DE3711444A1 - Verfahren und vorrichtung zur herstellung von dichlorsilan - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zur herstellung von dichlorsilanInfo
- Publication number
- DE3711444A1 DE3711444A1 DE19873711444 DE3711444A DE3711444A1 DE 3711444 A1 DE3711444 A1 DE 3711444A1 DE 19873711444 DE19873711444 DE 19873711444 DE 3711444 A DE3711444 A DE 3711444A DE 3711444 A1 DE3711444 A1 DE 3711444A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- reactor
- trichlorosilane
- distillation column
- liquid
- dichlorosilane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical class Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims description 39
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 32
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 22
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 16
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 10
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 claims description 8
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 6
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 5
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 4
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 4
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N methyloxidanyl Chemical compound [O]C GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOLGAXAGEUPBDM-UHFFFAOYSA-N $l^{1}-oxidanylethane Chemical compound CC[O] VOLGAXAGEUPBDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005347 FeSi Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000589614 Pseudomonas stutzeri Species 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- -1 alkylamino group tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229940083124 ganglion-blocking antiadrenergic secondary and tertiary amines Drugs 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
- B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
- B01J31/0272—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing elements other than those covered by B01J31/0201 - B01J31/0255
- B01J31/0274—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing elements other than those covered by B01J31/0201 - B01J31/0255 containing silicon
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
- B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
- B01J21/08—Silica
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
- B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
- B01J31/0234—Nitrogen-, phosphorus-, arsenic- or antimony-containing compounds
- B01J31/0235—Nitrogen containing compounds
- B01J31/0254—Nitrogen containing compounds on mineral substrates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
- B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
- B01J31/0272—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing elements other than those covered by B01J31/0201 - B01J31/0255
- B01J31/0275—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing elements other than those covered by B01J31/0201 - B01J31/0255 also containing elements or functional groups covered by B01J31/0201 - B01J31/0269
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
- B01J37/0201—Impregnation
- B01J37/0209—Impregnation involving a reaction between the support and a fluid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
- C01B33/10773—Halogenated silanes obtained by disproportionation and molecular rearrangement of halogenated silanes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
Dichlorsilan kann aus FeSi und HCl nur in geringer Ausbeute
und durch hohen Destillationsaufwand zur Abtrennung zahlreicher
Nebenprodukte hergestellt werden.
Üblich ist daher die Disproportionierung von Trichlorsilan
an geeigneten Katalysatoren zu Dichlorsilan unter Abtrennung
von Siliciumtetrachlorid. Hierbei handelt es sich um eine
Gleichgewichtsreaktion, deren Gleichgewicht sich nur langsam
einstellt. Die Mehrzahl der verwendeten Katalysatoren sind
sekundäre und tertiäre Amine oder quartäre Ammoniumsalze
(vgl. DE-AS 21 62 537). Dabei werden, um die Einstellung
des Gleichgewichts zu beschleunigen und nicht zu lange Verweilzeiten
am Katalysatorbett und im Reaktor zu erreichen,
hohe Temperaturen und hohe Drücke angewendet.
Unter Druck besteht aber ein hohes Risiko, weil Dichlorsilan
und ggf. gebildete Anteile von H₃SiCl bzw. SiH₄ selbstentzündlich
sind und bei Leckage zu außerordentlich heftigen
Reaktionen führen. In Durchflußreaktoren ist der Anteil von unumgesetztem
Trichlorsilan sehr hoch. Das Trichlorsilan muß
mehrfach unter hohem Energieaufwand redestilliert werden,
bevor schließlich eine vollständige Umsetzung erreicht ist.
Es bestand daher die Aufgabe, den hohen Aufwand für Energie
zu senken und besonders den Aufwand für Destillation von unumgesetztem
Trichlorsilan zu vermindern.
Weiterhin bestand die Aufgabe, eine rasche Einstellung des
Gleichgewichts der Disproportionierung zu erreichen und gebildetes
Dichlorsilan sofort nach der Bildung zu entfernen.
Eine weitere Aufgabe bestand darin, den Aufwand für die
Vorrichtung zu senken.
