DE3610299C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3610299C2 DE3610299C2 DE19863610299 DE3610299A DE3610299C2 DE 3610299 C2 DE3610299 C2 DE 3610299C2 DE 19863610299 DE19863610299 DE 19863610299 DE 3610299 A DE3610299 A DE 3610299A DE 3610299 C2 DE3610299 C2 DE 3610299C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- chamber
- nozzle
- fine particles
- flow
- nozzles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45563—Gas nozzles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/228—Gas flow assisted PVD deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45561—Gas plumbing upstream of the reaction chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45582—Expansion of gas before it reaches the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45585—Compression of gas before it reaches the substrate
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F15—FLUID-PRESSURE ACTUATORS; HYDRAULICS OR PNEUMATICS IN GENERAL
- F15D—FLUID DYNAMICS, i.e. METHODS OR MEANS FOR INFLUENCING THE FLOW OF GASES OR LIQUIDS
- F15D1/00—Influencing flow of fluids
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zum Aufbringen
feiner Partikel auf ein Substrat
der im
Oberbegriff des Anspruchs 1 angegebenen Art.
Vorliegend umfassen "feine Partikel" Atome, Moleküle, ultrafeine
Partikel und generell feine Partikel. "Ultrafeine
Partikel" bedeuten hier jene Partikel, die im allgemeinen
kleiner als 0,5 µm sind und erhalten werden beispielsweise
durch Verdampfen in der Gasphase, Verdampfen im Plasma,
chemische Dampfreaktionen, oder durch Flüssigphasenreaktionen
wie kolloidale Ausfällung oder Flüssigspray-Pyrolyse.
Die "generell feinen Partikel" bedeuten feine Partikel,
die durch übliche Methoden wie mechanisches Zerkleinern,
Sedimentierung oder Ausfällung erhalten werden. Des weiteren
bedeutet vorliegend ein "Strahl" einen Strom mit im wesentlichen
konstantem Querschnitt längs des Strömungsverlaufs
unabhängig von der jeweiligen Form des Querschnittes.
Feine Partikel werden im allgemeinen dispergiert und in
einem Trägergas suspendiert und durch eine Strömung des
Trägergases transportiert.
Üblicherweise ist ein Strom feiner Partikel bei deren
Transport lediglich gesteuert worden durch Festlegen
der gesamten Strömungsparameter der sich zusammen mit dem Trägergas
bewegenden feinen Partikel mit Hilfe einer Leitung oder
eines Gehäuses sowie durch die Druckdifferenz
zwischen der stromaufwärtigen Seite und der stromabwärtigen
Seite. Folglich ist die Strömung der feinen Partikel in der
Leitung oder dem Gehäuse, die bzw. das den gesamten Strömungsweg
definiert, unvermeidlich dispergiert, obgleich eine
gewisse Verteilung in der Strömung existiert. Eine entsprechende
Vorrichtung der eingangs genannten Art ist beispielsweise
bekannt aus dem JP-Patent Abstracts, C-267
Feb. 21, 1985, Vol. 9/No. 41, zu 59-183 855.
Falls der gesamte Strömungsweg feiner Partikel durch eine
Leitung oder ein Gehäuse definiert wird und die feinen
Partikel mit Trägergas längs dieses Strömungswegs mit
Hilfe einer Druckdifferenz zwischen stromaufwärtiger und
stromabwärtiger Seite transportiert werden, dann induziert
eine Gasausströmung auf der stromabwärtigen Seite zur Erzeugung
der Druckdifferenz nicht nur das Ausströmen feiner
Partikel, sondern es ist auch nicht möglich, eine sehr
hohe Transportgeschwindigkeit zu erreichen. Des weiteren
berühren die feinen Partikel unvermeidlich die Wände der den Strömungsweg
definierenden Leitung oder des den Strömungsweg definierenden
Gehäuses längs des gesamten Transportweges.
Es resultiert daher im Falle des Transportes
aktiver feiner Partikel zu einer gewünschten Stelle
ein Aktivitätsverlust als Folge der während des Transportes
verstrichenen Zeit oder als Folge eines Kontaktes mit
den Wänden der Leitung oder des Gehäuses. Das
Definieren des gesamten Strömungsweges für die feinen
Partikel mit Hilfe einer Leitung oder eines Gehäuses kann ferner
beispielsweise zur Totraumbildung in der Strömung
führen, ferner zu einer niedrigeren Auffangrate der feinen
Partikel und einem niedrigeren Ausnutzungswirkungsgrad des
Trägergases für die Partikeltransportierung. Eine solche
Definierung des gesamten Strömungsweges ist auch nachteilig
für den Transport einer großen Menge feiner Partikel.
Wenn andererseits feine Partikel auf ein Substrat geblasen
werden, dann werden sie im allgemeinen zusammen mit Trägergas
von einer Düse ausgetragen. Die bei einem solchen
Blasen feiner Partikel bisher benutzte Düse besitzt einen konstanten
oder in Strömungsrichtung konvergierenden Querschnitt und der Querschnitt der Strömung
feiner Partikel unmittelbar nach dem Austrag ist entsprechend
dem Querschnitt des Düsenauslasses eingeschnürt.
Die Strömung verteilt sich aber gleichzeitig
diffus am Düsenauslaß, so daß jene Einschnürung nur
temporär ist und die Strömungsgeschwindigkeit die Schallgeschwindigkeit
nicht überschreitet.
Das heißt, die üblicherweise verwendete gerade oder konvergierende Düse erzeugt
eine diffuse Strömung, in der die feinen Partikel
eine große Dichteverteilung haben. Wenn daher feine Partikel
auf ein Substrat geblasen werden, ist es schwierig,
ein gleichförmiges Aufblasen zu erreichen und das Gebiet
zu steuern, in dem gleichförmiges Aufblasen erhalten wird.
Demzufolge ist es schwierig, wenn nicht gar unmöglich, ein
großes Gebiet solcherart anzublasen.
In der US-PS 42 00 264 ist eine Vorrichtung zum Erzeugen
von metallischem Magnesium oder Calcium im Kohlenstoffreduktionsverfahren
beschrieben.
Bei dieser bekannten Vorrichtung wird eine Reduktionsreaktion erzeugt
durch Erwärmen eines Oxids von Mg oder Ca mit Kohlenstoff
in einer Reaktionskammer, und die resultierende gasförmige
Mischung wird in eine divergierende Düse eingeführt, um
eine adiabatische Expansion zwecks Abkühlung zu erreichen
und dadurch feinen Mg- oder Ca-Partikel zu erhalten.
Die divergierende Düse erreicht dort eine momentane Abkühlung
der Mischung von Mg (oder Ca) und CO, um die umgekehrte
Reaktion hierzwischen zu vermeiden. Hierbei wird
der Umstand ausgenutzt, daß die Düse das passierende
Gas durch adiabatische Expansion rasch abkühlt. Dieser
Umstand wird zum Trennen des Mg (oder Ca) und CO benutzt.
In diesem Fall arbeitet die divergierende Düse im Unterdruckbereich.
Mit anderen Worten, wird die divergierende Düse bei dieser bekannten Vorrichtung als
ein Mittel zum Vermeiden der umgekehrten Reaktion der Produkte,
Mg (oder Ca) und CO und zum Trennen dieser Produkte,
bevor sie einer Kondensoreinrichtung zugeführt werden, verwendet,
nicht jedoch zum Aufbringen feiner Partikel auf ein
Substrat.
Das heißt, diese Verwendung
einer divergierenden Düse zum schnellen Abkühlen auf eine
eine Reaktion verhindernde Temperatur oder zum Beschleunigen
der Produkte auf eine gewünschte Geschwindigkeit ist
für den Zustand der Gasströmung, die die Düse passiert hat,
irrelevant.
