dem Koordinatensystem, das das Zentrum O der wirksamen Oberfläche 24 der Lochmaske 25 als den Ursprung verwendet und die Haupt- und Nebenachsen als Koordinatenachsen, wird die Größe des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 in einer Richtung parallel zu der Hauptachse der wirksamen Oberfläche 24, d. h. die Lochgröße, wie folgt eingestellt. Eine Hauptachsrichtungsgröße D(N) des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 der N-ten Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung 32 von der durch das Zentrum O der Lochmaske 25, d. h. den Ursprung hindurchgehenden Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung 32 ist durch eine Funktion vierten Grades von N gegeben: D(N) = a + bN2 + cN4 wobei a, b und c jeweils Funktionen vierten Grades eines Koordinatenwerts y entlang der Nebenachsrichtung sind.
Alternativ wird an dem Koordinatensystem, das das Zentrum O der wirksamen Oberfläche 24 der Lochmaske als Ursprung und die Haupt- und Nebenachsen als Koordinatenachsen verwendet, die Größe des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 in einer Richtung parallel zu der Hauptachse der wirksamen Oberfläche 24, d. h. die Lochgröße, wie folgt eingestellt bzw. festgelegt. Eine Hauptachsrichtungsgröße D(x, y) des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 der N-ten Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung 32 von der Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung 32, die durch das Zentrum O der Lochmaske 25, d. h. den Ursprung verläuft, ist durch eine Funktion vierten Grades des Koordinatenwerts x entlang der Hauptachsrichtung und des Koordinatenwerts y entlang der Nebenachsrichtung gegeben: D(x, y) = a0 + a1x2 + a2x4 + a3y2 + a4x2y2 + a5x4y2 + a6y4 + a7x2y4 + a8x4y4 wobei a₀ bis a₈ Koeffizienten sind.
Die Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 der Lochmaske 25 wird auf der Basis dieser Gleichung eingestellt. Die Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung 32 mit einem durch PH(N) = A + BN2 + CN4 gegebenen Intervall kann in angemessener Weise die Hauptachsrichtungsgröße jeder der diese Linie bildenden Elektronenstrahl-Durchgangslöcher 31 an einer entsprechenden Position einstellen.
D. h., die Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32 sind nicht parallel entlang der Nebenachsrichtung angeordnet.
Stattdessen ist das Intervall PH(N) zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32, die einander benachbart sind, auf der Basis der Funktion vierten Grades von N definiert. Aus diesem Grund kann das Intervall zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32 klein (hohe Dichte) oder groß (niedrige Dichte) sein, je nach der Position entlang der Nebenachsrichtung der wirksamen Oberfläche 24. Wenn die Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 im wesentlichen konstant gestaltet oder gemäß einer relativ einfachen quadratischen Funktion unabhängig von dem Intervall zwischen der Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung 32 definiert wird, kann der Bildschirm an einem Abschnitt, an dem das Intervall zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32 klein ist, hell sein, oder einem Abschnitt, an dem das Intervall zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32 groß ist, dunkel sein, was zu einer Unregelmäßigkeit der Lichtstärke führt. Diese Erscheinung ist bei der Anzeige eines Weißbildes unerwünscht.
Um dies zu verhindern, wird die Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 auf der Basis des Intervalls zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32 wie bei dieser Ausführungsform definiert. Genauer gesagt wird die Hauptachsrichtungsgröße relativ klein gestaltet, wenn die Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32 mit hoher Dichte angeordnet sind, oder relativ groß, wenn die Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32 mit niedriger Dichte angeordnet. sind. Dies bedeutet, dass das Verhältnis der Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 zu dem Intervall zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32 im wesentlichen konstant ist, und zwar unabhängig von der Position der wirksamen Oberfläche.
Bei dieser Anordnung kann, wenn ein Bild, und insbesondere ein Weißbild an dem Leuchtstoffschirm angezeigt wird, die Schwankung der Luminanz am Bildschirm gemindert werden, so dass ein Farbbild mit zufriedenstellender Farbreinheit angezeigt werden kann.
Wenn die Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 auf der Basis der oben beschriebenen Gleichung eingestellt wird: D(N) = a + bN2 + cN4 oder D(x, y) = a0 + a1x2 + a2x4 + a3y2 + a4x2y2 + a5x4y2 + a6y4 + a7x2y4 + a8x4y4 ändert sich die Hauptachsrichtungsgröße D(N) oder D(x, y) des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 von einem Punkt M1 auf der Hauptachse (X-Achse), der von dem Zentrum O der wirksamen Oberfläche 24 der Lochmaske um etwa 1/3 der Breite w' der Hauptachse der wirksamen Oberfläche getrennt ist, zu einem Punkt M2, der von dem Punkt M1 um etwa 1/4 einer Breite H' der Kurzseite entlang der Nebenachse (Y-Achse) getrennt ist, wie 7 zeigt, um im wesentlichen mit einer idealen Gradkurve 52 gemäß 8 übereinzustimmen.
Auf ähnliche Weise ändert sich, wenn die Hauptachsrichtungsgröße D(N) des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 auf der Basis der oben beschriebenen Gleichung eingestellt wird, die Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 entsprechend einer in 9 gezeigten Gradkurve, wenn sich die Position des Elektronenstrahl-Durchgangslochs von der Nebenachse, d. h. der in 7 gezeigten Y-Achse zu der Hauptachse, d. h. der X-Achse bewegt.
Eine durch eine durchgezogene Linie in 9 angedeutete Gradkurve A zeigt eine Änderung in der Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 auf der Hauptachse, d. h. der x-Achse. Eine durch eine alternierend lang und kurz gestrichelte Linie angegebene Gradkurve B zeigt eine Änderung in der Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 auf einer Linie entlang der X-Achse von dem Zwischenpunkt zwischen dem Zentrum O der wirksamen Oberfläche und einem Endabschnitt M4 der Y-Achse. Eine durch eine alternierend lang und doppelt-kurz gestrichelte Linie angegebene Gradkurve C zeigt eine Änderung in der Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 auf einer Linie entlang der X-Achse von dem Endabschnitt M4 der Y-Achse zu einem Diagonalpunkt M6.
Wenn die Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 in angemessener Weise an einer beliebigen Position der wirksamen Oberfläche eingestellt wird, kann das Verhältnis der Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 zu dem Intervall zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32 im wesentlichen konstant gestaltet werden.
Als nächstes wird ein Fall beschrieben, bei dem die vorliegende Erfindung auf eine Farbbildröhre angewandt ist, deren Leuchtstoffschirm eine Diagnonallänge von 86,36 cm (34 Inch) aufweist.
Es wird davon ausgegangen, dass die Hauptachsrichtungsgröße D(x, y) des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 auf der Basis der folgenden Gleichung definiert ist: D(x, y) = a0 + a1x2 + a2x4 + a3y2 + a4x2y2 + a5x4y2 + a6y4 + a7x2y4 + a8x4y4
Von den Koeffizienten a₀ bis a₈ entspricht a₀ der Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 am Zentrum der wirksamen Lochmaskenoberfläche, d. h. dem Ursprung O.
12 ist eine Ansicht zur Darstellung eines Verteilungsbeispiels der Hauptachsrichtungsgrößen der Elektronenstrahl-Durchgangslöcher 31 in einem Quadranten der wirksamen Lochmaskenoberfläche der Farbbildröhre von 86,36 cm (34 Inch), auf die die vorliegende Erfindung angewandt ist.
Wie in 12 gezeigt ist, beträgt an der Y-Achse die Lochgröße 0,220 mm am Ursprung O, 0,215 mm an dem Zwischenpunkt zwischen dem Ursprung O und dem Ende der Y-Achse und 0,195 mm am Ende der Y-Achse. An der Nebenachse der wirksamen Oberfläche ist die Lochgröße im wesentlichen konstant vom Ursprung O zu dem Zwischenpunkt und nimmt allmählich vom Zwischenpunkt zum Ende der Y-Achse ab. In diesem Beispiel nimmt die Lochgröße mit sehr geringer Rate in dem Abschnitt, in dem die Lochgröße im wesentlichen konstant ist, ab.
An dem Punkt M1 beträgt die Lochgröße 0,234 mm; am Punkt M2 0,237 mm und am Punkt M3 0,247 mm.
Die Lochgröße ist entlang der Y-Achse vom Punkt M1 an der X-Achse, der von dem Ursprung O der wirksamen Oberfläche um ein Drittel der Länge der Hauptachse getrennt ist, zu dem Zwischenpunkt zwischen der X-Achse und der Langseite im wesentlichen konstant, und nimmt allmählich von dem Zwischenpunkt zum Punkt M3 an der Langseite zu. In diesem Beispiel nimmt die Lochgröße mit sehr geringer Rate in dem Abschnitt, in dem die Lochgröße im wesentlichen konstant ist, zu.
An der Kurzseite der wirksamen Oberfläche beträgt die Lochgröße am Ende der X-Achse 0,269 mm, am Zwischenpunkt zwischen dem Ende der X-Achse und der Ecke der wirksamen Oberfläche O, d. h. dem Diagonalende 0,271 mm, und am Diagonalende 0,274 mm. An der Kurzseite der wirksamen Oberfläche nimmt die Lochgröße allmählich vom Ende der X-Achse zum Diagonalende zu. In diesem Beispiel nimmt die Lochgröße mit sehr geringer Rate in dem Abschnitt, in dem die Lochgröße im wesentlichen konstant ist, zu.
10 ist eine Tabelle zur Darstellung der Verhältnisse der Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs 31 zu dem Intervall zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32, die aneinandergrenzen, d. h. der Lochmaskenteilung von dem Punkt M1 an der Hauptachse, die vom Zentrum der wirksamen Oberfläche 24 der Lochmaske um etwa ein Drittel der Breite w' der Hauptachse der wirksamen Oberfläche getrennt ist, zu dem Punkt M3, der entlang der Nebenachse um etwa 1/2 der Breite H' der Kurzseite getrennt ist, wie 7 zeigt.
In dieser Tabelle werden die Verhältnisse der Schlitz größe zu den Lochmaskenteilungen an den Punkten M1, M2 und M3 für jeden Fall verglichen, bei dem die Schlitzgröße auf der Basis der üblicherweise angewandten Gleichung definiert ist, einen Fall, bei dem die in dieser Ausführungsform beschriebene Gleichung angewandt wird, und für einen Idealfall.
11 ist eine graphische Darstellung der in 10 gezeigten Beziehungen.
Die durchgezogene Linie in 11 gibt das Verhältnis der Schlitzgröße zu der Lochmaskenteilung im Idealfall sowie in dem Fall an, bei dem die Schlitzgröße durch Anwendung folgender Gleichung definiert ist. D(x, y) = a0 + a1x2 + a2x4 + a3y2 + a4x2y2 + a5x4y2 + a6y4 + a7x2y4 + a8x4y4
Die gestrichelte Linie in 11 gibt das Verhältnis der Schlitzgröße zur Lochmaskenteilung in dem Fall an, in dem die Schlitzgröße auf der Basis der üblicherweise angewandten Gleichung definiert ist.
Wie aus 10 und 11 hervorgeht, stimmt der Fall, bei dem die in der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschriebene Gleichung benutzt wird, mit dem Idealfall überein. Der Fall jedoch, bei dem die übliche Gleichung verwendet wird, weicht vom Idealfall ab. Insbesondere am Punkt M3 entsteht ein großer Unterschied.
Wie oben beschrieben wurde, wenn die Schlitzgröße gemäß der oben beschriebenen Gleichung als D(x, y) = a0 + a1x2 + a2x4 + a3y2 + a4x2y2 + a5x4y2 + a6y4 + a7x2y4 + a8x4y4 definiert ist, kann das Verhältnis der Schlitzgröße zur Lochmaskenteilung im wesentlichen so gestaltet werden, dass es mit dem Idealwert übereinstimmt, und dieses Verhältnis kann im wesentlichen konstant gehalten werden.
In diesem Fall sind die Verhältnisse der Schlitzgröße zu Lochmaskenteilungen an den Punkten M1, M2 und M3 verglichen worden. Dieses Verhältnis kann aber auch an irgendeiner anderen beliebigen Position im wesentlichen konstant gestaltet werden.