Gegenstand der Erfindung ist das Verfahren zur Herstellung
von Dichlorsilan durch Disproportionierung von Trichlorsilan
an einem Katalysatorfestbett, dadurch gekennzeichnet, daß
bei Reaktortemperaturen zwischen 10°C und dem Siedepunkt
des Reaktionsgemisches gasförmig Dichlorsilan dem Reaktor
entnommen und gewonnen wird, wobei Anteile von Trichlorsilan
kondensiert und in den Reaktor zurückgeführt werden und die
flüssige Reaktionsphase teilweise dem Reaktor entnommen und
in Tetrachlorsilan und in den Reaktor zurückgeführtes Trichlorsilan
getrennt wird.
Normaldruck ist bei der Reaktion entschieden bevorzugt. Der
Druck kann jedoch auch zwischen 0,8 und 1,2 bar liegen.
Wesentliches Merkmal des Verfahrens ist eine siedende Reaktionslösung
und Ableitung von Dichlorsilan als Gas direkt nach seiner
Bildung in eine Destillationsanlage, wobei im Gas Trichlorsilan
nur in geringen Anteilen enthalten ist, welche der
Temperatur bei der Reaktion entsprechen.
Die Temperatur im Reaktor soll den Siedepunkt des Reaktionsgemisches
nicht überschreiten, d. h. höchstens 40 bis 50°C
erreichen.
Die flüssige Reaktionsphase wird vorzugsweise dem Reaktor nur
in dem Maß entnommen, wie das durch Disproportionierung entstehende
Tetrachlorsilan abgetrennt werden muß, was durch Destillation
und Rückführung des Trichlorsilans und Abtrennung
von reinem Tetrachlorsilan aus der Destillationsblase der Kolonne
geschieht. Sehr bevorzugt wird nur die Menge frisches
Trichlorsilan zugeführt, die verbraucht wird. In der sehr bevorzugten
Ausführungsform des Verfahrens und in sehr bevorzugter
Ausbildung der Vorrichtung gibt es nur eine Destillationskolonne,
in der am Kolonnenkopf reines Dichlorsilan entnommen
wird, aus deren Sumpf Tetrachlorsilan entnommen wird und in
der kondensiertes Trichlorsilan in mittlerer Höhe über eine
gasdurchlässige Abtauchung entnehmbar und in den unteren Teil
des Reaktors zurückgeführt wird. In dieser Kolonne befinden
sich in geeignetem Abstand zueinander in mittlerer Höhe übereinander
die Zuführung von flüssigem Reaktorinhalt aus Trichlorsilan
und Tetrachlorsilan, die Abführung von kondensiertem
Trichlorsilan und die Zuführung der Gase aus Dichlorsilan
und Anteilen von Trichlorsilan.
Vorzugsweise ist der Reaktor mit einem Überlauf für die Reaktorflüssigkeit
versehen, wodurch im oberen Teil des Reaktors
ein nicht beheizter Gasraum besteht, in dem bereits ein Teil
des Trichlorsilans kondensiert.
Die Heizung des Reaktors kann durch einen Heizmantel erfolgen.
Der Reaktor ist oberhalb einer Siebplatte bis zum Flüssigkeitsspiegel
mit Formkörpern, vorzugsweise Kugeln, den Festbettkatalysators
gefüllt.
Das Trägermaterial des Katalysators kann an sich beliebig sein,
besteht jedoch vorzugsweise aus SiO₂, welches aus gefälltem
SiO₂ durch Formgebung und Trocknung hergestellt wurde.
Vorzugsweise hat der Katalysatorträger eine Oberfläche von
150 bis 250 m²/cm³. Auf dem Katalysatorträger wird vorzugsweise
ein Alkylamino-trialkoxysilan durch Kondensation in Gegenwart
von Wasser chemisch gebunden, worauf der hergestellte
Katalysator sorgfältig getrocknet wird. Bevorzugt sind Alkylamino-
trialkoxysilane mit 1 bis 20 C-Atomen in der Alkylaminogruppe
und 1 bis 4 C-Atomen, die von Sauerstoff unterbrochen
sein können, in der Alkoxygruppe. In der Alkylaminogruppe sind
tertiäre Amine mit 1 bis 3 C-Atomen in der Alkylengruppe und
1 bis 10 C-Atomen in der Alkylgruppe bevorzugt.
Diese Katalysatoren bewirken eine sehr starke Beschleunigung
der Disproportionierung, besonders auch bei niedrigen Temperaturen.
Aus der gesamten Apparatur sind Spuren von Feuchtigkeit vor
der Reaktion sorgfältig zu entfernen und während der Reaktion
der Zutritt von Feuchtigkeit durch Verwendung von z. B. Stickstoff
als Schutzgas zu vermeiden.
