DE1643075C3 - Verfahren zur Herstellung von Kieselsäureestern aliphati scher Alkohole oder Phenole - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Kieselsäureestern aliphati scher Alkohole oder Phenole

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DE1643075C3
DE1643075C3 DE1643075A DE1643075A DE1643075C3 DE 1643075 C3 DE1643075 C3 DE 1643075C3 DE 1643075 A DE1643075 A DE 1643075A DE 1643075 A DE1643075 A DE 1643075A DE 1643075 C3 DE1643075 C3 DE 1643075C3
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
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  • Organic Chemistry (AREA)

Description

durch gekennzeichnet, daß man als Lösungsmittel Auf unerwartete Schwierigkeiten stößt die Herstei-
eine Hexanfraktion verwendet. lung von Orthokieselsäureestern, wenn man SiCl4 mn
4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, da- einem Überschuß an Alkohol umsetzt (vgl. »Chemie durch gekennzeichnet, daß man zur Herstellung und Technologie der Silikone«. 1968, S. 554 und 555). von Kieselsäureäthylester in der ersten Um- as Der entstehende Chlorwasserstoff setzt sich mit dem Setzungsstufe ein Molverhältnis von Siliciumtetra- überschüssigen Alkohol zu Alkylchlorid und Wasser chlorid zu Äthanol von etwa 1: 2,5 verwendet. um, das den gebildeten Orthoester sofort in einen
5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, da- hochpolymeren, nicht mehr destillierbaren Ester umdurch gekennzeichnet, daß man zur Herstellung wandelt. Man hat fes gestellt, daß sich die unereines Produktes in polymerer Form die zweite Um- 30 wünschte Nebenreaktion unterbinden läßt, wenn man setzungsstufe unter Zusatz von Wasser durchführt. nicht mit einem Alkoholüberschuß, sondern mit einem
Überschuß an SiCl4 arbeitet. Der auf diese Weise hergestellte Orthokieselsäureester enthält jedoch noch
immer Chlorwasserstoff, der nicht durch Destillation,
35 sondern nur durch Umsetzung mit Natriummethylat entfern« werden kann Der Orthoester wird dann vom gebildeten Kochsalz abdestilliert (vgl. »Zeitschrift für
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur anorganische und allgemeine Chemie«, Bd. 275. 1954, Herstellung von Kieselsäureestern alipha.*ischer Aiko- S. 178, Abs. 4).
hole oder Phenole durch Umsetzung von Silicium- 40 Die Anmelderin hat nun überraschenderweise gehalogeniden oder Halogensilanen mit entsprechenden funden, daß es dennoch möglicn ist, SiCI4 oder HaIo-Alkoholen oder Phenolen in Gegenwart eines Lösungs- gensilane mit einem Überschuß an Alkoholen oder mittels. Phenolen umzusetzen, ohne daß die obenerwähnte
Das erfindungsgemäUc Verfahren ist dadurch ge- unerwünschte Nebenieaküün eintritt, wenn man die kennzeichnet, daß man als Lösungsmittel einen Koh- 45 Umsetzung in Gegenwart einss Kohlenwasserstofflenwasserstoff verwendet und die Umsetzung in zwei lösungsmittels durchführt, das die Löslichkeit des entStufen durchfuhrt, wobei in der ersten Stufe mit einem stehenden Halogenwasserstoffs im Reaktionsgemisch Unterschuß an Alkohol bzw. Phenol gearbeitet wird herabsetzt und dabei in erster Stufe das SiCl4 bzw. das und die Umsetzung in einer zweiten Stufe mit einem Halogensilan mit einem Alkohol bzw. Phenol adiaba-Überschuß an Alkohol bzw. Phenol zu Ende geführt so tisch zu einem Gemisch von Halogenkohlenwasserwird. stoffoxy-silanen umsetzt, das dann in zweiter Stufe mit
Die Erfindung ist von besonderer Bedeutung für die weiterem Alkohol bzw. Phenol in das vollständig verwirtschaftliche Herstellung von Tetraäthylortho-silikat esterte Produkt übergeführt wird. Die Umsetzung von und von partiell hydrolysiertem Tetraäthyl-ortho- SiCl4 mit einem Überschuß an Alkohol wurde bisher silikat; sie ist jedoch nicht auf diese Herstellungsver- 55 in Gegenwart von Diäthyläther durchgeführt, der den fahren beschränkt. Sie kann z. B. auch mit Vorteil auf entstehenden Chlorwasserstoff durch Bildung eines die Herstellung von Metnyl-, Phenyl- und Vinyl-tri- Oxoniumsalzes bindet <s. »Zeitschrift für anorganische äthoxysilan sowie von Propyl- und Methyltrimethoxy- ' und allgemeine Chemie«, a. a. O., Abs. 2). Dieses Versilan angewendet werden. fahren ist wie alle mit Säureakzeptoren arbeitenden
Der Anwendungsbereich des erfindungsgemäßen 60 Verfahren mit Nachteilen behaftet.
