DE3608678A1 - Excimer-laserapparatur - Google Patents
Excimer-laserapparaturInfo
- Publication number
- DE3608678A1 DE3608678A1 DE19863608678 DE3608678A DE3608678A1 DE 3608678 A1 DE3608678 A1 DE 3608678A1 DE 19863608678 DE19863608678 DE 19863608678 DE 3608678 A DE3608678 A DE 3608678A DE 3608678 A1 DE3608678 A1 DE 3608678A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- laser
- media
- halogens
- laser apparatus
- laser media
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/134—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
VON KREISLER SCHONWALD EISHOLD FUES
VON KREISLER KELLER SELTING WERNER^ 6 0 8 6
PATENTANWÄLTE
Dr.-Ing. von Kreisler 11973
Dr.-Ing. K. W. Eishold 11981
Dr.-Ing. K. W. Eishold 11981
Dr.-Ing. K. Schönwald
Anme lderin · Dr·J- F·Fues
MITSUBISHI* DENKI r?i'S^" r * Γ, ΐ^
KABUSHIKIKAISHA Dipl.-Ing. G. Selting
2-3, Marunouchi Dr.H.-K.Wemer
2-Chome, Chiyoda-Ku
Tokyo, Japan
2-Chome, Chiyoda-Ku
Tokyo, Japan
DEICHMANNHAUS AM HAUPTBAHNHOF
D-5000 KOLN 1
Sg-Ax/Sk
14. März 1986
Excimer-Laserapparatur
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Excimer-Laserapparatur, die eine Art von Gaslaser-Apparaturen ist,
insbesondere eine Edelgas-Halogenid-Excimer-Laserapparatur, in der Edelgase und Halogene als Lasermedien
verwendet werden.
Ein Gaslaser hat die folgenden Vorteile:
1. Die stabile kontinuierliche Oszillation wird leicht erreicht.
2. Oszillierte Lichttypen sind in der Monochromasie,
Interferenzfähigkeit, Richtfähigkeit und Sammelfähigkeit überlegen.
3. Die Oszillations-Mittelfrequenz ist nicht von einer Umgebungstemperatur abhängig.
4. Die Oszillationswellenlänge läßt sich leicht stabilisieren.
Telefon: (0221) 131041 · Telex: 8882307 dopa d · Telegramm: Dompatent Köln .
5. Mehrere tausend Oszillationswellenlängen werden vom Vakuum-üV-Bereich bis zum mm-Wellenbereich erzielt.
6. Obwohl die Ausgangsleistung im Vergleich zur Größe einer Apparatur gewöhnlich gering ist, läßt sich
das Volumen der Lasermedien steigern, wodurch die Ausgangsleistung erhöht werden kann.
Ein Excimerlaser, der zu dieser Art von Gaslasern ge~
hört, ist ein Kurzwellenlaser von hoher Leistungsfähigkeit und hoher Leistungsabgabe, der als Energiequelle
zur Verwendung in der Laser-Kernfusion, bei der optischen Kommunikation und als Lichtquelle zur Verwendung
bei der Kommunikation im Meer oder zwischen Meer und Himmel, beispielsweise zwischen Meer und künstlichen
Satelliten, verwendet werden kann.
Es ist jedoch bekannt, daß beim Edelgas-Halogenid-Excimerlaser die Laser-Impulsenergie mit der Wiederholung
der Oszillation allmählich geringer wird. Beispielsweise wird beim XeCl-Excimerlaser unter Verwendung
von Xenon (Xe) als Edelgas und Chlor (Cl) als Halogen die Laser-Impulsenergie nach ungefähr 10 -maliger
Impulsoszillation auf ungefähr die Hälfte des Anfangswertes verringert.
Der Hauptgrund für die vorstehend beschriebene Erscheinung besteht darin, daß Halogen, das eine der Komponenten
der Lasermedien ist, durch Umsetzung mit den Werkstoffen, aus denen das Lasergehäuse hergestellt ist,
oder mit zerstäubten Metallen, durch eine anregende elektrische Entladung gebildet werden, gebildet wird.
W Es gibt jedoch keine einfachen Apparaturen oder Methoden zur Bestimmung von Halogenen, so daß es nicht
leicht ist, die Reduktion von Halogenen, die in Lasermedien enthalten sind, zu bestimmen. Demgemäß ist es
schwierig, die Halogenmenge zu bestimmen, die zur Ergänzung des Verlustes von Halogenen, durch den eine
Laser-Impulsenergie verringert wurde, zuzusetzen ist. Alle Lasermedien, die in einer Laserapparatur zu verwenden
waren, mußten durch neue Lasermedien ersetzt werden, oder ein Teil der Lasermedien mußte in bestimmten
Zeiten durch neue Lasermedien ersetzt werden.
Die üblichen Methoden werden nachstehend ausführlich unter Bezugnahme auf Figur 5 beschrieben, die eine
übliche Excimer-Laserapparatur schematisch zeigt.
In Figur 5 bezeichnet die Bezugsziffer 1 ein Lasergehäuse, 5 eine Gasbombe für zur Pufferung benutztes
verdünntes Halogen, 9 einen sekundären Druckregler, 16 ein Steuerungssystem,. 57 einen Laserstrahl, 58 einen
Strahlspalter, 59 einen Teil des Laserstrahls, 60 einen Laser-Ausgangsdetektor und 61 ein Strömungsregelsystem.
Bei einer solchen üblichen Apparatur wird zunächst ein Teil des Laserstrahls 57 als Teil 59 des Laserstrahls
durch den Strahlspalter 58 abgetrennt, und die Ausgangsleistung des Teils 59 des Laserstrahls wird durch
den Laser-Ausgangsleistungsdetektor 60 gemessen. Wenn der erhaltene Meßwert bis unter den vorher bestimmten
Wert fällt, betätigt das Steuerungssystem 16 das Steuerungssystem des Strömungsregelsystems 61 so, daß von
der Gasbombe 5 Halogene durch den sekundären Druckregler 9 zugeführt werden, bis die Laserausgangs-
leistung wieder hergestellt ist. Da jedoch die Änderung der Laserausgangsleistung durch eine Änderung der Spannung
der Stromquelle, die Instabilität der anregenden elektrischen Entladung, die Kontamination eines Laserimpuls-Entnahmefensters
u.dgl. zusätzlich zu der vorstehend beschriebenen Verringerung der Konzentration
der Halogene beeinflußt wird, ist es offensichtlich, daß die Änderung der Laserausgangsleistung der Änderung
der Konzentration der Halogene nicht direkt entspricht. Auch wenn beispielsweise die Laserimpulsenergie durch
die Erniedrigung der Spannung der Stromquelle verringert wird, liefert das Regelsystem Halogene unter
der Annahme, daß die Konzentration der Halogene verringert wurde, so daß eine noch weiter erhöhte Konzentration
der Halogene durchgeführt wird. Da in diesem Fall Halogene die elektrische Entladung instabilisieren,
entstehen nachteilige Zyklen, bei denen die Instabilisierung der anregenden elektrischen Entladung
zur weiteren Verringerung der Laser-Ausgangsleistung führt, indem wiederholt eine weitere überschüssige
Halogenmenge zugeführt wird. Zuletzt wird nicht nur die Laseroszillation selbst zum Stillstand gebracht, sondern
die anregende elektrische Entladung wird auch in einen Lichtbogen überführt, so daß sich Probleme ergeben,
z.B. Beschädigung von Elektroden, verschwenderischer Verbrauch von teueren Halogenen und Edelgasen,
wodurch die laufenden Kosten erhöht werden, und dergleichen.
