DE1643075A1 - Verfahren zur Herstellung von Kohlenwasserstoffoxysilanen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von KohlenwasserstoffoxysilanenInfo
- Publication number
- DE1643075A1 DE1643075A1 DE19671643075 DE1643075A DE1643075A1 DE 1643075 A1 DE1643075 A1 DE 1643075A1 DE 19671643075 DE19671643075 DE 19671643075 DE 1643075 A DE1643075 A DE 1643075A DE 1643075 A1 DE1643075 A1 DE 1643075A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- hexane
- ethanol
- product
- alcohol
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 title 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 claims description 7
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- -1 aliphatic alcohols Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002044 hexane fraction Substances 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 claims 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 claims 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 61
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 12
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 12
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- GCFHZZWXZLABBL-UHFFFAOYSA-N ethanol;hexane Chemical compound CCO.CCCCCC GCFHZZWXZLABBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002779 inactivation Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical group CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000000159 acid neutralizing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000001502 aryl halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000003889 chemical engineering Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 125000000973 dialkylether group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 150000003138 primary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000005053 propyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N trichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/04—Esters of silicic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/025—Silicon compounds without C-silicon linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Description
Dr. Walter Beil ;
Alfred Hoeppener Λ ifi Juni
Di^ Hans Joachim Wolff λό.™
Dr.. Hans Chr. Beil
Frankfurt a. M. -Höchst
Unsere Nr8 13 867 . ■.',■.:.-."
Stauffer Chemical Company
New York,M* 17, V.St*Ä.
Verfahren zur Herstellung von Köhlenwasserstoff-oxysilanen
G-egenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von
Kohlenwasserstoff-QXygiianen durch Umsetzung von Halogen-, insbesondere
Chlorsilanen, mit Alkoholen und Phenolen, insbesondere mit primären Alkoholen.
Die Erfindung bietet derzeit" grösste wirtschaftliche 'Verwertungsmöglichkeiten auf dem ^ebiet der Herstellung von Tetraäthylortho-silikat
und partiell hydrolysiert em £etraäthyl~ortho-silikall
doch ist sie nicht auf eine derartige Anwendung beschränkt. So *
kann sie auch mit Torteil auf die Herstellung von z.B. Methyl-, Phenyl- und ITinyl-triäthoxysilan, Propyl- und Methyltrimethoxysilan
u,a, angewendet werden»
Allgemein lässt sich der Anwendungsbereich vorliegenaen Verfahrens durch nachstehende G-leichuxigen für die in Ausführung der
Erfindung vorzunehmenden Umsetzungen a geben: : ·
1. SiXV + ROH t—I ^ Si(OA)Xx + HX f .' ■. - : ". ■■ - - \
Si(OR)X3 + ROH *-— - ν, Si(OR)2X2 +
3. Si(OR)0X9- + ROH ^ SiOR3X + HX f
Si(OR)4 +
9808/1941
In diesen Gleichungen bedeutet X ein Halogen—, insbesondere ein Chlor atom und R eine Alkyl-, Cycloalkyl oder Aryl gruppe» Ist
R aus eine Alkylgruppe, so kann diese 1 bis 16, /vorzugsweise
1 bis 8 Kohlenstoffatome aufweisen. In jedem Falle kann R Substituenten
enthalten, die nicht in die Umsetzung eingreifen,
die nicht leicht zersetzlich sind oder mit Säure reagieren» Als
Beispiele solcher Substituenten können Ester- und Nitrilgruppen
sowie ungesättigte Reste, wie z.B. Vinylgruppen, genannt werden.
