DE3581755D1 - Behandlungsverfahren fuer integrierte schaltungen durch photolithographie. - Google Patents

Behandlungsverfahren fuer integrierte schaltungen durch photolithographie.

Info

Publication number
DE3581755D1
DE3581755D1 DE8585114615T DE3581755T DE3581755D1 DE 3581755 D1 DE3581755 D1 DE 3581755D1 DE 8585114615 T DE8585114615 T DE 8585114615T DE 3581755 T DE3581755 T DE 3581755T DE 3581755 D1 DE3581755 D1 DE 3581755D1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
photolithography
integrated circuits
treatment method
treatment
circuits
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE8585114615T
Other languages
English (en)
Inventor
James R Sheats
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
HP Inc
Original Assignee
Hewlett Packard Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hewlett Packard Co filed Critical Hewlett Packard Co
Application granted granted Critical
Publication of DE3581755D1 publication Critical patent/DE3581755D1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
DE8585114615T 1984-11-19 1985-11-18 Behandlungsverfahren fuer integrierte schaltungen durch photolithographie. Expired - Lifetime DE3581755D1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/673,243 US4705729A (en) 1984-11-19 1984-11-19 Method for photochemically enhancing resolution in photolithography processes

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3581755D1 true DE3581755D1 (de) 1991-03-21

Family

ID=24701863

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE8585114615T Expired - Lifetime DE3581755D1 (de) 1984-11-19 1985-11-18 Behandlungsverfahren fuer integrierte schaltungen durch photolithographie.

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4705729A (de)
EP (1) EP0182332B1 (de)
JP (1) JPS61122644A (de)
DE (1) DE3581755D1 (de)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0697341B2 (ja) * 1986-06-06 1994-11-30 松下電器産業株式会社 パタ−ン形成方法
EP0313993A1 (de) * 1987-10-20 1989-05-03 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Musterherstellungsverfahren
JPH01129417A (ja) * 1987-11-16 1989-05-22 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体素子における微細パターンの形成方法
JP2581147B2 (ja) * 1988-04-13 1997-02-12 キヤノン株式会社 Ｘ線リソグラフィ方法
US5250388A (en) * 1988-05-31 1993-10-05 Westinghouse Electric Corp. Production of highly conductive polymers for electronic circuits
JPH02269353A (ja) * 1988-10-28 1990-11-02 Hewlett Packard Co <Hp> フォトリソグラフィーによる半導体の製造方法
US5180655A (en) * 1988-10-28 1993-01-19 Hewlett-Packard Company Chemical compositions for improving photolithographic performance
GB9016488D0 (en) * 1990-07-27 1990-09-12 Zed Instr Ltd Printing cylinder
US5219703A (en) * 1992-02-10 1993-06-15 Eastman Kodak Company Laser-induced thermal dye transfer with bleachable near-infrared absorbing sensitizers
DE4339010C2 (de) * 1993-06-25 2000-05-18 Pt Sub Inc Photohärtbares Erzeugnis für Druckplatten
US6756181B2 (en) 1993-06-25 2004-06-29 Polyfibron Technologies, Inc. Laser imaged printing plates
GB9508031D0 (en) * 1995-04-20 1995-06-07 Minnesota Mining & Mfg UV-absorbing media bleachable by IR-radiation
DE69605646T2 (de) * 1996-04-23 2000-06-21 Agfa Gevaert Nv Bilderzeugungselement zur Herstellung einer Flachdruckplatte, wobei das Bilderzeugnungselement eine thermosensitive Maske enthält
EP0803772A3 (de) * 1996-04-23 1997-11-05 Agfa-Gevaert N.V. Bildaufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte damit
US5879861A (en) * 1996-04-23 1999-03-09 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making a lithographic printing plate wherein an imaging element is used that comprises a thermosensitive mask
EP0803771A1 (de) * 1996-04-23 1997-10-29 Agfa-Gevaert N.V. Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte unter Verwendung eines Bildaufzeichnungsmaterials mit einer wärmeempfindlichen Maske
US6887665B2 (en) * 1996-11-14 2005-05-03 Affymetrix, Inc. Methods of array synthesis
US6824879B2 (en) 1999-06-10 2004-11-30 Honeywell International Inc. Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography
US6268457B1 (en) 1999-06-10 2001-07-31 Allied Signal, Inc. Spin-on glass anti-reflective coatings for photolithography
EP1190277B1 (de) 1999-06-10 2009-10-07 AlliedSignal Inc. Spin-on-glass antireflektionsbeschichtungen aufweisender halbleiter für photolithographie
EP1107063B1 (de) * 1999-12-07 2010-03-10 E.I. Du Pont De Nemours And Company Photoentfärbbare Verbindungen enthaltende, photopolymerisierbare Zusammensetzungen und ihre Verwendung in flexographischen Druckplatten
US20050181421A1 (en) * 2000-08-03 2005-08-18 Affymetrix, Inc. Methods of array synthesis
JP4381143B2 (ja) 2001-11-15 2009-12-09 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド フォトリソグラフィー用スピンオン反射防止膜
US8053159B2 (en) 2003-11-18 2011-11-08 Honeywell International Inc. Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof
US8557877B2 (en) 2009-06-10 2013-10-15 Honeywell International Inc. Anti-reflective coatings for optically transparent substrates
JP5932250B2 (ja) * 2010-06-28 2016-06-08 キヤノン株式会社 構造体の製造方法および液体吐出ヘッドの製造方法
US8864898B2 (en) 2011-05-31 2014-10-21 Honeywell International Inc. Coating formulations for optical elements
EP3194502A4 (de) 2015-04-13 2018-05-16 Honeywell International Inc. Polysiloxanformulierungen und beschichtungen für optoelektronische anwendungen
EP4314946A1 (de) * 2021-04-01 2024-02-07 Terecircuits Corporation Intermittierend lichtgebleichte masken, verfahren zur herstellung und verwendungen für komponententransfer