Falls der Druck im Hals der divergierenden Düse unter dem
kritischen Druck liegt, wird der Austritt des Gasstromes aus der
divergierenden Düse verzögert und nach dem Ausstoßen aus
der Düse diffus verbreitert und erreicht die Schallgeschwindigkeit
nicht. Wenn andererseits der Druck im
Hals der divergierenden Düse gleich oder größer als der
kritische Druck ist, kann die Ausstoßgeschwindigkeit aus
der Düse Überschallgeschwindigkeit erreichen, aber der Strömungszustand
nach dem Ausstoß ist davon bestimmt, ob der
Druck P₁ des Gasstroms beim Ausstoß annähernd mit dem
Druck P auf der stromabwärtigen Seite der divergierenden
Düse übereinstimmmt. Der Zustand P₁ = P wird als optimale
Expansion bezeichnet, der Zustand P₁<P wird als Unterexpansion
bezeichnet und der Zustand P₁<P wird als
Überexpansion bezeichnet. Im Falle der optimalen Expansion
strömt das die divergierende Düse passierende Gas
längs der Innenwand am Düsenauslaß und wird als Strom
mit gleichförmiger Geschwindigkeitsverteilung im Querschnitt
ausgestoßen. Andererseits wird im Falle einer
Unterexpansion oder Überexpansion der Strom verzögert
und diffus verbreitert.
Wie erwähnt, wird in der aus der US-PS 42 00 264 bekannten Vorrichtung die divergierende Düse in
einer Betriebsart benutzt, die für die Bildung einer Strömung
unter optimaler Expansion irrelevant ist, so daß
die von der divergierenden Düse ausgestoßene Strömung
unvermeidlich diffus verläuft. Ist einmal eine solche
diffuse Strömung erzeugt, werden die in feiner pulvriger
Form vorliegenden Produkte in der gesamten Auffangkammer
diffus verteilt, und ein Teil dieser Produkte kommt in
Kontakt mit dem Wänden, erzeugt auf diesen einen Niederschlag
oder verliert an Aktivität. Diese Phänomene
führen zu verschiedenen Nachteilen wie zu einem Verlust
in der Produktionsausbeute und einer Verunreinigung der
Reaktionsprodukte mit unreagierten Substanzen. Des weiteren
sind die in einer diffusen Strömung transportierten
Reaktionsprodukte schwierig aufzufangen, was ebenfalls zu
einer niedrigeren Ausbeute führt. Außerdem erfordern gewisse
Ausgangsmaterialien oder Reaktionsprodukte eine
Aktivierung durch ein Plasma oder durch Laserstrahlung
nach Passieren der Düse; aber eine solche Aktivierung ist
in einer diffusen Strömung schwierig zu erreichen, so daß
eine Allzweckreaktionsapparatur schwierig zu erreichen
ist.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Vorrichtung der eingangs
genannten Art zu schaffen,
mit der eine Vielzahl von Strömen feiner
Partikel mit praktisch konstantem Querschnitt (d. h. als
Strahlen) bei minimaler Diffusion sowie ohne Aktivitätsverlust erzeugt werden können.
Gelöst wird diese Aufgabe durch die kennzeichnenden Merkmale
des Anspruchs 1. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung
sind in den Unteransprüchen angegeben.
Nachstehend ist die Erfindung anhand der Zeichnung im
einzelnen erläutert; es zeigt
Fig. 1 eine schematische Ansicht zur Darstellung des
Grundprinzips der erfindungsgemäßen Vorrichtung,
Fig. 2 eine schematische Detailansicht der erfindungsgemäßen Vorrichtung,
Fig. 3A bis C Ansichten von Ausführungsformen für eine Gasanregungseinrichtung,
Fig. 4A bis 4D schematische Ansichten zur Darstellung verschiedener
Formen der erfindungsgemäß verwendeten Düsen und
Fig. 5A und 5B Ansichten zweier verschiedener Beispiele
einer Prallblende.
Die vorliegend verwendeten konvergierenden-divergierenden
Düsen 1 (Lavaldüsen) haben einen Durchlaßquerschnitt, der (siehe
Fig. 1) sich vom Einlaß 1a allmählich auf einen Hals 2
verringert und sich dann wieder allmählich zum Auslaß 1b
hin erweitert. Der einfacheren Erläuterung halber sind in
Fig. 1 der Einlaß und der Auslaß der Düsen 1 je mit einer
geschlossenen stromaufwärtigen Kammer
3, 4 verbunden. Jedoch können Einlaß und Auslaß der
Lavaldüsen 1 mit offenen oder geschlossenen
Systemen verbunden werden, solange infolge
einer Druckdifferenz hierzwischen die feinen Partikel veranlaßt
werden, zusammen mit dem Trägergas die Düsen 1 zu
durchströmen. Des weiteren kann, obgleich die Vorrichtung
nach Fig. 1 drei Lavaldüsen 1 zeigt,
die Anzahl der Düsen auch zwei oder vier oder mehr sein.
Zwischen der stromaufwärtigen Kammer 3 und der stromabwärtigen
Kammer 4 wird eine Druckdifferenz durch Zuführen eines Trägergases, in dem
die feinen Partikel als Suspension dispergiert sind, zur
stromaufwärtigen Kammer 3 und Evakuieren der stromabwärtigen
Kammer 4 mit einer Vakuumpumpe 5 erzeugt (Fig. 1).
Hierdurch strömt das zugeführte, die feinen Partikel
enthaltende Trägergas über die Lavaldüsen 1 von der stromaufwärtigen Kammer 3
in die stromabwärtige Kammer 4.
Die einzelnen Lavaldüsen 1
dienen nicht nur einem Ausstoß der feinen Partikel zusammen
mit Trägergas entsprechend der Druckdifferenz zwischen
der stromaufwärtigen und der stromabwärtigen Seite,
sondern dienen auch dazu, die Strömung des ausgestoßenen
Trägergases und der ausgestoßenen feinen Partikeln gleichförmig zu halten.
Eine solche Vielzahl gleichförmiger Ströme feiner
Partikel kann dazu benutzt werden, die feinen Partikel auf
ein großes Gebiet eines Substrats 6 gleichförmig aufzublasen.
Die einzelnen Lavaldüsen 1 vermögen
die Strömung aus feinen Partikeln und Trägergas zu
beschleunigen, und zwar durch geeignete Wahl des Druckverhältnisses
P/Po zwischen dem Druck P in der stromabwärtigen
Kammer 4 zum Druck Po in der stromaufwärtigen Kammer 3
und des Verhältnisses A/A* zwischen der Querschnittsfläche
A am Düsenauslaß 1b und der Querschnitsfläche A* im Düsenhals
2. Wenn das Verhältnis P/Po zwischen den Drücken in
der stromaufwärtigen und der stromabwärtigen Kammer 3, 4
oberhalb des kritischen Druckverhältnisses liegt, ergibt sich
eine Strömungsgeschwindigkeit an den Auslässen der Düsen 1, die
kleiner ist als die Schallgeschwindigkeit, und die feinen
Partikel nebst Trägergas werden bei verringerter Geschwindigkeit
ausgestoßen. Wenn andererseits das Druckverhältnis
P/Po kleiner als das kritische Druckverhältnis wird, dann
erreicht die Strömung an den Düsenauslässen
Überschallgeschwindigkeit, so daß die feinen Partikel
nebst Trägergas mit Überschallgeschwindigkeit ausgestoßen
werden.
Wenn die Ströme der feinen Partikel als kompressive
eindimensionale Ströme mit adiabatischer Expansion angenommen
werden, dann bestimmt sich die durch die Strömung
erreichbare Machzahl M aus dem Druck Po der stromaufwärtigen
Kammer und dem Druck P der stromabwärtigen Kammer entsprechend
folgender Gleichung:
hierin bedeuten
u die Geschwindigkeit des Stroms feiner Partikel,
a die lokale Schallgeschwindigkeit an dieser Stelle und
γ das Verhältnis der spezifischen Wärmen des strömenden Mediums.
u die Geschwindigkeit des Stroms feiner Partikel,
a die lokale Schallgeschwindigkeit an dieser Stelle und
γ das Verhältnis der spezifischen Wärmen des strömenden Mediums.
M überschreitet 1, wenn das Verhältnis P/Po unter dem
kritischen Druckverhältnis liegt.
Die Schallgeschwindigkeit a kann aus folgender Gleichung
bestimmt werden:
a = √
worin
T die örtliche Temperatur und
R die Gaskonstante bedeuten.
T die örtliche Temperatur und
R die Gaskonstante bedeuten.
Des weiteren existiert die folgende Verknüpfung zwischen
der Querschnittsfläche A am Düsenauslaß 1b, der Querschnittsfläche
A* am Düsenhals 2 und der Machzahl M
Die Strömung erreicht den Zustand einer optimalen Expansionsströmung,
wenn die Machzahl M
durch Gleichung (1) als Funktion des Druckverhältnisses
P/Po zwischen dem Druck P der stromabwärtigen Kammer 4
und dem Druck Po der stromaufwärtigen Kammer 3 bestimmt ist, mit der
Machzahl übereinstimmt, durch die Gleichung
(2) als Funktion der Querschnittsfläche A des Düsenauslasses
1b und der Querschnittsfläche A* des Düsenhalses
2 bestimmt ist.
Es ist daher möglich, die Geschwindigkeit der von den
Düsen 1 ausgestoßenen feinen Partikel durch
Wahl des Querschnittsverhältnisses A/A* entsprechend der
Machzahl zu regulieren, die durch Gleichung (1) aus
dem Druckverhältnis P/Po zwischen den Drücken in der
stromabwärtigen und stromaufwärtigen Kammer bestimmt ist, oder durch
Regulieren des Verhältnisses P/Po entsprechend dem Wert
der Machzahl M, die durch Gleichung
(2) aus dem Querschnittsverhältnis A/A* bestimmt ist. Die Geschwindigkeit
u der Strömung feiner Partikel ergibt sich durch
folgende Gleichung:
Optimale Expansionsströme
strömen längs der Innenwände der Auslässe 1b mit
praktisch gleichförmiger Geschwindigkeitsverteilung im
Querschnitt und werden als Strahlen an den Auslässen 1b der Düsen 1 erzeugt. Die Strahlbildung
minimiert die Diffusion und ermöglicht, die von
den Düsen 1 ausgestoßenen feinen Partikel in räumlich unabhängigem
Zustand von den Wänden der stromabwärtigen
Kammer 4 zu halten und damit jegliche durch Wandkontakt
verursachte unerwünschte Effekte zu vermeiden. Der durch
Diffusion verursachte Ausbeuteverlust kann ebenfalls verhindert
werden, wenn die Ströme im Strahlzustand vom
zu behandelnden Substrat 6 aufgefangen werden. Des weiteren
kann die Aktivierung von pulverförmigen Rohmaterialien
oder Reaktionsprodukten mit Hilfe eines Plasmas
oder Laserbestrahlung wirksamer erreicht werden, wenn
eine derartige Energiezufuhr zu den Strömen im
Strahlzustand erfolgt.
Zum Erhalt optimaler Expansionsströme sind Drucksensoren
bei den oder in der Nähe der Düsenauslässe und in
der stromabwärtigen Kammer vorgesehen. Der Druck Po im
stromaufwärtigen Teil und der Druck P im stromabwärtigen
Teil werden so gesteuert, daß die durch die Sensoren festgestellten
Drücke bei den Auslässen und in der stromabwärtigen
Kammer einander annähernd gleichen.
Die Ströme der feinen Partikel können in einem Zustand
gehalten werden, der durch das Querschnittsgebietsverhältnis
A/A* bestimmt ist, wenn das Druckverhältnis P/Po zwischen
den Drücken der stromabwärtigen und der stromaufwärtigen
Kammer 4, 3 konstant gehalten wird. Demgemäß muß
die Vakuumpumpe 5, die zur Evakuierung der stromabwärtigen
Kammer 4 vorgesehen ist, in der Lage sein, die
Kammer 4 auf einem konstanten Druck unabhängig von der
Einströmung der feinen Partikel durch die Lavaldüsen
1 zu halten, wenn die stromaufwärtige
Kammer 3 auf konstantem Druck gehalten wird.
Die Masse, die von einer Vakuumpumpe evakuiert werden
kann, hängt im allgemeinen von deren Leistung ab. Wenn
jedoch der Durchsatz durch die Düsen 1 kleiner gewählt
wird als die Evakuierungsgeschwindigkeit der Pumpe,
dann kann der Druck in der stromabwärtigen Kammer 4
durch Regeln des Pumpendurchsatzes konstant gehalten
werden dergestalt, daß dieser im wesentlichen gleich dem
Düsendurchsatz wird. Dies kann beispielsweise mit einem
Ventil geschehen
oder durch Einstellen des Querschnitts
der Düsenhälse 2 der Lavaldüsen
1 dergestalt, daß der Durchsatz durch
die Düsen 1 gleich der effektiven Evakuierungsgeschwindigkeit
wird, wodurch die Ströme feiner Partikel zur optimalen
Expansion an den Düsenauslässen 1b gebracht werden, ohne
daß die Strömungsgeschwindigkeit durch ein Ventil oder dergleichen
geregelt werden müßte. Eine maximale Strömungsgeschwindigkeit
kann daher innerhalb der Pumpenleistung
stabil erhalten werden.
Der Durchsatz durch die Düsen und der Durchsatz bei der
Evakuierung werden durch Massendurchsätze dargestellt.
Der Düsendurchsatz durch eine Lavaldüse
1 ergibt sich aus folgender Gleichung:
und wird bestimmt durch die Querschnittsfläche A* eines
Düsenhalses 2, wenn der Druck Po und die Temperatur To
der stromaufwärtigen Kammer 3 konstant sind.
Bei einem Ausstoß mit einem Druckverhältnis P/Po oberhalb
des kritischen Verhältnisses bilden die ausgestoßenen
feinen Partikel nebst Trägergas einen gleichförmig diffundierenden
Strom, so daß die feinen Partikel auf ein
relativ großes Gebiet gleichförmig aufgeblasen werden
können.
Andererseits bilden das Trägergas und die feinen Partikel,
wenn in Form von Hochgeschwindigkeitsströmen ausgestoßen,
Strahlen, die ihren Querschnitt unmittelbar nach Ausstoßung
auch im weiteren Verlauf im wesentlichen beibehalten.
Folglich bilden die vom Trägergas transportierten feinen
Partikel ebenfalls eine Vielzahl von Strahlen, die mit
Hochgeschwindigkeit in die stromabwärtige Kammer 4 transportiert
werden, und zwar bei minimaler Diffusion und ohne
räumliche Wechselwirkung mit den Wänden der stromabwärtigen
Kammer 4, so daß eine Evakuierung feiner Partikel
durch die Pumpe 5 leicht verhindert werden kann.
Es ist daher möglich, aktive feine Partikel auf dem
Substrat 6 in der stromabwärtigen Kammer in befriedigendem
aktivem Zustand aufzufangen, indem die aktiven feinen
Partikel in der stromaufwärtigen Kammer 3 erzeugt
und durch die Düsen 1 hindurch transportiert werden,
oder indem die aktiven feinen Partikel in oder unmittelbar
nach den Düsen 1 erzeugt und weitertransportiert
werden. Der Weitertransport der Partikel erfolgt in
beiden Fällen in Form einer Vielzahl räumlich unabhängiger
Überschallstrahlen. Es ist daher möglich, eine
große Menge feiner Partikel in geeignet aktivem Zustand
aufzufangen. Das Auffanggebiet kann leicht über ein großes
Gebiet, d. h. über die Summe der einzelnen Strahlgebiete,
gesteuert werden, da die feinen Partikel auf das Substrat
6 in Form einer Vielzahl von Strahlen ausgeblasen werden, deren
Querschnitt längs des Strömungsverlaufs im wesentlichen
konstant ist.
Fig. 2 zeigt schematisch eine Ausführungsform einer Vorrichtung
zur Erzeugung einer Schicht mit ultrafeinen Partikeln.
Die Vorrichtung
weist drei Lavaldüsen 1 auf,
ferner eine stromaufwärtige Kammer 3, eine erste stromabwärtige
Kammer 4a und eine zweite stromabwärtige Kammer 4b.
Die stromaufwärtige Kammer 3 und die erste stromabwärtige
Kammer 4a sind als integrale Baueinheit ausgeführt.
Eine Prallblende (skimmer) 7, ein Torventil 8 und die
zweite stromabwärtige Kammer 4b sind in Form vergleichbarer
Baueinheiten hintereinander an die erste stromabwärtige
Kammer 4a über Flansche gleichen Durchmessers
(nachstehend als gemeinsame Flansche bezeichnet)
lösbar angeflanscht. Die stromaufwärtige Kammer 3, die
erste stromabwärtige Kammer 4a und die zweite stromabwärtige
Kammer 4b werden in dieser Reihenfolge
mit Hilfe eines noch zu erläuternden
Vakuumsystems auf stufenweise höherem Vakuum gehalten.
