DE3532866A1 - Verfahren zur herstellung von elektroden - Google Patents
Verfahren zur herstellung von elektrodenInfo
- Publication number
- DE3532866A1 DE3532866A1 DE19853532866 DE3532866A DE3532866A1 DE 3532866 A1 DE3532866 A1 DE 3532866A1 DE 19853532866 DE19853532866 DE 19853532866 DE 3532866 A DE3532866 A DE 3532866A DE 3532866 A1 DE3532866 A1 DE 3532866A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- nickel
- bath
- deposition
- iron
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
- C23C18/34—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von
Elektroden bestehend aus einem elektrisch leitenden Grundkörper und einer
darauf aufgebrachten elektrochemisch aktiven Nickelschicht, die z. B. als
H2-erzeugende Kathode in Elektrolyseverfahren insbesondere in der Chloralkalielektrolyse
eingesetzt werden können.
Bei der Elektrolyse wäßriger Alkalichloridlösungen werden heute im allgemeinen
beim Diaphragmaverfahren Eisenkathoden und beim Membranverfahren
Nickelkathoden eingesetzt, an denen sich der Wasserstoff abscheidet. Die
Verwendung von Nickelkathoden ist beim Membranverfahren aus dem Grund
vorzuziehen, weil hier größere Anforderungen an die Reinheit des Elektrolyts
gestellt werden. Befindet sich eine Kathode im stromlosen Zustand,
so findet beim Eisen immer eine Korrosion statt; diese führt zur Abscheidung
von Eisenhydroxid, welches sich auf der Membran als unerwünschter
Niederschlag festsetzen kann. Dieser Niederschlag verursacht dann eine
deutliche Verschlechterung der Membraneigenschaften, die im wesentlichen
zu einer Erhöhung des Energieverbrauchs durch Zerstörung der Membran
führt.
Die Verwendung von Nickelkathoden ist aber auch mit einem weiteren wichtigen
Vorteil verbunden. Bei einem Elektrolyseverfahren ist der Energieverbrauch
ein zentraler wirtschaftlicher Faktor. Verwendet man nun anstelle
von Eisen Nickel als Kathodenmaterial zur H2-Abscheidung, so wird
die zur Elektrolyse erforderliche Zellspannung erniedrigt, da das Wasserstoffabscheidepotential
an Nickel deutlich niedriger liegt als an Eisen.
Somit wird zur Durchführung der Elektrolyse bei Verwendung von Nickelkathoden
wesentlich weniger Energie verbraucht.
Nachteilig ist dabei der deutlich höhere Preis des Nickels im Vergleich
zum Eisen. Man hat daher immer nach Möglichkeiten gesucht, Eisenkathoden
mit einem preiswerten Überzug aus Nickel zu versehen, um die Vorteile des
billigen Eisengrundkörpers mit dem niedrigen Wasserstoffabscheidepotential
des Nickels zu verbinden.
So beschreibt z. B. die DE-A-32 18 429 eine Beschichtung, die mit Hilfe
der Plasmaspritztechnik erfolgt. Dabei wird zuerst eine Schicht aus reinem
Nickel aufgespritzt, die anschließend mit einem Nickel/Aluminium- bzw.
Nickel/Zink-Gemisch beschichtet wird. Durch Auslaugen des Al bzw. Zn
soll sogenanntes Raney-Nickel entstehen, wie es als Hydrierkatalysator
aus der organischen Chemie bekannt ist. Problematisch bei diesem Beschichtungsverfahren
bleibt die Restporosität plasmagespritzter Schichten.
Diese Restporosität ist, wie beim thermischen Spritzen allgemein bekannt,
verfahrensbedingt und nicht zu umgehen. Hieraus resultiert eine
entsprechende Korrosionsanfälligkeit, wenn der Elektrodengrundkörper in
der Elektrolysezelle nicht kathodisch belastet oder nicht in Inertgasatmosphäre
gelagert wird.
Darüber hinaus stellt das Plasmaspritzen ein sehr aufwendiges Verfahren
dar, weil beim Beschichtungsvorgang entweder mit der Plasmaspritzpistole
oder der oft tonnenschweren Kathode ein komplizierter Bewegungsablauf
durchgeführt werden muß. Nicht zuletzt ist das Plasmaspritzverfahren aufgrund
der umfangreichen aber notwendigen Verwendung von Edelgas eine relativ
teuere Beschichtungsmethode.