Die vorliegende Erfindung vermeidet die vorstehend beschriebenen Probleme.
P Die erste Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Schaffung einer Excimer-Laserapparatur, bei der eine
stabilisierte Laseroszillation immer erreicht werden kann, indem Halogene auf der Grundlage des gemessenen
Ergebnisses der Konzentration von Halogenen in Lasermedien innerhalb der Excimer-Laserapparatur zugeführt
werden.
5
5
Eine zweite Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung einer Excimer-Laserapparatur, bei der teuere Halogene
und Edelgase nicht verschwenderisch verbraucht werden.
Eine dritte Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung einer Excimer-Laserapparatur, bei der die laufenden
Unkosten niedrig sind.
Die vierte Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung einer einfach aufgebauten Apparatur, die die Konzentration
von Halogenen in Lasermedien leicht zu messen vermag, um die vorstehend beschriebenen Aufgaben zu
lösen.
Die vorstehenden und weiteren Aufgaben und Merkmale der Erfindung sind aus der folgenden ausführlichen Beschreibung
mit den zugehörigen Zeichnungen ersichtlich.
Tl Im folgenden werden unter Bezugnahme auf die Zeichnungen
Ausführungsbeispiele der Erfindung näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Abbildung einer Excimer-Laserapparatur
,
Fig. 2 ein Schaltschema eines in der Excimer-Laser-
apparatur verwendeten Reglers,
Fig. 3 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung zum Messen der Konzentration von
Halogenen in Lasermedien durch einen wärmeempfindlichen
Widerstand,
Fig. 4 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung zur optischen Messung der Konzentration
von Halogenen in Lasermedien, und
10
10
Fig. 5 eine schematische Darstellung des Aufbaus einer bekannten Excimer-Laserapparatur.
Figur 1 ist eine schematische Darstellung, die den Gesamtaufbau
einer Excimer-Laserapparatur zeigt. Hierbei bezeichnet die Bezugsziffer 1 ein Lasergehäuse, 2 ein
mit dem Lasergehäuse 1 verbundenes Meßgerät zur Messung der Konzentration von Halogenen. Das Meßgerät ist über
eine Leitung 3a, durch die aus dem Lasergehäuse 1 Lasermedien 3 zu Meßzwecken zugeführt werden, mit dem Lasergehäuse
verbunden und weist eine in das Lasergehäuse 1 zurückführende Leitung 4a auf. Ferner sind vorgesehen:
Eine Gasflasche 5 für ein mit einem Puffer verdünntes Halogen (z.B. Chlor u.dgl.) und 6 eine Gasflasche für
ein mit einem Puffer verdünntes Edelgas (z.B. Xenongas u.dgl.), Magnetventile 7, 8, sekundäre Druckregler 9,
10 und Blenden 11, 12, die jeweils im Verlauf der mit dem Lasergehäuse 1 verbundenen Leitungen 5a, 6a angeordnet
sind. Eine mit dem Lasergehäuse 1 verbundene Abgasleitung la ist mit einer Blende 13 und einer Pumpe
14 zum Abführen des Abgases 15 versehen. 16 ist ein Regler, der ein Steuersignal 18 zu den Magnetventilen
7, 8 und ein Steuersignal 19 auf der Grundlage eines
ίο
Meßsignals 17 von dem Gerät 2 zur Messung der Konzentration von Halogenen zur Pumpe 14 sendet. 20 bezeichnet
ein mit einem Puffer verdünntes Halogengas, das von der Flasche 5 zugeführt wird, und 21 bezeichnet ein mit
einem Puffer verdünntes Edelgas, das von der Flasche 6 zugeführt wird.
Figur 2 zeigt ein Schaltschema mit einem Ein-Aus-Regelsystem
(Zweipunktregler) als Beispiel für den Regler 16. Hierbei bezeichnet die Bezugsziffer 22 die Eingangsklemme
des Meßsignals 17, die mit dem Minuspol eines Operationsverstärkers 23 (nachstehend als OP-Verstärker
bezeichnet) verbunden ist. Der Plus-Pol.des OP-Verstärkers 23 ist mit dem Abgriff eines Stellwiderstandes 24
verbunden. Ein Stellwiderstand 26 und ein Widerstand 27 sind zwischen dem Ausgang des OP-Verstärkers 23 und dem
Verbindungspunkt des Widerstandes 24 mit dem an Masse gelegten Widerstand 25 geschaltet. 28 bezeichnet eine
Zenerdiode. Die Ausgangsklemme des OP-Verstärkers 23 ist über eine Diode 29 mit der Basis eines Transistors
30 verbunden. 31 bezeichnet die Eingangsklemme einer Stromquelle zum Antrieb eines Magnetventils. Beide
Klemmen einer elektromagnetischen Spule 32 zum Antrieb der Magnetventile 7, 8 sind mit einem Teil zwischen der
Eingangsklemme 31 einer Stromquelle zum Antrieb eines Magnetventils und einem Kollektor des Transistors 30
verbunden. 33 'bezeichnet einen Kondensator, der zwischen Basis und Emitter des Transistors 30 geschaltet
ist.
Figur 3 ist eine schematische Abbildung einer bevorzugten Ausfuhrungsform des Meßgeräts 2 für die Konzentration
von Halogenen in Lasermedien. Hierin bezeichnen die Bezugsziffern 44, 45 Widerstände, und 46, 47 be-
zeichnen wärmeempfindliche Widerstände aus Werkstoffen,
wie Platin und Wolfram mit hohen Temperaturkoeffizienten des elektrischen Widerstandes oder einen Thermistor,
ein Halbleiterelement u.dgl. Diese Widerstände 44, 45 und wärmeempfindlichen Widerständen 46, 47
bilden eine Brückenschaltung. Der wärmeempfindliche Widerstand 47 ist in einer Meßzelle 48, in die die zu
messenden Lasermedien eingebracht werden, und der wärmeempfindliche Widerstand 48 in einer Standardzelle
49 angeordnet, in die Lasermedien, die die Bezugszusammensetzung für die Beurteilung sein sollen,
eingebracht werden.