An der stromaufwärtigen Kammer 3 ist über einen gemeinsamen
Flansch eine Gasanregungseinrichtung 9 befestigt, die
aktive ultrafeine Partikel mit Hilfe eines Plasmas erzeugt
und diese ultrafeinen Partikel zusammen mit einem Trägergas,
beispielsweise Wasserstoff, Helium, Argon oder Stickstoff,
den gegenüberliegend angeordneten
Düsen 1 zuführt. Die Innenwände der
stromaufwärtigen Kammer 3 können einer geeigneten Antihaftbehandlung
unterworfen worden sein, um dort ein Haften
der solcherart erzeugten ultrafeinen Partikel zu
vermeiden. Wegen der Druckdifferenz zwischen der stromaufwärtigen
Kammer 3 und der ersten stromabwärtigen
Kammer 4a, die durch das höhere Vakuum in der letzteren
hervorgerufen ist, strömen die erzeugten ultrafeinen Partikel
zusammen mit dem Trägergas durch die einzelnen Düsen 1
zur ersten stromabwärtigen Kammer 4a.
Wie in Fig. 3A dargestellt, hat die Gasanregungseinrichtung
9 eine stabförmige erste Elektrode 9a, die in einer
röhrenförmigen zweiten Elektrode 9b untergebracht ist.
Dabei werden Trägergas und Ausgangsmaterialgas in der
zweiten Elektrode 9b zugeführt, und es wird eine elektrische
Entladung zwischen den Elektroden 9a und 9b induziert.
Die Gasanregungsvorrichtung 9 kann auch die in
Fig. 3B dargestellte Ausbildung aufweisen, also mit einer porösen
ersten Elektrode 9a zum Zuführen des Trägergases
und des Ausgangsmaterialgases in den Ringraum zwischen
den beiden Elektroden versehen sein. Alternativ kann die
Gasanregungseinrichtung 9 - siehe Fig. 3C - durch eine aus
halbschaligen Elektroden 9a, 9b, die durch Isolatoren 9c
getrennt sind, aufgebautes Rohr, in das das Trägergas und
das Rohmaterialgas eingeführt werden, gebildet sein. Die
Isolatoren 9c bestehen beispielsweise aus Quarz oder
Keramik.
Die einzelnen Lavaldüsen 1 sind
mit Hilfe eines gemeinsamen Flansches auf der der stromaufwärtigen
Kammer 3 zugewandten Seite der ersten stromabwärtigen
Kammer 4a so befestigt, daß sie in die stromaufwärtige
Kammer 3 vorstehen. Dabei öffnen sich die
Einlässe 1a zur stromaufwärtigen Kammer 3 und die Auslässe
1b zur ersten stromabwärtigen Kammer 4a. Die Düsen
1 können auch so montiert werden, daß sie in die erste
stromabwärtige Kammer 4a vorstehen oder zum Teil in die
stromaufwärtige Kammer 3 und zum Teil in die erste stromabwärtige
Kammer 4b hineinragen. Die Vorsprungsrichtung
der Düsen 1 ergibt sich aufgrund von Erwägungen über
Größe, Menge und Eigenschaften der zu transportierenden
ultrafeinen Partikel.
Wie erläutert, nimmt der Querschnitt der Lavaldüsen
1 allmählich von der Einlaßseite 1a
aus zum Hals 2 hin ab und von dort aus wieder allmählich
in Richtung auf den Auslaß 1b hin zu. Vorzugsweise ändert
sich dabei der Strömungslinien-Differentialkoeffizient im
Kanal kontinuierlich und wird im Düsenhals 2 Null, wodurch
die Bildung von Strömungsgrenzschichten in den Düsen 1
minimiert wird.
Die Kurve des Strömungsweges in den Düsen 1 entspricht der Kurve
der Innenwand längs eines Querschnitts in Strömungsrichtung.
Auf diese Weise ist es möglich, das effektive Querschnittsgebiet
der Strömung in den Düsen 1 eng am geplanten Wert
zu halten und das Verhalten der Düsen 1 voll vorhersagbar
zu machen. Wie in Fig. 4a vergrößert dargestellt, verläuft
die Innenfläche in der Nähe des Auslasses 1b vorzugsweise
im wesentlichen parallel zur Mittelachse, um
die Ausbildung einer parallelen Strömung zu erleichtern.
Dieses deswegen, weil die Strömungsrichtung der ausgestoßenen
feinen Partikel nebst Trägergas zu einem gewissen
Maß beeinflußt wird durch die Richtung der Innenwand
in der Nähe des Auslasses 1b. Wenn jedoch der Winkel
α der Innenwand vom Düsenhals 2 zum Auslaß 1b gegenüber
der Mittelachse kleiner als 7°, vorzugsweise bei 5°
oder darunter, gehalten wird, wie dieses in Fig. 4B dargestellt
ist, dann ist es möglich, das Ablösephänomen zu
vermeiden, und einen praktisch gleichförmigen Zustand in
den ausgestoßenen ultrafeinen Partikeln nebst Trägergas
zu halten. In diesem Fall kann daher der vorstehend erwähnte
parallele Innenwandteil weggelassen werden, wodurch
sich die Herstellung der Düse 1 erleichtert. Es kann
auch eine spaltförmige Strömung von Trägergas und ultrafeinen
Partikeln erhalten werden, wenn eine rechteckige
Düse entsprechend Fig. 4C verwendet wird.
Unter dem Ablösephänomen versteht man die Ausbildung einer vergrößerten
Grenzschicht zwischen der Innenwand der Düse 1
und des vorbeiströmenden Mediums, beispielsweise bei
Gegenwart von Vorsprüngen auf der Innenwand. Dieses Phänomen gibt
Anlaß zu ungleichmäßiger Strömung und
neigt dazu, leichter aufzutreten, wenn die Geschwindigkeit
der ausgestoßenen Strömung höher ist. Der vorstehend
erwähnte Winkel α sollte vorzugsweise kleiner
sein, wenn die Innenwand der Lavaldüsen
1 weniger genau bearbeitet ist. Die Innenwand
der Düsen 1 sollte
mit einer Präzision geglättet werden, wie dieses durch
drei, vorzugsweise vier, umgekehrte Dreiecke nach der
Japanischen Industrienorm B 0601 für Oberflächenglättengenauigkeit
definiert ist. Da das Ablösephänomen im sich
erweiternden Teil der
Düsen 1 den Zustand der sich ergebenden Strömung signifikant
beeinflußt, sollte diese Oberflächenbearbeitungsgenauigkeit
hauptsächlich auf den sich erweiternden Teil
gerichtet werden, um die Herstellung der Düsen 1 zu
erleichtern. Um das Ablösephänomen zu vermeiden, sollte
auch der Düsenhals eine glatte Krümmung derart haben,
daß der Differentialkoeffizient der Querschnittsänderung
nicht unendlich groß wird.
Die durch das Ablösephänomen verursachte Bildung einer
Grenzschicht ist aber unvermeidbar, da es praktisch unmöglich
ist, die Innenfläche der Düsen 1 als perfekte
Spiegelfläche auszubilden. Die Ausbildung einer solchen
Grenzschicht stromabwärts des Düsenhalses 2 entspricht
einer Verringerung des Verhältnisses A/A* und liefert daher
nicht die gewünschte Strömungsgeschwindigkeit. Aus
diesem Grunde ist der effektive Querschnitt am
Auslaß gleich dem Querschnitt am Auslaß minus dem
Gesamtgebiet der Grenzschicht am Auslaß vorzugsweise wenigstens
gleich 90% des Querschnitts am Auslaß.
Sonach sollte die Dicke der Grenzschicht etwa 0,5 mm für
einen Auslaß von 20 mm Durchmesser, oder etwa 0,05 mm für
einen Auslaß von 2 mm Durchmesser, nicht überschreiten. Da
die Grenzschichtdicke nicht unter eine gewisse untere
Grenze hinaus verringert werden kann, sollten der Durchmesser
des Düsenauslasses 1b im Falle eines kreisförmigen
Auslasses wenigstens 1 mm und die Breite des
Auslasses 1b im Falle eines rechteckigen Auslasses wenigstens
1 mm sein. Die obere Grenze hängt beispielsweise von
der Kapazität der Vakuumpumpe 5b auf der stromabwärtigen
Seite ab. Die Strömungslinien der Strömung sollten mit der
Krümmung der Innenwand der Düsen 1 ebenfalls so weit wie
möglich folgen, da sonst die erwähnte Grenzschicht dicker
wird.