In einem zusätzlichen Arbeitsvorgang muß aus dieser Spritzschicht das Aluminium
bzw. Zink herausgelöst werden. Bei Aufbewahrung an der Luft besteht
dann die Gefahr, daß durch Oxidation die Reaktivität und Struktur des
Raney-Nickels verändert wird; ein Tatbestand, der aus der organischen
Chemie bekannt ist, wo Raney-Nickel üblicherweise in nichtwäßrigen Lösungsmitteln
zur Konservierung der Aktivität aufbewahrt wird. Beim
Herauslösen der Aluminium- bzw. Zinkkomponenten werden außerdem zusätzliche
durchgehende Poren geschaffen, die die oben angesprochene Korrosionsanfälligkeit
noch verstärken.
Gemäß der US-C-43 02 322 wird eine Aktivschicht elektrolytisch auf dem
Elektrodengrundkörper abgeschieden. Zur Erzeugung einer besonders reaktiven
Elektrodenoberfläche werden dabei Partikel aus Nickel-Aluminium-Legierung
in die elektrolytisch abgeschiedene Schicht eingebaut. Diese Partikel
in der Schicht werden dann durch Herauslösen der zulegierten Komponenten
z. B. Al aktiviert, wie dies auch in der oben zitierten
DE-A-32 18 429 beschrieben ist.
Wie aus der Galvanotechnik bekannt, ist die gleichmäßige elektrochemische
Beschichtung kompliziert geformter Elektrodenkörper problematisch. Erschwerend
kommt bei diesem Verfahren hinzu, daß die aktiven Partikel dispergiert
und die Konvektion durch Einblasen von Gas genau kontrolliert
werden muß.
Weiterhin von Nachteil ist, daß elektrolytisch abgeschiedene Schichten
meistens in weiten Bereichen eine kristalline Struktur aufweisen. Dies
ist zur Erzeugung reaktiver Oberflächen, wie z. B. bei Raney-Nickel gefordert,
nicht erwünscht. Vielmehr werden die reaktivsten Oberflächen
durch amorphe Strukturen erzielt.
Mit den gleichen Nachteilen ist das in DE-A-31 32 269 beschriebene Verfahren
behaftet, bei dem Kohlenstoffpartikel in die elektrolytisch abgeschiedene
Schicht eingebaut werden, wobei zwecks weiterer Erhöhung der
katalytischen Aktivität noch ein Zusatz von Platin, Rhodium, Iridium oder
Palladium empfohlen wird.
In der DE-A-30 47 636 wird eine Aktivschicht beansprucht, die aus verschiedenen
Metallkomponenten und einem auslaugbaren Metall oder Metalloxidzusatz
besteht. Diese Schichten werden elektrolytisch auf den Kathodengrundkörper
aufgebracht. Dies bringt naturgemäß die gleichen Probleme
bezüglich der Abscheidung, wie bei dem in der US 43 02 322 beschriebenen
Verfahren mit sich.
In der DE-B-26 30 398 wird neben verschiedenen anderen Möglichkeiten vorgeschlagen,
mindestens eine Oberfläche der Elektrode aus einer Metallegierung
mit niedriger Wasserstoffüberspannung herzustellen. Hier sollen
Nickel, Cobalt oder Eisen mit Titan, Molybdän, Wolfram, Magnesium, Niob
oder Tantal legiert und in nichtstöchiometrischer Weise gebunden sein.
Die Herstellung erfolgt im wesentlichen durch Schmelzen oder Sintern der
Komponenten in den entsprechenden Mengenverhältnissen. Das Aufbringen der
Legierung auf den Kathodenkörper geschieht dann durch Plasmaspritzen,
Kathodenzerstäubung, Vakuumaufdampfung oder Sprengplattierung des entsprechenden
Pulvergemisches. Die Komponenten können aber auch elektrolytisch
oder durch Zersetzung von Salzen der Elemente abgeschieden werden.
Danach wird gegebenenfalls die abgelagerte Schicht noch einer Wärmebehandlung
in neutraler oder reduzierender Atmosphäre unterworfen.
