DE1643075B2 - Verfahren zur herstellung von kieselsaeureestern aliphatischer alkohole oder phenole - Google Patents

Verfahren zur herstellung von kieselsaeureestern aliphatischer alkohole oder phenole

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DE1643075B2
DE1643075B2 DE19671643075 DE1643075A DE1643075B2 DE 1643075 B2 DE1643075 B2 DE 1643075B2 DE 19671643075 DE19671643075 DE 19671643075 DE 1643075 A DE1643075 A DE 1643075A DE 1643075 B2 DE1643075 B2 DE 1643075B2
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/04Esters of silicic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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Description

Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Kieselsäureestern aliphatischer Alkohole oder Phenole durch Umsetzung von Silicium-Iialogeniden oder Halogensilanen mit entsprechenden Alkoholen oder Phenolen in Gegenwart eines Lösungsmittels.
Das erfindungsgemäße Verfuhren ist dadurch gekennzeichnet, daß man als Lösungsmittel einen Kohlenwasserstoff verwendet und die Umsetzung in zsvei Stufen durchführt, wobei in der ersten Stufe mit einem Unterschuß an Alkohol bzw. Phenol gearbeitet wird und die Umsetzung in einer zweiten Stufe mit einem Überschuß a'i Alkohol bzw. Phenol zu Ende geführt wird.
Die Erfindung ist von besonderer Bedeutung für die wirtschaftliche Herstellung von Tetraäthylortho-silikat und von partiell hydrolysiertem Tetraäthyl-ortho-.silikal; sie ist jetloch nicht auf diese Herstellungsverfahren beschränkt. Sie kann z. B. auch mit Vorteil auf die Herstellung von Methyl-. Phenyl- und Vinyl-triathoxysilan sowie \on Propyl- und Methyltrimethoxysilan angewendet werden.
Der Anwendungsbereich des eiTmdungsgemüßen Verfahrens läßt sk'i durch die folgenden Gleichunuen wiedergeben:
SiX, R ,
SiK)R)X ■ ROiI
I·! I Il I
■V SKOR)X, ΠΧ ' (I)
% SiK)Ri1X, IiX " (II)
~> SiORX HX ' ιΙΙΙι
11' ).
HX
In diesen Gleichungen bedeutet X ein Halogen-, insbesondere ein Chloratom und R eine Alkyl-, insbesondere eine primäre Alkylgruppe, eine Cycloalkyl- oder eine Arylgruppe. Ist R eine Alkylgruppe, so kann diese 1 bis 16, vorzugsweise 1 bis 8 Kohlenstoffatome enthalten. R kann auch Substituenten aufweisen, d:e nicht in die Umsetzung eingreifen, sich nicht "eicht zersetzen oder mit Säure reagieren. Beispiele für solche Substituenten sind Ester- und Nitrilgruppen sowie ungesättigte Reste, wie Vinylgruppen.
Die vorstehend wiedergegebenen Umsetzungen ver-'■lufen mit abnehmender Geschwindigkeit und sind reversibel. Im Hinblick auf ihre Reversibilität ist es zweckmäßig, wenn nicht erforderlich, sie durch den Zusatz eines Säureakzeptors, z. B. von Aminen, Ammoniak, o-Formiaten oder Epoxiden zu Ende zu bringen oder für eine sofortige kontinuierliche Entfernung der gelösten Säure aus dem Reaktionsgemisch zu sorgen, z. B. durch Anlegen eines Vakuums oder durch Hindurchleiten eines Stickstoffstromes.
Auf unerwartete Schwierigkeiten stößt die Herstellung \on Orthokieselsäureestern, wenn man SiCl, mit einem Überschuß an Alkohol umsetzt (vgl. »Chemie und Technologie c'rr Silikone«, 1968. S. 554 und 555).
Der entstehende Chlorwasserstoff setzt sich mit dem überschüssigen Alkohol zu Alkylchlorid und Wasser um, das den gebildeten Orthoester sofort in einen hochpolymere!!, nicht mehr deslillierbaren Ester umwandelt. Man hat festgestellt, daß sich die unerwünschte Nebenreaktion unterbinden läßt, wenn man nicht mit einem Alkoholüberschuß, sondern mit einem Überschuß an SiCl4 arbeitet. Der auf diese Weise hergestellte Orthokieselsäureester enthält jedoch noch immer Chlorwasserstoff, der nicht durch Des'ullation.
sondern nur durch Umsetzung mit Natriummethylat entfernt werden kann. Der Orthoester wird dann vom gebildeten Kochsalz abdestilliert (vgl. »Zeitschrift für anorganische und allgemeine Chemie«, Bd. 275, 1954, S. 178, Abs. 4).
Die Anmelderin hat nun überraschenderweise gefunden, daß es dennoch möglich ist, SiCl1 oder Halogensilane mit einem Überschuß an Alkoholen oder Phenolen umzusetzen, ohne daß die obenerwähnte unerwünschte Nebenreaktion eintritt, wenn man die Umsetzung in Gegenwart eines Kohlenwasserstofflösungsmittels durchführt, das die Löslichkeit des entstehenden Halogenwasserstoffs im Reaktionsgemisch herabsetzt und dabei in erster Stufe das SiCl., bzw. das Halogensilan mit einem Alkohol bzw. Phenol adiabatisch zu einem Gemisch von Halogenkohlenwasserstoffoxy-silanen umsetzt, das dann in zweiter Stufe mit weiterem Alkohol bzw. Phenol in das vollständig veresterte Produkt übergeführt wird. Die Umsetzung von SiCl., mit einem Überschuß an Alkohol wurde bisher in Gegenwart von Diäthyläther durchgeführt, der den entstehenden Chlorwasserstoff durch Bildung eines Oxoniumsalzes bindet (s. »Zeitschrift für anorganische und allgemeine Chemie«, a. a. O., Abs. 2). Dieses Verfahren ist wie alle mit Säureakzeptoren arbeitenden Verfahren mit Nachteilen behaftet.
Das erfindungsgemäß verwendete Lösungsmittel verringert die Löslichkeit des während der Umsetzung gebildeten Chlorwasserstoffs. Gleichzeitig wird durch die Verdampfung des Chlorwasserstoffs die Reaktions-
"5 temperatur auf einem gewünschten niedrigen Wert von etwa O C gehalten und die Vermischung der Reaklionsteilnchmer gefördert. Es entSicht so ein säurefreies oder nur Säurespuren enthaltendes Produkt in
kontinuierlicher Weise und in höherer Geschwindigkeit als bisher. Neutralisationsstufen, die zusätzliche Vorrichtungen und Verfahrensmaßnahmen erfordern, entfallen ganz oder weitgehend. Auch die als Nebenprodukt gebildete Säure fällt ais solche und in praktisch reiner Form an.
Dab erlindungsgemäße Verfahren ist damit einfacher, ve./ieilhafter und auch wirtschaftlicher als die hekannien Verfahren zur Herstellung von Kieselsäureestern aliphatischen Alkohole oder Phenole.
Weitere Vorteile des crlindungsgemäßen Verfahrens ^eigt seine nachfolgend an Hand der Zeichnung beschriebene Anwendung auf die Herstellung von Tetraäthyl-ortho-silikat. In der Zeichnung bezeichnet 10 ein erstes Reaktionsgefäß, das mit einer Expansionskammer 12 in Verbindung steht, die ihrerseits an «inen Wäscher 14 angeschlossen isi. Vorzugsweise veist das Reakiionsgefäß 10 Prallplatte!! oder Packungen z. H. aus Polypropylen auf. Fine minimale, in 1.ausrichtung \or sich gehende v:;rmischung bei gleichzeitigem gutem Gas-FUissigkcits-Konlakt unter mäßigem Druckabfall führt zu erhöhter Reaktionsselekiivitäi und zu verhältnismäßig reinem (Jas. das nur wenig durch nichtveresiertes Ausgangsmaterial verunreinigt ist.
Die Anlage 14 hai zweckmäßig die Form einer siebartigen Schale. Sie kann z. B. der Gas-Flüssigkeilskontaktvorrichtung entsprechen, die in der Zeit-Schrift »Chemical Engineering« vom Januar 1966 S. 40, beschrieben ist. Aber auch eine einfache gepackte Säule kann genügen.