Zusätzlich zu den in Fig. 4A, 4B und 4C dargestellten
konvergierenden-divergierenden Düsenformen kann die Düse 1
mit mehreren Hälsen 2, 2′ versehen werden, wie dieses in
Fig. 4D dargestellt ist. In diesem Fall wird die beim
Durchgang durch den ersten Düsenhals 2 beschleunigte
Strömung im sich anschließenden verjüngenden Teil verzögert
und beim zweiten Düsenhals 2′ erneut beschleunigt.
In einer solchen Anordnung steigt und fällt die Temperatur
der Strömung entsprechend der Geschwindigkeitsänderung
in der Düse 1 wiederholt, und zwar durch wiederholte
Umwandlung von thermischer Energie in kinetische Energie,
wie dies nachfolgend noch näher erläutert wird. Auf diese Weise kann ein wunschgemäßes
Reaktionsfeld erzeugt werden. Die Anzahl
von hintereinanderliegenden Hälsen ist nicht auf
zwei begrenzt, sondern kann auch auf drei oder mehr vergrößert
werden.
Beispiele für das Material der Lavaldüsen
1 sind Metalle wie Eisen und rostfreier Stahl,
Kunststoffe wie Acrylharz, Polyvinylchlorid, Polyäthylen,
Polystyrol und Polypropylen, Keramikmaterialien, Quarz,
Glas etc. Das Material wird im Hinblick auf Reaktionsbeständigkeit
gegenüber den resultierenden ultrafeinen Partikeln,
Leichtigkeit der mechanischen Bearbeitung, Gasemission
im Vakuum usw. ausgewählt. Die Innenwand der
Düsen 1 kann auch mit einem
Material plattiert oder beschichtet sein, das gegenüber
den ultrafeinen Partikeln reaktionsbeständig ist und niedriges
Haftungsvermögen zeigt. Ein Beispiel für eine solche
Beschichtung ist Polyfluoräthylen.
Die Länge der Lavaldüsen 1 kann
beliebig gewählt werden, beispielsweise entsprechend der
Länge der Vorrichtung. Andererseits wird während des
Durchlaufs von Trägergas und feinen Partikeln durch die
einzelnen Düsen 1 thermische Energie in kinetische Energie
der Strömung umgewandelt. Dabei wird insbesondere im
Falle eines Überschallausstoßes die thermische Energie
signifikant reduziert und führt zu einem unterkühlten
Zustand des Partikel-Gasstroms. Wenn daher das Trägergas kondensierbare Komponenten
enthält, kann eine solche Unterkühlung zur Erzeugung
ultrafeiner Partikel durch Kondensation benutzt
werden. Eine solche Erzeugung erlaubt den Erhalt gleichförmiger
ultrafeiner Partikel, da in einem solchen Fall
gleichförmige Keime erzeugt werden. In diesem Fall sollten
die Düsen 1 vorzugsweise
länger sein, um ausreichende Kondensation zu bewerkstelligen.
Andererseits erhöht eine solche Kondensation die thermische
Energie und erniedrigt die kinetische Energie. Folglich
sollten zum Aufrechterhalten eines Hochgeschwindigkeitsausstoßes
die einzelnen Düsen 1 vorzugsweise kürzer gemacht
werden.
Durch Hindurchschicken der ultrafeine Partikel enthaltenden
Trägergasströmung durch die
Lavaldüsen 1 ergibt sich bei geeigneter Wahl des Druckverhältnisses
P/Po zwischen der stromabwärtigen und der
stromaufwärtigen Kammer 4, 3 und des Querschnittsverhältnisses
A/A* von Auslaß 1b und Düsenhals 2 eine Strömung
in Form von Strahlen, die mit hoher Geschwindigkeit
von der ersten stromabwärtigen Kammer 4a zur zweiten
stromabwärtigen Kammer 4b laufen.
Die Prallblende 7 ist eine variable Öffnung, die von außen
eingestellt werden kann, um die Größe der Öffnung zwischen
der ersten und zweiten stromabwärtigen Kammer 4a und 4b
schrittweise einzustellen und so in der zweiten stromabwärtigen
Kammer 4b ein höheres Vakuum als in der ersten
stromabwärtigen Kammer 4a aufrecht zu halten. Im einzelnen
besteht die Prallblende (siehe Fig. 5A) aus zwei einstellbaren
Platten 11, 11′, die V-förmige Nuten 10, 10′ besitzen
und mit ihren Nuten einander gegenüberstehend gegenseitig
verschiebbar sind. Die Platten 11, 11′ können von
außen verstellt werden und die Nuten 10, 10′ wirken zur
Bildung einer Strahldurchlaßöffnung zusammen,
während andererseits ein ausreichend
hohes Vakuum in der zweiten stromabwärtigen Kammer aufrechterhalten
werden kann. Die Form der Nuten 10, 10′ und der
Platten 11, 11′ der Prallblende 7 kann auch anders
als die in Fig. 5A dargestellte Form sein, beispielsweise
halbkreisförmig. Weiterhin kann auch ein Irisblendenmechanismus
ähnlich dem einer Kamera benutzt werden, um eine
genaue Druckkontrolle zu ermöglichen. Eine solche
Prallblende ist in Fig. 5B dargestellt.
Das Torventil 8 umfaßt ein dampfförmiges Ventilglied 13,
das mit Hilfe eines Handrades 12 angehoben oder abgesenkt
werden kann. Es ist voll geöffnet, wenn die Strahlströme
erzeugt werden. Bei geschlossenem Torventil 8 kann die
zweite stromabwärtige Kammer 4b als Einheit ersetzt werden,
während die stromaufwärtige Kammer 3 und die erste stromabwärtige
Kammer 4 auf Vakuum gehalten werden. Falls es sich
bei den ultrafeinen Partikeln um leicht oxidierbare Metallpartikel
handelt, ist es möglich, die Einheit ohne Gefahr
einer schnellen Oxidation bei Verwendung eines Kugelventils
oder dergleichen für das Torventil 8 auszutauschen und die
zweite stromabwärtige Kammer 4b zusammen mit dem Kugelventil
zu ersetzen.
In der zweiten stromabwärtigen Kammer 4b ist ein Substrat 6
zum Auffangen der als Strahl transportierten ultrafeinen
Partikel in Schichtform vorgesehen. Das Substrat 6 ist auf
einem Substrathalter 16 montiert, der seinerseits am Ende
einer Schieberwelle 15 befestigt ist. Die Schieberwelle 15
ist über einen gemeinsamen Flansch an die zweite stromabwärtige
Kammer 4b angesetzt und in einem Zylinder 14 verschieblich
gelagert. Vor dem Substrat 6 ist ein Verschluß 17
zum gegebenenfalls erforderlichen Abschalten des Strahles
angeordnet. Der Substrathalter 16 ist auch dafür ausgelegt,
das Substrat auf optimale Temperatur für ein Auffangen
der ultrafeinen Partikel zu erwärmen oder abzukühlen.
Auf der oberen und unteren Wand der stromaufwärtigen Kammer
3 und der zweiten stromabwärtigen Kammer 4b sind mit Hilfe
gemeinsamer Flansche Glasfenster 18 zur Beobachtung des
Inneren befestigt. Obgleich nicht dargestellt, sind ähnliche
Glasfenster wie die Fenster 18 mit Hilfe gemeinsamer
Flansche auf den Seitenwänden der Kammern 3, 4 und 4b
angeordnet. Diese Glasfenster sind abnehmbar und können
durch verschiedene Meßinstrumente oder Beschickungskammern
ersetzt werden.
Nachstehend wird das bei der Ausführungsform nach Fig. 2
benutzte Vakuumsystem erläutert.