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3502476A (en) * 1965-10-20 1970-03-24 Konishiroku Photo Ind Light-sensitive photographic materials
US3615562A (en) * 1968-04-25 1971-10-26 Rca Corp Cyanine dye photographic film
US4448873A (en) * 1982-03-18 1984-05-15 American Hoechst Corporation Negative working diazo contact film
EP0098922A3 (de) * 1982-07-13 1986-02-12 International Business Machines Corporation Einbelichtungsverfahren zur Herstellung von positiven und Resistbildern
IE56082B1 (en) * 1982-11-01 1991-04-10 Microsi Inc Photobleachable compositions
US4515877A (en) * 1982-11-27 1985-05-07 Basf Aktiengesellschaft Image-recording materials and image-recording carried out using these to produce an optical mask
JP4079512B2 (ja) * 1998-05-25 2008-04-23 デルタ工業株式会社 車両用シートの減速装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0182332A2 (de) 1986-05-28
EP0182332B1 (de) 1991-02-13
JPS61122644A (ja) 1986-06-10
EP0182332A3 (en) 1987-01-14
US4705729A (en) 1987-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3581755D1 (de) Behandlungsverfahren fuer integrierte schaltungen durch photolithographie.
DE3582556D1 (de) Verfahren zum herstellen von kontakten fuer integrierte schaltungen.
DE3586893D1 (de) Stapelverfahren fuer gedruckte schaltungen.
DE3853456D1 (de) Harzzusammensetzung für gedruckte Schaltungen.
DE3751920T2 (de) Isolationsverfahren für integrierte Schaltungen
DE3482990D1 (de) Einbelichtungsverfahren fuer die herstellung von gedruckten schaltungen.
DE3885636D1 (de) Verbindungssystem für gedruckte Schaltungen.
DE3576900D1 (de) Verfahren zum herstellen von gedruckten schaltungen.
DE68924452D1 (de) Packungsstruktur für integrierte Schaltungen.
DE3581480D1 (de) Automatischer zusammenbau integrierter schaltungen.
DE3582640D1 (de) Verzoegerungsschaltung fuer lsi-toranordnung.
DE69030123D1 (de) Induktive Strukturen für halbleitende integrierte Schaltungen
DE3579977D1 (de) Methode zum entwurf logisch integrierter schaltungen.
DE3582752D1 (de) Testeinrichtung fuer integrierte schaltungen.
DE3889069T2 (de) Verzögerungsschaltungen für integrierte Schaltungen.
DE3586175T2 (de) Photolithographisches verfahren.
DE3853764D1 (de) Zwischenschaltungssystem für integrierte Halbleiterschaltungen.
DE3485684D1 (de) Vorrichtung fuer die kontrolle von masken fuer die herstellung von integrierten schaltungen.
DE3774062D1 (de) Verbindungsleitungen fuer integrierte schaltungen.
DE3786785D1 (de) Verfahren zur herstellung von mos-bauelementen fuer integrierte schaltungen.
DE3587484T2 (de) Behandlung von würfeln für integrierte schaltungen.
DE3882863T2 (de) Flüssigkeitstauchkühleinrichtung für integrierte schaltungen.
DE68918301D1 (de) Passivierungsverfahren für eine integrierte Schaltung.
DE3382828T2 (de) Metalldraht für integrierte Schaltungen
DE3382183D1 (de) Monolithische integrierte mikrowellenschaltung und verfahren zum auswaehlen derselben.

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee