DE3539724A1

DE3539724A1 - Magnetaufzeichnungsmedium

Info

Publication number: DE3539724A1
Application number: DE19853539724
Authority: DE
Inventors: Masatoshi Nakayama; Yasufumi Takasugi; Kunihiro Tokio/Tokyo Ueda
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1984-11-09
Filing date: 1985-11-08
Publication date: 1986-06-05
Also published as: GB2166668B; DE3539724C2; GB2166668A; US4749608A; US4844978A; GB8527246D0

Description

Die Erfindung betrifft Magnetaufzeichnungsmedien, insbesondere Verbesserungen bei solchen Magnetaufzeichnungsmedien, die eine als zusammenhängenden Dünnfilm ausgebildete Magnetschicht aufweisen.

Auf dem Gebiet der für Video-, Audio- und dgl. Zwecke eingesetzten Magnetaufzeichnungsmedien \\raren Forschung und Entwicklung wegen der Kompaktheit einer Bandrolle in starkem Maße auf Aufzeichnungsmedien, gewöhnlich Magnetbänder, mit einer Magnetschicht in Form eines zusammenhängenden Dünnfilms gerichtet.

Bevorzugte Magnetschichten bei solchen Medien mit zusammenhängendem Film sind abgeschiedene Filme aus Co, Co-Ni, Co-O, Co-Ni-O und ähnlichen Systemen, die durch das sogenannte Schrägeinfallaufdampfverfahren gebildet sind, bei dem Kobalt und wahlweise andere Elemente verdampft und bei einem vorgegebenen Winkel in bezug auf die Normale auf den Träger gerichtet werden, weil solche aufgedampften Filme überragende Eigenschaften aufweisen. Die aufgedampften Magnetschichten haben jedoch auch viele Nachteile, einschließlich hoher dynamischer Reibung, geringer Filmfestigkeit, rauhem Kopfkontakt und schlechten Laufeigenschaften (d.h. die Dauerhaftigkeit des Bandes, das in Reibungskontakt mit starren Teilen einer Videoanlage ist), was zu einer herabgesetzten Endleistung nach wiederholten Durchläufen führt. Bei Videoanlagen haben die aufgedampften Magnetschichten eine kurze Lebensdauer, wenn sie bei Bildstillstand betrieben werden (was nachstehend kurz als "Bildstillstand" bezeichnet wird). Außerdem finden bei solchen Schichten zahlreiche Drop-outs statt.

Unter diesen Umständen ist bisher eine Vielzahl von Deckschichten vorgeschlagen worden, die die schräg aufgedampften Magnetschichten abdecken. Beispiele für solche Deckschichten sind Beschichtungen aus plasmapolymerisierten Kohlenwasserstoffen, wie es in den japanischen Patentanmeldungen 59-72653, 59-154641 und 59-160828 sowie in der USA-Patentanmeldung 4 429 024 beschrieben ist. Jedoch sind Deckschichten aus plasmapolymerisierten Kohlemvasserstoffen, die nach herkömmlichen Verfahren hergestellt sind, nicht voll zufriedenstellend, indem sie eine unzureichende Korrosionsbeständigkeit, geringe Laufeigenschaften, abnehmende Reproduzierbarkeitsleistung und geringe Festigkeit aufweisen.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein verbessertes Magnetaufzeichnungsmedium anzugeben, das eine hohe Korrosionsbeständigkeit und gute Laufeigenschaften und Festigkeit aufweist.

Die vorliegende Erfindung ist auf ein Magnetaufzeichnungsmedium gerichtet, das aus einem Träger, einem darauf ausgebildeten Dünnfilm aus ferromagnetischem Metall und einer auf dem Dünnfilm ausgebildeten Deckschicht besteht. Erfindungsgemäß besteht die Deckschicht aus einem plasmapolymerisierten Film, der Kohlenstoff und Wasserstoff in einem Atomverhältnis von Kohlenstoff zu Wasserstoff von

1 bis 6 enthält. Der polymerisierte Film hat eine Dicke von 1 χ 10 um bis 4 χ 10~ um und einen Kontaktwinkel

oo mit Wasser im Bereich von 60 bis 130 .

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform ist der Wasserstoff teilweise durch Fluor subsituiert in der Weise, daß das Atomverhältnis von Kohlenstoff zu Wasserstoff 2 bis 8 und das Atomverhältnis von Fluor zu Wasserstoff 1,3 bis

3,0 beträgt, wobei der polymerisierte Film einen Kontaktwinkel mit Wasser im Bereich von 100° bis 130° hat.

Gemäß einer anderen Ausführungsform ist das an der Oberfläche der Deckschicht gemessene Atomverhältnis von Fluor zu Wasserstoff um mindestens das 1,5-fache größer als an einem Niveau der Deckschicht, das ein Drittel ihrer Gesamthöhe von der Fläche, die dem ferromagnetischen metallischen Dünnfilm zugekehrt ist, entfernt ist.

Bei einer weiteren Ausführungsform wird der plasmapolymerisierte Film hergestellt, indem ein gasförmiges Reaktionsmittel in eine Plasmazone eingegeben wird bei einem Wert von W/F-M, der auf 10⁷ bis 10¹² Joule/kg festgesetzt ist, wobei W die für die Plasmabildung zugeführte Energie, F die Strömungsgeschwindigkeit des Reaktionsgases und M das Molekulargewicht des Reaktionsgases ist.

Fig. 1 zeigt in schematischer Darstellung eine Plasmapolymerisationsvorrichtung.

Der die Deckschicht bei dem Magnetaufzeichnungsmedium nach der Erfindung bildende plasmapolymerisierte Film ist ein Kohlenstoff und Wasserstoff enthaltender Dünnfilm.

Beispiele für Ausgangsgase, aus denen der Film plasmapolymerisiert werden kann, sind gesättigte und ungesättigte Kohlenwasserstoffe, wie beispielsweise Methan, Ethan, Propan, Butan, Pentan, Ethylen, Propylen, Buten, Butadien, Acetylen, Methylacetylen und dgl. sowie Gemische daraus. Sie sind zur Erleichterung des Betriebs bei Raumtemperatur vorzugsweise gasförmig. Gewünschtenfalls kann als Ausgangsmaterial für die Plasmapolymerisation auch ein Kohlenwasserstoff eingesetzt werden, der bei Raumtemperatur flüssig ist. Das Ausgangsmaterial kann wahlweise einen

einen kleineren Anteil an Stickstoff, Sauerstoff., Bor, Phosphor usw. enthalten.

Der plasmapolymerisierte Film hat eine Dicke von 1 χ 10

bis 4 χ 10 um, vorzugsweise 1,5 χ 10 bis 3 χ 10 um.