Die Meßzelle 48 und die Standardzelle 49 sind mit Umlaufdurchgängen
3a und 4b versehen. Die beiden letzteren stehen jeweils mit dem Lasergehäuse 1 in Verbindung.
Ein Zweiwegeventil 50 ist in der Leitung 3a zwischen dem Lasergehäuse 1 und der Meßzelle 48 des
Zirkulationsweges angeordnet. Ferner ist ein Dreiwegeventil 51, das mit einem Durchgang mit der Standardzelle
49 verbunden ist, in der Leitung 4b zwischen der Meßzelle 48 und dem Lasergehäuse 1 angeordnet. Ein
Zweiwegeventil 52 und eine Halogenentfernungsvorrichtung 53 sind in einer Leitung 3b zwischen dem Lasergehäuse
1 und der Standardzelle 49 des Zirkulationsweges in dieser Reihenfolge angeordnet.
Ferner bezeichnet 54 einen Gasstrom von Lasermedien, aus denen Halogene entfernt wurden; Ziffer 55 bezeichnet
eine Stromquelle für die Widerstände 44, 45, 46 und 57, und 56 bezeichnet ein dem Lasergehäuse 1
zuzuführendes Halogengas.
Figur 4 ist eine schematische Darstellung, die den Auf-
bau eines optischen Meßgerätes als weitere bevorzugte Ausführungsform des Meßgerätes 2 zur Messung der Konzentration von Halogenen zeigt. Hierbei bezeichnet 34
eine Meßzelle, in die zu messende Lasermedien eingegeben werden, und 35 bezeichnet eine Standardzelle oder
Bezugszelle, in die Lasermedien mit Bezugs-Zusammensetzung für die Messung eingebracht werden. 3 6 bezeichnet
eine Lichtquelle. Von dieser Lichtquelle 36 abgestrahltes Licht wird von Spiegeln 37 bzw. 38
reflektiert, fällt durch die Meßzelle 34 bzw. die Standardzelle 35 und wird dann von Spiegeln 41, 42 so
reflektiert, daß es jeweils auf einen Detektor 43 fällt. Die Lichtstrahlen, die durch die vorstehend
genannten beiden Spiegel 37, 38 in Richtung zur Meßzelle 34 bzw. zur Standardzelle 35 reflektiert
v/erden, werden durch einen von einem Motor 3 9 gedrehten Unterbrecher 40, der in einer mittleren Stellung
zwischen den Spiegeln 37, 38 und der Meßzelle 34 sowie der Standardzelle 35 angeordnet ist, periodisch unterbrochen.
Nachstehend wird die Arbeitsweise der Apparatur beschrieben.
Gemäß Figur 1 wird ein Teil der im Lasergehäuse 1 befindlichen Lasermedien in das Meßgerät 2, das zur Messung
der Konzentration von Halogenen als zu messende Lasermedien 3 dient, eingeführt, um die Konzentration
der Halogene zu messen, und dann in das Innere des Lasergehäuses 1 als gemessene Lasermedien 4 zurückgeführt.
Andererseits gibt das Meßgerät 2 zur Messung der Konzentration von Halogenen das hierbei gebildete
Meßsignal 17 zum Regler 16. Der Regler 16 gibt das Regelsignal 19 auf der Grundlage des Meßsignals 17 an
die Pumpe 14, um die Pumpe 14 für eine vorher festgelegte
Zeit anzutreiben, wodurch ein Teil der Lasermedien im Lasergehäuse 1 durch die Blende 13 als Abgas
15 ausgetragen wird. Da die Lasermedien im Lasergehäuse 1 in das letztere gewöhnlich so eingefüllt werden, daß
sie unter einem über Atmosphärendruck liegenden festgelegten Druck stehen, kann in dieser Zeit eine festgelegte
Menge von Lasermedien auch dann ausgetragen werden, indem lediglich die Blende 13 als Strömungsgeschwindigkeitswider
stand im Abgasstrom angeordnet, ein Magnetventil anstelle der Pumpe 14 eingebaut und
das Magnetventil in zeitlich geregelter Weise geöffnet und geschlossen wird.
Anschließend werden die Magnetventile 7, 8 geöffnet, um das mit dem Puffer verdünnte Halogengas 20 und das mit
dem Puffer verdünnte Edelgas 21 in das Lasergehäuse 1 einzuführen. In dieser Zeit kann die Menge der in das
Lasergehäuse 1 eingeführten, vorstehend genannten Gase genau geregelt werden indem lediglich die Dauer,
während der die Magnetventile 7, 8 durch die Einwirkung der sekundären Druckregler 9, 10 und der Blenden 11, 12
geöffnet sind, geregelt wird. In diesem Fall muß die Konzentration der Halogene in der Gasflasche 5, die das
mit dem Puffer verdünnte Halogengas enthält und die Konzentration von Edelgasen in der Gasflasche 6 für das
mit dem Puffer verdünnte Edelgas vorher so eingestellt werden, daß sie nach dem Mischen eine vorher festgelegte
Konzentration zeigen.
Wie in Figur 2 dargestellt, wird im Regler 16 eine von einer Gleichstromquelle gelieferte Spannung von +15 V
in der Zenerdiode 28 weiter stabilisiert und dann durch den Stellwiderstand 24 und den Widerstand 25 so ge-
teilt, daß eine ganz bestimmte Spannung an den positiven Eingang des OP-Verstärkers 23 gelegt wird. Wenn
die Spannung des Meßsignals 17, das an die Klemme 22, die zum Anlegen des Signals dient, die an den Plus-Pol
gelegte Spannung übersteigt, wird die Ausgangsspannung
des OP-Verstärkers 23 zur Plus-Seite gesättigt, wodurch ein Basisstrom durch den Transistor 30 fließt und der
Transistor 30 eingeschaltet wird. In dieser Weise wird die elektromagnetische Spule 32, die zum Antrieb der
Magnetventile 7, 8 dient, erregt, um die Magnetventile 7, 8 zu öffnen, wodurch das mit dem Puffer verdünnte
Halogengas 20 und das mit dem Puffer verdünnte Edelgas 21 in das Lasergehäuse 1 eingeführt werden. Wenn die
Konzentration der Halogene im Lasergehäuse 1 binnen kurzem den vorbestimmten Wert erreicht, fällt die
Spannung des Meßsignals 17 bis unter die Spannung, die an den Plus-Pol des OP-Verstärkers 23 gelegt wird, und
die Ausgangsspannung des OP-Verstärkers 23 wendet sich zur Minus-Seite, wodurch der Transistor 30 abgeschaltet
wird und die Magnetventile 7, 8 geschlossen werden.