Verfahrens läßt sich durch die folgenden Gleichungen Das erfindungsgemäß verwendete Lösungsmittel wiedergeben: verringert die Löslichkeit des Während der Umsetzung
gebildeten Chlorwasserstoffs. Gleichzeitig wird durch
SiX4 + ROH 5: Si(OR)Xs -f HX t (I) die Verdampfung des Chlorwasserstoffe die Reaktions-
Si(OR)X3 + ROH :£ Si(OR)8Xg + HX t (II) 6S temperatur auf einem gewünschten niedrigen Wert von <nrf\m χ 4- roh -t- SiOR YiUY * rim etwa °°c gehalten und die Vermischung der Reak-Si(OR)4X8 + ROH X SiOR3X + HX t (HI) tionstei! nehmer gefördert. Es entstellt so elü siüre-
SiOR8X + ROH :£ Si(OR)4 + HX t (IV) freies oder nur Säurespuren enthaltendes Produkt in
If
kontinuierlicher Weise und in höherer Geschwindig- sich mit sämtlichem nichtumgesetztem ^?} fceit als bisher. Neutralisationsstufen, die zusätzliche Chlorid vorwiegend zu verhältnismäßig hocnsiedenaera Vorrichtungen und Verfahrensmaßnahmen erfordern, Tetraätbyl-ortho-sUikat um, das als Teil des K*"^" entfallen ganz oder weitgehend. Auch die als Neben- Standsproduktes des Wäschers in das Reaktionsgeiau produkt gebildete Säure fällt als solche und in prak- 5 10 zurückgeführt wird. Die aus dem Wascher austisch reiner Form an. tretenden Dämpfe, die im wesentlichen aus ciuor-
Das erfindungsgemäße Verfahren ist damit ein- wasserstoff und Hexan bestehen, werden in die Ab-
facher, vorteilhafter und auch wirtschaftlicher als die Sorptionsanlage 34 eingeführt. .
bekannten Verfahren zur Herstellung von Kieselsäure- Das Reaktionsgefäß 10 wird kontinuierlich oetrie-
estern aliphatischer Alkohole oder Phenole. io ben, und in ihm wird durch die ChlorwasserstoBent-
Weitere Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens wicklung die Vermischung der Reaktionsteilnenmer
zeigt «ine nachfolgend an Hand der Zeichnung be- gefördert. .
schriebene Anwendung auf die Herstellung von Tetra- Das flüssige Produkt aus dem ReaktionsgefaB iu ge-
fithyl-ortho-silikat. In der Zeichnung bezeichnet 10 langt von der Expansionskammer 12 in das zweite
ein erstes Rtaktionsgefäß, das mit einer Expansions- 15 Reaktionsgtfäß 16. Dieses Produkt besteht naupt-
kammer 12 in Verbindung steht, die ihrerseits an sächlich aus Si(OC.Hs)XL und Si(OC2Hs)3CJ.
einen Wäscher 14 angeschlossen ist. Vorzugsweise In das Reaktionsgefäß 16 wird außerdem zusaiz-
weist das Reaktionsgefäß 10 Prallplatten oder Packun- liches Äthanol in einem Überschuß von 5 /„, ^zogen
gen z. B. aus Polypropylen auf. Eine minimale, in auf den gesamten, für die Gesamtumsetzung eiforder-
Längsrichtung vor sich gehende Vermischung bei 20 liehen Alkohol eingeführt.