Bei Magnetaufzeichnungsmedien mit zusamme ahängendem Dünnfilm wird, wenn ein plasmapolymerisierter Film eine Dicke von mehr als 4 χ 10 um hat, der Kopfabstandsverlust (magnetischer Verlust infolge der Komponentendicke) zu groß und die magnetische Induktion wird herabgesetzt. Der Spalt wird häufiger verschmiert und nach wiederholten Durchläufen tritt eine erhebliche Verminderung der Endleistung auf. Dicken von weniger als 1 χ 10~° um sind gering, um Korrosionsbeständigkeit und Laufeigenschaften zu gewährleisten.

Die Filmdicke kann bei der Ausbildung des plasmapolymerisierten Films dadurch gesteuert werden, daß Reaktionszeit, die Vorschubgeschwindigkeit der Schicht, die Strömungsgeschwindigkeit des Ausgangsgases und andere Faktoren gesteuert werden. Die Steuerung sollte in der Weise erfolgen, daß ein Magnetaufzeichnungsmedium mit vermindertem Kopfabs tandsverlust und hoher Korrosionsbeständigkeit, Laufeigenschaften und Filmbruchfestigkeit erhalten wird.

Der plasmapolymerisierte Film wird durch Verwendung des vorstehend erwähnten Kohlenwasserstoffes als Ausgangsgas, Erzeugen eines Gasplasmas und Zusammenbringen des Plasmas mit der Magnetschicht hergestellt.

Das Prinzip der Plasmapolymerisation wird nachstehend kurz erläutert. Wenn ein elektrisches Feld an ein Gas angelegt wird, das bei vermindertem Druck gehalten wird, werden freie Elektronen, die in einem kleineren Anteil in dem Gas vorhanden sind und einen bemerkenswert größeren

intermolekularen Abstand aufweisen als unter Atmosphärendruck, unter Einwirkung des elektrischen Feldes beschleunigt, wobei sie eine kinetische Energie (Elektronentemperatur) von 5 bis 10 eV erreichen. Diese beschleunigten Elektronen kollidieren mit Atomen und Molekülen und brechen die Atom- und Molekülbahnen auf, wobei sie zu normalerweise instabilen chemischen Spezies, wie Elektronen, Ionen, Neutralradikalen usw., dissoziieren. Die dissoziierten Elektronen werden unter Einwirkung des elektrischen Feldes erneut beschleunigt, um zu weiteren Atomen und Molekülen zu dissoziieren. Diese Kettenreaktion bewirkt, daß das Gas sofort in einen hochgradig ionisierten Zustand übergeführt wird. Dieser wird im allgemeinen als Plasma bezeichnet. Da gasförmige Moleküle eine geringere Chance · zur Kollision mit Elektronen haben und wenig Energie absorbieren, werden sie auf einer Temperatur von annähernd Raumtemperatur gehalten. Ein solches System, bei dem die kinetische Energie (Elektronentemperatur) der Elektronen und die Wärmebewegung (Gastemperatur) der Moleküle nicht zueinander in Beziehung stehen, wird als Niedertemperaturplasma bezeichnet. Bei diesem System bestimmen die chemischen Spezies den Zustand, wie er für die chemische Umsetzung geeignet ist, wie die Polymerisation, wobei sie gegenüber ihrem Ursprungszustand relativ unverändert bleiben. Die vorliegende Erfindung benutzt diesen Zustand zur Bildung eines plasmapolymerisierten Films auf einer auf einem Trägerfilm befindlichen Magnetschicht. Das niedertemperaturige Plasma hat keinen nachteiligen Einfluß auf Trägerfilm und Magnetschicht.

Fig. 1 erläutert eine typische Anlage, mit der ein plasmapolymerisierter Film auf der Oberfläche eines Trägerfilms mit darauf ausgebildeter Magnetschicht hergestellt wird.

Diese Plasmaanlage benutzt eine Stromquelle mit variabler Frequenz. Die Anlage besteht aus einem Reaktionsgefäß R, in welches die Reaktionsgase von Behältern 511 unf 512 durch Strömungsregler 521 bzw. 522 eingegeben werden. Ein einzelnes Gas kann aus einem einzigen Behälter zugeführt werden. Wenn es gewünscht wird, verschiedene Gase aus den Behältern 511 und 512 zuzuführen, werden sie in einer Mischvorrichtung 53 gemischt, ehe sie in das Gefäß eingegeben werden. Die Ausgangsgase können bei einer Strömungsgeschwindigkeit von 1 bis 250 ml/min eingegeben werden.

In dem Reaktionsgefäß R befinden sich Mittel zum Stützen der Trägerschicht, bei dieser Ausführungsform ein Satz von Zuführungs- und Aufnahmerollen 561 und 562, auf die die Schicht aufgewickelt wird. Abhängig von der besonderen Form der Trägerschicht des Magnetaufzeichnungsmediums können alle gewünschten Trägermittel verwendet werden, beispielsweise eine drehbare Stützvorrichtung, auf der der Trägerfilm ruht.

Auf gegenüberliegenden Seiten der Schicht ist ein Paar von Elektroden 551 und 552 angeordnet, wobei die eine Elektrode 551 mit der Stromquelle mit variabler Frequenz 54 verbunden und die andere Elektrode 552 geerdet ist.

Das Reaktionsgefäß R ist weiterhin zum Evakuieren des Gefäßes mit einem Vakuumsystem verbunden, einschließlich einer Flüssigstickstoffalle 57, einer Vakuumpumpe 58 und einem Vakuumregler 59. Das Vakuumsystem hat eine solche Kapazität, daß das Reaktionsgefäß R auf ein Vakuum von 0,0133 bis 13,33 mbar evakuiert und auf diesem Vakuum gehalten werden kann.

Beim Betrieb wird das Reaktionsgefäß R zunächst mittels der Vakuumpumpe 58 auf ein Vakuum von 1,33 χ 10~ mbar oder weniger evakuiert, bevor das oder die Ausgangsgase bei einer vorgegebenen Strömungsgeschwindigkeit in das Gefäß eingegeben werden. Dann wird das Gefäßinnere auf einem Vakuum von 0,0133 bis 13,33 mbar gehalten. Ein (nicht dargestellter) Aufrollmotor wird zum Befördern der Schicht eingeschaltet. Wenn die Fördergeschwindigkeit der Schicht und die Strömungsgeschwindigkeit des Gasgemisches konstante Werte erreichen, wird zum Erzeugen eines Plasma, mit welchem ein plasmapolymerisierter Film auf der durchlaufenden Schicht ausgebildet wird, die Stromquelle mit variabler Frequenz 54 eingeschaltet.

Es kann ein Trägergas verwendet werden, wie beispielsweise

Ar, N-, He und HL.

Vorzugsweise wird der plasmapolymerisierte Film durch Eingeben von Reaktionsgas in eine Plasmazone bei einem Wert von W/F'M, der auf 10⁷ bis 10¹² Joule/kg festgesetzt ist, hergestellt, wobei W die zur Plasmaerzeugung zugeführte Energie, ausgedrückt in Joule/sec, F die Strömungsgeschwindigkeit des Reaktionsgases, ausgedrückt in kg/sec,

und M das Molekulargewicht des Reaktionsgases ist. Wenn

1 2

W/F'M den Wert von 10 überschreitet, wird die darunterliegende Magnetschicht zu nachteilig beeinflußt. Wenn

W/F'M kleiner ist als 10 , hat der erhaltene plasmapolymerisierte Film eine nicht ausreichende Dichte für eine genügende Korrosionsbeständigkeit.

Die übrigen Parameter, wie angelegte Stromstärke und Behandlungszeit, können in geeigneter Weise ausgewählt werden, ohne daß hierzu unzumutbare Versuche nötig wären.

Die Plasmaerzeugung kann neben der vorstehend erläuterten Hochfrequenzentladung auch durch andere Maßnahmen, wie Mikrowellenentladung, Gleichstromentladung und Wechselstromentladung, durchgeführt werden.

Der auf diese Weise ausgebildete plasmapolymerisierte Film enthält Kohlenstoff und Wasserstoff in einem Atomverhältnis von Kohlenstoff zu Wasserstoff (C/H) im Bereich von 1 bis Ein plasmapolymerisierter Film mit einem solchen C/H-Verhältnis weist eine überragend verbesserte Korrosionsbeständigkeit und Dauerhaftigkeit auf. C/H-Verhältnisse von weniger als 1 führen zu Filmen, die in bezug auf Korrosionsbeständigkeit, Dauerhaftigkeit und Festigkeit praktisch unannehmbar sind. Eine wesentliche Herabsetzung der Endleistung nach wiederholten Durchläufen tritt auf, wenn die C/H-Verhältnisse oberhalb von 6 liegen.

Es sollte vermerkt werden, daß das C/H-Verhältnis beispielsweise durch SIMS (Sekundärionen-Massenspektroskopie) bestimmt werden kann. Wenn SIMS angewendet wird, kann das C/H-Verhältnis des vorliegenden Deckschichtfilms mit einer

-3 -3

Dicke von 1 χ 10 bis 4 χ 10 um durch Bestimmung der Zahlen von C und H an der Deckschichtfilmoberfläche berechnet werden. Alternativ kann das C/H-Verhältnis durch Bestimmen des Profils von C und H mittels Ionenätzung mit Ar oder dgl. berechnet werden. Die SIMS-Messung kann auf die in dem Artikel "SIMS and LAMMA" (vgl. Surface Science Basic Lectures, Band 3, 1984, Elementary and Application of Surface Analysis, Seite 70) erläuterte Weise durchgeführt werden.

Der so hergestellte plasmapolymerisierte Film sollte einen Kontaktwinkel mit Wasser im Bereich von 60 bis 130 haben. Plasmapolymerisierte Filme mit Kontaktwinkeln von weniger

als 60 sind in bezug auf Dauerhaftigkeit und Korrosionsbeständigkeit praktisch unannehmbar. Plasmapolymerisierte Filme mit einem Kontaktwinkel von mehr als 130 sind schwierig herzustellen und für den vorliegenden Anwendungszweck unnötig.

Ein geeigneter Kontaktwinkel des plasmapolymerisierten Films mit Wasser kann durch empirisches Ermitteln von Art und Strömungsgeschwindigkeit des bzw. der Ausgangsgase und der P-lasmapolymerisationsbedingungen erhalten werden.

Bei einer weiteren bevorzugten Ausführungsform, bei der der Deckschichtfilm neben Kohlenstoff und Wasserstoff noch Fluor enthält, sind die verwendeten Ausgangsgase Fluorkohlenwasserstoffe, die bei Raumtemperatur gasförmig sind, wie Fluormethan, Dif luormethan, Tr i fluorine than, Defluorethan, Tetrafluorethan usw., und Gemische daraus; mindestens eine Fluorkohlenstoffverbindung, wie Tetrafluormethan, Octafluorpropan, Octafluorcyclobutan, Tetrafluorethylen, Hexafluorethylen usw., und mindestens ein Kohlenwasserstoff, wie Methan, Ethan, Propan, Butan, Pentan, Ethylen, Propylen, Buten, Butadien, Acetylen, Methylacetylen usw.; und Gemische aus den vorstehend genannten Verbindungen.

Weitere Fluoride, wie Borfluorid, Stickstoff-Fluor-Verbindungen, Siliciumfluorid usw., können ebenfalls als Ausgangsmaterial im Gemisch mit den vorstehend genannten Ausgangsgasen verwendet werden. Falls erwünscht, können auch Fron 12, Fron 13B1, Fron 22 usw. benutzt werden, die bei Raumtemperatur flüssig oder fest sind.

Wenn mehr als ein Ausgangsgas verwendet wird, sind die Strömungsgeschwindigkeit F und das Molekulargewicht M in der Formel W/F-M die kombinierte Strömungsgeschwindigkeit und das kombinierte Molekulargewicht der Gase.

Der plasmapolymerisierte Film wird durch Verwendung der vorstehend genannten Fluorkohlenwasserstoffe, Kohlenwasserstoffe und Fluorkohlenstoffe in jeder geeigneten Kombination als Ausgangsgas, Erzeugen eines Entladungsplasmas in dem Gas und Zusammenbringen des Gasplasmas mit der Magnetschicht zur Bildung eines polymerisierten Films darauf hergestellt.

Der erhaltene Deckschichtfilm enthält Kohlenstoff und Wasserstoff in einem Atomverhältnis von 2 bis 8, vorzugsweise von 3 bis 5. C/H-Verhältnisse von weniger als 2 führen zu einer unzureichenden Korrosionsbeständigkeit, während C/H-Verhältnisse von mehr als 8 zu einem weitgehenden Absinken der Endleistung nach wiederholten Durchläufen führen, was beides für die praktische Anwendung unannehmbar ist.

Der Deckschichtfilm enthält auch Wasserstoff und Fluor in Atomverhältnissen von 0,3 bis 1,0, vorzugsweise von 0,5 bis 0,9. H/F-Verhältnisse von weniger als 0,3 führen zu einem weitgehenden Absinken der Endleistung nach wiederholten Durchläufen, während H/F-Verhältnisse von mehr als 1,0 eine für die praktische Anwendung zu hohe Anfangsreibüng bewirken.