Die Widerstände 25, 27 und der Stellwiderstand 26 sind normale Rückkopplungsschaltungen, die den Zweck haben,
die Ein-Aus-Tätigkeit des Transistors 30 sicherzustellen. Die Diode 29 bezweckt, zu verhindern, daß ein
zu hohes Rückkopplungssignal an den Transistor 30 gelegt wird. Der Kondensator 33 bezweckt die Verringerung
der umgekehrten elektromotorischen Kraft, die in der elektromagnetischen Spule 32 erzeugt wird.
Bei dem in Figur 3 dargestellten Meßgerät werden zuerst die wärmeempfindlichen Widerstände 46, 47 in der Meßzelle
48 bzw. in der Standardzelle 49 angeordnet, und die wärmeempfindlichen Widerstände 46, 47 werden er-
hitzt, indem ein elektrischer Strom i von der Stromquelle
55 zugeführt wird. Wenn die Lasermedien in die Meßzelle 48 und die Standardzelle 49 eingeführt werden,
wird die Wärme der wärmeempfindlichen Widerstände 46, 47 durch die Lasermedien durch den wärmeleitenden Effekt
der Lasermedien übertragen, so daß sie jede Zelle erreichen, wodurch die Temperaturen der wärmeempfindlichen
Widerstände 46, 47 gesenkt und die elektrischen Widerstände der wärmeempfindlichen Widerstände 46, 47
verringert werden. Die elektrischen Widerstände der wärmeempfindlichen Widerstände 46, 47 sind jedoch von
der Wärmeleitfähigkeit der Medien abhängig, die die wärmeempfindlichen Widerstände 46, 47. umgeben. Durch
die Widerstände 44, 45 und die wärmeempfindlichen Widerstände 46, 47 wird somit eine Brückenschaltung
gebildet, und der Wert jedes Widerstandes ist so gewählt, daß die Brücke ihr Gleichgewicht halten kann,
d.h. ein elektrisches Potential am Punkt A kann das gleiche sein, wie am Punkt B, wenn die Medien in der
Meßzelle 48 der Standardzelle 49 die gleiche Zusammensetzung haben. Wenn anschließend ein Lasermedium in die
Meßzelle 4 8 eingeführt wird und Lasermedien, aus denen nur die Halogene durch die Halogenentfernungsvorrichtung
53 entfernt worden sind, in die Standardzelle 49 eingeführt werden, führt der auf das Vorhandensein und
Nichtvorhandensein von Halogenen zurückzuführende Unterschied der Wärmeleitfähigkeit zu verschiedenen Temperaturen
der wärmeempfindlichen Widerstände 46, 47, wodurch die Brücke das Gleichgewicht verliert und eine
Ungleichgewichts-Potentialdifferenz E zwischen dem Punkt A und dem Punkt B gebildet wird. Die folgende
Beziehung gilt zwischen der Ungleichgewichts-Potentialdif ferenz, der Wärmeleitfähigkeit λ der Lasermedien
in der Standardzelle 49 der Wärmeleitfähigkeit λ1 der
Lasermedien in der Meßzelle 48 und dem Temperaturkoeffizienten
α der elektrischen Widerstände der wärmeempfindlichen Widerstände 46, 47:
E OO α χ ( λ - λ')./ λ
Da die Konzentration der in einem Excimerlaser verwendeten Halogene gewöhnlich 1% oder weniger beträgt und
die der Konzentration jeder Komponente entsprechende Additivität für die Wärmeleitfähigkeit des gemischten
Mediums in diesem Konzentrationsbereich gilt, kann die Konzentration der Halogene durch Messen der Ungleichgewichts-Potentialdifferenz
gefunden werden.
Dieses Meßprinzip wird auf die Messung der Konzentration der Halogene in einer Excimer-Laserapparatur
auf der Grundlage der folgenden Gedanken angewendet:
I. Wie aus der vorstehend beschriebenen Beziehung hervorgeht, kann die vorstehend beschriebene
Meßmethode eine genügende Empfindlichkeit nicht erreichen, wenn nicht eine große Temperaturdifferenz
Δλ in der Wärmeleitfähigkeit zwischen einer zu messenden Komponente und einem Puffergas
vorhanden ist. Da bei der üblichen Gaschromatographie ein Probengas in einem Trägergas gemischt
und das erhaltene Gemisch in eine Zelle oder Küvette
eingeführt wird, kann das Trägergas, dessen Wärmeleitfähigkeit von derjenigen des Probengases
stark verschieden ist, beliebig gewählt werden.
In einer Excimer-Laserapparatur hat jedoch das gewöhnlich als Puffergas verwendete Helium (He)
oder Neon (Ne) eine Wärmeleitfähigkeit von 1,5 χ 107 WM-1K"1 bzw. Neon (Ne) eine Wärmeleitfähig-
keit von 4,9 χ 10 Wm K , während Chlorwasserstoff
(HCl) bzw. Fluor (F) , die als Halogene verwendet werden, eine Wärmeleitfähigkeit von 1,4
χ 106 Wm-1K-1 bzw. 2,8 χ 106Wm-1K-1 haben. Es
besteht somit ein bemerkenswert großer Unterschied in der Wärmeleitfähigkeit zwischen den
Halogenen und dem Puffergas. Demgemäß kann eine bemerkenswert hochempfindliche Messung der Konzentration
der Halogene erreicht werden, indem lediglich die Lasermedien so, wie sie sind, d.h.
ohne Verwendung eines Trägergases, das bei der Gaschromatographie verwendet wird, eingeführt
werden.
II. Da Halogene von Edelgasen und Puffergasen sehr leicht abtrennbar sind, kann die Mullpunkteinstellung
mit Sicherheit erfolgen, und der Einfluß der Edelgase auf die Messung kann ausgeschaltet
werden, indem Lasermedien, aus denen nur die Halogene entfernt worden sind, als Bezugsgas oder
Standardgas verwendet werden. Mit anderen Worten, da Xenon (Xe) und Krypton (Kr) , d.h. in einem
Excimer-Laser verwendeten Edelgase, eine Wärmeleitfähigkeit von 5,6 χ 105Wm-1K-1 bzw. 9,4 χ
5-1-1
10 Wm K haben, ist der Unterschied zwischen ihnen und den Puffergasen bezüglich der Wärmeleitfähigkeit größer als die im Falle von Halogenen, wodurch selbst die kleinste Änderung der Konzentration dieser Edelgase einen großen Einfluß auf die Messung der Konzentration der Halogene ausübt (in der Gaschromatographie werden Edelgase und Halogene in eine Küvette mit einem Zeitverzug eingefügt, indem sie durch eine Füllkörperkolonne geleitet werden, so daß die Möglichkeit eines
10 Wm K haben, ist der Unterschied zwischen ihnen und den Puffergasen bezüglich der Wärmeleitfähigkeit größer als die im Falle von Halogenen, wodurch selbst die kleinste Änderung der Konzentration dieser Edelgase einen großen Einfluß auf die Messung der Konzentration der Halogene ausübt (in der Gaschromatographie werden Edelgase und Halogene in eine Küvette mit einem Zeitverzug eingefügt, indem sie durch eine Füllkörperkolonne geleitet werden, so daß die Möglichkeit eines
solchen Problems hier nicht auftritt). Wie vorstehend beschrieben, ist es demgemäß sehr vorteilhaft,
daß Lasermedien, aus denen die Halogene entfernt wurden, als solche als Standard- oder
Bezugsgas verwendet werden.