Die vorstehend wi^dergegebenen Umsetzungen verlaufen mit fortschreitend abnehmender Geschwindigkeit und sind umkehrbar. Im
Hinblick auf ihre Umkehrbarkeit ist es angebracht wenn nicht
gar erforderlich, entweder die Umsetzungen durch Zusatz eines
Säureakzeptors (Basen, Amine, Ammoniaki o-Formiate, Epoxy^e usw)
bis zur Vollständigkeit durchzuführen oder aber für sofortige»
kontinuierliche Entfernung der gelösten Säure aus dem Reaktionsgemisch, z.B. durch Vakuum, Durchleiten eines StickstoffStromes
oder dergl. Ψ zu sorgen. Eine Inaktivierung oder Abtrennung der
Säure igt weiterhin auch aus dem Grunde sehr angezeigt/ weil
sich diese unter Bildung von Wasser mit dem Alkohol oder Phenol
zu Alkyl— oder 'Arylhalogenid oder Dialkyl- oder -aryläther umsetzen kann, was dann eine Hydrolyse des Produktes und dessen
ansehliessende Umwandlung zu allgemeinen unerwünschten hochsiedenden
Produkten zur Folge hat. Ferner kann die Säure bei
nicht erfolgter Abtrennung oder Inaktivierung funktioneile Gruppen
des Alkohols oder Phenols angreifen.
Vom wirtschaftlichen Standpunkt aus ist die Abtrennung der Säure
als solche a,us; der Reaktionszone der Anwendung eines Säureakzeptors
eindeutig vorzuziehen. Doch erwiesen sich bisher vorgeschlagene Verfahren zur Abtrennung der Säure als solche aus den Reaktionszohen
in der Praxis sehr unwirtschaftlich. ^eI Anwendung
eines dieser bekannten Verfahren ist der Einsatz grosser ^engen
Neittralisierungsmittel für die Endfertigung des Produktes letztlich immer erforderlich. Dadurch aber bilden sich in gleichem
Umfange grosse Mengen Salz, das abfiltriert werden muss. Eine solche
Arbeitsweise und die Wartung der Filteranlage jedoch machen
209808/1941
: ' BAD
ein derartiges Verfahren kostspielig.
Ein weiterer Nachteil der bisher "bekannten Verfahren beruht
darauf, dass die als Nebenprodukt anfallende Säure derart durch
Alkohol oder Phenol und andere Stoffe verunreinigt ist, dass sie"""nur wenig-Absatz findet* Darüberhinaus erwachsen ernstliche
Schwierigkeiten aus der Anwesenheit von Tri- und/oder Tetrahälögensilanen
in der aus dem Reaktionsgefäss austretenden gasförmigen Säure. Sie verstopfen nämlich häufig die Wasch- und
Absorptionsanlagen, so dass Stillegungen und.zeitraubende Reinigungen
erforderlich werden.
Hauptziel der Erfindung ist daher ein wirksames Verfahren zur
Herstellung von Kohlenwasserstoff-oxysilanen mit hoher Wirt- "
sohaftlichkeit. Des weiteren sollen die verschiedenen Umsetzungen
in diesem Verfahren mit einer Geschwindigkeit erfolgen, welche
bis zu einer Grössenordhung höher,,als es bislang der Fall war.
Ferner soll die in diesem Verfahren als Nebenprodukt entstehende
Säure in hohem Heinheitsgrad anfallen und die bei industrieller
Ausführung des Verfahrens erforderliche Kraftstoffmenge gering
sein. . ■
Überdies soll nach diesem Verfahren ein säurefreies oder nur
Säurespuren enthaltendes Produkt hergestellt werden, so dass .
die Endneutralisierung nicht zu einer übermässigen Salzbildung
führt. I
Weitere Ziele, Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich
■aus der nachfolgenden Beschreibung des Verfahrens zur Herstellung
von Setraäthyl-ortho-silikat. Die Beschreibung erfolgt anhand beigefügter Zeichnung, auf der ein für die Ausführung des
Verfahrens geeignetes Anlagensystem schematisch wiedergegeben .
ist. Auf dieser Zeichnung bezeichnet Ziffer 10 ein erstes Re- , ·
aktionsgefäss, das mit einer Expansionskammer 12 in Verbindung steht, die ihrerseits an eine Wasekänlage Ή angeschlossen ist.
Vorzugsweise wird das Reaktionsgefäss 10 gestaut oder bepackt
z«B. mit Polypropylen. Eine me inimale, in längs richtung erfolgende
Vermischung bei gleichzeitigem gutem Gas-Flüssigkeitskon- *
209808/1941
takt unter massigem: Pruckabf all führt zu .erhöhter Reaktionsselekti;
vität und zu verliältnismässig reinem Gas, das nur wenig durch
nichtverestertes Aüsgangsmaterial verunreinigt ist.