Daher kann das Verhältnis der Hauptachsrichtungs-Lochgröße zu dem Intervall zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32 im wesentlichen konstant gestaltet werden, unabhängig von der Position der wirksamen Oberfläche. Wenn bei dieser Anordnung ein Bild, und insbesondere ein Weißbild am Leuchtstoffschirm angezeigt wird, kann die Luminanzschwankung am Bildschirm unterdrückt werden, so dass ein Farbbild mit zufriedenstellender Farbreinheit angezeigt werden kann.
Auch wenn die Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs gemäß der anderen Gleichung eingestellt wird, die in dieser Ausführungsform beschrieben wurde: D(N) = a + bN2 + cN4 kann natürlich das gleiche Ergebnis erhalten werden, wie es oben beschrieben wurde.
13 ist eine Ansicht zur Darstellung eines weiteren Verteilungsbeispiels der Hauptachsrichtungsgrößen der Elektronenstrahl-Durchgangslöcher 31 in dem Quadranten der wirksamen Lochmasken-Oberfläche.
Gemäß 13 sei auf der Y-Achse D1 die Lochgröße am Ursprung O, D2 die Lochgröße am Zwischenpunkt zwischen dem Ursprung O und dem Ende der Y-Achse, und D3 die Lochgröße am Ende der Y-Achse. An der Nebenachse der wirksamen Oberfläche nimmt die Lochgröße allmählich vom Ursprung O bis zum Zwischenpunkt ab, und nimmt vom Zwischenpunkt zum Ende der Y-Achse zu.
D4 sei die Lochgröße am Punkt M1, D5 sei die Lochgröße am Punkt M2, und D6 sei die Lochgröße am Punkt M3. Die Lochgröße nimmt allmählich vom Punkt M1 an der X-Achse der wirksamen Oberfläche zu, die vom Ursprung O um ein Drittel der Länge der Hauptachse getrennt ist, und zwar bis in Nähe des Zwischenpunkts zwischen der X-Achse und der Langseite in einer Richtung parallel zu der Y-Achse, und nimmt allmählich vom Zwischenpunkt zu dem Punkt M3 an der Langseite ab.
An der Kurzseite der wirksamen Oberfläche sei D7 die Lochgröße am Ende der X-Achse, D8 sei die Lochgröße an dem Zwischenpunkt zwischen dem Ende der X-Achse und der Ecke der wirksamen Oberfläche, d. h. dem diagonalen Ende, und D9 sei die Lochgröße am diagonalen Ende. An der Kurzseite der wirksamen Oberfläche nimmt die Lochgröße allmählich vom Ende der X-Achse zu dem Zwischenpunkt ab und nimmt allmählich vom Zwischenpunkt zum diagonalen Ende hin zu.
D. h., die Funktion D (x, y), welche die Lochgröße definiert, hat einen Umkehrpunkt nahe dem Zwischenpunkt.
Auch wenn die Hauptachsrichtungs-Lochgrößen der Elektronenstrahl-Durchgangslöcher gemäß 13 verteilt sind, kann die gleiche Wirkung, wie sie oben beschrieben wurde, erhalten werden.
Wie oben beschrieben wurde, kann auch dann, wenn die Anordnung der Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen an der Lochmaske auf der Basis des Polynoms vierten Grades eingestellt wird, das Elektronenstrahl-Durchgangsloch 31 eine angemessene Hauptachsrichtungsgröße an einer beliebigen Position aufweisen, und das Verhältnis der Hauptachsrichtungs-Lochgröße zu dem Intervall zwischen Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen 32 kann im wesentlichen konstant gestaltet werden. Aus diesem Grund kann eine Farbbildröhre gebildet werden, die in der Lage ist, ein Weißbild ohne Minderung der Farbreinheit anzuzeigen.
Industrielle Anwendbarkeit
Wie oben beschrieben wurde, kann gemäß der vorliegenden Erfindung durch Optimieren des Verhältnisses der Hauptachsrichtungsgröße des Elektronenstrahl-Durchgangslochs der Lochmaske zu dem Intervall zwischen den Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnungen eine Farbbildröhre bereitgestellt werden, welche ein zufriedenstellendes Weißbild anzeigen kann.

Claims

Farbbildröhre mit: einer Elektronenkanonenanordnung (28) zum Emittieren mehrerer Elektronenstrahlen (27R, G, B), einer Lochmaske (25), die eine im wesentlichen rechteckige wirksame Oberfläche (24) aufweist, auf der Elektronenstrahl-Durchgangslöcher (31) zum Durchlassen der mehreren von der Elektronenkanonenanordnung (28) emittierten Elektronenstrahlen (27R, G, B) ausgebildet sind, und wobei mehrere Elektronenstrahl-Durchgangsloch-Anordnungen (32), die jeweils durch Anordnen der mehreren Elektronenstrahl-Durchgangslöcher (31) entlang einer Nebenachse parallel zu einer kurzen Seite der wirksamen Oberfläche ausgebildet sind, entlang einer Hauptachse parallel zu einer langen Seite der wirksamen Oberfläche (24) angeordnet sind, und einem Leuchtstoffschirm (23) zum Emittieren von Licht beim Auftreffen der Elektronenstrahlen (27R, G, B) auf diesen, die durch die Elektronenstrahl-Durchgangslöcher (31) der Lochmaske (25) passiert sind, dadurch gekennzeichnet, dass in einem orthogonalen Koordinatensystem, das eine Mitte der wirksamen Oberfläche (24) der Lochmaske (25) als Ursprung (O) sowie eine durch den Ursprung (O) hindurchgehende Hauptachse und eine durch den Ursprung (O) hindurchgehende Nebenachse als Koordinatenachsen (X, Y) verwendet, eine Größe (D) in Hauptachsrichtung jedes der in der Lochmaske (25) ausgebildeten Elektronenstrahl-Durchgangslöcher (31) auf der Basis einer Funktion des orthogonalen Koordinatensystems so definiert ist, dass sich die Größe in Abhängigkeit von einer Position der wirksamen Oberfläche (24) ändert, und auf der Nebenachse die Lochgröße (D) zunächst abnimmt und dann von dem Ursprung (O) zur Langseite der wirksamen Oberfläche (24) hin zunimmt, zunächst zunimmt und dann von einem Punkt (M1) auf der Hauptachse, der von dem Ursprung (O) durch ein Drittel einer Länge (w') der Hauptachse getrennt ist, zu der langen Seite entlang der Nebenachse abnimmt, und auf der kurzen Seite der wirksamen Oberfläche (24) zunächst abnimmt und dann von einem Ende (M5) der Hauptachse zu einer Ecke (M6) der wirksamen Oberfläche (24) hin zunimmt.
Farbbildröhre mit: einer Elektronenkanonenanordnung (28) zum Emittieren mehrerer Elektronenstrahlen (27R, G, B), einer Lochmaske (25), die eine im wesentlichen rechteckige wirksame Oberfläche (24) aufweist, auf der Elektronenstrahl-Durchgangslöcher (31) zum Durchlassen der mehreren von der Elektronenkanonenanordnung (28) emittierten Elektronenstrahlen (27R, G, B) ausgebildet sind, und wobei mehrere Elektronenstrahl-Durchgangsloch-Anordnungen (32), die jeweils durch Anordnen der mehreren Elektronenstrahl-Durchgangslöcher (31) entlang einer Nebenachse parallel zu einer kurzen Seite der wirksamen Oberfläche ausgebildet sind, entlang einer Hauptachse parallel zu einer langen Seite der wirksamen Oberfläche (24) angeordnet sind, und einem Leuchtstoffschirm (23) zum Emittieren von Licht beim Auftreffen der Elektronenstrahlen (27R, G, B) auf diesen, die durch die Elektronenstrahl-Durchgangslöcher (31) der Lochmaske (25) passiert sind, dadurch gekennzeichnet, dass in einem orthogonalen Koordinatensystem, das eine Mitte der wirksamen Oberfläche (24) der Lochmaske (25) als Ursprung (O) sowie eine durch den Ursprung (O) hindurchgehende Hauptachse und eine durch den Ursprung (O) hindurchgehende Nebenachse als Koordinatenachsen (X, Y) verwendet, eine Größe (D) in Hauptachsrichtung jeder der in der Lochmaske (25) ausgebildeten Elektronenstrahl-Durchgangslöcher (31) auf der Basis einer Funktion des orthogonalen Koordinatensystems so definiert ist, dass sich die Größe in Abhängigkeit von einer Position auf der wirksamen Oberfläche (24) ändert, und auf der Nebenachse die Lochgröße (D) von dem Ursprung (O) zu einem Zwischenabschnitt zwischen der Hauptachse und der langen Seite zu der langen Seite der wirksamen Oberfläche (24) hin im wesentlichen konstant ist, und von dem Zwischenabschnitt an abnimmt, von einem Punkt (M1) auf der Hauptachse, der von dem Ursprung (O) durch ein Drittel einer Länge (w') der Hauptachse getrennt ist, bis zu dem Zwischenabschnitt (M2) zwischen der Hauptachse und der langen Seite im wesentlichen konstant ist, von dem Zwischenabschnitt (M2) an zunimmt und auf der kurzen Seite der wirksamen Oberfläche (24) von einem Ende (M5) der Hauptachse zu einer Ecke (M6) der wirksamen Oberfläche (24) hin zunimmt.
Röhre nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Funktion zum Definieren der Größe (D) in der Hauptachsrichtung des in der Lochmaske (25) ausgebildeten Elektronenstrahl-Durchgangslochs (31) durch eine biquadratische Gleichung oder eine Gleichung höherer Ordnung beider orthogonaler Koordinaten gegeben ist.
Röhre nach Anspruch 3, wobei die Funktion zum Definieren der Größe (D) in der Hauptachsrichtung des in der Lochmaske (25) ausgebildeten Elektronenstrahl-Durchgangslochs (31) einen Wendepunkt nahe dem Zwischenabschnitt zwischen der Hauptachse und der langen Seite der wirksamen Oberfläche (24) aufweist.
Röhre nach Anspruch 3, wobei ausgehend davon, dass D(N) die Größe in der Hauptachsrichtung des Elektronenstrahl-Durchgangslochs (31) einer N-ten Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung (32) von der durch den Ursprung (O) gehenden Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung (32) ist, die Funktion zur Definition der Größe (D) in der Hauptachsrichtung des in der Lochmaske (25) ausgebildeten Elektronenstrahl-Durchgangslochs (31) durch die biquadratische Funktion von N gegeben ist: D(N) = a + bN2 + cN4 wobei a, b und c jeweils biquadratische Funktionen eines Koordinatenwerts entlang der Nebenachsrichtung in dem orthogonalen Koordinatensystem sind, welches die Neben- und Hauptachsen als Koordinatenachsen verwendet.
Röhre nach Anspruch 3, wobei unter der Annahme, dass D(x, y) die Größe in der Hauptachsrichtung des Elektronenstrahl-Durchgangslochs (31) einer n-ten Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung (32) von der durch den Ursprung (O) hindurchgehenden Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung (32) ist, ist die Funktion zur Definition der Größe (D) in der Hauptachsrichtung des in der Lochmaske (25) ausgebildeten Elektronenstrahl-Durchgangslochs (31) gegeben durch: D(x, y) = a0 + a1x2 + a2x4 + a3y2 + a4x2y2 + a5x4y2 + a6y4 + a7x2y4 + a8x4y4 wobei y ein Koordinatenwert auf der Nebenachse ist, x ein Koordinatenwert auf der Hauptachse ist, und a0 bis a5 Koeffizienten sind.
Röhre nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei auf der wirksamen Oberfläche (24) der Lochmaske (25) die Größe (D) in der Hauptachsrichtung des Elektronenstrahl-Durchgangslochs (31) so definiert ist, dass ein Verhältnis der Größe (D) in der Hauptachsrichtung des jeweiligen Elektronenstrahl-Durchgangslochs (31) zu einem Intervall von Lochmitte zu Lochmitte zwischen dem Elektronenstrahl-Durchgangsloch (31) und einem in einer Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung (32) in der Hauptachsrichtung angrenzend an die das Elektronenstrahl-Durchgangsloch (31) enthaltende Elektronenstrahl-Durchgangslochanordnung (32) befindlichen Elektronenstrahl-Durchgangsloch (31) so definiert ist, dass es an einer beliebigen Position der wirksamen Oberfläche (24) im wesentlichen konstant ist.