5
5
III. Bei der vorstehend beschriebenen Meßmethode sind nach dem Einschalten zwei bis fünf Stunden erforderlich,
um die wärmeempfindlichen Widerstände zu erhitzen und eine konstante Temperatur zu erreichen
(d.h. bis eine Nullbasis stabilisiert ist), und es ist notwendig, das Trägergas während
dieser Zeit bei der üblichen Gaschromatographie kontinuierlich strömen zu lassen. Wenn darüber
hinaus die Zufuhr des Trägergases während des Aussetzens der Messung unterbrochen wird, werden
die wärmeempfindlichen Widerstände zwangsläufig übermäßig stark erhitzt, so daß sie abbrennen und
in Fällen, in denen eine kontinuierliche Messung beabsichtigt ist oder die Messungen fortgesetzt
werden, das Trägergas kontinuierlich durchströmen muß, wodurch sich ein verschwenderischer Verbrauch
des Trägergases ergibt.
Darüber hinaus sind es im Rahmen der Erfindung Lasermedien, aus denen die Halogene entfernt wurden, die
einem Trägergas in der Gaschromatographie entsprechen. Wenn sich jedoch das Meßsystem unter Rückführung dieser
Lasermedien in die Zelle oder Küvette ständig bei den Betriebsbedingungen befindet, werden die Halogene im
Lasergehäuse allmählich verringert. Die übliche Idee der Bestimmung einer Nullbasis unter kontinuierlichem
Durchströmen eines Trägergases und Einführung eines Probengases in das Trägergas wird somit aufgegeben. Mit
anderen Worten, es ist möglich, das Meßsystem ohne Verbrauch
eines Gases unter den Arbeitsbedingungen in solcher Weise in Bereitschaft zu halten, daß zunächst
Lasermedien, die Halogene enthalten, durch die Meßzelle und die Bezugszelle geführt werden, wobei sich das Meßsystem
unter Rückführung dieser Medien in ein Lasergehäuse unter den Betrxebsbedinungen befindet, und ein
Lasermedium, aus dem die Halogene entfernt wurden, nur dann in die Standardzelle eingeführt wird, wenn die
Messung durchgeführt wird, wodurch eine Ungleichgewichtsspannung entsteht.
Ein zur Messung der Konzentration der Halogene dienender, in Figur 3 dargestellter Gaseinführungsteil des
Meßgeräts 2 wird angewandt, um diese drei Ideen zu verwirklichen. Hierbei arbeitet das Gerät 2 wie folgt:
Zunächst wird bei der Nullpunkteinstellung das Zweiwegeventil 50 geöffnet und das Dreiwegeventil 51 in
Richtung des Verbindens der Meßzelle 48 mit der Standardzelle 49 geöffnet. Anschließend wird das
Zweiwegeventil 52 geschlossen, wodurch das Lasermedium 3 durch die Meßzelle 48 und die Standardzelle 49 in das
Lasergehäuse 1 zurückgeführt wird.
Bei der Messung der Konzentration der im Lasermedium innerhalb des Lasergehäuses 1 enthaltenen Halogene wird
das Dreiwegeventil 51 in der Richtung des Verbindens der Meßzelle 48 mit dem Lasergehäuse 1 geöffnet, so daß
das Lasermedium 3 im Lasergehäuse 1 nur in der Meßzelle 48 umläuft. Gleichzeitig wird das Zweiwegeventil 52
geöffnet, wodurch das Lasermedium 3 im Lasergehäuse 1 durch die Halogenentfernungsvorrichtung 53 geführt und
somit das erhaltene Lasermedium 54, aus dem nur die
2Jt)
Halogene entfernt wurden, in die Standardzelle 49 oder Bezugszelle eingeführt wird. Da in dieser Zeit das aus
der Standardzelle 49 in das Lasergehäuse 1 zurückgeführte Gas keine Halogene enthält, wird das Magnetventil
7 geöffnet, um das Halogengas 20 zu ergänzen. Da jedoch praktisch die durch die Messung der Konzentration
der Halogene innerhalb einer bemerkenswert kurzen Zeit (Minimum zehn und einige Sekunden) durchgeführt
werden kann und eine sehr geringe Durchflußmenge (einige zehn bis einige hundert ecm mm ) Gas
erforderlich ist, ändert sich die Konzentration der Halogene im Lasergehäuse 1 kaum, selbst wenn das Halogengas
20 nicht ergänzt wird.
Eine gesonderte Umwälzpumpe kann als Kraft zum Umwälzen dieser Medien verwendet werden. Eine Druckdifferenz
zwischen der Druckseite und der Saugseite eines solchen Gebläses kann ausgenutzt werden, da die Lasermedien im
Gehäuse umgewälzt werden müssen, wenn die Oszillation eines Pulses in einem Excimer-Laser wiederholt wird.
Gewöhnlich wird ein Strömungsgebläse o.dgl. vorgesehen.
Absorptionsmittel wie Natronkalk, Aktivkohle, Zeolith und Kieselgel, Gettermaterialxen wie Titan, Calcium und
Zirkon und eine Kühlfalle können als Mittel 53 zur Halogenentfernung verv/endet werden.
Außer der vorstehend beschriebenen Konstruktion kann auch der folgende Aufbau angewandt werden:
Da von den in einem Excimer-Laser verwendeten Medien die Konzentration der Edelgase und der Puffergase sich
nicht so stark verändert wie die Konzentration der Halogene, kann ein Gemisch von Medien, das aus Edelgasen
und Puffergasen mit der gleichen Konzentration wie im Laser besteht, hergestellt und durch die Standardzelle
49 geleitet werden, oder das vorstehend beschriebene Gemisch von Medien kann in der Standardzelle 49 unter
solchen Bedingungen eingeschlossen werden, daß der Wert eines durch den wärmeempfindlichen Widerstand 47
fließenden elektrischen Stroms so verringert wird, daß übermäßig starkes Erhitzen verhindert wird (da eine
Ungleichgewichts-Potentialdifferenz gemäß dem Ohmschen Gesetz proportional dem Wert eines elektrischen Stroms
ist, wird die Meßempfindlichkeit geringer). Da in dieser Zeit die Meßempfindlichkeit im Vergleich zu
derjenigen bei der vorstehend beschriebenen bevorzugten Ausführungsform geringer ist und auch die Konzentration
der Edelgase leicht verändert ist, ist auch die Genauigkeit geringer, aber das Meßsystem kann weiter
vereinfacht werden.
Da darüber hinaus die Temperatur des aus der Meßzelle 48 ausgetragenen Lasermediums 4 bereits bis zu einem
gewissen Grade angestiegen ist, wenn das Lasermedium 3 während der Zeit mit Ausnahme der Messung aus der Meßzelle
48 zur Standardzelle 49 umgewälzt worden ist, übt, strenggenommen, die Temperaturdifferenz der eingeführten
Gase einen Einfluß auf die Messung der Konzentration der Halogene zusätzlich zum Vorhandensein oder
NichtVorhandensein von Halogenen aus, wenn das Medium 54, aus dem die Halogene entfernt wurden, bei der Messung
in die Bezugszelle oder Standardzelle 49 eingeführt wird. Um dies zu vermeiden, kann zusätzlich zum
Durchgang die Einführung des Lasermediums 3 in die Meßzelle 48 eine geeignete Heizquelle in einem Einführungsdurchgang
für das Medium 54, aus dem die Halogene entfernt wurden, oder ein Durchgang 3a zur Ein-
führung des Lasermediums 3 in die Standardzelle 49 während der Zeit mit Ausnahme der Messung vorgesehen
werden.
Andererseits ist im Falle der Verwendung des optischen Meßgeräts 2 zur Messung der Konzentration der Halogene
die Arbeitsweise wie folgt:
Von der Lichtquelle 36 abgestrahltes Licht wird von den
Spiegeln 37 bzw. 38 reflektiert, durch die Meßzelle 34 und die Standardzelle 35 geführt, durch die Spiegel 41,
42 erneut reflektiert und dann in den Detektor 43 eingeführt. Zweilichtstrahlen werden periodisch durch den
Unterbrecher 40 abgeschnitten. Der Unterbrecher wird mit Hilfe des ein- und auszuschaltenden Motors 39
gedreht, wobei die Lichtstrahlen abwechselnd in den Detektor 43 fallen. Ein Gasgemisch mit der gleichen
Zusammensetzung wie die ursprüngliche Zusammensetzung des Lasermediums im Lasergehäuse 1 wird in die Standardzelle
35 eingeführt, und das zu messende Lasermedium wird in die Meßzelle 34 eingeführt, wodurch eine
der Verringerung der Halogene entsprechende Spannung vom Detektor 43 in Form eines Wechselstromsignals wahrgenommen
wird.
Nachstehend werden die Absorptionsspektren beschrieben, die im vorstehend beschriebenen optischen Meßgerät 2
zur Messung der Konzentration der Halogene verwendet werden.
Ein kontinuierliches Absorptionsspektrum mit einem Absorptionsmaximum
bei 290 nra, wie es beispielsweise auf Seite 1295 in Fundamental edition II, Chemical Handbook
(Maruzen, 1975) dargestellt ist, ist vorteilhaft für
Fluorgas, und ein UV-Absorptions spektrum von 100 bis
220 nm, wie es beispielsweise von J. A. Myer: J. ehem.
phys., Vol. 52, Nr. 1, 266 (1970) angegeben wird, oder Schwingungs spektren 2886 cm" (V = O -* V = 1); 5668
cm"1 (V = O -* V = 2) ; 8374 cm"1 (V = O -*■ V = 3) ; 10923
cm"1 (V = O ■* V= 4) u.dgl. auf Seite 83 in "The structure
of molecules" von G. M. Barrow (übersetzt von Akira Shimada (Kagaku Dojin, 1965)) für Chlorwasserstoff
gas.
Eine Wolframfadenlampe, ein Wasserstoffglührohr, ein
Deuteriumglührohr, eine Quecksilberhochdrucklampe, eine Xenonlampe u.dgl. können als Lichtquelle 36 verwendet
werden. Im Infrarotbereich (entsprechend den Schwingungsspektren) können ein Glüher, ein Nernst-Brenner,
ein Gasmantel-Kohlenstoffstab, ein Wolframband-Halbleiterlaser
u.dgl. verwendet werden. Außerdem v/erden eine Fotozelle und ein Fotosekundärelektronenvervielfacher
als Detektor 43 verwendet. Im Infrarotbereich können ein Thermoelement, ein Bolometer, eine Golay-Zelle,
eine Fotoleitfähigkeitszelle u.dgl. verwendet werden.
Bei diesem optischen Meßgerät 2 zur Messung der Konzentration von Halogenen kann ferner ein zu messendes
Lasermedium, aus dem nur die Halogene entfernt wurden, in die Standardzelle 35 in der gleichen Weise wie bei
dem vorstehend beschriebenen Meßgerät zur Messung der Konzentration von Halogenen eingeführt werden, wobei
ein wärmeempfindlicher Widerstand verwendet wird, um 0 ein Signal, das der absoluten Halogenmenge entspricht,
zu erzeugen. In diesem Fall kann ein Halogengas erneut einen aus der Standardzelle 35 ausgebrachten Gas zugesetzt
werden (die Menge des erneut zuzusetzenden Halo-
gengases wird durch ein Meßsignal geregelt), und dieses Gas kann dann in das Lasergehäuse 1 zurückgeführt
werden.
Außerdem hat von dem vorstehend beschriebenen bevorzugten Ausfuhrungsformen ein Excimer-Laser, der Argongas,
Fluorgas und Puffergase als Lasermedien verwendet, eine Transmissionswellenlänge von 193 nm, und ein
Excimer-Laser, der Krypton, Fluor und Puffergase als Lasermedien verwendet, hat eine Transmissionswellenlänge
von 248 nm. Mit anderen Worten, beide Wellenlängen sind innerhalb eines kontinuierlichen Absorptionsspektrums
von Fluor mit 290 nm als Peak vorhanden, so daß ein Teil eines Ausgangs dieser Laser als Lichtquelle
für die Verwendung bei der Messung von Fluorgas verwendet werden kann.
Da außerdem ein Excimer-Laser gewöhnlich in einer solchen
Weise verwendet wird, daß ein Laserstrahl mit einer Wellenlänge im Bereich von 193 bis 351 nm
entsteht, indem Lasermedien in einem einzigen Gehäuse gewechselt werden, ist die Messung auch dann möglich,
wenn irgendein Halogen verwendet wird, indem eine Lichtquelle mit einer licht-abstrahlenden Wellenlänge
innerhalb eines Bereichs verwendet wird, indem das vorstehend beschriebene kontinuierliche Absorptionsspektrum
von Fluor mit einem Absorptionsmaximüm bei 290 nm und das vorstehend beschriebene UV-Absorptionsspektrum
von Chlorwasserstoff im Bereich von 100 bis 220 nm sich überlappen. Mit anderen Worten, es ist unnötig,
zwei Lichtquellen zu verwenden, so daß die Verwendung eines Excimer-Lasers rationell ist.
IS
Obwohl eine Ein-Aus-Regelung anhand von Figur 2 beschrieben
wurde, kann auch ein Proportionalregler, eine Integrationsregelung, ein Differentialregler oder ein
PID-Regler verwendet werden. Außerdem kann jedes optische Meßgerät von anderer Konstruktion, das mit einer
Lichtquelle und einem Detektor zur Wahrnehmung eines Unterschiedes zwischen einem zu messenden Gas und einem
Standardgas im Licht-Absorptionsvermögen versehen ist, verwendet werden.
In der gleichen Weise kann ein Element, das eine Strömungsregelung
durchführt, zum Einführen von Halogenen und Edelgasen anstelle einer Ein-Aus-Regelung eines
Magnetventils verwendet werden.
- Leerseite -
Claims (10)
- ANSPRÜCHElj Excimer-Laserapparatur, bei der Edelgase, Halogengase und Puffergase als Lasermedien verwendet werden,gekennzeichnet durch
eine Einrichtung (2) zur Messung der Konzentration der in den Lasermedien enthaltenen Halogene und einen Regler (16) zur Regelung der Regeneration der Lasermedien auf der Grundlage der von der Meßeinrichtung (2) gemessenen Ergebnisse. - 2. Excimer-Laserapparatur nach Anspruch 1, -. dadurch gekennzeichnet, daß die Meßeinrichtung (2) die folgenden Komponenten enthält:eine Brückenschaltung (44, 45, 46, 47) bestehend aus einer Widerstandsschaltung, die wenigstens einen in einer Standardzelle (49) angeordneten wärmeempfindlichen Widerstand(46) enthält, und einer Widerstandsschaltung mit wenigstens einem in einer Meßzelle (48) angeordneten wärmeempfindlichen Widerstand(47) ,- eine Vorrichtung zur Messung einer Unsymmetrie-Spannung und/oder eines Unsymmetrie-Stroms in der Brückenschaltung,
eine Leitung (3a) zum Zuführen von Lasermedien aus der Laser-Apparatur in die Meß zelle (48) , undeine Leitung (4a) zur Einführung von Lasermedien, die kein Halogen enthalten, in die Standardzelle (49). - 3. Excimer-Laserapparatur nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die kein Halogen enthaltenden Lasermedien ein Gemisch von Edelgasen und Puffergasen sind, dessen Konzentrationen die gleichen sind wie die der Edelgase bzw. Puffergase der Lasermedien in der Laserapparatur.
- 4. Excimer-Laserapparatur nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die kein Halogen enthaltenden Lasermedien in der Laserapparatur enthaltene Lasermedien sind, die durch medium-adsorbierende und/ oder medium-absorbierende Halogene geströmt sind.
- 5. Excimer-Laserapparatur nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das medium-adsorbierende und/ oder medium/absorbierende Halogen ein Feststoff ist, der Halogene auf physikalischem Wege oder durch Umsetzung mit Halogenen unter Bildung von gebundenen Halogeniden adsorbiert.
- G. Excimer-Laserapparatur nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Lasermedien, die kein Halogen enthalten, Lasermedien in der Laserapparatur sind, die durch eine Kühlfalle geströmt sind.
- 7. Excimer-Laserapparatur nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßeinrichtung (2) zur Messung der Konzentration der Halogene derart ausgebildet ist, das sie die Konzentration der Halogene optisch mißt, indem ein Licht, das durch die Lasermedien in der Laserapparatur gefallen ist, mit einem Licht vergleicht, das durch Lasermedien mit vorbestimmter Zusammensetzung gefallen ist.
- 8. Excimer-Laserapparatur nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Regeneration der Lasermedien erfolgt, indem ein Teil der Lasermedien oder alle Lasermedien, die in der Laserapparatur verwendet werden, durch neue Lasermedien ersetzt werden.
- 9. Excimer-Laserapparatur nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Regeneration der Lasermedien vorgenommen wird, indem eine geeignete Menge nur eines Halogens oder eines Halogens mit Edelgas den in der Laserapparatur verwendeten Lasermedien zugesetzt wird.
- 10. Excimer-Laserapparatur nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Vorgang der Regenerierung der Lasermedien durch eine Ein-Aus-Regelung (30) gesteuert wird.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5246785A JPS61212752A (ja) | 1985-03-18 | 1985-03-18 | エキシマレ−ザ媒質中のハロゲン濃度測定装置 |
JP9262785A JPH0714083B2 (ja) | 1985-04-29 | 1985-04-29 | エキシマレ−ザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3608678A1 true DE3608678A1 (de) | 1986-09-18 |
DE3608678C2 DE3608678C2 (de) | 1990-02-08 |
Family
ID=26393072
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19863608678 Granted DE3608678A1 (de) | 1985-03-18 | 1986-03-15 | Excimer-laserapparatur |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4722090A (de) |
DE (1) | DE3608678A1 (de) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0263994B1 (de) * | 1986-09-30 | 1991-03-06 | Siemens Aktiengesellschaft | Einrichtung zur Herstellung eines Gasgemisches |
US4977571A (en) * | 1988-03-29 | 1990-12-11 | Candela Laser Corporation | Dye laser solution circulation system |
JPH02112292A (ja) * | 1988-10-20 | 1990-04-24 | Mitsubishi Electric Corp | ハロゲンガスレーザのガス制御装置 |
JPH0760914B2 (ja) * | 1989-01-30 | 1995-06-28 | セントラル硝子株式会社 | エキシマーレーザーガスの精製法並びにその装置 |
US4977573A (en) * | 1989-03-09 | 1990-12-11 | Questek, Inc. | Excimer laser output control device |
US5504391A (en) * | 1992-01-29 | 1996-04-02 | Fusion Systems Corporation | Excimer lamp with high pressure fill |
US5440578B1 (en) * | 1993-07-16 | 2000-10-24 | Cymer Inc | Gas replenishment method ad apparatus for excimer lasers |
WO1996007225A1 (en) * | 1993-07-16 | 1996-03-07 | Cymer Inc. | Gas replenishment method and apparatus for excimer lasers |
US5696785A (en) * | 1994-10-11 | 1997-12-09 | Corning Incorporated | Impurity getters in laser enclosures |
JP3880314B2 (ja) * | 1998-01-30 | 2007-02-14 | サイマー, インコーポレイテッド | フッ素モニターを有するフッ素制御システム |
US6240117B1 (en) | 1998-01-30 | 2001-05-29 | Cymer, Inc. | Fluorine control system with fluorine monitor |
US5978406A (en) * | 1998-01-30 | 1999-11-02 | Cymer, Inc. | Fluorine control system for excimer lasers |
US6526085B2 (en) | 1998-10-05 | 2003-02-25 | Lambda Physik Ag | Performance control system and method for gas discharge lasers |
US6212214B1 (en) * | 1998-10-05 | 2001-04-03 | Lambda Physik Ag | Performance control system and method for gas discharge lasers |
US6490307B1 (en) | 1999-03-17 | 2002-12-03 | Lambda Physik Ag | Method and procedure to automatically stabilize excimer laser output parameters |
DE19942455A1 (de) | 1998-10-05 | 2000-04-06 | Lambda Physik Gmbh | Leistungssteuersystem und -verfahren für Gasentladungslaser |
US6389052B2 (en) * | 1999-03-17 | 2002-05-14 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
US6965624B2 (en) * | 1999-03-17 | 2005-11-15 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
US6727731B1 (en) | 1999-03-12 | 2004-04-27 | Lambda Physik Ag | Energy control for an excimer or molecular fluorine laser |
US6714577B1 (en) | 1999-03-17 | 2004-03-30 | Lambda Physik Ag | Energy stabilized gas discharge laser |
JP2003523091A (ja) * | 2000-02-11 | 2003-07-29 | ラムダ フィジーク アーゲー | 安定化した平均パルスエネルギーを有するガス放電レーザー |
DE50212323D1 (de) * | 2002-08-01 | 2008-07-10 | Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh | Laserbearbeitungsmaschine |
CN104821476B (zh) * | 2015-06-01 | 2017-08-22 | 金陵科技学院 | 一种带工作气体回收再利用装置的轴快流co2激光器 |
TWI608680B (zh) * | 2015-08-24 | 2017-12-11 | 曼瑟森三汽油公司 | 用於高能雷射系統中之可再回收、再平衡及再循環雷射氣體混合物之系統 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3805074A (en) * | 1973-01-02 | 1974-04-16 | Texas Instruments Inc | Spectral scan air monitor |
DE2635171A1 (de) * | 1976-08-05 | 1978-02-09 | Hartmann & Braun Ag | Photoelektrischer gasanalysator mit einem abstimmbaren laser als strahlungsquelle |
DE2316973C3 (de) * | 1973-04-05 | 1979-11-22 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V., 8000 Muenchen | Verfahren und Meßelement zur Vakuummessung |
DE3130817A1 (de) * | 1981-08-04 | 1983-02-24 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Waermeleitungsvakuummeter |
DE3425902A1 (de) * | 1984-07-13 | 1986-01-16 | Lambda Physik GmbH, 3400 Göttingen | Verfahren fuer den langzeitbetrieb eines gaslasers und einrichtung dazu |
-
1986
- 1986-03-12 US US06/839,145 patent/US4722090A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-03-15 DE DE19863608678 patent/DE3608678A1/de active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3805074A (en) * | 1973-01-02 | 1974-04-16 | Texas Instruments Inc | Spectral scan air monitor |
DE2316973C3 (de) * | 1973-04-05 | 1979-11-22 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V., 8000 Muenchen | Verfahren und Meßelement zur Vakuummessung |
DE2635171A1 (de) * | 1976-08-05 | 1978-02-09 | Hartmann & Braun Ag | Photoelektrischer gasanalysator mit einem abstimmbaren laser als strahlungsquelle |
DE3130817A1 (de) * | 1981-08-04 | 1983-02-24 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Waermeleitungsvakuummeter |
DE3425902A1 (de) * | 1984-07-13 | 1986-01-16 | Lambda Physik GmbH, 3400 Göttingen | Verfahren fuer den langzeitbetrieb eines gaslasers und einrichtung dazu |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
Firmenschrift "Excimer Lasers" d. Fa. Lambda Physik, Göttingen, Juni 1983 * |
Journal of Physics E: Scientific Instruments, 1972, Vol. 5, S. 405,406 * |
Rev. Sci. Instrum. 1981, Vol. 52, S.1655, 1656 * |
Vacuum, 1959, Vol. 9, S. 186-189 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4722090A (en) | 1988-01-26 |
DE3608678C2 (de) | 1990-02-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3608678A1 (de) | Excimer-laserapparatur | |
DE69819547T2 (de) | Schmalbandiger excimerlaser | |
DE2407133C3 (de) | ||
DE2407133B2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur bestimmung von stickoxid | |
DE19954873A1 (de) | F¶2¶-Laser, der Neon als Puffergas verwendet | |
DE3935084A1 (de) | Verfahren und geraet zur gasregulierung in einem halogengaslaser | |
DE1773827A1 (de) | Einrichtung zur Absorptionsspektralanalyse | |
DE102014220566B4 (de) | Modulierte Flammen-Gasflussraten in flammenbasierten Detektoren | |
DE19806854C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung des organischen Kohlenstoffs(TOC)-)Gehaltes in Flüssigkeiten, insbesondere Reinstwasser | |
DE2630986A1 (de) | 16 mikron co tief 2 -lasersystem | |
DE69838229T2 (de) | Lampe | |
EP2647988A2 (de) | Verfahren sowie Vorrichtung zur Messung des Sauerstoffgehaltes oder des Sauerstoffpartialdruckes in einem Messgas | |
DE1598497B2 (de) | Verfahren zum Messen der Konzentration eines Bestandteiles eines unbekannten Gases und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens | |
DE4110735A1 (de) | Fliessinjektionssystem mit integriertem mikrowellenaufschluss | |
DE2016380B2 (de) | Ionenentladungsröhre zum Erzeugen elektromagnetischer Strahlung | |
DE10134469A1 (de) | Sonde für Koronaentladungs-Zündspannung eines elektrostatischen Abscheiders zur Feststellung des Gaszustandes und Steuersystem für Gasentladungslaser | |
DE102015000423A1 (de) | Ozongenerator, NO-zu-NO₂-Konverter, Verfahren zum Konvertieren von NO zu NO₂ und Verwendung | |
DE2546565C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Konzentration von Schwefeldioxid | |
DE2254257A1 (de) | Elektrophorese-einrichtung mit fliessendem band | |
DE2728055C2 (de) | ||
DE1764189A1 (de) | Gaslaser mit stabilisiertem Gasdruck | |
DE3030448A1 (de) | Verfahren und vorrichtung fuer die von temperaturschwankungen unbeeinflusste bestimmung des sauerstoffgehaltes in gasen | |
DE3917955A1 (de) | Vorrichtung zur analyse von quecksilber oder hydridbildnern durch atomabsorptionsmessung | |
DE2354341B2 (de) | Gaslaser | |
DE2054096A1 (de) | Gasentladungsrohr, insbesondere fur Gaslaser |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) |