Es ist angebrachtj die :Anlage 14 in, lOrm einer siebartigen Schale
auszubilden« So kann sie ζ «By der Gas-Iiüssigkeits-Kontaktanlage-,-entsprechen,
die in. der Zeitschrift Chemical Engineering, Jan,
19.06, Seite 40:, beschrieben 1st, Aber auch eine einfache be- :
packte Säule'kann genügen* ; - - ■-_ . .-..-.':-, . ■"''.-.-: ν . ; ■■-- -----
Rechts :von"^8.a1i:tionsgefäss /1£>
ist-ein. zweites Reaktlonsgefäss 16 . .
mit RührwerkiSundHeizschlange 17^angeordnet* Oberhalb des als
ummantelten zweiten Reaktionsgefässes .16: befindet sich eine zweite Wäsöiianlage 22 in geeigneter, nerkömmllGher Ausbildung; sie ;
steht mit einem Kondensor-24 in Yei'bindung, In das Reaktionsgefäss
16;.münäet;eine Zuführung; aus; Sammelbehälter 26,; der durch
den Abstreifer 28 mit einem damit verbundenen Aufkocher 30 gespeist
wirdν Pie Abstreifsäule 28 mündet,wie dargestellt, in ·
einen;; zweiten; Kondensator :32* Rechts von letzterem ist eine
Gasabsorptionsäniage; 34: angeor^laet« -.=.." _ -"-."-
Pie Umsetzung in dem ;Reaktlonsgefäss 10 erfolgt adiabatioch in
flüssiger Phase; unter Verwendung-vc-n Siliziumtetrachlorid uncL
Ithanol als Ausgangsstoffe, die in gesteuerten Mengenverhältnissen
dem Reaktionsgefäss zugeführt werden« Zur Erzielung optimaler Ergebnisse soll das Mol-Verhältnis von Siliziumtetraohlorid
zu Ithänöl annähernd fs 2,5 betragene
Pie etwas endotherm verlaufende Umsetzung verläuft unter Bildung
von Ohlorwasserstoff* Um die Löslichkeit des letzteren in dem
Reaktionsgemisch herabzusetzen, wird in das Reaktionsgefäss-10
eine gesteuerte Menge eines geeigneten Kohlenwasserstoff-Lösxuigümittels,
vorzugsweise Hexan,- zusammen mit zusätzlichem Äthanol
eingeführt· Pa durch Terdampfungdes Ghlorwasserstoffes Wärme
entzogen wird, kann auf diese "Weise die Temperatur des Reaktionsgemisches auf gewün^chtermassen niedriger Höhe, z,B„ auf etv-:a 0
C gehalten werdene '
Pas Hexan-Äthanol-ä-emi^cli entstammt der Waschanlage 14, in der es
zum Viasehen-der Pämpfe aus der Expansionskammer 12 verwendet wird
209808/1941
Wie in der Zeichnung ang-egeben, "bestehen diese Dämpfe aus niehtumgesetztem
Siliziumtetrachlorid, Chlorwasserstoff und Hexan*
Der Alkohol, der in dem der Waschanlage 14- zugeführten Hexan-Athanol-^emisch
vorhanden ist, setzt steh mit sämtlichen niehtumgesetzten
Siliziumtetrachlorid vorwiegend zu verhältnismässig
hochsiedendem '^etraäthyl-ortiio-silikat um, das als Ϊ1 eil des
Rückstandproduktes der Waschanlage in d&s Reaktionsgefäss 10
rückgeführt wird. Die aus der Waschanlage austretenden Dämpfe,
die im wesentlichen aus Chlorwasserstoff und Hexan bestehen, ■
werden in die Adsorptionsanlage 34>
auf die nachstellend noch verwiesen wird, eingeführt.
■■■■ ■ ' " · r '■ ■ ■ -"■■"■■■ : i
Zu beachten ist, dass es sich bei dem Reaktionsgefäss 10 um eine. 1^
kontinuierlich arbeitende Anlage handelt und dassdie darin erfolgende Vermischung der Reaktionsteilnehmer durch die Chlor-Wasserstoff
entwicklung gesteigert wird.. ,
Das flüssige Produkt aus ReaktiOnsgefäss 10 gelangt von der
Expansionskammer 12 in das zweite Reaktionsgefäss 16* Dieses
Produkt besteht hauptsächlich aus Si(OG2H5)2Ö12 und S1(OC2H-),01,
Zusätzliches Äthanol in einem Überschuss von 5 $, bezogen auf den
gesamten, für die Gesamtumsetziung erforderlichen Alkohol, wird
ebenfalls in das Reaktionsgefäss 16 eingeführt« '
Die Umsetzung in Reaktionsgefäss 16 erfolgt unter kontinuierlichen ä
Rühren der Reaktionsteilnehmer, die auf Rückflusstemperatur, d.h.
auf 50 bis 62°C, und unter Druckbedingungen gehalten werden, die
den im Reaktionsgefäss 10 vorherrsehenden nahekommen· Das Kopfprodukt
aus Reaktionsgefäss 16 gelangt in die zweite Waschanlage
22, die so arbeitet* dass eifie grobe Abtrennung des HCl und
Hexans von dem Äthanol und den ^wischenprOdukten der Reaktion
bewirkt wird» Das aus dem Kondensatoraustretende, wenig HCl enthaltende
Hexankondensat wird in die Waschanlage 22 rückgeführtt
während das Kopfprodukt, das meistenteils aus Chlorwasserstoff
und Hexan besteht, in die Absorptionsaiilage 34- gelangt·
Der grööste l'eil des in das Reaktionsgefäss 16 eingeführten Hexans
kommt aus der Leitung 36, die das Reaktionsgefäss und den Sammel'-
209808/1941
- 6 -.- 18Λ3075
behälter 26 miteinander verbindet. Das Hexan dientdazu,.den
Partialdruck des Chlorwasserstoffes über dem flüssigen Re,akttionsgemisch
sowie die Löslichkeit und die Dissoziation desselben
im Gemisch herabzusetzen, Infolgedessen löst sich nur verhältnismäsMfg^hlorwasserstoff
in dem Gemisch, so dass das Produkt aus Reaktionsgefäss t6 normalerweise: nicht mehr als 3 fo HGl
enthält»
Die in Reaktionsgefäss 16 erfolgende umwandlung in Tetraäthylortho-silikat
wurde als quantitativ ermittelt, so dass Verluste lediglich aus mechanischen ^runden auftreten können.
Das Rückstandsprodukt von Reaktionegefäss 16 gelangt in die Abstreif
säule 28, die auf der zur Entfernung des Hexans, Äthanols
und Chlorwasserstoffes aus dem 2etraäthyl~ortho~siiikat erforderlichen
Temperatur gehalten wird» Diese Dämpfe werden in den Kon-:
densator 32 eingeleitet, in denen der Chlorwasserstoff von dem Hexan und dem Alkohol, die dem Sammelbehälter 26 zugeführt werden,
abgetrennt wird. Die Rückführung des Hexan-Äthanol~G"emisches in
die Säule 28 erfolgt über die Leitung 40» wobei das Rückführverhältnis
für gewöhnlich 1 : 1 beträgt. ν
Das Kopfprodukt aus den "aschanlagen 14 und 22, das in den Absorber
34 eingeleitet wird, enthält normalerweise etwa 98$ des
gesamten, als Nebenprodukt anfallenden Chlorwasserstoffes, Wie
dargestellt, wird d-as im Absorber abgetrennte Hexan in die
Hexan-Zuführleitung der Waschanlage 14 rückgeführt·
Das aus dem Kondensator 32 abgezogene Hol gelangt nicht in die
Absorptionsanlage 34, da es durch Silikate etwas verunreinigt ist, die in der Absorptionsanlage zur Hydrolyse tint er Ablagerung
von Kieselsäure neigen wurden«
Zur weiteren Erläuterung der Erfindung sind nachstehend die in
einem typischen Versuch herrsehenden Stoffgleichgewichte zusammengestellt. Diese Zahlen basieren auf der Herstellung von 1.887 kg
Äthylsilikät mit einem Chlorid-Gehalt von weniger als 0,05 ^*
209808/1941 *
BAD ORIGINAL
Eingeführte Stoffe (in kg)
Erster Reaktor
SiGl4- : V-.:: 1542 »7
ÄtOH 1044,2
"Hexan _'/' ' 485,6
A"b s ο rpt i onaanlage Becchlckungs HGl 1291,0
• Hexan 475,^
7 "'■· Äthanol 2,27 Wasser 2807,7
Produkts
Hexan
HGl
HGl
Dämpfeί
Hexan
HGl
HGl
Zweiter Reaktor; | Abstreifer | 1758, | *5 | ;; . ■ ■ - --. | Si(OM)4 | Hexan |
Produkts Si<OÄt)ρ t | Beschickung: Si(OAf), |
396, | 6 | ^HGl | HGl | |
Hexan :. | V 165., | 9 | ; -Pr/odukts" | Hexan | HGl ; | |
Hexan | Äthanol | 629» | 1 | Äthanol | Hexan | |
"■ HOl 7 : | HCl 7 | 82, | 1 ■, | HGl | Äthanol | |
Äthanol! | 208, | 1 | Hexan | |||
Rückführungi ÄtOH | 33, | 7 | Dämpfe i; | Äthanol | ||
Hexan | 1 | |||||
HOl | 1886, | Si(OAt)4 | ||||
218, | 9 | HGl | ||||
85, | 6 | Produkts | Rückführg.s ÄtOH: | |||
66, | 9 | |||||
,2. | ||||||
• Dampfes | ||||||
1758,6
396,9
165,1
0,9'
88,9
662,2
1886, | 9- |
66, | 2 |
218, | 6 |
83, | 9 |
628, | 7 |
386, | 5 |
:,, .-1", | ,36 |
1886, | ► 9 |
9, | >07 |
82-, | pi |
208, | ,1 |
33; | Ä |
24: | ,0 |
10 | ,4 |
1 | ,81 |
HÖl-LÖsung von 20Qb4 (einschi,
.-■.':■■ ' \ - ■ Äthanol) 4100,9
Hexan-Rückführung 475,3
S ilikate unb e deut end
1941
BäD-'ORIQINäL
Soll das Tetraäthyl-ortho-silikat in polymerer Form hergestellt
werden, so ist lediglich dem in das -ßeaktionsgefäss. 16 eingeführten
Äthanol eine angemessene Menge Wasser zuzusetzen» Auf diese
Weise kaim das unter der Bezeichnung "Äthylsilikat 4-0" bekannte,
handelsübliche -Produkt rasch hergestellt. werden. Das Produkt
kann aber auch aus "kondensiertem Äthylsilikat", das im wesentlichen
ein Monomer es ist, "bestehen» technisch gesehen, verdankt
das "Äthylsilikat 40" seine Bezeichnung der Tatsache, dass sein verfügbarer Kieselsä,uregehalt annähernd φ °/° beträgt,,
Man wird rasch erkenne, dasü einfach durch Verwendung von Methyltrichlorsilan
anstelle des in dem dargelegten System eingesetzten Siliziumtetrachlorids Methyltriathoxysilan hergestellt oder,
bei Zusatz von Wasser wie vorstehend beschrieben," polymerisierttes
Methyltriäthöxysilan hergestellt werden kann0 Wie gleichfalls
ersichtlich, braucht man, um ein weiteres Beispiel anzuführen, im lalle einer Herstellung von Propyltrimethoxysilan
lediglich als Ausgangsstoffe Propyltrichlors«ilan und Methanol
einzusetzen,, In diesem Falle ist es ra-^gg-m, als lösungsmittel einer'Pentanfraktion
vor einer Hexanfraktion den Vorzug zugeben*
Der vorliegend benutzte Ausdruck "halogensubstituiertes Silan"
bezeichnet sowohl Silane, deren einzige Substituentengruppe(n) aus einer Halogengruppe(n) besteht bzw» bestehen, als auch Halogensilane,
die ζ ο Bo durch eine Alkyl- und/oder Arylgruppe zusätzlich
substituiert sind«
209808/1941
BAD OBlGINAU
Claims (1)
- a ■·■;■■■ ; -.-.;--. ~ —P A Ϊ-Ε IT AITSP RÜG H E : .-■;"Verfahren zur Herstellung yon Kohlenwasserstoff-oxysilanen,gekennzeichnet, dass man .a)·- ein halogensubstituiertes Silan mit einem Phenol oder Alkohol in Gegenwart eines Lösungsmittels adiabatisch umsetzt, welch letzteres die !löslichkeit des /bei der. Umsetzung anfallen-' den Halogenwasserstoffes im Keaktionsgemisch herabzusetzen vermag, wobei die Äeaktionsteilnehinesr in einem Mengenverhältnis eingesetzt werden, das ein G-emisch von HalogenkohXenwasserstoffoxysilanen ergibt, und daymanb) das letztgenannte G-emisch in G-egenwart eines vorstehend an- ™ gegebenen Lösungsmittels