Das Verfahren wird vorzugsweise mit einer Vorrichtung ausgeführt,
in welcher die Destillationskolonne mit Abnahme von
Dichlorsilan am Kolonnenkopf und Kondensation von Trichlorsilan
mit der Destillationskolonne zur Destillation von Trichlorsilan
und Abführung von Tetrachlorsilan aus der Destillationsblase
zu einer einzigen Destillationskolonne übereinanderstehend
vereint sind, welche mit der Zuführung für Gase
oberhalb der Abnahme von Trichlorsilan und der Zuführung von
flüssigem Reaktorinhalt unterhalb der Abnahme von Trichlorsilan
mit dem Reaktor verbunden und zu einer Einheit integriert
ist. Weiterer Gegenstand der Erfindung ist daher die
bevorzugte Vorrichtung zur bevorzugten Durchführung des Verfahrens,
bestehend aus einem Festbettreaktor und einer mit
diesem verbundenen danebenstehenden Destillationskolonne,
derart, daß die Zuführung von Gasen aus dem Reaktor in die
Destillationskolonne über der Abführung von Trichlorsilan,
welches in den Reaktor zurückgeführt wird, und diese über
der Zuführung von aus dem Reaktor kommender Reaktorflüssigkeit
in die Destillationskolonne angeordnet ist und Dichlorsilan
mit einem Kondensator am Kolonnenkopf und Tetrachlorsilan
aus dem Sumpf der Destillationsblase entnommen wird.
In der Zeichnung der Fig. 1 ist die vorzugsweise für die
Durchführung des Verfahrens benutzte Vorrichtung dargestellt.
Die Zeichnung zeigt nebeneinanderstehend den Reaktor 1 mit
Festbett und Überlauf für den flüssigen Reaktorinhalt, Zuführung
für frisches und destilliertes Trichlorsilan in den
Reaktor sowie Abführung für gasförmige Reaktionsprodukte in
Zuordnung zu der nebenstehenden Destillationskolonne mit
Kondensator 6 und Produktvorlage 5 für Dichlorsilan (DCS),
Verstärkerteil 4 für die Destillation des Dichlorsilans und
Kondensation des Trichlorsilans, Abtriebsteil 3 zur Destillation
von Trichlorsilan und Destillationsblase 2 zur Sammlung
und Abführung von reinem Tetrachlorsilan, wobei die
Zuführung von Gasen (DCS mit Anteilen von Trichlorsilan) aus
dem Reaktor, die Abführung von flüssigem Trichlorsilan durch
die Abtauchung 7 und die Zuführung von flüssigem Trichlorsilan
mit Anteilen von Tetrachlorsilan (TSC/SiCl₄) im mittleren
Teil der Destillationskolonne untereinander angeordnet
sind. Der Inhalt der Destillationsblase wird vorzugsweise
auf Siedetemperatur (46°C) gehalten.
Durch Temperaturkontrolle wird der Destillationsverlauf verfolgt.
Störungsfreier kontinuierlicher Betrieb stellt sich
ein, wenn direkt oberhalb des Einlaufs der flüssigen Reaktionsmischung
aus dem Reaktor die Kolonnentemperatur 32°C nicht
oder nur geringfügig übersteigt. Vorzugsweise ist die Destillationskolonne
mit Füllkörpern gefüllt. Frisches Trichlorsilan
wird über die Leitung 8 zugegeben.
Als Katalysator wurde ein Alkylamino-trialkoxysilan der allgemeinen
Formel
(CH₃CH₂O)₃ Si(CH₂)₃ N(Octyl)₂
eingesetzt, welches in Gegenwart von wasserhaltigem Ethanol
auf kugelförmigem SiO₂-Trägermaterial fixiert und im Vakuum
getrocknet wurde.
6,2 g Aminosilan/100 g Katalysatormasse wurden so immobilisiert.
Unter Stickstoffatmosphäre wurde die Katalysatormasse in den
Reaktor eingebracht, ebenso die Destillationskolonne mit N₂
gespült. Dann wurde SiCl₄ in die Destillationsblase eingefüllt
und bis zum Sieden erhitzt. Nachdem am Kolonnenkopf Rückfluß
einsetzte, wurde der Reaktor langsam mit Trichlorsilan beaufschlagt,
wobei die Disproportionierungsreaktion einsetzte,
der Reaktor wurde so beheizt, daß die Reaktorfüllung siedete.
Durch das entstehende gasförmige Dichlorsilan und das in
flüssiger Phase in die Kolonne fließende Trichlorsilan begann
auch die Destillationskolonne zu arbeiten, die Temperaturen
am Kolonnenkopf und in der Kolonnenmitte fielen, wobei die automatische
Kolonnenkopfsteuerung dafür sorgte, daß nur
reines Dichlorsilan in die Vorlage gelangte.
Gleichzeitig entstandenes SiCl₄ wurde durch einen kontinuierlichen
Überlauf am Sum f abgezogen. Auf diese Weise wurden
pro Stunde und 100 g Katalysatormasse aus 32,3 g (=0,024 Mol)
TCS 21,6 g (=0,13 Mol) SiCl₄ und 11,2 g (=0,11 Mol) DCS erhalten
(GC-Reinheit: 97,5% DCS, 1,7% H₃SiCl, 0,8% TCS).
Dieses Ergebnis ist dem Resultat bei einfachem Reaktordurchlauf
mit nachfolgender Redestillation gegenüberzustellen:
Die gleiche Menge DCS je 100 g gleichartiger Katalysatormasse
wurde erhalten, wenn 128 g (0,95 Mol) TCS das entsprechende
Reaktorvolumen durchflossen.
Dies entspricht der vierfachen Menge TCS, wovon ¾ ungenutzt
redestilliert werden mußte.
Im folgenden Beispiel wurde Katalysatormasse eingesetzt, die
durch Hydrolyse von Alkylamino-trialkoxysilan der Formel
(CH₃O)₃ Si(CH₂)₃ N(C₂H₅)₂
in Gegenwart von Wasser unter Abspaltung von Methanol mit
nachfolgender sorgfältiger Trocknung im Vakuum erhalten wurde.
Je 100 g Katalysatormasse enthielten danach 19 g Aminosilan.
Die Versuche an diesem Katalysator wurden in der beschriebenen
Apparatur bei verschiedenen Reaktorheiztemperaturen durchgeführt.
Die Ergebnisse sind tabellarisch dargestellt (alle Angaben
sind bezogen auf 100 g Katalysatormasse):
In entsprechender Weise kann als Katalysator auch
(CH₃O)₃ Si(CH₂)₂ N(C₄H₉)₂
auf Träger aus SiO₂ oder Keramik
fixiert verwendet werden.
Claims (12)
1. Verfahren zur Herstellung von Dichlorsilanen durch
Disproportionierung von Trichlorsilanen an einem Katalysatorfestbett,
dadurch gekennzeichnet,
daß bei Reaktortemperaturen zwischen 10°C und
dem Siedepunkt des entstehenden Reaktionsgemisches
gasförmig Dichlorsilan dem Reaktor entnommen und gewonnen
wird, wobei Anteile von Trichlorsilan kondensiert
und in den Reaktor zurückgeführt werden und
die flüssige Reaktionsphase teilweise dem Reaktor entnommen
und in Tetrachlorsilan und in den Reaktor zurückzuführendes
Trichlorsilan getrennt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß nur die durch Disproportionierung verbrauchte
Menge Trichlorsilan als frischer Ausgangsstoff dem
Reaktor zugeführt wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 2, dadurch
gekennzeichnet, daß aus dem entnommenen Gas Trichlorsilan
teilweise im oberen Teil des Reaktors zurückfließt
und der verbleibende Teil Trichlorsilan in einer
Destillationskolonne kondensiert wird, wobei im
Kopf der Destillationskolonne reines Dichlorsilan gewonnen
wird.
4. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß der dem Reaktor entnommene
Anteil der flüssigen Phase in einer Destillationskolonne
getrennt und Trichlorsilan nach Kondensation in
den Reaktor zurückgeführt wird, wobei reines Tetrachlorsilan
in der Destillationsblase gesammelt und entnommen
wird.
5. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die Destillationskolonnen nach den Ansprüchen
3 und 4 übereinander durchgehend angeordnet sind,
derart, daß übereinander in dieser Reihenfolge die Einführung
der flüssigen Reaktionsmischung, die Abführung von
kondensiertem und zurückgeführtem Trichlorsilan und die
Zuführung der entnommenen Gase erfolgt.
6. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß als Katalysatormasse auf einem Trägermaterial
chemisch gebundenes Alkylamino-trialkoxysilan
eingesetzt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der
Katalysator ein Alkylamino-trialkoxysilan der allgemeinen
Formel
(C x H2x+1O)₃ Si(CH₂) z N(C y H2y+1)₂mit x=1 bis 4; y=1 bis 10; z=1 bis 3 ist.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 7, dadurch gekennzeichnet,
daß das Trägermaterial aus SiO₂-Formkörpern
besteht.
9. Vorrichtung zur bevorzugten Durchführung des Verfahrens
nach einem der vorangehenden Ansprüche, bestehend aus einem
Festbettreaktor und einer mit diesem verbundenen, danebenstehenden
Destillationskolonne, derart, daß die Zuführung
von Gasen aus dem Reaktor in die Destillationskolonne
über der Abführung von Trichlorsilan, und diese über
der Zuführung von Reaktorflüssigkeit in die Destillationskolonne
angeordnet ist und Dichlorsilan in einem Kondensator
im Kolonnenkopf und Tetrachlorsilan aus der Destillationsblase
entnommen wird.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
Reaktorflüssigkeit aus dem Reaktor mittels eines den
Füllstand festlegenden Überlaufs entnommen wird.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 oder 10, dadurch
gekennzeichnet, daß die Zuleitung von Gasen in die Destillationskolonne
ein Gefälle zur Destillationskolonne
aufweist.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Zuführung von flüssigem Trichlorsilan
aus der Destillationskolonne im unteren Bereich
des Reaktors, vorzugsweise gemeinsam mit der Zuführung
von frischem Trichlorsilan, angeordnet ist.
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873711444 DE3711444A1 (de) | 1987-04-04 | 1987-04-04 | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von dichlorsilan |
| DE3853435T DE3853435D1 (de) | 1987-04-04 | 1988-03-26 | Verfahren zur Herstellung von Dichlorsilan. |
| DE8888104895T DE3881430D1 (de) | 1987-04-04 | 1988-03-26 | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von dichlorsilan. |
| EP91118711A EP0474265B1 (de) | 1987-04-04 | 1988-03-26 | Verfahren zur Herstellung von Dichlorsilan |
| EP88104895A EP0285937B1 (de) | 1987-04-04 | 1988-03-26 | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Dichlorsilan |
| US07/173,969 US5026533A (en) | 1987-04-04 | 1988-03-28 | Method and apparatus for the preparation of dichlorosilane |
| JP63081463A JP2553140B2 (ja) | 1987-04-04 | 1988-04-04 | ジクロルシランを製造する方法および装置 |
| KR1019880003770A KR960005508B1 (ko) | 1987-04-04 | 1988-04-04 | 디클로로실란의 제조방법 및 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873711444 DE3711444A1 (de) | 1987-04-04 | 1987-04-04 | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von dichlorsilan |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3711444A1 true DE3711444A1 (de) | 1988-10-13 |
| DE3711444C2 DE3711444C2 (de) | 1990-07-19 |
Family
ID=6324909
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19873711444 Granted DE3711444A1 (de) | 1987-04-04 | 1987-04-04 | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von dichlorsilan |
| DE8888104895T Expired - Fee Related DE3881430D1 (de) | 1987-04-04 | 1988-03-26 | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von dichlorsilan. |
| DE3853435T Expired - Fee Related DE3853435D1 (de) | 1987-04-04 | 1988-03-26 | Verfahren zur Herstellung von Dichlorsilan. |
Family Applications After (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE8888104895T Expired - Fee Related DE3881430D1 (de) | 1987-04-04 | 1988-03-26 | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von dichlorsilan. |
| DE3853435T Expired - Fee Related DE3853435D1 (de) | 1987-04-04 | 1988-03-26 | Verfahren zur Herstellung von Dichlorsilan. |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5026533A (de) |
| EP (2) | EP0285937B1 (de) |
| JP (1) | JP2553140B2 (de) |
| KR (1) | KR960005508B1 (de) |
| DE (3) | DE3711444A1 (de) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3925357C1 (de) * | 1989-07-31 | 1991-04-25 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt, De | |
| DE102004045245B4 (de) * | 2004-09-17 | 2007-11-15 | Degussa Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Silanen |
| DE102007059170A1 (de) | 2007-12-06 | 2009-06-10 | Evonik Degussa Gmbh | Katalysator und Verfahren zur Dismutierung von Wasserstoff enthaltenden Halogensilanen |
| DE102010043648A1 (de) | 2010-11-09 | 2012-05-10 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur selektiven Spaltung höherer Silane |
| DE102010043649A1 (de) | 2010-11-09 | 2012-05-10 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Spaltung höherer Silane |
| DE102011004058A1 (de) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Evonik Degussa Gmbh | Monochlorsilan, Verfahren und Vorrichtung zu dessen Herstellung |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2684315B1 (fr) * | 1991-11-29 | 1994-03-11 | Poudres Explosifs Ste Nale | Supports de silice modifies par greffage de groupements polyalkylguanidinium, leur procede d'obtention et leur application comme catalyseurs de phosgenation. |
| DE4323406C2 (de) * | 1993-07-13 | 2001-02-15 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen aus Methylchlordisilanen |
| US5550269A (en) | 1995-11-17 | 1996-08-27 | North Dakota State University Research Foundation | Method for redistribution of trichlorosilane |
| RU2152902C2 (ru) * | 1998-05-13 | 2000-07-20 | Товарищество с ограниченной ответственностью фирма "ХОРСТ" | Способ получения силанов |
| DE19860146A1 (de) | 1998-12-24 | 2000-06-29 | Bayer Ag | Verfahren und Anlage zur Herstellung von Silan |
| DE10017168A1 (de) * | 2000-04-07 | 2001-10-11 | Bayer Ag | Verfahren und Anlage zur Herstellung von Silan |
| DE10057482A1 (de) | 2000-11-20 | 2002-05-23 | Solarworld Ag | Verfahren zur Reinigung von Trichlorsilan |
| DE10057519A1 (de) * | 2000-11-21 | 2002-05-23 | Solarworld Ag | Verfahren zur Herstellung von Silanen |
| DE102004037675A1 (de) * | 2004-08-04 | 2006-03-16 | Degussa Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Wasserstoffverbindungen enthaltendem Siliciumtetrachlorid oder Germaniumtetrachlorid |
| DE102005041137A1 (de) * | 2005-08-30 | 2007-03-01 | Degussa Ag | Reaktor, Anlage und großtechnisches Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von hochreinem Siliciumtetrachlorid oder hochreinem Germaniumtetrachlorid |
| DE102005046105B3 (de) * | 2005-09-27 | 2007-04-26 | Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Monosilan |
| DE102006003464A1 (de) * | 2006-01-25 | 2007-07-26 | Degussa Gmbh | Verfahren zur Erzeugung einer Siliciumschicht auf einer Substratoberfläche durch Gasphasenabscheidung |
| DE102007007874A1 (de) | 2007-02-14 | 2008-08-21 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung höherer Silane |
| DE102007014107A1 (de) * | 2007-03-21 | 2008-09-25 | Evonik Degussa Gmbh | Aufarbeitung borhaltiger Chlorsilanströme |
| CN103272637A (zh) * | 2007-04-10 | 2013-09-04 | 赢创德固赛有限责任公司 | 用于制备通式R(4-m-n)AClmHn,特别是硅烷的化合物或高纯化合物的方法和装置 |
| DE102007048937A1 (de) * | 2007-10-12 | 2009-04-16 | Evonik Degussa Gmbh | Entfernung von polaren organischen Verbindungen und Fremdmetallen aus Organosilanen |
| DE102007050199A1 (de) * | 2007-10-20 | 2009-04-23 | Evonik Degussa Gmbh | Entfernung von Fremdmetallen aus anorganischen Silanen |
| DE102007050573A1 (de) * | 2007-10-23 | 2009-04-30 | Evonik Degussa Gmbh | Großgebinde zur Handhabung und für den Transport von hochreinen und ultra hochreinen Chemikalien |
| DE102008002537A1 (de) * | 2008-06-19 | 2009-12-24 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Entfernung von Bor enthaltenden Verunreinigungen aus Halogensilanen sowie Anlage zur Durchführung des Verfahrens |
| US8168123B2 (en) * | 2009-02-26 | 2012-05-01 | Siliken Chemicals, S.L. | Fluidized bed reactor for production of high purity silicon |
| EP2421640A1 (de) * | 2009-04-20 | 2012-02-29 | Ae Polysilicon Corporation | Verfahren und system zur kühlung eines reaktionsklärgases |
| JP2012523963A (ja) | 2009-04-20 | 2012-10-11 | エーイー ポリシリコン コーポレーション | ケイ化物がコーティングされた金属表面を有する反応器 |
| DE102009027730A1 (de) | 2009-07-15 | 2011-01-27 | Evonik Degussa Gmbh | Verahren und Verwendung von aminofunktionellen Harzen zur Dismutierung von Halogensilanen und zur Entfernung von Fremdmetallen |
| US8975429B2 (en) | 2010-01-28 | 2015-03-10 | Ndsu Research Foundation | Method of producing cyclohexasilane compounds |
| DE102010043646A1 (de) * | 2010-11-09 | 2012-05-10 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan |
| US20130156675A1 (en) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | Rec Silicon Inc | Process for production of silane and hydrohalosilanes |
| US8875728B2 (en) | 2012-07-12 | 2014-11-04 | Siliken Chemicals, S.L. | Cooled gas distribution plate, thermal bridge breaking system, and related methods |
| US9352971B2 (en) | 2013-06-14 | 2016-05-31 | Rec Silicon Inc | Method and apparatus for production of silane and hydrohalosilanes |
| KR102585616B1 (ko) * | 2018-09-06 | 2023-10-05 | 와커 헤미 아게 | 디클로로실란의 탈수소화 방법 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2162537B2 (de) * | 1970-12-17 | 1977-02-24 | Union Carbide Corp., New York, N.Y. (V.StA.) | Verfahren zur herstellung von disproportionierungsprodukten von chlorsilanen |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2627451A (en) * | 1948-04-22 | 1953-02-03 | Union Carbide & Carbon Corp | Disproportionation of silane derivatives |
| US3044845A (en) * | 1958-09-30 | 1962-07-17 | Union Carbide Corp | Process for producing dichlorosilane |
| DE1251762B (de) * | 1965-03-19 | 1967-10-12 | Rhone Poulenc SA, Paris | Verfahren zur Dismutation von Chlorhydrogen silanen |
| US3704104A (en) * | 1970-06-01 | 1972-11-28 | Texas Instruments Inc | Process for the production of trichlorosilane |
| US4340574A (en) * | 1980-08-28 | 1982-07-20 | Union Carbide Corporation | Process for the production of ultrahigh purity silane with recycle from separation columns |
| EP0054650B1 (de) * | 1980-12-24 | 1986-01-29 | Hüls Troisdorf Aktiengesellschaft | Verfahren zum Reinigen von Chlorsilanen |
| US4613491A (en) * | 1984-05-17 | 1986-09-23 | Korea Advanced Institute Of Science And Technology | Redistribution catalyst and methods for its preparation and use to convert chlorosilicon hydrides to silane |
-
1987
- 1987-04-04 DE DE19873711444 patent/DE3711444A1/de active Granted
-
1988
- 1988-03-26 DE DE8888104895T patent/DE3881430D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-03-26 DE DE3853435T patent/DE3853435D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-03-26 EP EP88104895A patent/EP0285937B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-26 EP EP91118711A patent/EP0474265B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-28 US US07/173,969 patent/US5026533A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-04-04 KR KR1019880003770A patent/KR960005508B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1988-04-04 JP JP63081463A patent/JP2553140B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2162537B2 (de) * | 1970-12-17 | 1977-02-24 | Union Carbide Corp., New York, N.Y. (V.StA.) | Verfahren zur herstellung von disproportionierungsprodukten von chlorsilanen |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3925357C1 (de) * | 1989-07-31 | 1991-04-25 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt, De | |
| DE102004045245B4 (de) * | 2004-09-17 | 2007-11-15 | Degussa Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Silanen |
| EP2591856A1 (de) | 2007-12-06 | 2013-05-15 | Evonik Degussa GmbH | Anlage mit Katalysator zur Dismutierung von Wasserstoff enthaltenden Halogensilanen |
| DE102007059170A1 (de) | 2007-12-06 | 2009-06-10 | Evonik Degussa Gmbh | Katalysator und Verfahren zur Dismutierung von Wasserstoff enthaltenden Halogensilanen |
| WO2009071358A3 (de) * | 2007-12-06 | 2009-08-13 | Evonik Degussa Gmbh | Katalysator und verfahren zur dismutierung von wasserstoff enthaltenden halogensilanen |
| RU2492924C9 (ru) * | 2007-12-06 | 2014-03-27 | Эвоник Дегусса Гмбх | Катализатор и способ дисмутации содержащих водород галогенсиланов |
| RU2492924C2 (ru) * | 2007-12-06 | 2013-09-20 | Эвоник Дегусса Гмбх | Катализатор и способ дисмутации содержащих водород галогенсиланов |
| WO2012062562A2 (de) | 2010-11-09 | 2012-05-18 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur spaltung höherer silane |
| WO2012062560A2 (de) | 2010-11-09 | 2012-05-18 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur selektiven spaltung höherer silane |
| DE102010043649A1 (de) | 2010-11-09 | 2012-05-10 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Spaltung höherer Silane |
| DE102010043648A1 (de) | 2010-11-09 | 2012-05-10 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur selektiven Spaltung höherer Silane |
| DE102011004058A1 (de) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Evonik Degussa Gmbh | Monochlorsilan, Verfahren und Vorrichtung zu dessen Herstellung |
| WO2012110275A1 (de) | 2011-02-14 | 2012-08-23 | Evonik Degussa Gmbh | Monochlorsilan, verfahren und vorrichtung zu dessen herstellung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR960005508B1 (ko) | 1996-04-25 |
| EP0474265A2 (de) | 1992-03-11 |
| DE3881430D1 (de) | 1993-07-08 |
| JPH01257118A (ja) | 1989-10-13 |
| KR880012483A (ko) | 1988-11-28 |
| EP0285937A3 (en) | 1989-06-28 |
| EP0285937A2 (de) | 1988-10-12 |
| JP2553140B2 (ja) | 1996-11-13 |
| EP0474265A3 (en) | 1992-05-06 |
| EP0285937B1 (de) | 1993-06-02 |
| US5026533A (en) | 1991-06-25 |
| EP0474265B1 (de) | 1995-03-22 |
| DE3853435D1 (de) | 1995-04-27 |
| DE3711444C2 (de) | 1990-07-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3711444C2 (de) | ||
| DE2061189C3 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Alkoxysilanen oder Alkoxypolysiloxanen | |
| CH398564A (de) | Verfahren zur Herstellung von Cyclohexanon | |
| EP1250305B1 (de) | Abwasserreinigung beim verfahren zur herstellung von wasserfreier ameisensäure | |
| CH634553A5 (de) | Verfahren zur herstellung von harnstoff. | |
| DE2148669A1 (de) | Verfahren zur herstellung von organosiloxanen | |
| DE2853991A1 (de) | Verfahren zur gewinnung von wasserfreier oder weitgehend wasserfreier ameisensaeure | |
| EP0156309B1 (de) | Verfahren zur Gewinnung von wasserfreier oder weitgehend wasserfreier Ameisensäure durch Hydrolyse von Methylformiat | |
| DE69819948T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Monosilanen | |
| DE3334297C2 (de) | ||
| DE2042574B2 (de) | Verfahren zur vollstaendigen abtrennung von restanteilen an kohlendioxid und ammoniak aus einer durch umsetzung von kohlendioxid und ammoniak erhaltenen waessrigen harnstoffloesung | |
| DE1127898B (de) | Verfahren zur Herstellung von ª‰-Cyanaethylphenyldichlorsilan | |
| DE3500318C2 (de) | ||
| DE3632875C2 (de) | ||
| DE2550187C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Dichlorsilan durch Disproportionierung von Trichlorsilan in Gegenwart von N-substituiertem Pyrrolidon | |
| EP0839797B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von 2-Methyl-2,4-diaminopentan | |
| DE2550076C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Dichlorsilan durch Dismutation von Trichlorsilan in Gegenwart von Tetraalkylharnstoff | |
| DE69524885T2 (de) | Verfahren zur herstellung von trioxan | |
| EP0021238A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Silicium enthaltenden Derivaten des Acetamids | |
| DE1643075A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Kohlenwasserstoffoxysilanen | |
| DD142886A5 (de) | Verfahren zur herstellung von aethylsilanen | |
| DE2950955C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Dimethylformamid | |
| DE69323854T2 (de) | Wasserfreies Verfahren zur Herstellung von Polyorganosiloxanen | |
| DE2362923C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Ammoniumrhodanid | |
| DE3512402C2 (de) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| 8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: HUELS AG, 4370 MARL, DE |
|
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: DEGUSSA-HUELS AG, 60311 FRANKFURT, DE |
|
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: DEGUSSA AG, 40474 DUESSELDORF, DE |
|
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |