DE3402857A1

DE3402857A1 - Farbbildroehre mit inline-elektronenstrahlerzeugungssystem

Info

Publication number: DE3402857A1
Application number: DE19843402857
Authority: DE
Inventors: Hsing-Yao Landisville Pa. Chen
Original assignee: RCA Corp
Current assignee: RCA Licensing Corp
Priority date: 1983-01-27
Filing date: 1984-01-27
Publication date: 1984-08-02
Also published as: JPH0367295B2; IT8419276A0; FR2540288A1; GB2135507A; US4513222A; KR910003166B1; FR2540288B1; KR840007301A; DE3402857C2; IT1173107B; GB2135507B; HK41491A; CA1206512A; JPS59143241A; GB8402100D0

Description

RCA 78695 MvB/Ri

RCA Corporation New York, N.Y. 10020, V.St.A.

Farbbildöhre mit Inline-Elektronenstrahlerzeugungssystem

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Farbbildröhre gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1. Insbesondere betrifft die Erfindung eine Farbbildröhre mit einem verbesserten Inline-Elektronenstrahlerzeugungssystem und vor allem Maßnahmen zur Verringerung der horizontalen Auswanderung der äußeren Elektronenstrahlen infolge der an die Systeme angelegten Fokussierspannung.

Ein Inline-Elektronenstrahlerzeugungssystem liefert im allgemeinen drei Elektronenstrahlen, die in einer Ebene längs konvergierender Wege verlaufen und in einem Punkt oder kleinen Konvergenzbereich in der Nähe des BiId-. schirms der Röhre konvergieren. Bei einem aus der US-PS 3,772,554 bekannten Inline-Elektronenstrahlerzeugungssystem werden die elektrostatischen Hauptfokussierungslinsen zur Fokussierung der Elektronenstrahlen zwischen zwei Elektroden erzeugt, die als erste und zweite Beschleunigungs- und Fokussierelektrode bezeichnet werden. Diese Elektroden enthalten zwei becherförmige Teile, 0 deren Böden einander zugewandt sind, d.h. sich gegenüberliegen. Jeder Becherboden hat drei öffnungen, die den Durchtritt der·drei Elektronenstrahlen erlauben und drei getrennte Hauptfokussierungslinsen, eine pro Elektronenstrahl, bilden. Bei derartigen Elektronen-

Strahlerzeugungssystemen wird die Konvergenz der äußeren Strahlen bezüglich des Mittelstrahls im allgemeinen durch Versetzen der äußeren öffnungen in der zweiten Fokussierungselektrode bezüglich der äußeren öffnungen in der ersten Fokussierungselektrode bewerkstelligt.

Es hat sich gezeigt, daß die horizontalen Strahlauftreffflecken der äußeren Elektronenstrahlen in Farbbildröhren mit einem Elektronenstrahlerzeugungssystem der oben beschriebenen Art sich bei Änderungen der dem Strahlerzeugungssystem zugeführten Fokussierungsspannung ändern. Es ist daher wünschenswert, solche Inline-Strahlerzeugungssysteme dahingehend zu verbessern, daß die Empfindlichkeit gegen Fokussierungsspannungsänderungen beseitigt oder zumindest verringert wird.

Aus der DE-OS 33 04 209 ist eine Konstruktion zur Verringerung der durch Änderungen der Fokussierungsspannung verursachten horizontalen Auswanderung der äußeren Elektronenstrahlen bekannt. Bei dieser Konstruktion, die mit einer Endanodenspannung von 25kV und einer Fokussierungsspannung von 7kV arbeitet, sind in einem Teil der Fokussierungselektrode, der einer Schirmgitterelektrode gegenüberliegt, zwei schlitzförmige öffnungen gebildet.

Die schlitzförmigen öffnungen liegen außerhalb und nahe bei den beiden äußeren Strahlöffnungen der Fokussierungselektrode. Die schlitzförmigen öffnungen verursachen eine Verzerrung des elektrostatischen Feldes, das zwischen der Fokussierungselektrode und der Schirmgitterelektrode an den äußeren Strahlöffnungen erzeugt wird, so daß die beiden äußeren Strahlen zum Mittelstrahl hin konvergieren. Die Abstände zwischen den zusätzlichen Schlitzöffnungen und den äußeren Strahlöffnungen, d.h. die Stegbreite, liegt im Bereich von 0,60 mm bis 1,50 mm.

Da die Dicke der Fokussierungselektrode nur 0,25 mm beträgt, hat der Metallsteg, der die Strahlöffnungen

von den Schlitzöffnungen trennt, keine große mechanische und strukturelle Festigkeit, so daß er während der Montage- und Einschmelzoperation verformt werden kann, bei der Führungs- oder Justierstifte in die Strahlöffnungen eingeführt werden« Da die Elektronenstrahlen in der Nähe der Fokussierungselektrode eine hohe Geschwindigkeit aufweisen, ist es unmöglich, die Schlitzöffnungen in der Fokussierelektrode von den äußeren Strahlöffnungen weiter nach außen zu verlegen, um so den Steg zu verstärken, da damit die Wirkung der Schlitzöffnungen auf das elektrostatische Feld bis zu einem Punkt verringert würde, bei dem nur noch eine geringe Rekonvergenz der äußeren Strahlen zum Mittelstrahl hin auftreten würde.

Bei manchen Anwendungen ist es von Vorteil, das Elektronenstrahlerzeugungssystem bei einem Endanodenpotential von 3OkV mit einer Fokussierungsspannung von 8,5kV zu betreiben. Der Elektronenstrahl würde bei einem solchen Elektronenstrahlerzeugungssystem in der Nähe der 0 Fokussierungselektrode sogar noch höhere Geschwindigkeiten erreichen als bei dem oben beschriebenen Elektronenstrahlerzeugungssystem, das mit einem Endanodenpotential von 25kV und einer Fokussierungsspannung von 7kV arbeitet. Die Geschwindigkeit von Elektronen ist bekanntlich proportional der Quadratwurzel der Beschleunigungsspannung, deshalb müßte man nach der oben genannten US-Patentschrift die Schlitzöffnungen näher als die erwähnten 0,6 bis 1,5 mm a.n den Strahlöffnungen anordnen, um die benötigte Rekonvergenz zu erreichen. Eine solche Anordnung würde die Stegbreite zwischen den äußeren Strahlöffnungen und den Stützöffnungen jedoch in einem Maße verringern, daß es mit allergrößter Wahrscheinlichkeit zur Verformung der äußeren Strahlöffnungen der Fokussierungselektrode kommen wird.

Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Inline-Elektronenstrahlerzeugungssystem für eine Elektronenstrahlröhre, z.B. eine Farbbildröhre, durch Hinzufügen zweier Rekonvergenz-Schlitze verbessert, die nahe genug an und einwärts von den beiden öffnungen in einem Teil einer Schirmgitterelektrode liegen, der einer Beschleunigungs- und Fokussierungselektrode gegenüberliegt, um eine Verzerrung des elektrostatischen Feldes zu bewirken, das zwischen der Fokussierungselektrode und der Schirmgitterelektrode bei den beiden öffnungen entsteht.

Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung in Bezug auf die Zeichnungen näher erläutert. Weder die Ausführungsbeispiele noch ihre Anwendung sind einschränkend auszulegen.

Es zeigen:

Figur 1 eine teilweise axial geschnittene Draufsicht einer Schattenmaskenbildröhre, bei der die Erfindung Anwendung finden kann;

Figur 2 einen Axialschnitt eines in Figur 1 nur gestrichelt angedeuteten Elektronenstrahlerzeugungssystems gemäß einer Ausführungsform der Erfindung;

Figur 3 einen vergrößerten Aufriß einer G2-Elektrode in

einer Ebene 3-3 der Figur 2; 30

Figur 4 eine vergrößerte, geschnittene Draufsicht von Teilen der G2- und der G3-Elektrode eines bekannten Elektronenstrahlerzeugungssystems, und der zugehörigen elektrostatischen Äquipotential-Feldlinien;

Figur 5 eine vergrößerte geschnittene Draufsicht von

Teilen der G2- und der G3-Elektroden des Elektronenstrahlerzeugungssystems gemäß Figur 2, in der ebenfalls die zugehörigen elektrostatisehen Äquipotential-Feldlinien dargestellt sind;

Figur 6 einen vergrößerten Querschnitt der G2-Elektrode in einer Ebene 6-6 der Figur 3;

Figur 7 einen vergrößerten Aufriß einer anderen Ausführungsform einer G2-Elektrode;

Figur 8 einen vergrößerten Querschnitt der G2-Elektrode in einer Ebene 8-8 der Figur 7.

Figur 1 ist ein Grundriß einer Rechteck-Farbbildröhre 10 mit einem Glaskolben 11, der eine rechteckige Frontglaswanne 12 sowie einen rohrförmigen Hals 14, die durch einen rechteckigen Trichter 16 verbunden sind, enthält. Die Frontglaswanne enthält eine Bildschirmfläche oder Frontplatte 18 sowie einen ümfangsflansch und eine Seitenwand 20, die mit dem Trichter 16 dicht verbunden ist. Die Innenfläche der Frontplatte 18 trägt einen Dreifarben-Leuchtstoffmosaik-Bildschirm 22. Der Bildschirm 22 ist vorzugsweise ein Streifen- oder Linienschirm mit Leuchtstoff streif en, die im wesentlichen senkrecht zur Richtung der hochfrequenten Zeilenabtastung der Röhre (senkrecht zur Ebene der Figur 1) verlaufen. Der Bildschirm kann auch ein bekannter Punktrasterschirm sein. Eine Farb-Selektionselektrode mit vielen Löchern oder Schattenmaske 24 ist auf herkömmliche Weise in vorbestimmtem Abstand vom Schirm 22 angebracht. Ein verbessertes Inline-Elektronenstrahlerzeugungssystem 26, das in Figur 1 schematisch durch gestrichelte Linien dargestellt ist, ist zentrisch im Hals 14 angeordnet, um drei Elektronenstrahlen 28 längs beabstandeter koplanarer konvergierender

Wege durch die Maske 24 auf den Schirm 22 zu richten.

Die Röhre gemäß Figur 1 ist für die Verwendung mit einem äußeren magnetischen Ablenkjoch bestimmt, z.B. dem Joch 30 das, wie schematisch dargestellt, den Hals 14 und den Trichter 16 in der Nähe ihrer Verbindung umgibt. Das Joch 30 wird mittels einer nicht dargestellten AblenkjochJustiermaschine bezüglich der Röhre 10 exakt einjustiert. Während der Justierung der Lage des Ablenk-Joches wird die Röhre mit der optimalen Fokussierungsspannung betrieben. Eine horizontale Verstellung des Joches 30 bezüglich der Elektronenstrahlen vergrößert dabei die Breite und Höhe des Rasters, das durch einen der äußeren Strahlen erzeugt wird während die Höhe und die Breite des Rasters des anderen äußeren Strahles hingegen verringert wird. Eine vertikale Verstellung des Jochs verursacht eine Drehung der Raster der äußeren Strahlen, wobei das des einen Strahls in Uhrzeigerrichtung und das des anderen gegen den Uhrzeiger gedreht wird.

Nach dem Justieren wird das Joch z.B. durch einen wärmeschmelzenden Kleber in seiner Position fixiert. Bei seiner Aktivierung setzt das Joch 30 die drei Strahlen 28 einem Vertikal- und einem Horizontal-Magnetfluß aus, die eine horizontale bzw. vertikale Ablenkung der Strahlen in einem rechteckigen Raster über den Bildschirm bewirken. Die anfängliche Ablenkebene (bei der Ablenkung Null) ist durch eine Linie P-P in Figur 1 ungefähr in der Mitte des Joches 30 dargestellt. Die tatsächliche Krümmung der abgelenkten Strahlwege in der Ablenkzone ist in Figur 1 der Einfachheit halber nicht dargestellt. Eine Nachstellung oder Änderung der Fokussierspannung abweichend von der optimalen Fokussierspannung, die während des oben beschriebenen Justiervorganges verwendet wurde, ändert das Verhältnis von Fokussierungsspannung zu Endanodenspannung des Elektronenstrahlerzeugungssystems und verursacht eine Änderung der relativen Stärke

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ί oder Brennweite der elektrostatischen Hauptfokussierungslinse, was zu einem Konvergenzfehler der äußeren Strahlen bezüglich des Mittelstrahles führt.

In Figur 2 sind Einzelheiten eines Ausführung'sbeispiels eines verbesserten Elektronenstrahlerzeugungssystems 2 6 dargestellt. Das Elektronenstrahlerzeugungssystem enthält zwei Glasträgerstäbe 32 (von denen nur einer sichtbar ist), an denen die verschiedenen Elektroden montiert sind. Diese Elektroden umfassen drei gleich beabstandete koplanare Kathodenanordnungen 34 (eine pro Strahl), eine Steuergitterelektrode 36 (G1), eine Schirmgitterelektrode 38 (G2), eine erste Beschleunigungs- und Fokussierungselektrode 40 (G3), eine zweite Beschleunigungs- und Fokussierungselektrode 42 (G4), die längs der Glasstäbe 32 in der genannten Reihenfolge in Abständen voneinander angeordnet sind. Alle Elektroden nach den Kathoden haben wenigstens drei Inline-Öffnungen, also in einer Reihe nebeneinander liegende Öffnungen, um den Durchtritt von 0 drei koplanaren E-lektronenstrahlen zu ermöglichen. Die elektrostatische Hauptfokussierungslinse des Systems 26 liegt zwischen der G3-Elektrode 40 und der G4-Elektrode 42. Die G3-Elektrode enthält zwei becherförmige Elemente 44 und 46, deren offene Enden miteinander verbunden sind.

Die G4-Elektrode ist ebenfalls becherförmig, ihr offenes Ende wird jedoch durch einen Abschirmbecher 48 geschlossen. Der der G3-Elektrode 40 gegenüberliegende Teil der G4-Elektrode 42 hat drei Inline-Öffnungen 50, von denen die zwei äußeren gegenüber denen der G3-Elektrode 40 leicht nach außen versetzt sind» Der Zweck dieses Versetzens besteht darin, die äußeren Elektronenstrahlen zur Konvergenz mit dem mittleren Elektronenstrahl zu bringen. Es können jedoch Kanvergenzfehler, also Abweichungen von der abgestrebten Konvergenz, auftreten, wenn die Fokussierungsspannung an der G3-Elektrode 4 0 erheblich von der optimalen Fokussierungsspannung ab-

weicht, die während, der oben erwähnten Justierprozedur verwendet wurde. In der Seite der G3-Elektrode 40, die der G2-Elektrode 38 zugewandt ist, befinden sich drei Öffnungen 54, die mit Öffnungen 56 in der G1-Elektrode 36 und mit Öffnungen 57, 58 und 59 in der G2-Elektrode 38 fluchten.

Das Elektronenstrahlerzeugungssystem 26 wird durch zwei zusätzliche rechteckförmige Rekonvergenz-Nuten oder -Schlitze 60 und 62 verbessert, die im Abstand auf der Innenseite der Öffnungen 57 und 59 in der G2-Elektrode 38 angeordnet sind, wie es in den Figuren 2, 3 und 6 dargestellt ist. Die Nuten oder Schlitze 60 sind rechteckförmig dargestellt, bei der vorliegenden Erfindung können jedoch auch anders geformte Schlitze oder Nuten, z.B. gebogene oder gekrümmte Schlitze verwendet werden. Der Zweck und die Funktion der Schlitze 60 und 62 werden anhand der Figuren 4 und 5 erläutert.

Die Figur 4 zeigt" die elektrostatischen Äquipotentialfeldünien 64 zwischen einer G2-Schirmgitterelektrode 38' und einer G3-Fokussierungselektrode 40' eines bekannten Elektronenstrahlerzeugungssystems. (Bauteile die Bauteilen des vorliegenden Elektronenstrahlerzeugungssystems 26 entsprechen, sind mit den gleichen Bezugszeichen, denen ein Apostroph hinzugeführt wurde, bezeichnet). Die Feldlinien 64 an der äußeren Öffnung 59· und auch an der mittleren Öffnung 58" der G2-Elektrode 38' sind im wesentlichen symmetrisch bezüglich der Mittellinien der Öffnungen. Auf Elektronenstrahlen, die durch die Mitten der Öffnungen gehen, werden daher symmetrische Kräfte wirken und die Elektronenstrahlen werden daher auf geraden Wegen verlaufen.

In Figur 5 ist ein Teil der elektrostatischen A'quipotentialfeldlinien 66 zwischen der G2-Schirmgitterelektrode

38 und der G3-Fokussierungselektrode 40 des vorliegenden neuen Elektronenstrahlerzeugungssystems 26 dargestellt. Der zusätzliche nutartige Schlitz 62, der sich auf der inneren Seite der äußeren öffnung 59 und in nahem Abstand von dieser befindet, bewirkt eine Verzerrung der Feldlinien 66 an der äußeren öffnung 59 der G2-Elektrode 38. Diese Verzerrung hat eine Verschiebung des Feldlinienmaximums an der öffnung 59 nach links, gesehen in Figur 5, zur Folge. Wegen dieser Verschiebung trifft ein durch die Mitte der öffnung 59 tretender Elektronenstrahl auf schräge oder geneigte Feldlinien, die bewirken, daß der äußere Strahl zum mittleren Elektronenstrahl hin konvergiert, der durch die nicht dargestellte Mittelöffnung verläuft. Eine gleichartige, jedoch entgegengesetzte Verschiebung tritt bei dem Elektronenstrahl, der durch die Mitte der öffnung 57 geht, wegen der Verzerrung der Feldlinien 66 durch den Schlitz 60 auf (in Figur 5 nicht dargestellt).

Die Konvergenz der beiden äußeren Elektronenstrahlen hat zur Folge, daß die Elektronenstrahlen in die Hauptfokussierungslinse nicht gerade sondern unter einem kleinen Winkel eintreten. Es wurde festgestellt, daß infolge dieser schrägen Annäherung an die Fokussierungslinse die Empfindlichkeit der horizontalen Auswanderung der äußeren Elektronenstrahlen bei Änderungen der Fokussierungsspannung herabgesetzt wird.

Diese Empfindlichkeit wurde bei Farbbildröhren durch Änderung der Fokussierungsspannung von minus 1000 bis plus 1000 Volt bezüglich der normalen Nennfokussierungsspannung (z.B. 7000 oder 8500 Volt) und Messung der resultierenden horizontalen Auswanderung der äußeren Elektronenstrahlen auf dem Bildschirm der Röhre geprüft. Bei der Durchführung derartiger Tests mit einer Röhre, die ein übliches Elektronenstrahlerzeugungssystem des Typs RCA "Hi-PI Electron Gun Mount" mit der Bezeichnung

PI-30R enthielt, das mit einer Fokussierungsspannung von etwa 7000 Volt betrieben wird, ergab sich eine mittlere horizontale Auslenkung von 0,812 mm. Bei Tests mit einer Farbbildröhre entsprechender Größe und demselben Elektronenstrahlerzeugungssystem, das durch Hinzufügen von Schlitzen in der G2-Elektrode modifiziert war, wie es oben beschrieben ist, und bei einer Nennfokussierungsspannung von 8500 Volt wurde eine durchschnittliche Auswanderung von nur 0,08 mm festgestellt.

Die zusätzlichen Schlitze 60 und 62 in der G2-Elektrode bewirkten also eine wesentliche Verringerung der Empfindlichkeit der Röhre bezüglich Fokussierungsspannungsänderungen. Das modifizierte Elektronenstrahlerzeugungssystem enthielt Schlitze 60 und 62 mit einer (horizontalen) Breite von 0,76 mm und einer (vertikalen) Länge von 1,524 mm, die Schlitze lagen in einem Abstand von 0,39 mm bis 0,50 mm einwärts der äußeren Strahlöffnungen 57 und 59, die einen Durchmesser von 0,635 mm hatten. Die Nenntiefe der nutartigen Schlitze 60 und 62 beträgt 0,18 mm mit einem Bereich von 0,15 mm bis 0,20 mm. Die Dicke der G2-Elektrode 38 ist etwa 0,51 mm. Da die G2-Elektrode 38 ungefähr doppelt so dick ist wie die erste Beschleunigungs- und Fokussierelektrode 40 (G3), gehen die Schlitze 60 und 62 nicht ganz durch die Elektrode durch und können nahe bei den äußeren Öffnungen 57 bzw. 59 angebracht werden, ohne die äußeren G2-öffnungen zu schwächen oder zu verformen. Hierzu kommt, daß die Elektronengeschwindigkeit in der Nähe der G2-Elektrode 38, die bei etwa 600 Volt arbeitet, wesentlich kleiner ist als die Geschwindigkeit der Elektronen in der Nähe der mit einer Spannung von etwa 8500 Volt arbeitenden G3-Fokussierungselektrode 40, da sich die Geschwindigkeit der Elektronen im Elektronenstrahl, der durch die Öffnungen in der G2-Elektrode tritt, mit der Quadratwurzel der Spannung ändert.

Die langsameren Elektronen verweilen länger in dem der

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G2-Elektrad.e 38 zugeordneten Feld, und die Rekonvergenzöffnungen 60 und 62, die in der G2-Elektrode einwärts von den äußeren Strahlöffnungen 57 und 59 gebildet sind, haben eine größere Wirkung auf die äußeren Elektronenstrahlen als die Schlitzöffnungen, die auswärts von den äußeren Strahlöffnungen in der G3-Fokussierungselektrode gebildet sind, wie es in der oben erwähnten Offenlegungsschrift beschrieben ist. Da außerdem die Fokussierungsspannung bei diesem bekannten Elektronen-Strahlerzeugungssystem nur 7000 Volt beträgt während das vorliegende Elektronenstrahlerzeugungssystem mit einer Fokussierungsspannung von 8500 Volt betrieben werden kann, wären die bekannten Schlitzöffnungen bei der für das vorliegende Elektronenstrahlerzeugungssystem zweckmäßigen höheren Fokussierungsspannung sogar noch weniger wirksam.

In den Figuren 7 und 8 ist eine weitere Ausführungsform der vorliegenden neuen G2-Elektrode dargestellt. Figur zeigt eine G2- oder Schirmgitterelektrode 138 mit zwei bogenförmigen Schlitzen 160 und 162, die auf der Innenseite der äußeren Strahlöffnungen 157 bzw. 159 im Abstand von diesen angeordnet sind. Der Radius R₁ des gebogenen Teiles jedes Schlitzes, der der jeweiligen äußeren Strahlöffnung benachbart ist, beträgt von der Mitte der äußeren Strahlöffnung gerechnet etwa 0,8 9 mm und der Radius R₂ des von der äußeren öffnung weiter entfernten gebogenen Teiles oder Randes der Schlitze beträgt, gemessen von der Mitte der jeweiligen äußeren öffnung aus etwa 1,52 mm. Die Tiefe der Schlitze 160 und 162 beträgt ungefähr 0,13 mm. Die Symmetrie bezüglich der äußeren Strahlöffnungen ist bei den gebogenen Schlitzen 160 und 162 grÖ-ßer als bei den rechteckigen Schlitzen 60 und 62. Diese größere Symmetrie bewirkt eine weitere Verringerung der horizontalen Auswanderung der äußeren Elektronenstrahlen in den Ecken des Bildschirms.

Wie in Figur 8 dargestellt ist, kann die G2-Elektrode 138 rechteckige nutartige Schlitze 76 in der der G1-Elektrode (nicht dargestellt) gegenüberliegenden Fläche aufweisen. Die Schlitze 76 fluchten mit den öffnungen 157, 158 und 159 und erzeugen ein astigmatisches Feld, das eine Unterkonvergenz der Elektrodenstrahlen, jedoch nur in der vertikalen Ebene, verursacht, um die vertikale Aufblühverzerrung des Strahlflecks an außermittigen Positionen auf dem Bildschirm zu kompensieren. Die Dicke der G2-Elektrode wird auf etwa 0,711 mm vergrößert, wenn rechteckige Schlitze 76 verwendet werden. Die rechteckigen Schlitze 76 haben eine Tiefe von etwa 0,2 mm. Die Schlitze 76 sind aus der US-PS 4,234,814 bekannt.

Das Elektronenstrahlerzeugungssystem 26 ist im allgemeinen für eine Endanodenspannung von etwa 3OkV an der G4-Elektrode 42 und eine Spannung von etwa 8,5kV an der G3-Elektrode 40 ausgelegt. Während des oben beschriebenen Justiervorganges werden die G3-G4-Spannungen optimiert, so daß die äußeren Elektronenstrahlen und der Mittelstrahl an der Schattenmaske 24 konvergieren; wenn jedoch das G3-G4-Spannungsverhältnis, z.B. durch Änderung der G3-Fokussierungsspannung bezüglich der G4-Spannung geändert wird, tritt ein Konvergenzfehler auf. Wenn beispielsweise die G3-Fokussierungsspannung positiver gemacht wird, wird die G3-G4-Hauptfokussierungslinse geschwächt und die äußeren Strahlen neigen dann dazu, von der Konvergenz nach außen abzuweichen. Gleichzeitig wird durch die Erhöhung der G3-Fokussierungsspannung bezüglich der G2-Schirmgitterspannung die Wirkung der G2-G3-Linse verstärkt. Die Rekonvergenzschlitze 60 und 62, die auf der Innenseite der äußeren Strahlöffnungen 57 und 59 gebildet sind, verzerren das elektrostatische Feld stark, das zwischen der G2-Schirmgitterelektrode 38 und der ersten Beschleunigungs- und Fokussierungselektrode gebildet wird und streben dazu,

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die äußeren Strahlen beim Durchtritt durch die öffnungen der G2-Elektrode in Richtung auf den Mittelstrahl hin zu konvergieren. Somit kompensieren die Schlitze 60 und 62 den in der Hauptfokussierungslinse auftretenden Konvergenzfehler.

In entsprechender Weise wird die G3-G4-Hauptfokussierungslinse stärker und die äußeren Strahlen streben zur Konvergenz nach innen wenn die G3-Fokussierungsspannung negativer gemacht wird. Gleichzeitig schwächt die Verringerung der G3-Fokussierungsspannung bezüglich der G2-Schirmgitterspannung die Wirkung der G2-G3-Linse. Das elektrostatische Feld wird durch die Rekonvergenzschlitze 60 und 62 weniger stark verzerrt, so daß die äußeren Strahlen beim Durchtritt durch die Öffnungen der G2-Elektrode dazu neigen, vom Mittelstrahl nach außen von der Konvergenz abzuweichen. Der resultierende Effekt besteht darin, daß die Schlitze ein kompensierendes Feld zwischen der G2- und der 0 G3-Elektrode erzeugen, das etwaige Änderungen der Hauptfokussierungslinse, d.h. zwischen der G3- und der G4-Elektrode, die durch Änderungen der Fokussierungsspannungen verursacht werden, kompensieren.

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Claims

Patentansprüche

Farbbildröhre mit einem Inline-Elektronenstrahlerzeugungssystem das zumindest eine Schirmgitterelektrode und eine Beschleunigungs- und Fokussierungselektrode enthält, welche in einander gegenüberliegenden Teilen mindestens zwei öffnungen aufweisen, wobei die öffnungen in der Schirmgitterelektrode mit den gegenüberliegenden öffnungen in der Beschleunigungs- und Fokussierelektrode fluchten, dadurch gekennzeichnet , daß der Teil der Schirmgitterelektrode (38; 138) der der Beschleunigungs- und Fokussierelektrode (40) gegenüberliegt, zwei in ihm gebildete Rekonvergenzschlitze (60, 62; 160, 162) enthält, die nahe genug bei und auf der Innenseite der öffnungen (57, 59; 157, 159) liegen, um eine Störung des

elektrostatischen Feldes (66) zu bewirken, das zwischen der Schirmgitterelektrode und der Beschleunigungs- und Fokussierelektrode an den Öffnungen entsteht.
2. Farbbildröhre nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß jedes der Rekonvergenzschlitze (60, 62) rechteckig ist.
3. Farbbildröhre nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß jeder rechteckige Schlitz (60, 62) eine Breite von etwa 0,76 mm und eine Länge von etwa 1,52 mm hat.
4. Farbbildröhre nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen jedem Schlitz (60, 62) und der benachbarten Öffnung (57, 59) im Bereich von 0,39 bis 0,50 liegt.
5. Farbbildröhre"nach Anspruch 1, 2, 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Tiefe jedes Schlitzes (60, 62) im Bereich von 0,15 mm bis 0,20 mm liegt.
6. Farbbildröhre nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß jeder der Rekonvergenzschlitze (160, 162) im wesentlichen eine gebogene Form hat, wobei der konkave Teil des Schlitzes der benachbarten Öffnung (157, 159) zugewandt ist.
7. Farbbildröhre nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Radius (R.) des bogenförmigen Teiles des Schlitzes (160, 162), der der Öffnung (157, 159), gemessen von der Mitte der Öffnung aus, etwa 0,89 mm beträgt und daß der Radius (R ) des von der Öffnung weiter entfernten bogenförmigen Teiles des Schlitzes, gemessen vom Mittelpunkt der Öffnung aus, etwa 1,52 mm beträgt.
8. Farbbildröhre nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Tiefe der Schlitze (160, 162) etwa 0,13 mm beträgt.