Es sollte vermerkt werden, daß die C/H- und die H/F-Verhältnisse durch SIMS (Sekundärionen-Massenspektroskopie), wie vorstehend erläutert, ermittelt werden können. Wenn SIMS angewendet wird, können die C/H- und die H/F-Ver-

hältnisse des vorliegenden Deckschichtfilms mit einer Dicke von 1 χ 10 bis 4 χ 10" um berechnet werden, indem die Zahlen von C, H und F an der Deckfilmoberfläche ermittelt werden. Alternativ können diese Verhältnisse durch Ermitteln des Profils von C, H und F mittels Ionenätzung mit Ar oder dgl. berechnet werden.

Bei einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt das Fluor/Wasserstoff-Atomverhältnis in dem plasmapolymerisierten Film einen Konzentrationsgradienten in Richtung der Filmdicke. Solch eine abgestufte Fluorkonzentration verbessert die Korrosionsbeständigkeit und setzt Hängenbleiben und Verschmieren des Kopfes auf ein Minimum herab.

Vorzugsweise ist das Atomverhältnis von Fluor zu Wasserstoff an der Oberfläche der Deckschicht um mindestens das 1,5-fache größer als das an einem Niveau der Deckschicht, das ein Drittel ihrer Gesamthöhe von der Fläche, die dem ferromagnetischen metallischen Dünnfilm zugekehrt ist, entfernt ist. So beträgt das F/H-Atomverhältnis an der Oberfläche von 1,5 bis 3,0 und in einer Höhe, die ein Drittel der Gesamthöhe von ihrer unteren Oberfläche, d.h. der dem ferromagnetischen Dünnfilm zugekehrten Oberfläche, entfernt ist, 1,0 bis 1,5. Somit beträgt das Verhältnis des ersteren zu dem letzteren 1,5 oder mehr.

Der Konzentrationsgradient kann kontinuierlich oder diskontinuierlich sein.

Der Konzentrationsgradient des Fluor/Wasserstoff-Atomverhältnisse in dem plasmapolymerisierten Film in seiner Dickenrichtung kann beispielsweise nach folgender Methode gemessen werden.

Zunächst wird der plasmapolymerisierte Film der Elementaranalyse durch SIMS unterzogen, wobei die Ionenätzung des Films bei konstanter Geschwindigkeit vorgenommen wird. Es wird die Zeit gemessen, bis der ferromagnetische metallische Dünnfilm erreicht ist (nachweisbar durch die Bildung von Metallionen, aus denen der metallische Dünnfilm gebildet ist). Die zum Ätzen des polymerisierten Films durch seine gesamte Dicke hindurch erforderliche Zeit wird dann erhalten (Gesamtmeßzeit). Dann wird die Elementaranalyse des Films zu einem Zeitpunkt, an dem zwei Drittel der Gesamtmeßzeit vom Beginn der Messung durch SIMS verstrichen sind, vorgenommen. Auf diese Weise wird das Fluor/Wasserstoff-Atomverhältnis bei einem Niveau der Deckschicht erhalten, das ein Drittel ihrer Gesamthöhe von der dem ferromagnetischen metallischen Dünnfilm zugekehrten Oberfläche entfernt ist. Die Elementaranalyse des Deckschichtfilms an dessen oberer Oberfläche wird leicht durch SIMS erhältlich. Der Fluor/ Wasserstoff-Konzentrationsgradient ist dann gegeben als das Verhältnis von F/H an der Oberfläche zu dem in ein Drittel Höhe.

Alternativ kann das Zusammensetzungsverhältnis des plasmapolymerisierten Films durch Messung des Zusammensetzungsprofils durch SIMS berechnet werden.

Die Dicke des plasmapolymerisierten Films kann mittels eines Eilipsometers gemessen werden.

Der so hergestellte im wesentlichen aus Kohlenstoff, Wasserstoff und Fluor bestehende plasmapolymerisierte Film sollte einen Kontaktwinkel mit Wasser im Bereich von 100° bis 130°, vorzugsweise 110° bis 120°, haben. Solche plasmapolymerisierten Filme mit einem Kontaktwinkel von weniger als 100° sind wegen der erhöhten Anfangsreibung weniger vorteilhaft.

Plasmapolymerisierte Filme mit einem Kontaktwinkel von mehr als 130 sind als Filme schwer herzustellen und unnötig für die in Rede stehenden Anwendungsgebiete.

Der richtige Kontaktwinkel eines plasmapolymerisierten Films mit Wasser kann durch empirisches Ermitteln von Art und Strömungsgeschwindigkeit des oder der Ausgangsgase und der Plasmapolymerisationsbedingungen erhalten werden.

Das Magnetaufzeichnungsmedium nach der Erfindung enthält eine Magnetschicht auf einem Träger.

Die Träger sind nicht besonders eingeschränkt, solange sie nichtmagnetisch sind. Besonders vorteilhaft sind biegsame Träger, insbesondere aus Kunstharzen, wie beispielsweise Polyestern, wie Polyethylenterephthalat, und Polyimiden. Sie sind nicht eingeschränkt in Form, Größe und Dicke, solange sie dem beabsichtigten Verwendungszweck Genüge tun. Vorzugsweise haben die biegsamen Träger eine Dicke von etwa 5 bis 20 um.

Die Magnetschicht besteht aus einem zusammenhängenden ferromagnetischen metallischen Dünnfilm über den gesamten Träger hinweg, im allgemeinen auf Kobaltbasis. Bei bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung kann die Magnetschicht vorzugsweise im wesentlichen aus Kobalt; Kobalt und Sauerstoff; Kobalt, Sauerstoff und Nickel und/oder Chrom bestehen. Dies bedeutet, daß die Magnetschicht im wesentlichen aus Kobalt allein oder einem Gemisch von Kobalt mit Nickel und/oder Sauerstoff bestehen kann.

Wenn die Schicht im wesentlichen aus Kobalt und Nickel besteht, kann das Gewichtsverhältnis von Co/Ni vorzugsweise mindestens etwa 1,5 betragen.

Die Magnetschicht kann weiterhin Sauerstoff neben Kobalt oder Kobalt und Nickel enthalten. Die Anwesenheit von Sauerstoff trägt zu weiteren Verbesserungen der elektromagnetischen Eigenschaften und der Laufeigenschaften bei. In diesem Fall beträgt das Atomverhältnis von O/Co (bei Abwesenheit von Nickel) oder von 0/(Co + Ni) vorzugsweise nicht mehr als etwa 0,5, noch besser etwa 0,05 bis 0,5.