Rechts vom Reaktionsgefäß 10 ist ein zweites Reaktionsgefäß 16 mit Rührwerk 18 und Heizschlange 17 angeordnet. Oberhalb des ummantelten zweiten Reaklionsgefäßes 16 befindet sich ein zweiter Wäscher 22 in geeigneter, herkömmlicher Ausbildung. Er steht mit der K^ndensationsvorrichtung 24 in Verbindung. In das Reaktionsgefäß 16 mündet eine Zuführung aus dem Sammelbehälter 26, der vom Abstreifer 28 mit einem damit verbundenen Aufkocher30 gespeist wird. Die Abstreifsäule 28 mündet in eine zweite KondensationsYorriehiung 32. Rechts von letzterer ist eine Gasahsorptionsanlage 34 angeordnet.
Die Umsetzung im Reaktionsgefäß 10 erfolgt adiabatisch in flüssiger Phase unter Verwendung von SiIiciumtetrachlorid und Äthanol als Ausgangsstoffen, die dem Reaktionsgefäß in gesteuerten Mengenverhältnissen zugeführt werden. Zur Erzielung optimaler Ergebnisse sollte das Molverhältnis Siliciumtetrachlorid zu Äthanol etwa 1 : 2,5 betragen.
Die schwach endotherme Umsetzung verläuft unter Bildung von Chlorwasserstoff. Um seine Löslichkeit im Reaktionsgemisch herabzusetzen, wird in das Reakiionsgefäß 10 eine gesteuerte Menge eines geeigneten Kohlenwasserstoff-Lösungsmittels, vorzugsweise Hexan, zusammen mit weiterem Äthanol eingeführt. Da durch die Verdampfung des Chlorwasserstoffes Wärme entzogen wird, kann die Temperatur des Reakiionsgemisches auf diese Weise auf dem gewünschten niedrigen Wert von z. B. etwa 0 C gehalten werden.
Das Hexan-Äthanol-Gemisch entstammt dem Wäscher 14, in dem es zum Waschen der Dämpfe aus der Expansionskammer 12 verwendet wird. Diese Dämpfe bestehen aus nic'.tumgesetztem Siliciumtetrachlorid, Chlorwasserstoff und Hexan.
Der Alkohol, der in dem der Waschanlage 14 zugeführten Hexan-Äthanol-Gemisch enthalten ist, setzt sich mit sämtlichem nichtumgesetziem Siliciumtetrach'orid vorwiegend zu verhältnismäßig hochsiedendem Tetraäthyl-ortho-silikat um. das als Teil des Rückstandsproduktes des Wüsche] -. in das Reaktionsgefäß lü zurückgeführt wird. Die aus dem Wäscher austretenden Dämpfe, die im wesentlichen au. Chlorwasserstoff und Hexan bestehen, werden in die Absorptionsanlage 34 eingeführt.
Das Reaktionsgefäß 10 wird kontinuierlich betneben. und in ihm wird durch die Chlorwasserstoffeniwicklung die Vermischung der Reaktionsteilnehmer gefördert.
Das flüssige Produkt aus dem Reaktionsgefäß 10 gelangt von der Expansioiiskammer 12 in das zweite Reaktionsgefäß 16. Dieses Produkt besieht hauptsächlich aus Si(OC2H5)XI, und Si(OC2H^1Cl.
in das Reaktionsgefäß 16 wird außerdem zusätziiLiies Äihanoi in einem Überschuß um 5",,. bezogen au! den gesamten, für ti ic .. jesamtumsel/uiiL' erlorderliehen Alkohol eingeführt.
Die Umsetzung im Reaktionsgefäß 16 erfolgt unter kontinuierlichem Rühren der Reak'ionsieiliiehmer. die auf Rückflußtemperatur. d. h. auf 50 Sis 62 C. und unter Druckbedingungen gehallen werden, die etwa den im Reaktionsgefäß 10 vorherrschenden entsprechen. Das Kopfprodukt aus dem Reaktionsgefäß 16 gelangt in den zweiten Wäscher 22. der so arbeitet, daß eine grobe Abtrennung des IhI und des Hexans vom Äthanol und den Zwischenprodukten der Umsetzung bewirkt wird. Das aus der Kondensationsvorrichtung austretende, wenig HCl enthaltende He.xankondensat wird in die Waschanlage 22 zurückgeführt, während das Kopfprodukt, das zum größten Teil aus Chlorwasserstoff und Hexan besteht, in die Absorptionsanlage 34 gelangt.