gleichzeitigem gutem Gas-Flüssigkeits-Kontakt unter Die Umsetzung im Reaktionsgefäß 16 erfogt unter
mäßigem Druckabfall führt zu erhöhter Reaktions- kontinuierlichem Rühren der Reaktionsteilnenmer,
Selektivität und zu verhältnismäßig reinem Gas, das die auf Rückflußtemperatur, d.h. auf 50 bis t>_ t-.
nur wenig durch nichtverestertes Ausgangsmaterial und unier Druckbedingungen gehalten werden, die
verunreinigt ist. *5 etwa den im ReaktionsgefäÖ 10 vorherrschenden
Die Anlage 14 hat zweckmäßig die Form einer sieb- entsprechen. Das Kopfprodukt aus dem Reaktion»-
artigen Schale. Sie kann z. B. der Gas-Flüssigkeits- gefäß 16 gelangt in den zweiten Wascher 22, der so
Kontaktvorrichtung entsprechen, die in der Zeit- arbeitet, daß eine grobe Abtrennung des HCl und des
schrift »Chemical Engineering« vom Januar 1966, S. 40, Hexans vom Äthanol und den Zwischenprodukten
beschrieben ist. Aber auch eine einfache gepackte 30 der Umsetzung bewirkt wird Das aus der £onde"-
Säule kann genügen. sationsvorrichtung austretende, wenig HCl enthaltende Rechts vom Reaktionsgefäß 10 ist ein zweites Reak- Hexankondensat wird in die Waschanlage 22 zuruck-
üonsgefäß 16 mit Rührwerk 18 und Heizschlange 17 geführt, während das Kopfprodukt, das zum grollten
angeordnet. Oberhalb des ummantelten zweiten Reak- Teil aus Chlorwasserstoff und Hexan besteht, in die
tionsgefäßes 16 befindet sich ein zweiter Wäscher 22 in 35 Absorptionsanlage 34 gelangt. .
geeigneter, herkömmlicher Ausbildung. Er steht mit Der größte Teil des in das ReaktionsgefaU loeinge-
der Kondensationsvorrichtung 24 in Verbindung. In führten Hexans kommt aus der Leitung36, die das
das Reaktionsgefäß 16 mündet eine Zuführung aus Reaktionsgefäß und den Sammelbehälter ·» mitein-
dem Sammelbehälter 26, der vom Abstreifer 28 mit ander verbindet. Das Hexan dient dazu, den rartiai-
einem damit verbundenen Aufkocher 30 gespeist wird. 40 druck des Chlorwasserstoffes über dem flussigen Kean-
Die Abstreifsäule 28 mündet in eine zweite Konden- tionsgemisch sowie dessen Löslichkeit und uisso-
sationsvorrichtung 32. Rechts von letzterer ist eine ziation im Gemisch herabzusetzen. Infolgedessen iosi
Gasabsorptionsanlage 34 angeordnet. sich nur verhältnismäßig wenig Chlorwasserstoff in
Die Umsetzung im Reaktionsgefäß 10 erfolgt adia- dem Gemisch, so daß das Produkt aus dem Reak ionsbatisch in flüssiger Phase unter Verwendung von SiIi 45 gefäß 16 normalerweise nicht mehr als 3 ,·„ HLi eniciumtetrachlorid und Äthanol als Ausgangsstoffen, hält. , „ ., , , j ,, „«u.,n» die dem Peaktionsgefäß in gesteuerten Mengenver- Die im Reaktionsgefäß 16 erfolgende Umwandlung hältnissen zugeführt werden. Zur Erzielung optimaler in Tetraäthyl-ortho-silikat wurde als quantitativ erErgebnisse sollte das Molverhältnis Siliciumtetra- mittelt, so daß Verluste lediglich aus mechanischen chlorid zu Äthanol etwa 1: 2,5 betragen. 50 Gründen auftreten können
Die schwach endotherme Umsetzung verläuft unter Der Rückstand aus dem Reakt.onsgefaß 16 gelangt Bildung von Chlorwasserstoff. Um seine Löslichkeit in die Abstreifsäule 28, die auf der zur Entfernung des im Reaktionsgemisch herabzusetzen, wird in das Hexans, Äthanols und Ρί™«^!0^*"?,,"!™ Reaktionsgefäß 10 eine gesteuerte Menge eines geeig- Tetraäthyl-ortho-s.l.kat erforderlichen Temperatur geneten Kohlenwasserstoff-Lösungsmittels, vorzugsweise 55 halten wird. D.ese Dämpfe werden m den Konden-Hexan, zusammen mit weiterem Äthanol eingeführt. sator32 geleitet, '"^nen der Chlorwasserstoff vom Da durch die Verdampfung des Chlorwasserstoffes Hexan und dem Alkohol getrennt wird d.e dem Wärme entzogen wird, kann die Temperatur des Sammelbehälter 26 zugeführt werden Die Ruck-Reaktionsgemisches auf diese Weise auf dem ge- führung des Hexan-Athanol-Germsches in die Sauk 28 wünschten niedrigen Wert von z. B. etwa OX gehalten 60 erfolgt über die Leitung 40, wobei das Ruckfuhrverwerden. hältnis gewöhnlich 1: 1 betragt. Ä d Wä D Kfdkt aus den
erden. hältnis gewöhnlich 1: g
Das Hexan-Äthanol-Gemisch entstammt dem Wä- Das Kopfprodukt aus den Wäs.chern »V™"; das
scher 14, in dem es zum Waschen der Dämpfe aus der in den Absorber 34 geleitet wird, enthalt normala-
Expansionskammer 12 verwendet wird. Diese Dämpfe weise etwa 98«/, des gesamten als Nebenprodukt anbestehen aus nichturagesetztem Siliciumtetrachlorid, 65 fallenden Chlorwasserstoffes Das im Absorber abgp-
Chlorwasserstoff und Hexan. trennte Hexan wird in die Hexan-Zufuhrle.tung des Der Alkohol, der in dem der Waschanlage 14 züge- Wäschers 14 zurückgeführt .„„„,. Hne
führten Hexan-Äthanol-Gemisch enthalten ist, setzt Das aus dem Kondensator 32 abgezogene HCI ge-
age^riäh ca dilrdi ^g in der Abforptioh«.-
dnI&gc"4Ur}ti}drblysc'Aini€r Ablagerung Von Kiesel 'saure ncjgen^bhfcn1 J ' '> ^ * '~-
* »Dfci'ifl Seinern; typischen »,Versuch 'herrschenden ^d nachfolgend zusammengestellt H 8S7 k
g g g
'Die. Zahlen basieren auf oer Herstellung \on 18S7 k« hllkb mit einem ( hloridcchall \nn weniger aN
. _ ία
(in kg)
AUSgeirBgene MQJW (in kg)
Erster Reaktor
SiCl4 1542,7
Äthanol 1044,2
Hexan 485,6
Produkt.
Si(OAt)8 6(C1), 5 1758,6
Hexan '.. 396,9
HCl 165,1
Dämpfe:
Äthanol 0,91
Hexan 88,9
HCI 662,2
Zweiter Reaktor
Produkt:
Si(OAt )2.b(Cl),.s 1758,6
Hexan 396.9
HCl 165,1
Äthanol 629,1
Rückführung:
Äthanol 82,1
Hexan 208.7
HCI 33,1
Produkt:
Si(OAt)4 ? 886,9
HCl 66.2
Hexan 218.6
Äthanol 83,9
Dämpfe:
HCl 628.7
Hexan 386,5
Äthanol 1.36
Abstreifer
Beschickung:
Si(OAt)4 1886,9
Hexan 218,6
Äthanol 83,9
HCl 66,2
Beschickung:
HCl 1291,0
Hexan 475J
Äthanol 2,27
Wasser 2SO7,7
Silikate unbedeutend
> das unlcr . __.
barci SiOt-GthäU
dukt rasch hergestellt werden: Da Pr
auch aus »kanäcnskrtcnf'Älhvl
im wt ei ilichen tnonnmer Ai
Durch Verwehdung von MclhyllnchlorsHdrt kn S'ciiC VuIi αΐΜΪιιΐϊϊΙΐ£ίΓ3.ΰιύυΓιύ raum lcii-m Mcuiyiiri·
äthoxysiian oder bei Zusatz von Wasser, wie vorstehend beschrieben, polymerisiertes Methyltriäthoxysilan hergestellt werden. Ebenso erhält man Propyltri-
>5 methoxysilan. wenn man als Ausgangsstoffe Propyltrichlorsilan und Methanol verwendet, !n diesem Fall ist als Lösungsmittel eine Pentanfraktion vorteilhafter als eine Hexanfraktion.
Die folgenden Bespiele erläutern die Herstellung
ao von Phenolestern der Kieselsäure.
Beispiel 1
as ttwa 34 g Siliciumtetrachlond wurden tropfenweise in ein Reaktionsgefäß gegeben, das 37,6 g Phenol, 67,8 g p-Phenylphenol und 100 m! Naphtha enthielt. Die Lösung wurde bet etwa 147'C unter Rückfluß gehalten und das Naphtha entfernt. Das entfernte Naphtha wurde durch 50 ml Naphtha ersetzt. Nachdem das gesamte Naphtha bei 147CC entfernt worden war, wurde das erhaltene Produkt gewogen. Es bestand aus
Produkt:
Si(OAt)4 1886.9
HCl 9,07
Rückführung:
Äthanol 82.1
Hexan 208,7
HCI 33,1
Dämpfe:
HCl 24.0
Hexan 10,4
Äthanol 1,81
Absorptionsanlage
HCl-Lösungvon 20c Βέ {einschließlich
Äthanol) 4100,9
Hexan-Rückführung 475,3
-O) Si-^O
in 94.5%iger Ausbeute. Sein Gehalt an Si betrug 4.9° (Theorie 5.1 °/0). Der Chlorgehalt lag unter 0.02%
Beispiel 2
Etwa 50 g Siliciumtetrachlond wurden bei 50 C in ein Reaktionsgefäß gegeben, das 83 g Phenol, 50 g p-Phenylphenol und 100 ml Benzol enthielt Dann wurde die Temperatur auf 100 C erhöht und '^Stunde auf diesem Wert gehalten. Das Benzol wurde abdestillien, worauf eine ölige Flüssigkeit zurückblieb. Sie bestand aus
ί —θ) Si-iO-
in 94,7%iger Ausbeute. Si = 5,9% (Theorie 5,89%).
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
' v/V

Claims (3)

'S In diesen Gleichungen bedeutet X ein Halogen-, ins- \ Pateniansprüche: besondere ein Chloratom und R eine Alkyl-, insbeson dere eine primäre A&ylgruppe, eine Cycloalkyl- oder
1. Verfahren zur Herstellung von Kieselsäure- eine Arylgruppe. 1st R eine Alkylgruppe, so kann estern aliphatischer Alkohole oder Phenole durch 5 diese 1 bis 16, vorzugsweise 1 bis 8 Kohlenstoffatome Umsetzung von Siliciumhalogeniden oder Halogen- enthalten. R kann auch Substitueoten aufweisen, die sflanen mit entsprechenden Alkoholen oder Phe- nicht in die Umsetzung eingreifen, sich nicht leicht zer-
. * noten in Gegenwart eines Lösungsmittels, d a- setzen oder mit SHure reagieren. Beispiele tür solche durch gekennzeichnet, daß man als Substituenten sind Ester- und Nitrilgruppen sowie unLösungsmittel einen Kohlenwasserstoff verwendet io gesättigte Reste, wie Vinylgruppen.
und die Umsetzung in zwei Stufen durchführt, wo- Die vorstehend wiedergegebenen Umsetzungen ver-
bei in der ersten Stufe mit einem Unterschuß an laufen mit abnehmender Geschwindigkeit und sind Alkohol bzw. Phenol gearbeitet wird und die Um- reversibel. Im Hinblick auf ihre Reversibilität ist es setzung in einer zweiten Stufe mit einem Ober- zweckmäßig, wenn nicht erforderlich, sie durch den schuß an Alkohol bzw. Phenol zu Ende geführt 15 Zusatz eines Säureakzeptors, z. B. von Aminen, Amwird. moniak, o-Formiaten oder Epoxiden zu Ende zu brin-
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn- gen oder für eine sofortige kontinuierliche Entfernung zeichnet, daß man als Alkohol einen aliphatischen der gelösten Säure aus dem Reaktionsgemisch zu sor-Alkohol mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen verwendet. gen, z. B. durch Anlegen eines Vakuums oder durch
3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, da- ao Hindurchleiten eines Stickstoffstromes.
DE1643075A 1966-06-20 1967-06-19 Verfahren zur Herstellung von Kieselsäureestern aliphati scher Alkohole oder Phenole Expired DE1643075C3 (de)

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