Bessere Ergebnisse werden erhalten, wenn die ferromagnetische metallische Dünnfilmschicht neben Kobalt; Kobalt und Nickel; Kobalt und Sauerstoff; oder Kobalt, Nickel und Sauerstoff noch Chrom enthält. Die Anwesenheit von Chrom trägt zu weiteren Verbesserungen der elektromagnetischen Eigenschaften, der Endleistung, des Störspannungsverhaltens und der Filmfestigkeit bei. In diesem Fall liegt das Gewichtsverhältnis von Cr/Co (bei Abwesenheit von Nickel) oder von Cr/(Co + Ni) vorzugsweise im Bereich von etwa 0,001 bis 0,1, noch besser etwa bei 0,005 bis 0,05.

Auf der Oberfläche der ferromagnetischen metallischen Dünnfilmschicht bildet Sauerstoff Oxide mit den ferromagnetischen Metallen Co und Ni. Bei der Auger-Spektroskopie erscheinen Oxide anzeigende Spitzen in einer Oberflächenschicht, insbesondere in einer Oberflächenschicht von der Oberfläche

— 3 - 2

bis zu einer Tiefe von 5 χ 10 bis 5 χ 10 um, vorzugs-

-3 -2 '

weise 5x10 bis 2 χ 10 um. Diese Oxidschicht hat

einen Sauerstoffgehalt in der Größenordnung von 0,5 bis 1,0 (Atomverhältnis). Der Konzentrationsgradient von Sauerstoff in der ferromagnetischen metallischen Dünnfilmschicht unterliegt keiner sonderlichen Einschränkung.

Die ferromagnetische metallische Dünnfilmschicht kann weiterhin Spurenelemente enthalten, insbesondere Ober-

gangsmetallelemente, wie beispielsweise Fe, Mn, V, Zr, Nb, Ta, Ti, Zn, Mo, W, Cu oder dgl.

Die ferromagnetische metallische Dünnfilmschicht besteht vorzugsweise aus einer Koaleszenz von Teilchen auf Kobaltbasis von säulenförmiger Struktur, die schräg zur Normalen des Trägers orientiert sind. Inbesondere ist die Achse der Teilchen mit säulenförmiger Struktur vorzugsweise in einem Winkel von etwa 10 bis 70°, bezogen auf die Normale der Hauptfläche des Trägers, geneigt. Jedes säulenförmige Teilchen verläuft im allgemeinen über die gesamte Dicke des Dünnfilms und hat einen kleineren Durchmesser in der Größenordnung von 5 x10 bis 5 χ 10 um. Kobalt und wahlweise andere Metalle, wie Nickel und Chrom, bilden die säulenförmig strukturierten Teilchen selbst, während Sauerstoff, falls vorhanden, im allgemeinen an der Oberfläche jedes säulenförmigen Teilchens in der Oberflächenschicht im wesentlichen in Form von Oxiden vorliegt. Die ferromagnetische metallische Dünnfilmschicht hat im allgemeinen eine Dicke von etwa 0,05 bis 0,5 um, vorzugsweise von etwa 0,07 bis 0,3 um.

Die Magnetschicht wird gewöhnlich durch das sogenannte Schrägeinfall-Aufdampfverfahren ausgebildet. Dieses kann nach bekannten Techniken, vorzugsweise unter Verwendung einer Elektronenkanone bei minimalem Einfallswinkel, bezogen auf die Normale des Trägers, von vorzugsweise 30 vollzogen werden. Die Verdampfungsbedingungen und die Nachbehandlungen sind auf dem einschlägigen Gebiet gut bekannt und können in geeigneter Weise ausgewählt werden. Eine wirkungsvolle Nachbehandlung ist eine Behandlung zum Einbringen von Sauerstoff in die Magnetschicht, die ebenfalls auf diesem Gebiet gut bekannt ist. Für eine weitere Information über dieses Verdampfungsverfahren wird auf D. E. Speliotis et al., "Hard magnetic

films of iron, cobalt and nickel", J. Appl. Phys., 36, 3972 (1965) und Y. Maezawa et al., "Metal thin film video tape by vacuum deposition", IERE Conference Proceedings (The Fourth International Conference on Video and Data Recording, The University of Southampton, Hampshire, England, 22.-23. April 1982), Seiten 1-9, hingewiesen.

Der ferromagnetische metallische Dünnfilm kann auf den Träger entweder direkt oder über eine Zwischenschicht bekannter Art aufgebracht werden. Außerdem wird der ferromagnetische metallische Dünnfilm im allgemeinen als einzelne Schicht ausgebildet, in einigen Fällen jedoch kann er aus einer Vielzahl von laminierten Unter-Schichten mit oder ohne einen nicht ferromagnetischen metallischen Dünnfilm., der dazwischen eingelagert ist, bestehen.

Der ferromagnetische metallische Dünnfilm kann auf beliebige bekannte Weise ausgebildet sein, wie durch Aufdampfen, Ionenplattieren und Metallisieren. Besonders vorteilhaft ist das sogenannte Schrägeinfall-Aufdampfverfahren. Dieses kann nach beliebigen bekannten Techniken, vorzugsweise unter Verwendung einer Elektronenkanone, bei einem minimalen Einfallswinkel, bezogen auf die Normale des Trägers, von vorzugsweise mindestens 20° ausgeführt werden. Einfallswinkel von weniger als 20 führen zu schlechteren elektromagnetischen Eigenschaften. Die Verdampfungsatmosphäre kann im allgemeinen eine innere Atmosphäre von Argon, Helium oder eines sauerstoffhaltigen Vakuums mit einem Druck von etwa 10~ bis 10 Pa sein. Für den Fachmann sind weitere Verdampfungsparameter einschließlich des Quelle-Träger-Abstandes, der Trägerförderrichtung, der Konfiguration und der Anordnung von Abschirmbecher und Maske usw. durch einfache Versuche, falls erforderlich, ermittelbar.

Die Verdampfung in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre hat die Bildung eines Metalloxidfilms auf der Oberfläche der erhaltenen Magnetschicht zur Folge. Der Partialdruck des Sauerstoffgases, der für die Oxidbildung erforderlich ist, kann durch einen einfachen Versuch leicht ermittelt werden.

Eine Metalloxidbeschichtung kann auf der Oberfläche der Magnetschicht durch eine Oxidierungsbehandlung erzeugt werden. Für diesen Zweck sind die folgenden Oxidierungsbehandlung en anwendbar:

1. Trockenbehandlung

a) Energieteilchenbehandlung

Sauerstoff kann beim Endstadium des Verdampfungsprozesses mittels einer Elektronenkanone oder einer Neutronenkanone als Energieteilchen auf die Magnetschicht gerichtet werden, wie es in der japanischen Patentanmeldung No. 58-76640 erläutert ist.

b) Glimmbehandlung

Die Magnetschicht wird einem Plasma ausgesetzt, das durch Erzeugen einer Glimmentladung in einer O₉, H₉O oder O₉ + H₉O enthaltenden Atmosphäre in Kombination mit einem Inertgas, wie Ar und N₉, gebildet ist.

c) Oxidierendes Gas

Ein oxidierendes Gas, wie Ozon, und erhitzter Dampf werden auf die Magnetschicht geblasen.

d) Hitzebehandlung

Die Oxidation wird durch Erhitzen auf Temperaturen von etwa 60 bis 150° C bewirkt.

2. Naßbehandlung

a) Anodisierung

b) Alkalibehandlung

c) Säurebehandlung

Chromatbehandlung, Permanganatbehandlung, Phosphatbehandlung

d) Oxidationsmittelbehandlung ^H2°2

Erfindungsgemäß wird auf einer Magnetschicht in Form eines ferromagnetischen metallischen Dünnfilms ein plasmapolymerisierter Film ausgebildet, der Kohlenstoff und Wasserstoff bei einem Atomverhältnis von C/H von 1 bis 6 enthält, wobei der plasmapolymerisierte Film eine Dicke von 1 χ 10 bis 4 χ 10~ um und einen Kontaktwinkel mit Wasser von 60° bis 130 hat. Das erhaltene Magnetaufzeichnungsmedium ist sehr kompakt und zeigt beim Betrieb einen geringen Kopfabstandsverlust und eine hohe Korrosionsbeständigkeit. Das Magnetauf zeichnung s medi um nach der Erfindung zeichnet sich durch eine sehr hohe Bruchfestigkeit aus.

Wenn der plasmapolymerisierte Film Fluor neben Kohlenstoff und Wasserstoff in den vorstehend erläuterten Verhältnissen enthält, ergeben sich zusätzliche Vorteile, wie herabgesetzte dynamische Reibung, verbesserte Laufeigenschaften und verbesserte Korrosionsbeständigkeit. Wenn der plasmapolymerisierte Film den vorstehend angegebenen Fluorgradienten aufweist, ergeben sich bessere Korrosions-

beständigkeit und weitgehende Ausschaltung von Hängenbleiben und Verschmieren des Kopfes.

Die Plasmapolymerisation, die eine Gasphasenreaktion ist, erbringt einen hochgradig vernetzten Dünnfilm, was offenbar eine erhebliche Rolle bei der Verbesserung der Rostverhinde.rung spielt. Da die Plasmapolymerisation eine kontinuierliche Hochgeschwindigkeitserzeugung gestattet, kann sie leicht in das zur Zeit angewendete Herstellungsverfahren für Magnetaufzeichnungsmedien einbezogen werden, ohne daß die Produktivität leidet.

Der durch Plasmapolymerisation erzeugte Dünnfilm ist hinsichtlich der erwähnten Oberflächeneigenschaften in be- ■ merkenswerter Weise verbessert, ohne daß die magnetischen und elektrischen Eigenschaften und die Aufzeichnungsdichte des Magnetaufzeichnungsmediums vermindert sind. Diese Verbesserung ist besonders bemerkenswert im Vergleich zu den konventionellen Dünnfilmdeckschichten.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Beispielen im einzelnen erläutert, die jedoch keinerlei Einschränkung des Erfindungsbereiches bedeuten.

Beispiel 1

Eine 10 um dicke Schicht aus Polyethylenterephthalat (PET) wurde entlang einer Kühldose in einem Vakuumgefäß bewegt, in dem Co-Ni-Legierung mittels einer Elektronenkanone unter Einleitung von Sauerstoff erhitzt und verdampft wurde. Die Co-Ni-Legierung wurde im Vakuum auf der PET-Schicht abgeschieden. Der Grunddruck in dem Gefäß wurde auf 6,66 χ 10~ mbar festgesetzt, und der Druck änderte sich nach der Einleitung von O₂ auf 2,66 χ 10" mbar. Der Einfallswinkel der Abscheidung wurde von 90

kontinuierlich auf 30° vermindert. Der abgeschiedene Film hatte eine Zusammensetzung von Co 80 - Ni 20 (gewichtsmäßig) und eine Dicke von etwa 0,15 um.

Die die Magnetschicht tragende Schicht wurde dann in eine weitere Vakuumkammer eingebracht, die einmal auf ein Vakuum von 1,33 χ 10 mbar evakuiert und dann mit CH. als gasförmigem Kohlenwasserstoff und Ar als Trägergas bei einem Volumenverhältnis von 1:1 beschickt wurde. In dem Gas wurde bei einem Gasdruck von 0,133 mbar durch Anlegen einer Hochfrequenzspannung bei 13,56 MHz und 500 W ein Plasma erzeugt.

W/F'M wurde zu 5 χ 10 errechnet. Auf diese Weise wurde auf der Magnetschicht ein plasmapolymerisierter Film ausgebildet, Dieser hatte eine Dicke von 2,5 χ 10 um und ein C/H-Verhältnis von 2.

Auf diese Weise wurden auf der Magnetschicht eine Reihe von Deckschichten ausgebildet, wie es in Tabelle 1 angegeben ist,

Die Elementaranalyse der Deckschicht wurde mit SIMS durchgeführt, wobei Ionenätzung der Deckschicht mit Argon erfolgte.

Die Proben wurden auf unterschiedliche Eigenschaften untersucht. Die Ergebnisse sind nachfolgend zusammengestellt.

Korrosionsbeständigkeit

Ein Band wurde sowohl zu Beginn als auch nach 3-tätigem Aufbewahren bei 60 C und einer relativen Feuchte von 80 % auf

magnetische Induktion untersucht. Die prozentuale Herab-

2 setzung der magnetischen Induktion (^$m/^m, I) pro m

wurde ermittelt.

Bruchfestigkeit

Die Festigkeit des Bandes an dem Punkt, bei dem durch Verstärkung der Zugkraft Bruch eintrat, wurde gemessen.

Herabsetzung der Endleistung

Ein gebräuchliches VHS-Videodeck wurde mit einem Band beschickt und betrieben. Unter Verwendung eines Signals von 4 MHz wurde die Herabsetzung (dB) der Endleistung nach
50 Durchläufen ermittelt.

Tabelle Plasmapolymerisierte Filme

Probe Quelle W/F«M Dicke Nr. (Joule/kg) ( /um,.

χ' 10~-

Kontakt-C/H winkel mit

Wasser (Grad)

i/4t

Bruchfestig- Verminderung keit _ - der End-(kg/mm )

*) = Vergleichsprobe ohne Deckschicht

leistung (dB)

1	CH₄	5	X	10⁸	1,0	2,0	82	15	4,2	-0,5
2	CH₄	5	X		2,5	2,2	85	18	3,9	-1,0
3	CH₄	2	X	10⁹	3,0	3,2	78	20	3,8	-1,0
4	CH₄	3	X	10⁸	3,5	4,4	92	19	4,2	-0,5 ,
5	CH₄	5	X	10¹⁰	6,0	3,5	84	16	3,8	-8,0 £
6	^C2^H6	1	X	10⁸	2,0	5,0	79	' 14	^.1	-1,0
7	CH₄		X	10⁵	3,0	4,2	105	12	^.5	-0,5
8	CH₄	2	X	10¹³	2,0	0,6	76	38	2,6	-6,0
9	CH₄	5	X	10⁷	1,5	0,8	92	kk	2,3	-12,0
10	CH₄	3	X	10⁸	2,5	1.5	50	35	3,8	-8,0 ;";';
1 1	CH₄		X		3,0	8,5	79	17	4,0	-9,0 ".
12*	—		-	-	-	-	40	2,5	-10,0 ;

Beispiel 2

Eine 10 um dicke Polyethylenterephthalatschicht (PE¹T) wurde entlang einer Kühldose in einem Vakuumgefäß bewegt, in dem eine Co^Ni-Legierung mittels einer Elektronenkanone unter Einleitung von Sauerstoff erhitzt und verdampft wurde. Die Co-Ni-Legierung wurde auf der PET-Schicht abgeschieden. Der Grunddruck in dem Gefäß wurde auf 6,66 χ 10 mbar festgesetzt, und der Druck änderte sich nach der O^-Einleitung auf 2,66 χ 10~ mbar. Der Einfallswinkel des Niederschlages wurde kontinuierlich von 90° auf 30 vermindert. Der abgeschiedene Film hatte eine Zusammensetzung von Co 80 - Ni 20 auf Gewichtsbasis und eine Dicke von 0,15 um.

Die die Magnetschicht tragende Schicht wurde dann in eine weitere Vakuumkammer eingegeben, die einmal auf ein Vakuum von 1,33 χ 10~ mbar evakuiert und dann mit gasförmigem Tetrafluorethylen und CH. als gasförmigem Kohlenwasserstoff und H₉ als Trägergas beschickt wurde. In dem Gas

-3
wurde bei einem Gasdruck von 0,133 χ 10 mbar durch Anlegen einer Hochfrequenzspannung von 13,56 MHz und 1000 W ein Plasma erzeugt. W/F-M errechnete sich zu

q
6 χ 10 . Auf diese Weise wurde auf der Magnetschicht ein plasmapolymerisierter Film ausgebildet. Dieser
(Probe Nr. 24) hatte eine Dicke von 4 χ 10 um, ein C/H-Verhältnis von 3,1 und ein H/F-Verhältnis von 0,7.

Auf diese Weise wurde eine Reihe von Deckschichten auf der Magnetschicht ausgebildet, wie in Tabelle 2 zusammengestellt.

Die Elementaranalyse der Deckschichten wurde durch SIMS durchgeführt, wobei Ionenätzung der Deckschicht mit Argon erfolgte.

Die Proben wurden auf verschiedene Eigenschaften untersucht, wie nachstehend erläutert.

Dynamische Reibung

Der Reibungskoeffizient der Probe wurde bei 20° C und einer relativen Feuchte von 60 I ermittelt.

Korrosionsbeständigkeit

Die prozentuale Herabsetzung der magnetischen Induktion (^(Jm/(pm, I) pro m Methode ermittelt.

, I) pro m wurde nach der in Beispiel 1 beschriebenen

Herabsetzung der Endleistung

Ein gebräuchliches VHS-Videodeck wurde mit einem Band beschickt und betrieben. Unter Verwendung eines Signals von 4 MHz wurde die Herabsetzung (dB) der Endleistung nach 100 Durchläufen ermittelt. Die Herabsetzung der End leistung ist ein Indiz für die Laufeigenschaften.

Tabelle 2 Plasmapolymerisxerte Filme

Quelle

/M Dicke (Joule/ ( /um

c/h h/f

Kontakt-Winkel

Reibungskoeffizient

ΙΟ'³)

mit Wasser (/u)

(Grad)

Verminderung der Endleistung (dB)

21	CH₄₊C₂F₄	3	χ	ίο⁸	1,5	2,8	0,5	116	0,19	8	-1	,2	ι NJ
22	CH₄₊CpF₄	3	X	10⁸	2,5	4,2	0,6	120	0,20	10	-1	,1	I
23	CH₄₊C₂F₄	2	X	ίο¹⁰	3,0	5,1	0,4	121	0,21	12	-O	,9
24	CH₄₊C₂F₄	6	X	ΙΟ⁹	4,0	3,1	0,7	122	0,18	10	-1	,0
25	CH₄₊C₂F₄	2	X	ΙΟ⁹	6,0	3,5	0,7	120	0,23	7	-8
26	C₂H₆₊C₃F₆	5	X	10⁷	2,0	4,1	0,5	122	0,18	9	-O	,8	• !
27	C Hg₊CHF	h	X	10¹¹	2,0	4,7	0,4	128	0,19	11	-1	,0
28	CH₄₊C₂F₄	h	X	ΙΟ¹¹	2,0	3,5	2,0	107	0,48	10	-7
29	CH₄₊C₂F₄	5	X	ΙΟ⁷	2,0	1,0	1,5	106	0,39	25	-11
30	CH₄₊C₂F₄	5	X	ίο⁸	2,0	4,4	0,2	125	0,17	9	-12
31	CH₄₊C₂F₄	5	X	1O²⁺	3,0	2,3	0,4	115	0,20	33	-18		■
32	CH₄₊C₂F₄	2	X	10¹³	3,5	5,7	0,5	118	0,21	45	-19		> ' ',
33	CH₄₊C₂F₄	7	X	10⁷	2,5	3,8	0,4	95	0,53	27	-6		CO. οι ; :
34	CH₄₊CF₄	3	X	10⁸	3,5	9,2	0,4	118	0,20	1 1	-15
35*	-		-		-	-	-	-	0,57	42	-17

*) = Vergleichsprobe ohne Deckschicht

Beispiel 3

Eine 10 um dicke Polyethylenterephthalatschicht (PET) wurde entlang einer Kühldose in einem Vakuumgefäß bewegt, in dem Co-Ni-Legierung mittels einer Elektronenkanone unter Einleitung von Sauerstoff erhitzt und verdampft wurde. Die Co-Ni-Legierung wurde im Vakuum auf der PET-Schicht abge-

schieden. Der Grunddruck in dem Gefäß wurde auf 6,66 χ 10~ mbar festgesetzt und der Druck veränderte sich nach der 0--Einleitung auf 2,66 χ 10 mbar. Der Einfallswinkel des Niederschlages wurde kontinuierlich von 90° auf 30° herabgesetzt. Der abgeschiedene Film hatte eine Zusammensetzung von Co 80 - Ni 20 auf Gewichtsbasis und eine Dicke von etwa 0,15 um.

Die die Magnetschicht tragende Schicht wurde dann in eine weitere Vakuumkammer eingeführt, die einmal auf ein Vakuum von 1,33 χ 10 mbar evakuiert und dann mit gasförmigem Trifluormethan CHF₃ und Ethylen C₂H₄ als Kohlenwasserstoff und H₉ als Trägergas beschickt wurde. In dem Gas wurde bei einem Gasdruck von 0,066 mbar durch Anlegen einer Hochfrequenzspannung bei 13,56 MHz und 750 W ein Plasma er-

zeugt. W/F*M errechnete sich zu 9 χ 10 . Auf diese Weise wurde ein plasmapolymerisierter Film auf der Magnetschicht ausgebildet. Dieser hatte eine Dicke von 1,5 χ 10 um, ein C/H-Verhältnis von 3,5 und ein F/H-Verhältnis von 2,2. Das F/H-Atomverhältnis der Deckschicht (Probe Nr. 41) war an ihrer Oberfläche 2,1-mal größer als an einem Niveau von einem Drittel ihrer Gesamtdicke von ihrer dem ferromagnetischen metallischen Dünnfilm zugekehrten Oberfläche aus.

Auf diese Weise wurde auf der Magnetschicht eine Reihe von Deckschichten ausgebildet, wie in Tabelle 3 angegeben.

Die Elementaranalysen der Deckschichten wurden durch SIMS durchgeführt, wobei Ionenätzung der Deckschicht mit Argon erfolgte.

Korrosionsbeständigkeit

Die prozentuale Herabsetzung der magnetischen Induktion (Afm/ijm, %) pro
Weise ermittelt.

%) pro m wurde auf die in Beispiel 1 erläuterte

Verschmieren

Ein gebräuchliches VHS-Videodeck wurde mit einem Band, das eine einer Aufzeichnungszeit von 30 Minuten entsprechende Länge hatte, beschickt und betrieben. Die Anzahl der Verschmierungen pro 10 Durchläufe wurden gemessen.

Tabelle 3
Plasmapolymerisierte Filme

Probe

Nr.

Quelle

W/F.M Dicke (Joule/ (/um, kg)

/um,

■-³)

χ 10

Ο/Η Γ/Η Gradient Kontakt-
** winkel

mit Wasser (Grad)

Verschmieren

41	• C₂H₆₊CHF₃	9	χ	10⁸	1,5	3,5	2,2	2,1	122	1 1	0
42	C₂H₆₊CHF₃	1	χ	10⁹	2,0	4,0	2,0	2,5	119	12	0
43	C₂H₆₊CHF₃	2	X	10¹⁰	2,5	4,4	1,9	2,6	118	13	1
44	C₂H₆₊CHF₃	6	X	1C⁵	3,5	4,2	1,5	2,0	120	29	0
45	C₂H₆₊CHF₃	7	χ	10⁷	5,5	3,8	1,7	1,7	116	8	7
46	CH₄₊CF₄	4	χ	10⁸	2,5	^,1	2,2	1,7	119	11	1
47	C₂H₂₊C₃F₆	3	X	10⁹	2,0	3,9	1,6	1,6	120	13	0
48	C₂H₆₊CHF₃	2	X	10⁸	2,0	3,5	1,6	1,0	121	1 1	8
49	C₂H₆₊CHF₃	5	X	10⁸	3,5	1.1	1,2	1,6	116	22	3
50	C H₆₊CHF	3	X	10¹³	2,5	3,4	1,6	1,7	115	47	5
51*			«■		—	Mi	—	«·	—	42	α»

Vergleichsprobe ohne Deckschicht

f/H an der Oberfläche der Deckschicht, dividiert durch P/H bei einem
Drittel der Deckschichthöhe von der dem Metalldünnfilm zugekehrten
Oberfltioho »us

CJl CO CD

Claims

Ansprüche

Magnetaufzeichnungsmedium, bestehend aus einem Träger, einem auf diesem ausgebildeten ferromagnetischen metallischen Dünnfilm und einer auf dem Dünnfilm ausgebildeten Deckschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht aus einem plasmapolymerisierten Film besteht, der Kohlenstoff und Wasserstoff bei einem Atomverhältnis von Kohlenstoff zu Wasserstoff von 1 bis 6 enthält, wobei der polymerisierte Film eine Dicke von 1 χ 10~ bis 4 χ 10 um und einen Kontaktwinkel mit Wasser im Bereich von 60° bis 130° hat.
2. Magnetaufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Wasserstoff teilweise durch Fluor ersetzt ist in dem Maß, daß das Atomverhältnis von Kohlenstoff zu Wasserstoff 2 bis 8 und das Atomverhältnis von Fluor zu Wasserstoff 1,0 bis 3,0 beträgt, und daß der polymerisierte Film einen Kontaktwinkel mit Wasser im Bereich von 100° bis 150° hat.

MÜNCHEN: TELEFON (Ο89) 2255Θ5 KABEL: PROPINDUS · TELEX! 524244

BERLIN: TELEFON (O3O) Θ312Ο8Θ KABEL: PROPlNDUS · TELEX: 1 B4O57
3. Magnetaufzeichnungsmedium nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Atomverhäitnis von Fluor zu Wasserstoff an der Oberfläche der Deckschicht um mindestens das 1,5-fache größer ist als an einem Niveau der Deckschicht, das ein Drittel ihrer Gesamthöhe von der Fläche, die dem ferromagnetischen metallischen Dünnfilm zugekehrt ist, entfernt ist.
4. Magnetaufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der plasmapolymerisierte Film durch Eingeben eines gasförmigen Reaktionsmittels in eine Plasmazone erzeugt wird, wobei W/F-M auf 10⁷ bis 10¹² Joule/kg festgesetzt ist, wobei W die für die Plasmabildung zugeführte Energie, F die Strömungsgeschwindigkeit des gasförmigen Reaktionsmittels und M das Molekulargeitficht des gasförmigen Reaktionsmittels ist.
5. Magnetaufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der ferromagnetische metallische Dünnfilm ein Metalldünnfilm auf Kobaltbasis ist.
6. Magnetaufzeichnungsmedium nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der ferromagnetische metallische Dünnfilm Sauerstoff enthält.