DE3624384C2 - - Google Patents

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DE3624384C2
DE3624384C2 DE19863624384 DE3624384A DE3624384C2 DE 3624384 C2 DE3624384 C2 DE 3624384C2 DE 19863624384 DE19863624384 DE 19863624384 DE 3624384 A DE3624384 A DE 3624384A DE 3624384 C2 DE3624384 C2 DE 3624384C2
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Germany
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DE19863624384
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German (de)
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Michael G. Bethesda Md. Us Ury
John C. Gaithersburg Md. Us Matthews
Stuart N. Germantown Md. Us Rounds
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fusion Systems Corp
Original Assignee
Fusion Systems Corp
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42—Stripping or agents therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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