Die stromaufwärtige Kammer 3 ist über ein Druckregulierventil
19 mit einem Hauptventil 20a verbunden. Die erste
stromabwärtige Kammer 4a ist direkt mit dem Hauptventil 20a
verbunden, das seinerseits mit einer Vakuumpumpe 5a verbunden
ist. Die zweite stromabwärtige Kammer 4b ist mit
einem Hauptventil 20b verbunden, das seinerseits mit einer
Vakuumpumpe 5b verbunden ist. Vorvakuumpumpen 21a, 21b
sind mit der stromaufwärtigen Seite der Hauptventile
20a, 20b über Vorvakuumventile 22a, 22b verbunden, ebenso
mit der Vakuumpumpe 5a, 5b über Hilfsventile 23a, 23b
zur Vorevakuierung der stromaufwärtigen Kammer 3 und
der ersten und zweiten stromabwärtigen Kammer 4a und 4b.
Lüftungs- und Spülventile 24a bis 24h sind für die Kammern
3, 4a, 4b und die Pumpen 5a, 5b, 21a und 21b vorgesehen.
Zunächst werden die Vorvakuumventile 22a, 22b und das
Druckregulierventil 19 geöffnet, um die Vorevakuierung
der Kammern 3, 4a und 4b mit Hilfe der Rohvakuumpumpen 21a
und 21b zu bewirken. Sodann werden die Vorvakuumventile
22a und 22b geschlossen und die Hilfsventile 23a, 23b sowie
die Hauptventile 20a, 20b geöffnet, um die Kammern 3,
4a und 4b mit Hilfe der Vakuumpumpen 5a, 5b ausreichend
zu evakuieren. Bei diesem Betrieb wird die Öffnung des
Druckregulierventils 19 so gesteuert, daß ein höheres
Vakuum in der ersten stromabwärtigen Kammer 4a als in der
stromaufwärtigen Kammer 3 erhalten wird. Sodann werden
Trägergas und das Ausgangsmaterialgas zugeführt und
die Prallblende 7 wird so reguliert, daß ein höheres Vakuum
in der zweiten stromabwärtigen Kammer 4b als in der ersten
stromabwärtigen Kammer 4a erhalten wird. Diese Regulierung
kann auch durch eine entsprechende Öffnungssteuerung des
Hauptventils 20b erreicht werden. Sodann erfolgt eine
Steuerung derart, daß die Kammern 3, 4a, 4b
während der ultrafeinen Partikelerzeugung
und Schichtbildung mit Hilfe des Partikelstrahls
auf jeweils konstanten Vakuumwerten gehalten werden. Die Steuerung kann entweder
manuell oder durch automatische Steuerung des Druckregelventils
19, der Hauptventile 20a, 20b und der Prallblende
7 in Abhängigkeit von den festgestellten Drücken in den
Kammern 3, 4a, 4b erfolgen. Wenn die der stromaufwärtigen
Kammer 3 zugeführten feinen Partikel nebst Trägergas unmittelbar
durch die Düsen 1 zur stromabwärtigen Seite
transportiert werden, dann kann auch eine Evakuierung nur
der ersten und zweiten stromabwärtigen Kammer 4a und 4b
vorgenommen werden.
Die Vakuumsteuerung kann auch erreicht werden durch Verwendung
getrennter Vakuumpumpen für die stromaufwärtige
Kammer 3 und die erste stromabwärtige Kammer 4a. Die Verwendung
einer einzigen Vakuumpumpe 5a für die Steuerung
des Vakuums in der stromaufwärtigen Kammer 3 und der
ersten stromabwärtigen Kammer 4a im Sinne der gewünschten
Strahlströmung erleichtert aber die Konstanthaltung der
Druckdifferenz hierzwischen, und zwar auch dann, wenn die
Vakuumpumpe 5a ein gewisses Pulsieren zeigen sollte. Es
ist daher leichter, einen konstanten Strömungszustand
aufrecht zu halten, da dieser gegenüber Änderungen in der
Druckdifferenz empfindlich ist.
Das Absaugen durch die Vakuumpumpen 5a, 5b erfolgt vorzugsweise
von oben, insbesondere in der ersten und
zweiten stromabwärtigen Kammer 4a, 4b, da hierdurch zu
einem gewissen Ausmaß das Absinken des Strahls infolge
Schwerkraft vermieden werden kann.
Die vorstehend erläuterte Apparatur kann wie folgt modifiziert
werden.
Zunächst kann die Lavaldüsenanordnung
1 so konstruiert sein, daß sie in horizontaler und
vertikaler Richtung neigbar ist oder daß sie eine Abtastbewegung
über einen gewissen Bereich auszuführen vermag,
um eine Schichterzeugung über einem großen Gebiet zu ermöglichen.
Eine solche Neigung oder eine solche Abtastbewegung
ist insbesondere vorteilhaft, wenn sie mit der
rechteckigen Düse in Fig. 4C kombiniert wird. Es ist auch
möglich, die Düsen 1 aus isolierendem
Material wie Quarz herzustellen und Mikrowellenenergie
zuzuführen, um aktive ultrafeine Partikel in den
Düsen zu erzeugen. Die Düsen können auch aus lichtdurchlässigem
Material hergestellt und die darin strömende Strömung
mit Licht verschiedener Wellenlänge, beispielsweise mit
UV-Licht oder IR-Licht oder mit Laserstrahlung bestrahlt
werden. Des weiteren können die einzelnen Lavaldüsen
nicht nur parallel zueinander angeordnet,
sondern auch gegeneinander geneigt werden, so
daß mehrere Strahlen auf eine einzige Stelle des
Substrats 6 fokussiert werden können. Die einzelnen Düsen
1 können mit unabhängigen stromaufwärtigen Kammern 3 verbunden
werden, um mehrere Strahlen unterschiedlicher
feiner Partikel zu erzeugen. Hierdurch können Laminate
oder kann ein gemischtes Auffangen verschiedener feiner
Partikel realisiert werden, oder es können neue feine
Partikel durch Kollision von feinen Partikeln sich kreuzender
Strahlen erzeugt werden.
Das Substrat 6 kann vertikal oder horizontal bewegbar oder
drehbar angeordnet werden, um den Strahl über ein großes
Gebiet zu empfangen. Es ist auch möglich, das Substrat
von einer Rolle abzuwickeln und vorzutransportieren, um
vom Strahl beaufschlagt zu werden, so daß ein biegsames
Substrat einer Behandlung mit den feinen Partikeln unterzogen
werden kann. Des weiteren kann die Behandlung mit
den feinen Partikeln auch an einem rotierenden trommelförmigen
Substrat vorgenommen werden.
Die vorstehend beschriebene Ausführungsform der Vorrichtung besteht aus der
stromaufwärtigen Kammer 3, der ersten stromabwärtigen
Kammer 4a und der zweiten stromabwärtigen Kammer 4b. Es
ist aber auch möglich, die zweite stromabwärtige Kammer
4b wegzulassen oder eine weitere stromabwärtige Kammer
oder weitere stromabwärtige Kammern an die zweite stromabwärtige
Kammer anzusetzen. Die erste stromabwärtige
Kammer 4a kann ein offenes System sein, wenn die stromaufwärtige
Kammer 3 unter Druck gesetzt wird. Umgekehrt
kann die stromaufwärtige Kammer 3 ein offenes System sein,
wenn der Druck der ersten stromabwärtigen Kammer 4a reduziert
wird. Es ist auch wie in einem Autoklaven möglich,
die stromaufwärtige Kammer 3 unter Druck zu setzen und
die erste und folgende stromabwärtige Kammern bei verringerten
Drücken zu halten. Es ist ferner möglich, eine
Verschlußeinrichtung zum Öffnen oder Schließen des Strömungsweges
der einzelnen konvergierenden-divergierenden
Düsen vorzusehen und so die feinen Partikel in der stromaufwärtigen
Kammer 3 zeitweilig zu speichern und durch
intermittierendes Öffnen und Schließen der Verschlußeinrichtung
pulsierende Strahlen von den Düsen zu erhalten.
Die Verschlußeinrichtung kann vor, hinter oder in den
Düsen angeordnet sein, sie ist aber vorzugsweise vor den
Düsen angeordnet, um deren Eigenschaften voll auszunutzen.
Die Verschlußeinrichtung kann beispielsweise
aus Kugelventilen oder Schmetterlingsventilen aufgebaut sein. Bevorzugt
werden jedoch Magnetventile wegen ihres raschen
Ansprechens.