mit zusätzlichem Phenol ojier. Alkohol umsetzt, um die Halogen-kohlen^vasserstoff-oxyailane in das entsprechende, vollständig veresterte Produkt überzuführen.20 "Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dagg man als Alkohole aliphatisehe Alkohole mit 1 bis; 8 Kohlenstoffatomen verwendet.3ο "Verfahren nach Anspruch T oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass man die Umsetzung b)aur Herstellung des Produktes in polymerer Form unter Zfusatz von Wasser durchführt*4» Verfahren nach Anspruch 1,, dadurch gekennzeichnet, dass man als Ausgangsstoffe Siliziumtetrachlorid und einen aliphatischen primären Alkohol mit 1 bis 8, Kohlenstoffatomen verwendet,5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass man zur Herstellung von 1^eträäthyl-ortho-silikat Siliziumtetrachlorid und Äthanol als Ausgangsstoffe verwendet,6. 'Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet> d^ss man in Stufe a) und b) als Lösungsmittel eine Hexanfraktion.verwen- · det, "-.-.".·209808/1941βλρ ORIGINAL■ ■ ■ . 18430757o Verfahren nach. Anspruch. 5 oder 6, d "durch gelcennz-eichiiet,, dass das Mol-Verhältnis von Siliziumteiirachlarid zu Äthanol in der Umsetzung a) etv/a 1 : 2,5 beträgt,Für - Stauffer Chemical Companjr ■" ■ . _ Hew York, HoT017, Y9St0A0Re chts anvjal t
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US55889966A | 1966-06-20 | 1966-06-20 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1643075A1 true DE1643075A1 (de) | 1972-02-17 |
DE1643075B2 DE1643075B2 (de) | 1973-05-30 |
DE1643075C3 DE1643075C3 (de) | 1974-02-28 |
Family
ID=24231447
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1643075A Expired DE1643075C3 (de) | 1966-06-20 | 1967-06-19 | Verfahren zur Herstellung von Kieselsäureestern aliphati scher Alkohole oder Phenole |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3448138A (de) |
BE (1) | BE700144A (de) |
CH (1) | CH479626A (de) |
DE (1) | DE1643075C3 (de) |
GB (1) | GB1187497A (de) |
NL (1) | NL162390C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3309126A1 (de) * | 2016-10-11 | 2018-04-18 | Evonik Degussa GmbH | Verfahren zur herstellung von siliciumtetrachlorid durch carbochlorierung |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4421926A (en) * | 1982-06-28 | 1983-12-20 | General Electric Company | Process for co-alkoxylation of halosilanes and separation of the resulting products |
DE3236628C2 (de) * | 1982-10-04 | 1986-09-11 | Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Alkoxysilanen |
US4855473A (en) * | 1986-05-27 | 1989-08-08 | Bayer Aktiengesellschaft | Process for the preparation of organooxychlorosilanes |
US4924022A (en) * | 1989-10-04 | 1990-05-08 | Dow Corning Corporation | Method for preparation of organoalkoxysilanes |
CN108285466A (zh) * | 2018-03-06 | 2018-07-17 | 宁夏胜蓝化工环保科技有限公司 | 高收率制备原硅酸乙酯的方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1725620A (en) * | 1927-01-18 | 1929-08-20 | Ig Farbenindustrie Ag | Esters of silicic acid |
US2484394A (en) * | 1944-08-11 | 1949-10-11 | Hartford Nat Bank & Trust Co | Process for the preparation of silicic-acid esters |
US2647874A (en) * | 1949-05-26 | 1953-08-04 | Pierce John B Foundation | Automotive coolant |
GB913346A (en) * | 1960-06-01 | 1962-12-19 | Hygrotherm Eng Ltd | A method for the production of aryl silicates |
-
1966
- 1966-06-20 US US558899A patent/US3448138A/en not_active Expired - Lifetime