Der größte Teil des in das Reaktioiisgefäß 16 eingeführten Hexans kommt aus der Leitung 36. die das Reaktionsgefäß und den Sammelbehälter 26 miteinander verbindet. Das Hexan dient dazu, den Partialdruck des Chlorwasserstoffes über dem flüssigen Reaktionsgemisch sowie dessen Löslichkeit und Dissoziation im Gemisch herabzusetzen, infolgedessen löst sich nur verhältnismäßig wenig Chlorwasserstoff in dem Gemisch, so daß das Produkt aus dem Reaktionsgefäß 16 normalerweise nicht mehr als 3"„ HCI enthält.
Die im Reaktionsgefäß 16 erfolgende Umwandlung in Tetraäthyl-ortho-silikat wurde als quantitativ ermittelt, so daß Verluste lediglich aus mechanischen
jo Gründen auftreten können.
Der Rückstand aus dem Reaktionsgefäß 16 gelangt in die Abstreifsäule 28, die auf der zur Entfernung des Flexans, Äthanols und Chlorwasserstoffs aus dem Tetraäthyl-ortho-silikat erforderlichen Temperatur gehalten w!rd. Diese Dämpfe werden in den Kondensa'or 32 geleitet, in denen der Chlorwasserstoff vom Hexan und dem Alkohol getrennt wird, die dem Sammelbehälter 26 zugeführ! werden. Die Rückführung des Hexan-Äthanol-Gemisches in die Säule 28 erfolgt über die Leitung 40, wobei das Rückführvcrhältnis gewöhnlich 1 : 1 beträgt.
Das Kopfprodukt aus den Wäschern 14 und 22, das in den Absorber 34 geleitet wird, enthält normalerweise etwa 98% des gesamten, als Nebenprodukt anfallenden Chlorwasserstoffes. Das im Absorber abgetrennte Hexan wird in die Hexan-Zuführleitung des Wäschers 14 zurückgeführt.
Das aus dem Kondensator 32 abgezogene HCl ge-
langt nicht in die Absorptionsanlage 34, da es durch Silikate etwas verunreinigt ist, die in der Absorptionsanlagc zur Hydrolyse unter Ablagerung von Kieselsäure neigen würden.
Die in einem typischen Versuch herrschenden Gleichgewichte sind nachfolgend zusammengestellt. Die Zahlen basieren auf der Herstellung von 1887 kg Äthylsilikat mit einem Chloridgehalt von weniger als 0,05%.
Eingeführte Stoffe
(in kg)
Ausgetragene Stoffe (in kg)
Erster Reaktor
SiCl4 1542,7
Äthanol 1044,2
Hexan 485,6
Produkt:
Si(OAt)215(Cl)115 1758,6
Hexan 396,9
HCl 165,1
Dämpfe:
Äthanol 0,91
Hexan 88,9
HCl 662,2
Zweiter Reaktor
Produkt:
Si(OÄt)2,5(Cl)1>5 1758,6
Hexan 396,9
HCi 165,1
Äthanol 629,1
Rückführung:
Äthanol 82,1
Hexan 208,7
HCl 33,1
Produkt:
Si(OAt)4 1886,9
HCl 66,2
Hexan 2i8,6
Äthanol 83,9
Dämpfe:
HCl 628,7
Hexan 386,5
Äthanol 1,36
Soll das Tetraäthyl-ortho-silikat in polymcrcr Form hergestellt werden, so muß lediglich dem in das Reaktionsgefäß 16 eingeführten Äthanol eine angemessene Menge Wasser zugesetzt werden. Auf diese Weise kann das unter der Kczcichnung »Äthylsilikat 40* (verfügbarer SiOo-Gehalt etwa 40n'n) bekannte Handelsprodukt rasch hergestellt werden. Das Produkt kann aber auch aus »kondensiertem Äthylsilikat« bestehen, das im wesentlichen monomer ist.
ίο Durch Verwendung von Methyltrichlorsilan an Stelle von Siliciumtetrachlorid kann leicht Methyltriäthoxysilan oder bei Zusatz von Wasser, wie vorstehend beschrieben, polymerisiertes Methyltriäthoxysilan hergestellt werden. Ebenso erhält man Propyltrimethoxysilan, wenn man als Ausgangsstoffe Propyltrichlorsilan und Methanol verwendet. In diesem Fall ist als Lösungsmittel eine Pentanfraktion vorteilhafter als eine Hexanfraktion.
Die folgenden Beispiele erläutern die Herstellung
ao von Phenolestern der Kieselsäure.
Beispiel 1
Etwa 34 g Siliciumtetrachlorid wurden tropfenweise in ein Reaktionsgefäß gegeben, das 37,6 g Phenol, 67,8 g p-Phenylphenol und 100 ml Naphtha enthielt. Die Lösung wurde bei etwa 1470C unter Rückfluß gehalten und das Naphtha entfernt. Das entfernte Naphtha wurde durch 50 ml Naphtha ersetzt. Nachdem das gtsamte Naphtha bei 1470C entfernt worden war, wurde das erhaltene Produkt gewogen. Es bestand aus
Abstreifer
Beschickung:
Si(OAt)4 1886,9
Hexan 218,6
Äthanol 83,9
HCl 66,2
Produkt:
Si(OAt)4 1886,9
HCl 9,07
Rückführung:
Äthanol 82,1
Hexan 208,7
HCl 33,1
Dämpfe:
HCl 24,0
Hexan 10,4
Äthanol 1,81
Absorptionsanlage
Beschickung:
HCl 1291,0
Hexan 475,3
Äthanol 2,27
Wasser 2807,7
Silikate unbedeutend
HCl-Lösungvon 20° Be (einschließlich
Äthanol) 4100,9
Hexan-Rückführung 475,3
— -θ)- Si-(O-,
in 94,5%iger Ausbeute. Sein Gehalt an Si betrug 4,9 °/0 (Theorie 5,1%). Der Chlorgehalt lag unter 0,02%.
Beispiel 2
Etwa 50 g Siliciumtetrachlorid wurden be; 50cC in ein Reaktionsgefäß gegeben, das 83 g Phenol, 50 g p-Phenylphenol und 100 mi Benzol enthielt. Dann wurde die Temperatur auf 100° C erhöht und 1I2 Stunde auf diesem Wert gehalten. Das Benzol wurde abdestilliert, worauf eine ölige Flüssigkeit zurückblieb. Sie bestand aus
O-Si—to — .
in 94,7%iger Ausbeute. Si = 5,9% (Theorie 5,89%).
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (5)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Herstellung von Kieselsäureestern aliphatiseher Alkohole oder Phenole durch Umsetzung von Siliciumhalogenide!! oder Halogensilanen mit entsprechenden Alkoholen oder Phenolen in Gegenwar; eines Lösungsmittels, dadurch gekennzeichnet, daß nii'.n als Lösungsmittel einen Kohlenwasserstoff verwendet und die Umsetzung in zwei Stufen durchführt, wobei in der ersten Stufe mit einem Unterschuß an Alkohol bzw. Phenol gearbeitet wird und die Umsetzung in einer zweiten Stufe mit einem Überschuß an Alkohol bzw. Phenol zu Ende geführt wird.
"!. Verfahrer nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet, dall man ais Alkohol einen aliphatischen Alkohol mit 1 bis IS Kohlenstoffatomen verwendet.
3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß man als Lösungsmittel eine Hexanfraktion verwende.
4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis ?. dadurch gekennzeichnet, daß man zur Herstellung von Kieselsäureäthylester in der ersten Umsetzungssiufe ein Jvlolverhältms von Siliciumtetrachlorid zu Äthanol von etwa 1 : 2.5 verwendet.
5. Verfahren .lach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, laß m η zur Herstellung eines Produktes in pol·.meer Form die zweite Umsetzungsstufe unter Zusatz von V isser durchführt.
DE1643075A 1966-06-20 1967-06-19 Verfahren zur Herstellung von Kieselsäureestern aliphati scher Alkohole oder Phenole Expired DE1643075C3 (de)

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Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
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