Die Verschlußeinrichtung kann auch synchron mit der
Energiezufuhr durch einen Laserstrahl oder durch Bestrahlung
mit Licht verschiedener Wellenlängen der Strömung
im Düsenhals 2 der Düse 1 oder stromabwärts davon
erfolgen, um dadurch die Belastung des Vakuumsystems
signifikant zu verringern, einen unnötigen Ausstoß zu
vermeiden, eine effektive Ausnutzung der Ausgangsmaterialien
zu erreichen und pulsierende Partikelströme zu
erhalten. Für ein Vakuumsystem erleichtert ein
intermittierendes Öffnen und Schließen auch den Erhalt
eines höheren Vakuums auf der stromabwärtigen Seite.
Entsprechend der vorstehenden Erläuterung erfolgt die Erzeugung
aktiver ultrafeiner Partikel in der stromaufwärtigen
Kammer 3. Es ist aber auch möglich, sie sonstwo
zu erzeugen und zusammen mit dem Trägergas in die Kammer
einzuführen.
Beispielsweise kann ein Reservoir zum zeitweiligen Speichern
der ultrafeinen Partikel oberhalb der stromaufwärtigen
Kammer 3 vorgesehen werden. Die Partikel werden über
Düsen, die am Ende des Reservoirs vorgesehen sind, in die
Nähe des Einlasses der konvergierenden-divergierenden
Düsen 1 zugeführt. Die Innenwände der stromaufwärtigen
Kammer 3 können einer geeigneten Behandlung unterzogen
worden sein, um den Niederschlag der feinen Partikel zu
verhindern. Da die erste stromabwärtige Kammer 4a stärker
als die stromaufwärtige Kammer 3 evakuiert ist, strömen
die vom Reservoir gelieferten ultrafeinen Partikel über Lavaldüsen 1 unmittelbar
zusammen mit dem Trägergas zur ersten stromabwärtigen
Kammer 4a.
Es ist weiterhin möglich, mehrere Düsen 1 hintereinander
zu schalten und das Druckverhältnis zwischen der stromaufwärtigen
und stromabwärtigen Seite einer jeden Düse so zu
regulieren, daß eine konstante Strahlgeschwindigkeit aufrechterhalten
wird. Ebenso ist es möglich, eine sphärische
Kammer zu verwenden, um die Bildung von Toträumen zu verhindern.
Es kann auch das Innere der stromaufwärtigen Kammer 3 auf
Atmosphärendruck oder darüber gehalten werden. Wenn die
stromaufwärtige Seite auf Atmosphärendruck gehalten wird,
dann kann die stromabwärtige Seite bei niedrigerem Druck
gehalten werden; und wenn die stromaufwärtige Kammer bei
einem höheren Druck als der atmosphärische Druck gehalten
wird, dann kann die stromabwärtige Seite auf atmosphärischem
Druck oder auf einem darüber- oder darunterliegenden
Druck innerhalb eines Bereichs gehalten werden, der den
Druck der stromaufwärtigen Kammer nicht überschreitet.
Es ist daher möglich, ein festes Reaktionsprodukt zu erhalten,
das in einer unter Druck stehenden flüssigen
Phase auf der stromaufwärtigen Seite ohne Verbindung
zur Atmosphäre erzeugt wird. Ein solches Reaktionsprodukt
kann auch in größerer Menge unter höherem Druck
auf der stromabwärtigen Seite kondensiert und
deshalb in hoher Konzentration erzeugt werden.
Entsprechend der Erfindung können feine Partikel gleichförmig
dispergiert in mehreren Überschallstrahlen transportiert
werden. Dadurch wird ein Hochgeschwindigkeitstransport
einer große Menge feiner Partikel zur
selben Zeit in räumlich unabhängigem Zustand erreicht.
Es wird daher leichter, einen Verlust feiner Partikel
als Folge eines Austrags auf der stromabwärtigen
Seite zu verhindern. Es ist auch möglich, aktive feine
Partikel in großer Menge sicher zur Auffangstelle im aktiven
Zustand zu transportieren und die Größe des Auffanggebietes
als Summe mehrerer Strahlauffanggebiete durch
eine entsprechende Steuerung der einzelnen Strahlen genau
zu steuern. Es kann ferner ein Reaktionsfeld erzielt
werden, das durch die Gegenwart konzentrierter, paralleler
Ultrahochgeschwindigkeitsstrahlen und durch Umwandlung
von thermischer Energie in kinetische Energie bei der
Strahlbildung realisiert ist, um die feinen Partikel in
gefrorenem Zustand zu halten. Des weiteren kann unter Ausnutzung
des unterkühlten oder gefrorenen Zustandes die
vorliegende Strömungssteuerungsvorrichtung einen mikroskopischen
Zustand der Moleküle im Medium definieren, um
einen Übergang von einem Zustand in einen anderen zu
handhaben. Im einzelnen wird die Möglichkeit einer neuen
gasförmigen chemischen Reaktion eröffnet, bei der die
Moleküle entsprechend ihrem Energieniveau definiert sind
und Energie entsprechend dem Energieniveau geliefert erhalten.
Es wird dadurch ein Feld eines Energieübergangs
geschaffen, das zum leichten Erhalt intermolekularer
Verbindungen benutzt werden kann, wie diese mit relativ
schwachen intermolekularen Kräften wie Wasserstoffbrücken
oder van der Waalschen Kräften gebildet werden. Des weiteren
ist die intermittierende Bestrahlung mit einem Lichtstrahl
auch in Verbindung mit einem Prozeß zur Erzeugung
feiner Partikel aus einem Ausgangsmaterialgas mit Hilfe
einer Anregung durch einen gepulsten Laser wirksam. Eine
solche intermittierende Bestrahlung ist auch wirksam im
Falle einer Lichtquelle, bei der die Intensität im kurzwelligen
Bereich bei Impulsbetrieb deutlich höher ist, wie
dieses beispielsweise bei einer Quecksilberlampe der Fall
ist.
Der Strahlausstoß kann unterbrochen werden, wenn er nicht
benötigt wird, beispielsweise während der Bewegung des
Substrats, wodurch eine wirksame Ausnutzung der Ausgangsmaterialien
oder die Bildung gewisser Muster ermöglicht
werden.
Des weiteren sind die vorstehend beschriebenen Gasanregungseinrichtungen
in der Lage, feine Partikel wirksam bilden
zu können, da bei ihnen die Gase in einer Leitung gleichförmig
gemischt werden und eine elektrische Entladung
ohne größere Diffusion von Gasen zugeführt werden kann.
Claims (10)
1. Vorrichtung zum Aufbringen feiner Partikel auf ein Substrat,
wobei die Partikel von einem auf das Substrat gerichteten
Gasstrom mitgeführt werden,
gekennzeichnet durch
- - eine Anordnung von Lavaldüsen (1) im Weg des Gasstroms zwischen einer ersten und einer zweiten Kammer (3, 4), um diesen durch Expansion in eine Vielzahl freier und stabiler Strahlströme umzuwandeln, und
- - eine Einrichtung zum Einstellen der Drücke P₀ in der ersten Kammer (3) und P in der zweiten Kammer (4), sowie des Druckes P₁ an den Düsenauslässen derart, daß die Differenz zwischen P₁ und P zur Bildung eines stabilen Strahls Null ist und das Verhältnis P/P₀ Schallgeschwindigkeit im Düsenhals, d. i. an der engsten Stelle der jeweiligen Düse, ergibt.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
gekennzeichnet durch
eine vor, hinter oder in den Lavaldüsen (1), in
Gestalt von Ventilen angeordnete Verschlußeinrichtung zu
intermittierender Unterbrechung der Strahlströme.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Einrichtung zur Einstellung der Drücke an die beiden
Kammern (3; 4a, 4b) angeschlossene Pumpen (5a, 5b) zum Aufrechterhalten
einer Druckdifferenz, derart, daß in der ersten
Kammer (3) ein größerer Druck herrscht als in der zweiten
Kammer (4a, 4b), umfaßt.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Pumpen (5a, 5b) an die Kammeroberseiten angeschlossen sind, um ein Absinken der
Strahlströme infolge der Schwerkraft
von der Horizontalen zu vermindern.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
gekennzeichnet durch
eine vor den Lavaldüsen (1) angeordnete Gasanregungseinrichtung
(9) zum Erzeugen ultrafeiner Partikel mit
Hilfe einer Plasmaentladung in dem Gasstrom.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Gasanregungseinrichtung (9) eine den Gasstrom
umgebende rohrförmige Elektrode (9b) und eine darin
angeordnete stabförmige Elektrode (9a) aufweist.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
gekennzeichnet durch
eine strahlstromformende Prallblende (7) mit einstellbarem
Querschnitt, die stromabwärts der Lavaldüsen (1)
angeordnet ist.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Anordnung der Lavaldüsen (1) schwenkbar ausgebildet
ist, um die Strahlströme über ein größeres Substrat (6)
hinweg schwenken zu können.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Lavaldüsen (1) zueinander geneigt sind, um die
Strahlströme auf eine bestimmte Stelle des Substrats
(6) zu fokussieren.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß
jede Lavaldüse (1) mehrere aufeinanderfolgend angeordnete
Düsenhälse (2, 2′) umfaßt.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60059619A JPS61218810A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 微粒子流の流れ制御装置 |
JP60060841A JPS61223313A (ja) | 1985-03-27 | 1985-03-27 | 微粒子流の流れ制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3610299A1 DE3610299A1 (de) | 1986-10-02 |
DE3610299C2 true DE3610299C2 (de) | 1993-06-24 |
Family
ID=26400676
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19863610299 Granted DE3610299A1 (de) | 1985-03-26 | 1986-03-26 | Vorrichtung zum steuern einer stroemung feiner partikel |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3610299A1 (de) |
FR (1) | FR2579487B1 (de) |
GB (1) | GB2175709B (de) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1272661A (en) * | 1985-05-11 | 1990-08-14 | Yuji Chiba | Reaction apparatus |
DE3721875A1 (de) * | 1987-07-02 | 1989-01-12 | Gema Ransburg Ag | Verfahren und einrichtung fuer eine pulverspruehbeschichtungsanlage |
DE10320147A1 (de) * | 2003-05-06 | 2004-12-09 | Dürr Systems GmbH | Verfahren und Versorgungssystem zur dosierten Materialversorgung einer Beschichtungsvorrichtung |
WO2020119895A1 (en) * | 2018-12-11 | 2020-06-18 | Applied Materials, Inc. | Vapor source for depositing an evaporated material, nozzle for a vapor source, vacuum deposition system, and method for depositing an evaporated material |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR544737A (fr) * | 1921-05-26 | 1922-09-27 | Arbed | Procédé de chauffage à l'aide de combustibles pulvérisés |
GB415446A (en) * | 1931-11-25 | 1934-08-27 | Daimler Benz Ag | Method of and means for stabilising the flow of gas in pipes connected to reciprocating piston machines |
GB891159A (en) * | 1957-03-20 | 1962-03-14 | Holmes & Co Ltd W C | Improvements in or relating to the reduction or substantial elimination of pressure fluctuations in pipe lines |
US3015481A (en) * | 1959-12-11 | 1962-01-02 | Archie H Clingensmith | Tuyere assembly |
FR1404306A (fr) * | 1964-08-17 | 1965-06-25 | Avco Corp | Perfectionnements à la combustion de charbon pulvérisé |
DE1523019C3 (de) * | 1964-12-09 | 1975-09-04 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Einrichtung zur Einstellung und Konstanthaltung des Trägergasflusses bei gaschromatographischen Meßeinrichtungen |
NL6712305A (de) * | 1966-09-12 | 1968-03-13 | ||
SE311449B (de) * | 1967-11-30 | 1969-06-09 | Aga Ab | |
US3904505A (en) * | 1970-03-20 | 1975-09-09 | Space Sciences Inc | Apparatus for film deposition |
FR2122682A5 (de) * | 1971-01-20 | 1972-09-01 | Siderurgie Fse Inst Rech | |
GB1336253A (en) * | 1971-03-11 | 1973-11-07 | Gaz De France | Pressure regulating and reducing gas-flow meter for industrial installations |
GB1342994A (en) * | 1972-07-24 | 1974-01-10 | Clarke Chapman John Thompson L | Equalising flow in pipes |
US4078097A (en) * | 1976-07-09 | 1978-03-07 | International Prototypes, Inc. | Metallic coating process |
US4200264A (en) * | 1976-08-16 | 1980-04-29 | Fumio Hori | Apparatus for obtaining Mg and Ca through carbon reduction |
FR2404126A1 (fr) * | 1977-09-26 | 1979-04-20 | Iceberg Transport Int | Procede de production d'energie a partir d'un iceberg tabulaire |
GB2007388A (en) * | 1977-10-14 | 1979-05-16 | Northern Eng Ind | Proportioning flow in pipes |
AU8288282A (en) * | 1981-05-04 | 1982-11-11 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Production and utilization of activated molecular beams |
DE3127074A1 (de) * | 1981-07-09 | 1983-01-27 | Ernst Peiniger GmbH Unternehmen für Bautenschutz, 5090 Leverkusen | Strahlgeraet, insbesondere fuer das druckluftstrahlen |
DE3148756A1 (de) * | 1981-12-09 | 1983-07-21 | Dusan Dr.-Ing. 8000 München Nendl | Ueberschallringduese |
FR2519273A1 (fr) * | 1982-01-07 | 1983-07-08 | Camiva | Dispositif de projection pour produit solide finement divise |
CH659864A5 (de) * | 1982-06-23 | 1987-02-27 | Bbc Brown Boveri & Cie | Lochplatte zur vergleichmaessigung der geschwindigkeitsverteilung in einem stroemungskanal. |
-
1986
- 1986-03-25 FR FR8604251A patent/FR2579487B1/fr not_active Expired
- 1986-03-26 GB GB8607606A patent/GB2175709B/en not_active Expired
- 1986-03-26 DE DE19863610299 patent/DE3610299A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2175709B (en) | 1989-06-28 |
GB8607606D0 (en) | 1986-04-30 |
DE3610299A1 (de) | 1986-10-02 |
GB2175709A (en) | 1986-12-03 |
FR2579487B1 (fr) | 1989-05-12 |
FR2579487A1 (fr) | 1986-10-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3610298C2 (de) | ||
DE3610295C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Umsetzung von Rohmaterialien | |
EP0442163B1 (de) | Verfahren zum Herstellen von ultrafeinen Partikeln und deren Verwendung | |
EP0541630B1 (de) | Vorrichtung zur abkühlung von strangpressprofilen | |
EP3083107B1 (de) | Vorrichtung und verfahren zum tiegelfreien schmelzen eines materials und zum zerstäuben des geschmolzenen materials zum herstellen von pulver | |
DE3641437C2 (de) | ||
DE69734324T2 (de) | Verfahren zur Plasmabehandlung und Apparat dafür | |
DE69723127T2 (de) | Quelle für schnelle Atomstrahlen | |
WO2019243559A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zum generativen herstellen eines dreidimensionalen objekts | |
DE4225169C2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Agglomeratstrahlen | |
DE2254491A1 (de) | Verfahren zum beschichten von oberflaechen an werkstuecken durch aufspritzen von schichtstoffen, vorzugsweise durch plasmaspritzen sowie anordnung zur durchfuehrung des verfahrens | |
EP1042093B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung feiner pulver durch zerstäubung von schmelzen mit gasen | |
DE3610299C2 (de) | ||
DD294511A5 (de) | Verfahren und vorrichtung zum reaktiven gasflusssputtern | |
WO1997047449A1 (de) | Belüftungsdüse | |
DE2040534A1 (de) | Vorrichtung zum bestrahlen von produkten und werkstuecken in gesteuerter atmosphaere | |
DE3610294C2 (de) | ||
DE3610296C2 (de) | ||
DE3610293C2 (de) | ||
EP0945695A1 (de) | Vorrichtung zum Behandeln von Materialbahnen | |
DE4414083C2 (de) | Vorrichtung zum Herstellen dünner Schichten auf Kunststoff-Substraten und zum Ätzen solcher Substrate | |
EP0437890A1 (de) | Verfahren zum Herstellen von mehrkomponentigen Materialien | |
DE3610291A1 (de) | Stroemungssteuervorrichtung fuer feine partikel | |
DE3638942A1 (de) | Stroemungssteuereinrichtung fuer einen feinpartikel-strom | |
DE10160817A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von nanoskaligen Pulvern durch Laserverdampfung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: DRES. WESER UND MARTIN, 81245 MUENCHEN |
|
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: WESER & KOLLEGEN, 81245 MUENCHEN |