-
1967
- 1967-05-23 GB GB23781/67A patent/GB1187497A/en not_active Expired
- 1967-06-08 NL NL6708007.A patent/NL162390C/xx not_active IP Right Cessation
- 1967-06-19 DE DE1643075A patent/DE1643075C3/de not_active Expired
- 1967-06-19 CH CH864667A patent/CH479626A/de not_active IP Right Cessation
- 1967-06-19 BE BE700144D patent/BE700144A/xx unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3309126A1 (de) * | 2016-10-11 | 2018-04-18 | Evonik Degussa GmbH | Verfahren zur herstellung von siliciumtetrachlorid durch carbochlorierung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1187497A (en) | 1970-04-08 |
CH479626A (de) | 1969-10-15 |
NL162390B (nl) | 1979-12-17 |
NL162390C (nl) | 1980-05-16 |
DE1643075B2 (de) | 1973-05-30 |
BE700144A (de) | 1967-12-19 |
DE1643075C3 (de) | 1974-02-28 |
NL6708007A (de) | 1967-12-21 |
US3448138A (en) | 1969-06-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0285937B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Dichlorsilan | |
DE2061189C3 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Alkoxysilanen oder Alkoxypolysiloxanen | |
EP0032376B1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von SiOC-Gruppen aufweisenden Silanen oder SiOC-Gruppen aufweisenden Polysiloxanen | |
DE2546957C3 (de) | Verfahren zur Reinigung von Halogensilanen | |
DE2744726A1 (de) | Verfahren zur herstellung von monomeren und oligomeren kieselsaeurealkylestern | |
DE3005743C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines nicht klebrigen und leicht zu handhabenden Siloxangels | |
CH615684A5 (de) | ||
EP1831233B1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen herstellung von amino-gruppen tragenden silicium-verbindungen | |
DE2148669A1 (de) | Verfahren zur herstellung von organosiloxanen | |
DE69822921T2 (de) | Kontinuierliche Hydrolyse von organochlorosilane | |
DE1643075A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Kohlenwasserstoffoxysilanen | |
DE855851C (de) | Verfahren zur Herstellung von Dimethyldichlorsilan | |
DE1793215A1 (de) | omega-Cyanperfluoralkylcarbonsaeure-polychloralkyl- bzw.-aralkylester und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
EP0924215B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkoxysilanen | |
DE3014129A1 (de) | Verfahren zur herstellung von 1-aminopropandiol-2,3(iii) | |
DE2361605C2 (de) | Verfahren zur Aufarbeitung des Reaktionsgemisches, das bei der Herstellung von 5-Alkyliden-norbornen-2 durch katalytische Isomerisierung des entsprechenden 5-Alkenyl-norbornen-2 erhalten worden ist | |
DE2645703A1 (de) | Verfahren zur herstellung von hexamethyldisilazan | |
DE3202558A1 (de) | Verfahren zur herstellung von organosiloxanen | |
DE3236897A1 (de) | Verfahren zur herstellung von linearen polysiloxanen | |
DE2117028A1 (de) | Verfahren zum Silylieren von organi sehen Verbindungen | |
EP1857430B1 (de) | Verbesserte Prozessführung bei der Direktchlorierung des Ethylens zu 1,2-Dichlorethan | |
DE941647C (de) | Verfahren zur Herstellung von Siloxanen oder Siliciumdioxyd | |
DE1196869B (de) | Verfahren zur Herstellung von Aminomethyl-gruppen tragenden Polymethylsiloxanen | |
AT226247B (de) | Verfahren zur Herstellung von Organozinnverbindungen | |
DE1618126B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Chloralkanen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |