DE3225634C2

DE3225634C2 - Inline-Elektronenstrahlsystem

Info

Publication number: DE3225634C2
Application number: DE3225634A
Authority: DE
Inventors: Hsing-Yao Landisville Pa. Chen; Richard Henry Lancaster Pa. Hughes
Original assignee: RCA Corp
Current assignee: RCA Licensing Corp
Priority date: 1981-07-10
Filing date: 1982-07-08
Publication date: 1986-05-07
Also published as: KR840000973A; KR910001416B1; IT8222268A1; NL8202797A; PL237382A1; BR8203963A; GB2101805B; DE3225634A1; SU1347873A3; PL138314B1; GB2101805A; FR2509526A1; JPS5859535A; IT8222268A0; IT1151697B; JPH021344B2; FR2509526B1; CS238629B2

Abstract

Eine verbesserte Farbbildröhre (11) hat ein Inline-Elektronenstrahlsystem zur Erzeugung von drei Elektronenstrahlen (28) und Richtung dieser Elektronenstrahlen längs in einer Ebene liegenden Wegen auf einen Schirm (22) der Röhre. Das Elektronenstrahlsystem (26ΔΔ) enthält eine Hauptfokussierlinse zur Fokussierung der Elektronenstrahlen, welche durch zwei in gegenseitigem Abstand befindliche Elektroden (40, 42) gebildet wird, die jeweils drei separate Inline-Öffnungen (58, 60, 62; 64, 66, 68) haben. Jede Elektrode hat ferner einen Umfangsrand (70, 72). Die Umfangsränder der beiden Elektroden liegen einander gegenüber. Der Öffnungsteil jeder Elektrode befindet sich innerhalb einer Rücksetzung oder Ausnehmung (54, 56), welche gegen den Rand zurückgesetzt ist. Die Hauptfokussierlinsenelektrode (42), die den Schirm am nächsten ist, hat auf der dem Schirm zugewandten Seite einen Schlitz (100), der in Richtung der drei Elektrodenstrahlwege verläuft und bei dem Maßnahmen zur Abschwächung des Stigmatoreffektes auf die beiden Seitenstrahlen gegenüber dem Mittelstrahl getroffen sind. Bei einer Ausführungsform hat der Schlitz die Form eines Knochens und ist in einem Bügel (102) vorgesehen, welcher an der Öffnungsplatte (52) befestigt ist, die ihrerseits auf der Schirmseite der dem Schirm am nächsten befindlichen Hauptfokussierlinsenelektrode angebracht ist.

Description

Die Erfindung betrifft ein Inline-Elektronenstrahlsystem, wie es im Oberbegriff des Anspruchs 1 vorausgesetzt und in der älteren deutschen Patentanmeldung gemäß der DE-OS 31 43 022 vorgeschlagen ist.

Ein Inline-Elektronenstrahlsystem ist so ausgelegt, daß es vorzugsweise drei Elektronenstrahlen in einer gemeinsamen Ebene erzeugt und diese Strahlen längs konvergenter Wege in dieser Ebene auf einen Konvergenzpunkt oder kleinem Konvergenzbereich nahe dem Röhrenschirm richtet. Bei einem Typ von Inline-Elektronenstrahlsystemen, wie er in der US-PS 38 73 879 beschrieben ist. werden die elektrostatischen Hauptfokussierlinsen zur Fokussierung der Elektronenstrahlen zwischen zwei Elektroden gebildet, die als erste und zweite Beschleunigungs- und Fokussierelektrode bezeichnet werden. Diese Elektroden weisen zwei becherförmige Teile auf, die mit ihren Böden einander zugewandt sind. In jedem Becherboden befinden sich drei Öffnungen, durch welche drei Elektronenstrahlen hindurchtreten können und welche drei separate Hauptfokussierünsen, je eine für jeden Elektronenstrahl, bildea Bei einer bevorzugten Ausführungsform hat dis Strahlsystem einen solchen Gesamtdurchmesser, daß es in den Röhrenhais von 29 mm Durchmesser hineinpaßt Wegen dieser Größenvorschrift liegen die drei Fokussierlinsen sehr dicht beieinander, und damit ergeben sich starke Einschränkungen für die Konstruktion der Fokussierlinsen. Je größer der Fokussierlinsendurchmesser ist, desto kleiner ist bekanntlich die sphärische Aberration, welche die Fokussierquaütät beschränkt

Zusätzlich zum Fokussierlmsendurchmesser ist der Abstand zwischen den Oberflächen der Fokussierlinsenelektroden wichtig, weil ein größerer Abstand einen allmählicheren Spannungsgradienten in der Linse ergibt, wodurch ebenfalls die sphärische Aberration verringert wird. Ein größerer Abstand zwischen den Elektroden über eine bestimmte Grenze hinaus (typischerweise 1,27 mm) ist aber nicht zulässig wegen elektrostatischer Ladungen auf dem Glas des Röhrenhalses, deren elektrostatisches Feld in den Raum zwischen den Elektroden eindringt und eine Fehlkonvergenz der Elektronenstrahlen zur Folge hat.

In der bereits erwähnten älteren DE-OS 31 43 022 ist ein Elektronenstr&hlsystem beschrieben, bei dem die Hauptfokussierlinse durch zwei in gegenseitigem Abstand befindliche Elektroden gebildet wird. In jeder Elektrode befindet sich eine Mehrzahl von Öffnungen, deren Anzahl gleich der Anzahl der Elektronenstrahlen ist, und jede Elektrode ist ferner mit einem Umfangsrand versehen, wobei die Umfangsrändef der beiden Elektroden einander gegenüberliegen. Der mit öffnungen versehene Teil jeder Elektrode liegt innerhalb einer Vertiefung, die gegen den Rand zurückgesetzt ist. Die Wirkung dieser Hauptfokussierlinse liegt in einem weichen Spannungsgradienten, wie er zur Verringerung der sphärischen Aberration gewünscht ist. Jedoch ergibt die Hauptfokussierlinse einen Schlitzeffekt-Astigmatismus, der im Elektronenstrahlsystem durch Zufügung einer horizontalen Schlitzöffnung am Ausgang der zweiten Fokussier- und Beschleunigungselektrode korrigiert wird. Dieser Schlitz wird durch zwei parallele Schleifen gebildet, die auf alle drei Elektronenstrahlen eine ähnli-

so ehe Wirkung ausüben.

Ferner ist aus der US-PS 40 86 513 eine Farbbildröhre mit einem Inline-Elektronenstrahlsystem bekannt, dessen Hauptfokussierlinse ebenfalls durch zwei in gegenseitigem Abstand befindliche Elektroden mit jeweils drei in der Ebene der drei Elektronenstrahlen liegenden öffnungen und einander gegenüberliegenden Umfangsrändern gebildet wird. Bei einer Ausführungsform befindet sich auf der bildschirmseitigen Seite der dem Bildschirm am nächsten liegenden Elektrode ein in Richtung der Ebene der drei Elektronenstrahlen verlaufender Schlitz, welcher das Fokussierfeld zur Formung der Elektronenstrahlen beeinflußt.

Ausgehend von der älteren Anmeldung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 besteht die Aufgabe der Erfindung in der Angabe von Maßnahmen, durch welche die drei Elektronenstrnhlen in unterschiedlicher Weise beeinflußt werden, um die Fokussierung der beiden äußeren Elektronenstrahlen zu verbessern.

Diese Aufgabe wird durch die im kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1 angegebenen Merkmale gelöst Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.

Auführungsbeispiele der Erfindung werden anhand der Zeichnungen im einzelnen erläutert Es zeigt

F i g. 1 eine teilweise geschnittene Draufsicht auf eine Lochmasken-Farbbildröhre;

F i g. 2 einen Axialteilschnitt durch eine Ausführungsform des in F i g. 1 gestrichelt gezeichneten Elektronen- Strahlsystems;

Fig.3 einen Axialschnitt durch die Elektroden G3 und G4 des Elektronenstrahlsystems nach F i g. 2 längs der Linie 3-3;

Fig.4 eine Vorderansicht des Elektronenstrahlsystems gemäß F i g. 2 längs der Linie 4-4 aus F i g. 3;

F i g. 5 eine Draufsicht auf die Elektrode G4 des Elektronenstrahlsystems nach F i g. 2 längs der Linie 5-5 aus F i g. 2 zur Veranschaulichung einer Ausführung eines Stigmators;

Fig.6 und 7 Draufsichten auf die Elektrode G4 des Elektronenstrahlsystems nach Fig.2 zur Veranschaulichung zweier anderer Stigmatorausführungen;

F i g. 8 einen Axialteilschnitt durch eine andere Ausführungsform des in F i g. 1 gestrichelt gezeichneten Elcktronenstrahlsystems;

F i g. 9 einen Axialteilschnitt durch die Elektroden G3 und G4 des Elektronenstrahlsystems nach F i g. 8 längs der Linie 9-9 und

Fig. 10 eine Draufsicht auf die Elektrode G4 des Elektronenstrahlsystems nach Fig.8 längs der Linie 10-10 aus Fig.8 zur Veranschaulichung einer weiteren Stigmatorausführung.

Fig.l zeigt eine Draufsicht auf eine Rechteck-Farbbildröhre 11 mit einem Glaskolben 12, der eine rechtekkigc Frontwanne 13 und einen rohrförmigen Hals 14 hat. die durch einen rechteckigen Konus 16 miteinander verbunden sind. Die Frontwanne hat eine Frontplatte 18 und einen Randflansch 20, der mit dem Konus 16 dicht verbunden ist. Auf der inneren Oberfläche der Frontplatte 18 befindet sich ein Dreifarben-Mosaikleuchtstoffschirm 22, der vorzugsweise ein Inline-Schirm ist, bei welchem die Leuchtstofflinien im wesentlichen rechtwinklig zur Hochfrequenz-Rasterlinienabtastung der Bildröhre verlaufen (also rechtwinklig zur Zeichenebene der F i g. 1). Eine Lochmaske 24 ist in bestimmtem Abstand zum Schirm 22 mit üblichen Mitteln abnehmbar montiert. Die gestrichelten Linien in F i g. 1 zeigen schematisch ein Inline-Elektronenstrahlsystem 26, das zentrisch im Hals 14 montiert ist, drei Elektronenstrahllen 28 erzeugt und längs in einer Ebene liegenden Wegen durch die Maske 24 auf den Bildschirm 22 richtet.

Die in Fig. 1 gezeigte Röhre ist für die Verwendung mit einem äußeren Magnetablenkjoch ausgelegt, wie etwa dem )och 30, v/elches schematisch um den Röhrenhals 14 und den Konus 16 in der Nähe deren Verbindung gezeichnet ist. Im aktivierten Zustand setzt das Joch 30 die drei Strahlen 28 Magnetfeldern aus, infolge deren die Strahlen den Schirm 22 horizontal und vertikal in Form eines Rechteckrasters abtasten. Die Ablenkebene ist durch die Linie P-P in F i g, 1 etwa bei der Mitte des Joches gezeichnet. Wegen Störfeldern reicht die Ablenkzone der Röhre axial vom Joch 30 in den Bereich des Elektronenstrahlsystems 26. Der Einfachheit halber ist die tatsächliche Krümmung der abgelenkten Strahlwege in der Ablenkzone in F i g. I nicht eingezeichnet.

Dciails der Ausführun^sform 26' des Elektronenstrahlsystems 26 sind derr F i g. 2 bis 5 zu entnehmen.

Das Elektronenstrahlsystem hat zwei gläserne Tragstangen 32, an denen die verschiedenen Elektroden befestigt sind. Bei diesen Elektroden handelt es sich um drei in gleichen Abständen in einer Ebene liegende Kathoden 34 (für jeden Strahl eine), eine Steuergitterelektrode 36) (G 1), eine Schirmgitterelektrode 38 (G2), eine erste Beschleunigungs- und Fokussierelektrode 40 (G3), und eine zweite Beschleunigungs- und Fokussierelektrode 42 (G4), die in dieser Reihenfolge längs der Stäbe 32 mit gegenseitigem Abstand angeordnet sind. Jede der Elektroden Gl bis G4 hat drei in einer Linie liegende öffnungen, durch welche die drei in einer Ebene liegenden Elektronenstrahlen hindurchtreten. Die elektrostatische Hauptfokussierlinse wird zwischen; der G3-Elektrode 40 und der G4-Elektrode 42 gebildet Die G3-Elektrode 40 besteht aus vier becherförmigen Elementen 44, 46, 48 und 50. Die offenen Enden zweier dieser Elemente 44 und 46 sind miteinander verbunden, und die offenen Enden der beiden anderen Elemente 48 und 50 sind ebenfalls miteinander verbunden. Das geschlossene Ende des dritten Elementes 48 ist mit dem geschlossenen Ende des zweiten Elementes 46 verbunden. Obwohl die G3-Elektrode 40 als aus vier Elementen bestehend dargestellt ist, könnte sie auch aus irgendeiner Anzahl von Elementen, inklusive eines einzigen Elementes 'derselben Länge, hergestellt sein. Die G4-Elektrode 42 ist ebenfalls becherförmig, jedoch ist ihr offenes Ende mit einer mit öffnungen versehenen Platte 52 verschlossen.

Die einander gegenüberliegenden geschlossenen Enden der G3-Elektrode 40 und der G4-Elektrode 42 sind mit großen Vertiefungen 54 bzw. 56 ausgebildet. Diese Vertiefungen setzen denjenigen Teil des geschlossenen Endes der G3-Elektrode 40, welcher die drei Öffnungen 58,60 und 62 enthält, gegenüber den geschlossenen Ende der G4-Elektrode 42 zurück, welches die drei öffnungen 64, 66 und 68 enthält Die übrigen Teile der geschlossenen Enden der G3-Elektrode 40 und der G4-Elektrode 42 bilden Ränder 70 bzw. 72, weicht¹ peripher um die Vertiefungen 54 und 56 herumlaufen. Die Ränder 70 und 72 sind die einander am nächsten liegenden Teile der beiden Elektroden 40 und 42.

Das Elektronenstrahlsystem 26' nach Fig.2 ergibt eine Hauptfokussierlinse mit wesentlich verringerter sphärischer Aberration im Vergleich zu den oben diskutierten bekannten Strahlsystemen. Die Verringerung der sphärischen Aberration ergibt sich aus einem Anwachsen der Größe der Hauptfokussierlinse. Dieses Anwachsen der Linsengröße resultiert aus der Zurückversetzung der Elektrodenöffnungen. Bei vielen bekannten Inline-Strahlsystemea sind die stärksten Äquipotentiallinien des elektrostatischen Feldes bei jedem gegenüberliegenden Öffnungspaar konzentriert. Beim Elektmnei.strahlsystem 26' nach Fig.2 erstrecken sich jedoch die stärksten Äquipotentiallinien kontinuierlich zwischen den Rändern 70 und 72, so daß der wirksame Teil der Hauptfokussierlinse als eine einzige große Linse erscheint, welche sich über die drei Elektronenstrahlwege erstreckt. Der übrige Teil der Hauptfokussierlinse wird durch schwächere Äquipotentiallinien gebildet, die bei den Öffnungen in den Elektroden liegen, Die Eigenschaften und Vorteile eines Elektronenstrehlsystems ähnlich dem Strahlsystem 26' sind in der oben genannten DE-OS 31 43 022 erläutert.

Wie die F i g. 3 und 4 zeigen, sind die Tiefen Fder hier als Vertiefungen 54 und 56 bezeichneten Zurückversetzungen näherungsweise ein Viertel der Abstände Czwischen zwei geraden Seiten der Vertiefungen. Der

Durchmesser jeder öffnung in der G3-Elektrode 40 ist so bemessen, daß er gerade eine Äquipotentiallinie innerhalb von 4% des Elektrodenpotentials berührt, welche vorhanden wäre, wenn der Öffnungsteil der Elektrode nicht vorhanden wäre. Bei der dargestellten Ausführungsform ist diese 4%-Linie näherungsweise ein Halbkreis. Der Abstand zwischen den beiden Elektroden 40 und 42 sollte eng genug sein, um zu verhindern, daß Aufladungen des Halses die Elektronenstrahlen ablenken.

Da das Fokussierfeld in die offenen Bereiche der Vertiefungen eindringt, ergibt die Hauptfokussierlinse einen Astigmatismus, also einen asymmetrischen Effekt. Dieser rührt daher, daß die Äquipotentiallinien an den Seiten der Fokussierlinse stärker zusammengedrückt sind als an den beiden Bereichen nahe der Mitte der Fokussierlinse. Infolgedessen hat die Fokussierlinse eine größere Brechkraft in Vertikalrichtung als in Horizontalrichtung. Dieser Astigmatismus wird durch Einfü-10

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Mittelabstand zwischen benachbarten

öffnungen in der G3-Elektrode 40

(Dimension A in Fi g. 3) 5,0 mm

innendurchmesser der Öffnungen 58,60

und 62 in der G3-Elektrode 40

(AbmessungSin Fig.3) 4,0 mm

Abstand zwischen zwei geraden Seiten

der Vertiefungen in den Elektroden 40

und42(Dimension Cin Fig.4) 7,0 mm

Breite der Vertiefung in der

G3-Elektrode 40

(Dimension Din Fig. 3) 20,2 mm

Breite der Vertiefung in der

G4-Elektrode 42

(Dimension £in Fig.3) 20,8 mm

Tiefe der Vertiefungen in den

Elektroden 40 und 42

(Dimension Fin Fig. 3) 1,65 mm

5ÜU5 CiTiCS iiGnZCntaiC-n oCiiiitZCS z/j απ uCT /"lüS

stelle der G4-Elektrode 42 korrigiert. Der Schlitz 95 hat eine optimale Breite von einem halben Linsendurchmesser und einen bevorzugten Abstand von der der G3-Elektrode gegenüberliegenden Oberfläche der G4-Elektrode von 86% des Linsendurchmessers. Dieser Schlitz 95 wird durch zwei Streifen % und 98 gebildet, die in den F i g. 2 und 5 gezeigt sind und an die Öffnungsplatte 52 der G4-Elektrode 42 angeschweißt sind, so daß sie in der Richtung der Ebene der drei Elektronenstrahlen verlaufen.

Um die Fokussierspannungsunterschiede von der Mitte zur Seite des Elektronenstrahlsystems minimal zu halten und um die Fokussierqualität der Seitenstrahlen zu verbessern, sind bei dem Schlitz 95 Maßnahmen vorgesehen, durch welche der Stigmatoreffekt auf die beiden Seitenstrahlen schwächer als auf den Mittelstrahl wird. Bei den Streifen % und 98 bestehen diese Maßnahmen in einer Ahschrägung der Streifenenden über den äußeren Strahlöffnungen. Wegen dieser Abschrägung sind die Streifen trapezförmig, wobei die kürzeren der parallelen Streifenseiten einander gegenüberliegen.

Bei einer in Fig.6 gezeigten leichten Abwandlung sind die beiden parallelen Stigmatorstreifen 97 und 99 jeweils trapezförmig, jedoch sind ihre nichtparallelen Seiten leicht gekrümmt Bei einer in Fig. 7 gezeigten weiteren Ausführungsform haben die beiden parallelen Stigmatorstreifen 104 und 106 eine kürzere Länge, die etwa gleich dem Abstand zwischen den beiden Seitenstrahlen ist.

Um die beiden äußeren Strahlen mit dem mittleren Strahl statisch konvergieren zu lassen, ist die Breite E der Vertiefung SS in der G4-Elektrode 42 etwas größer als die Breite D in der Vertiefung 54 der G3-Elektrode 40 (F i g. 3). Die Wirkung der größeren Vertiefungsbreite der G4-EIektrode 42 ist dieselbe, wie sie hinsichtlich der versetzten Öffnungen in der US-PS 37 72 554 beschrieben isu

Einige typische Dimensionen für das Elektronenstrahlsystem 26' nach F i g. 2 sind in der nachfolgenden Tabelle angeführt.

Hj uci aiiucicii rvuaiuiu uiigaiin inen vufi iniinc-i^icfiti u-

nenstrahlsystemen kann die Tiefe der Vertiefungen in den Elektroden 40 und 42 von 1,30 mm bis 2,80 mm variieren. Die Tiefen der Ausnehmungen in den beiden Elektroden 40 und 42 können auch unterschiedlich sein.

Details einer weiteren Ausführungsform 26" des Elektronenstrahlsystems 26 nach Fig. 1 sind in den Fig. 8 bis 10 gezeigt. Das Elektronenstrahlsystem 26" stimmt mit dem Elektronenstrahlsystem 26' gemäß den F i g. 2 bis 5 mit Ausnahme der Korrektur für den Astigmatismus überein, der in der Hauptfokussierlinse durch das Eindringen des Fokussierfeldes in die offenen Bereiche der Vertiefungen entsteht. Die Korrektur für diesen Astigmatismus erfolgt bei dem Elektronenstrahlsystem 26" gemäß F i g. 8 durch die Einfügung eines horizontalen Schlitzes 100 am Austrittsende der G4-Elektrode 42, welche wie ein Elektronenstrahlstigmator wirkt. Der Schlitz 100 liegt in einem Bügel 102, welcher an der Platte 52 angebracht. Ut. die ihrerseits an der .Schirmseite der G4-Elektrode 42 befestigt ist.

Um Fokussierspannungsunterschiede von der Mitte zur Seite des Elektronenstrahlsystems minima! zu halten und die Fokussierqualität der Seitenstrahlen zu verbessern, hat der Schlitz 100 eine Form wie ein Knochen, ist also gemessen in einer Richtung rechtwinklig zur Jnline-Richtung der drei Elektronenstrahlwege bei den Seitenstrahlwegen breiter als beim Mittelstrahlweg. Diese Schlitzform ergibt einen schwächeren Stigmatoreffekt für die beiden Seitenstrahlen als für den Mittelstrahl.

so Einige typische Abmessungen für das Strahlsystem 26" nach F i g. 8 sind in der folgenden Tabelle angegeben.

Tabelle II

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Tabelle I

Äußerer Röhrenhalsdurchmcsser
innerer Röhrenhaisdurchmesser
Abstand zwischen den G3- und
G4-Elektroden 40 und 42

Außendurchmesser des Röhrenhalses

Innendurchmesser des Röhrenhalses

Abstand zwischen den G3- und

G4-Elektroder, 40 und 42
Mittelabstand zwischen benachbarten

öffnungen in der G3-Elektrode 40

(Dimension A in F i g. 9)

Innendurchmesser der Öffnungen 58,60 und

62 in der G3-Elektrode 40
29,00 mm 65 (Dimension Sin Fi g. 9)
24,00 mm Abstand zwischen zwei geraden Linien

der Vertiefungen in den Elektroden 40
1,27 mm und 42 (Dimension Cin F i g. 4)

29,00 mm 24,00 mm

1,27 mm 5,0 mm
4,0 mm
8,0 mm

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Tabelle II (Fortsetzung)

Breite der Vertiefung in der G3-Elektrode40

(Dimension Din Fi g. 9) 18,2 mm

Breite der Vertiefung in der G4-Elektrode 42

(DimPision fin Fig. 9) 18,6 mm

Tiefe dor Vertiefungen in den Elektroden 40 und 42

(Dimension Fin F i g. 9) 2,03 mm

Länge des Stigmatorbügels

(Dimension Gin Fig. 10) 15,37 mm

Breite des Stigmatorbügels

(Dimension Hin Fig. 10) 7,88 mm

Höhe des Stigmatorbügels

(Dimension/in Fig.9) 3,10 mm

Schlitzlänge (Dimension J in Fig. 10) 13,46 mm

Minimale Schlitzbreite .;

(Dimension Kin Fig. 10) 1,52 mm 20 $

Maximale Schlitzbreite '4

(Dimension Lin Fig. 10) 2,29 mm S

Hierzu 5 Blatt Zeichnungen

30 35

40 45 50 55 60

Claims

Patentansprüche:

1. Inline-Elektronenstrahlsystem einer Farbbildröhre, welche; drei Elektronenstrahlen, einen Mittelstrahl und zwei Seitenstrahlen, längs in einer Ebene liegenden Wegen in Richtung auf den Schirm der Röhre erzeugt, mit einer die Elektronenstrahlen fokussierenden Hauptfokussierlinse, die durch zwei im Abstand voneinander befindliche und mit jeweils drei separaten Inline-Öffnungen ausgebildete Elektroden gebildet wird, von denen jede einen umlaufenden Rand hat, wobei die umlaufenden Ränder der beiden Elektroden einander gegenüberliegen und der Öffnungsteil jeder Elektrode sich innerhalb einer gegen den Rand zurückversetzten Vertiefung befindet und wobei die dem Schirm am nächsten liegende Hauptfokussierlinsenelektrode auf der dem Schirm zugewandten Seite einen Schlitz enthält, welcher in der Iniine-Richtung der drei Elektronenstrahlwege verläuft, dadurch gekennzeichnet, daß der Schütz (95, iüö) so ausgebildet ist, daß er auf die beiden Seitenstrahlen einen schwächeren Stigmatoreffekt als auf den Mittelstrahl ausübt

2. Inline-Elektronenstrahlsystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Schlitz (95) durch zwei parallele Streifen (96,98; 97,99) gebildet wird, die durch Abschrägung der Streifenenden trapezförmig sind.

3. Inline-Elektronenstrahlsystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die nichtparallelen Seiten der trapezförmigen Streifen (97, 99) leicht gekrümmt sind.

4. Inline-Eiektronensfrahlsystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß c"-r Schlitz (95) durch zwei parallele Streifen (104, 106) gebildet wird, deren Länge etwa gleich dem Abstand zwischen den beiden Seitenstrahlen (28) ist.

5. Inline-Elektronenstrahlsystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Schlitz (100) in der Richtung senkrecht zur Ebene der drei Elektronenstrahlwege an den Seitenstrahlwegen breiter als am Mittelstrahlweg ist.

6. Inline-Elektronenstrahlsystem nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß an der am nächsten beim Schirm (22) liegenden Hauptfokussierlinsenelektrode (42) schirmseitig ein Bügel (102) angebracht ist, welcher den Schlitz (100) enthält.

7. Inline-Elektronenstrahlsystem nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Schlitz (100) die Form eines Knochens hat.