Die prinzipiellen Nachteile des Plasmaspritzens (Porosität) und der elektrolytischen
Abscheidung (kristalline Strukturen) sind bereits beschreiben
worden; bei den anderen Verfahren muß hoher technischer Aufwand mit
hohen Kosten betrieben werden. Im Falle der Kathodenzerstäubung oder Vakuumbedampfung
ist sogar äußerst zweifelhaft, ob eine Beschichtung der
heute verwendeten großen Kathodenkörper (3 bis 4 m3 Volumen, Gewicht mehrere
Tonnen) technisch überhaupt möglich ist, da die entsprechenden Einrichtungen
noch entwickelt werden müssen.
Es ist ferner in der Galvanotechnik bekannt, metallische Werkstoffe
stromlos zu vernickeln, hauptsächlich für den Korrosions- und Verschleißschutz
neuer Maschinen- und Apparateteile. Diese stromlosen Vernickelungsverfahren
basieren auf einer Reduktion der in einem Band enthaltenen
Nickelionen, in das der zu vernickelnde Körper eingetaucht wird, mit
einem Reduktionsmittel (galvanische und stromlose Dickvernickelung
- Firmenschrift der International Nickel Ltd., 1962).
Diese wäßrigen Badlösungen enthalten neben den Nickel-Ionen liefernden
Verbindungen und den Reduktionsmitteln ebenfalls in gelöster Form Puffersubstanzen,
Komplexbildner, Beschleuniger und Stabilisatoren sowie gegebenenfalls
Katalysatoren. Die Vernickelung erfolgt bei Temperaturen von
50 bis 95°C. Die bei der stromlosen Vernickelung zum Zwecke des Korrosionsschutzes
hergestellten Schichten sind aber nicht z. B. für die Vernickelung
von Grundkörpern im Rahmen der Herstellung von Elektroden geeignet,
da bei diesen Schichten andere Anforderungen, z. B. bezüglich der
elektrochemisch-katalytischen Aktivität, im Gegensatz zu Oberflächenglanz,
Oberflächenhärte und dgl., gestellt werden.
In der DE-OS 27 06 577 ist daher ein Verfahren zur Herstellung eines mit
einer Nickelbeschichtung versehenen Grundkörpers aus Stahl beschrieben,
der als Kathode für die Chloralkali-Elektrolyse eingesetzt wird. Die Abscheidung
erfolgt aus einem wäßrigen Nickel-II-Salzbad, das ein Reduktionsmittel,
z. B. Natriumhypophosfit, Natriumborhydrid, Natriumdithionit
oder insbesondere Hydrazinhydrat enthält. Die Bäder enthalten ferner
Komplexbildner wie Ammoniak, Ethylendiamin, Zitronensäure oder Glykolsäure.
Die Abscheidetemperaturen liegen etwas niedriger als bei den oben
beschriebenen Verfahren der Galvanotechnik und zwar bei 20 bis 70°C,
wobei
Temperaturen von 30 bis 40°C bevorzugt werden. Über die mengenmäßige
Zusammensetzung der Bäder ist lediglich ausgesagt, daß sie einen Gehalt
an Nickelsalzen von 10 bis 40 g/l, einen Gehalt an Reduktionsmitteln von
2 bis 5 g/l aufweisen sollen, wobei das Bad eine 2 bis 20%ige Lösung des
Komplexbildners darstellen soll. Die in der DE-OS für die Herstellung von
vernickelten Elektroden Arbeitsweise unterscheidet sich
ferner von dem in der Galvanotechnik gebräuchlichen Verfahren u. a. dadurch,
daß die Bäder keine Stabilisatoren enthalten. Diese Stabilisatoren
sollen eine unerwünschte Zersetzung des Bades verhindern. Auf der anderen
Seite stellen diese Stabilisatoren, z. B. Thalliumsulfat, Thalliumnitrat,
Kaliumhydrogensulfid, Thiodiglycolsäure, Blei-II-chlorid, Mercaptobenzothiazol,
Cystin u. a. Kontaktgifte dar, wodurch die elektrokatalytische
Aktivität der Nickelschicht negativ beeinflußt wird. Aus diesem Grunde
können Stabilisatoren bei der Herstellung von Elektroden durch stromlose
Abscheidung nicht eingesetzt werden, was andererseits zur Folge hat, daß
sich solche Bäder leicht zersetzen, somit die Abscheidung des Nickels
mehr oder weniger unkontrolliert verläuft und damit die Eigenschaften der
herzustellenden Elektroden nicht eindeutig in wünschenswerter Weise
reproduziert werden können.
Der vorliegenden Erfindung lag daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren
zur Herstellung von Elektroden bereitzustellen, bestehend aus einem
elektrisch leitenden Grundkörper mit einer darauf abgeschiedenen elektrochemisch
aktiven Nickelschicht, die durch stromlose Abscheidung aus einem
Nickel(II)-salze und Komplexbildner enthaltenden Bad durch Reduktion mit
Natriumboranat erhalten worden ist, bei dem einerseits elektrochemisch
aktive Elektroden in reproduzierbarer Weise erhalten werden und andererseits
eine unerwünschte Zersetzung des Bades während der Abscheidung
weitgehend vermieden wird.
Es wurde gefunden, daß diese Aufgabe dadurch gelöst werden kann, daß das
Bad ein Molverhältnis von Komplexbildner : Nickelsalz von 80 bis 200, ein
Molverhältnis von Natriumboranat : Nickelsalz von 0,7 bis 4,0 und einen
Gehalt von Hydroxiden, die stärker basisch sind als Ammoniak, von 10 bis
400 mMol/l und einen Gehalt an Nickelsalzen von 10 bis 80 mMol/l aufweist.
Die erfindungsgemäßen Bäder enthalten einen hohen Überschuß an Komplexbildnern
entsprechend einem Molverhältnis von Komplexbildner : Nickelsalz
von 80 - 200. Besonders bevorzugter Komplexbildner ist Ammoniak, jedoch
sind auch andere bekannte Komplexbildner wie Zitronensäure, Amine und
dergleichen geeignet.
Durch den hohen Gehalt an Komplexbildnern im Vergleich zu den im Bad enthaltenen
Nickelionen wird die Konzentration an freien Nickelionen im Bad
entsprechend den Gleichgewichten
Ni(OH)2 + 4 NH4OH ⇄ [Ni(NH3)4]2+ + 2 OH-+ 4 H2O
[Ni(NH3)4]2+ + NH4OH ⇄ [Ni(NH3)5]2++ H2O
[Ni(NH3)5]2+ + NH4OH ⇄ [Ni(NH3)6]2++ H2O
[Ni(NH3)4]2+ + NH4OH ⇄ [Ni(NH3)5]2++ H2O
[Ni(NH3)5]2+ + NH4OH ⇄ [Ni(NH3)6]2++ H2O
gering gehalten. Durch den hohen Komplexierungsgrad wird eine ausreichende
Stabilisierung des Bades erzielt. Auf der anderen Seite führt die Verringerung
an Nickelionen zu geringeren Abscheidegeschwindigkeiten, die
überraschenderweise durch den erfindungsgemäßen Zusatz an Hydroxiden, die
stärker basisch sind als Ammoniak gesteigert werden kann. Durch den
Hydroxidzusatz wird darüber hinaus die Stabilität des Bades weiter gesteigert
und eine unerwünschte Zersetzung des Bades praktisch unterbunden.
Als Hydroxide kommen vor allem die Hydroxide des Natriums und Kaliums in
Betracht, aber auch die Hydroxide der Erdalkalimetalle sind geeignet. Die
Hydroxidkonzentration im Bad soll 10 bis 400 mMol/l betragen.
Weiteres wesentliches Kennzeichen des erfindungsgemäßen Verfahrens ist
ein hohes Molverhältnis Natriumboranat zu Nickelsalz im Bad. Durch dieses
hohe Molverhältnis wird offenbar eine besondere Oberflächenstruktur der
abgeschiedenen Nickelschicht erzeugt, auf die ein besonders niedriges
Wasserstoffabscheidepotential von unter 1100 mV zurückzuführen ist, das
sogar niedriger als das Wasserstoffscheidepotential des reinen Nickels
liegt, das, selbst wenn dessen Oberfläche z. B. durch Sandstrahlen künstlich
vergrößert worden ist, bei 1280 bis 1300 mV liegt.
Die Nickelabscheidung kann durch folgende Summengleichung charakterisiert
werden:
NaBH4 + 4 NiCl2 + 8 NaOh → 4 Ni + NaBO2+ 8 NaCl + 6 H2O.
Über die dabei ablaufenden Einzelreaktionen ist noch nichts bekannt.
Neben dieser Reaktion wird aber neben Nickel auch Bor abgeschieden,
vermutlich als Ni3B, Ni2B oder auch als elementares Bor. Oberflächenanalytische
Untersuchungen konnten dafür keine exakte Differenzierung,
jedoch eindeutige Hinweise auf derartige Verbindungen geben. Es ist aber
bekannt, daß in unerwünschten Nebenreaktionen, wie z. B.
2 NaBH4 + 4 NiCl2 + 6 NaOH → 8 NaCl + 6 H2O + H2+ 2Ni2B
Nickelboride bei der stromlosen Vernickelung gebildet werden können. Wie
aus der Gleichung hervorgeht, wird eine derartige Nebenreaktion besonders
bei höheren Boranatkonzentrationen (wie sie bei der erfindungsgemäßen Beschichtung
vorliegt und auch aufgrund des hohen Komplexierungsgrades von
Ni2+ durch große NH3-Überschüsse ohne Eigenzersetzung der Lösung möglich
ist), in verstärktem Maß ablaufen, d. h. die Oxidation des Bors erfolgt
teilweise nicht mehr vollständig zum BO2- (B3+), sondern nur bis maximal
zum Bo. Hierdurch ist auch der Einbau von Bor in die Nickelschicht begünstigt,
der Borgehalt beträgt je nach Reaktionsführung 6 - 30 Gew.-%.
Die unter den erfindungsgemäßen Bedingungen erzeugte Nickelschicht ist
röntgenamorph, was sich offenbar günstig auf die Erzielung einer hohen
Aktivität auswirkt.
Als Nickelsalze kommen Salze in Betracht, deren Anion nicht mit dem Natriumboranat
reagiert. Vor allem ist Nickelchlorid oder Nickelsulfat
geeignet. Die Nickelsalze sollen zweckmäßig in solchen Mengen eingesetzt
werden, daß das Bad von 10 bis 80 mMol/l Nickelsalz enthält.
Die Temperaturen während der Beschichtung werden zweckmäßig unter 30°C
gehalten, vorzugsweise arbeitet man bei Temperaturen von 20 bis 25°C.
Es ist ferner vorteilhaft, ein bestimmtes Verhältnis von Oberfläche des
zu beschichtenden Grundkörpers zum Volumen des Beschichtungsbades einzuhalten.
Dieses Verhältnis sollte ≦λτ 500 cm2/l Badlösung sein.
Es hat sich ferner zur Erzielung eines niedrigen Abscheidepotentials als
günstig erwiesen, die Beschichtung der Grundkörper in einem ruhenden Bad
vorzunehmen, d. h. daß keine Relativbewegung zwischen zu beschichteten
Grundkörper und Flüssigkeit stattfindet.
Unter den erfindungsgemäßen Bedingungen erfolgt ein langsames Schichtenwachstum
von etwa 0,05 - 1,0 µm/h.
Wegen der Zusammensetzung des Bades kann es unter Umständen zu Verzögerungen
beim Start der Beschichtungsreaktion kommen. Um ein sicheres Anspringen
der Reaktion zu gewährleisten, kann man dem Bad Metallionen in
geringen Mengen zusetzen, z. B. Salze des Cobalts, Aluminiums, Zinks,
Chroms, Kupfer, Palladiums, Platins und dergl.. Der Gehalt an diesen
Zusätzen sollte im Bereich von 500 ppb - 50 ppm gewählt werden.
Als Grundkörper eignen sich grundsätzlich Körper aus elektrisch leitenden
Materialien. Im wesentlichen kommen vor allem Eisen bzw. eisenhaltige
Legierungen, Stahl, aber auch Graphit oder auch Nickel selbst in
Betracht.
Die amorphen erfindungsgemäßen aktiven Nickelschichten passivieren sich
erwartungsgemäß wegen ihrer amorphen Struktur leicht, d. h. sie überziehen
sich bei Einwirkung von Luftsauerstoff oder von in wäßrigem Medium gelöstem
Sauerstoff leicht mit einer Oxidhaut. Überraschenderweise zeigt
sich jedoch, daß die Inaktivierung der erfindungsgemäß abgeschiedenen
Nickelschicht - im Gegensatz z. B. zu anderen Nickelschichten, die durch
Herauslösen einer Komponente entstanden sind, wieder ihre voll katalytische
Aktivität entfallen, wenn sie z. B. als Kathode in der Chloralkali-Elektrolyse
eingesetzt werden, was sich durch eine starke Verringerung
des Wasserstoff-Abscheidepotentials bemerkbar macht.
Durch den speziellen strukturellen Aufbau und vor allen Dingen durch die
eingelagerten Borkomponenten erfolgt die Aktivierung des Katalysators
folgendermaßen:
Bei Anlegen eines negativen Potentials, wie es zur elektrolytischen Erzeugung
von Wasserstoff notwendig ist, werden die entsprechenden Borkomponenten
reduziert und gehen in Lösung bzw. entweichen mit dem Wasserstoff.
Hierdurch werden amorphe, hochreaktive Nickelschichten freigelegt,
die eine außerordentlich niedrige Wasserstoffüberspannung besitzen. Da
die Elektrolysereaktion immer nur in den obersten Aktivschichten abläuft,
werden die darunter liegenden Borkomponenten erst dann wieder freigelegt,
wenn die "arbeitenden" reaktiven Aktivschichten durch den natürlichen
Verschleiß im Verlauf der Elektrolyse entsprechend weit abgetragen sind.
Dann werden wieder Borkomponenten freigesetzt, hierdurch neue amorphe,
reaktive Schichten freigelegt usw. Dabei muß man sich vorstellen, daß
dieser Vorgang nicht stufenweise, sondern kontinuierlich erfolgt.
Die Funktionsweise des Elektrokatalysators konnte durch entsprechende
oberflächenanalytische Untersuchungen (Auger-Elektronenspektroskopie)
eindeutig bewiesen werden. Dabei hat sich auch gezeigt, daß sich diese
Mechanismen in Oberflächenschichten von wenigen Angström Dicke abspielen.
Dies erklärt auch die hohe Lebensdauer der sehr dünnen Aktivschichten.
Damit zusammenhängend ergibt sich ein weiterer Vorteil der erfindungsgemäß
hergestellten Elektroden. Versetzt man nämlich eine Elektrode in
den stromlosen Zustand, so passiviert sie sich oberflächlich; diese
Passivierung schadet ihr aber nicht, da sie nach einer kurzen Formierungsphase
nach der Wiederinbetriebnahme ihre alte katalytische Aktivität
wiedererlangt. Ein weiterer Vorteil ergibt sich dadurch, daß die erfindungsgemäß
abgeschiedenen Nickelschichten weitgehend porenfrei sind. Dies
bedeutet, daß der darunterliegende Grundkörper vor Korrosionsangriffen
geschützt ist und sich keine Lokalemente bilden können, solang die
Aktivschicht noch nicht verbraucht ist. Auch das Einbrennen eines Diaphragmas
beeinträchtigt aus den gleichen Gründen die Aktivität der erfindungsgemäß
aufgebrachten Aktivschicht nicht.
Die in den folgenden Beispielen gemessenen Wasserstoff-Abscheidepotentiale
sind bei einer Stromdichte von 1,5 kA/m2 und 20°C gegen die Wasserstoff-Normalelektrode
bestimmt worden.
a) Ein Eisengitter (ST 12/03) mit den Abmessungen 1 × 12 cm und einer
Oberfläche von 48,6 cm2 wird mit 30 gew.%iger Salzsäure gereinigt,
mit Stickstoff trockengeblasen. Anschließend wird das Gitter in 91 ml
eines nicht bewegten Bades getaucht. (Oberflächen-Volumenverhältnis
[cm2/l] 534), dessen Temperatur 20°C beträgt und das folgende Zusammensetzung
aufweist:
0,75 g NiCl2 . 6 H2O (0,003 Mol)
0,13 g NaBH4 (0,003 Mol)
660 mg NaOH (181.mMol/l)
25 ml 25 Gew.% NH3 (0,37 Mol)
66 ml H2O
0,13 g NaBH4 (0,003 Mol)
660 mg NaOH (181.mMol/l)
25 ml 25 Gew.% NH3 (0,37 Mol)
66 ml H2O
Das Molverhältnis Komplexbildner : Nickelsalz beträgt ca. 123 und das
Molverhältnis Natriumboranat : Nickelsalz ca. 1,0.
Nach 20 Stunden wird das Gitter dem Bad entnommen, mit Wasser gewaschen
und das Wasserstoff-Abscheidepotential zu 1075 mV bestimmt.
b) Drei Eisengitter (ST 12/03) mit einer Fläche von jeweils 240 cm2
werden wie in Beispiel 1a) beschrieben beschichtet, 24 Stunden lang
in 10 gew.%iger Natronlauge getaucht und nach Auflegen eines Diaphragmas
aus Asbest dieses 1,5 Stunden lang bei einer Temperatur von
350°C eingebrannt.
Die so hergestellten Kathoden werden in Laborzellen eingebaut und
145 Tage lang bei einer Stromdichte von 1,5 kA/m2 kontinuierlich
getestet. Während der Versuchsdauer ist keine Erhöhung der Zellenspannung
festzustellen:
Zellspannung bei Versuchsbeginn: 3,06 V
Zellspannung bei Versuchsende: 3,05 V.
Zellspannung bei Versuchsende: 3,05 V.
Die Dicke der Aktivschicht bei Versuchsanfang beträgt 2,5 ≈ 3 µm. Die
Bestimmung der Nickelkonzentration in der Diaphragmenlauge liefert
Werte, die unterhalb der Analysengenauigkeit (≦ωτ 100 ppb) liegen und
auch der optische Befund nach Ausbau der Kathoden zeigt keinen merklichen
Nickel-Abtrag.
c) Ein Eisengitter, (ST 12/03) das gemäß Beispiel 1a) beschichtet worden
ist und anschließend wie in Beispiel 1b) beschrieben 24 Stunden lang
in 10 gew.%iger Natronlauge aufbewahrt worden ist und anschließend
ohne Aufbringen eines Asbestdiaphragmas 1,5 Stunden lang bei 350°C
behandelt worden ist, zeigt nach einstündiger kathodischer Belastung
bei 2 kA/m2 einen Wert für das H2-Abscheidepotential von 1080 mV.
d) Bei einem Eisengitter (ST 12/03), das wie in Beispiel 1a beschrieben
beschichtet worden ist, wird direkt anschließend an die Beschichtung
das H2-Abschneidepotential bestimmt. Daran anschließend wird die
Kathode in einer Lösung, die 10 Gew.-% NaOH und 1 Gew.-% NaCl enthält,
aufbewahrt und nach verschiedenen Zeitabständen das Potential
erneut bestimmt:
H2-Abscheidepotentialnach Beschichtung1060 mVnach 1 d Aufbewahrung1080 mVnach 2 d Aufbewahrung1140 mVnach 3 d Aufbewahrung1180 mVnach 9 d Aufbewahrung1300 mVnach 13 d Aufbewahrung 1310 mV
Nach Versuchsende wird die Elektrode mit 2 kA/m2 kathodisch belastet
und nach verschiedenen Zeitabständen das H2-Abscheidepotential erneut
bestimmt:
H2-Abscheidepotential nach 30 min 1180 mV
H2-Abschneidepotential nach 90 min1130 mV
H2-Abscheidepotential nach 150 min1100 mV
H2-Abschneidepotential nach 90 min1130 mV
H2-Abscheidepotential nach 150 min1100 mV
e) Je ein sandgestrahtes, poliertes und unbehandeltes Nickelblech wird
mit Aceton entfettet, 5 Minuten lang in konz. HCl gebeizt, mit Stickstoff
trockengeblasen und dann wie in Beispiel 1a beschrieben stromlos
mit einer Nickelschicht beschichtet. In der folgenden Tabelle
sind die H2-Abscheidepotentiale denjenigen Potentialen gegenübergestellt,
die bei nicht beschichteten, aber analog vorbehandelten
Nickelblechen erhalten werden:
Aus den Beispielen 1a) und 1e) ist zu ersehen, daß das H2-Abscheidepotential
der erfindungsgemäß beschichteten Kathoden mit etwa
1060-1075 mV deutlich unter dem Abscheidepotential des Nickels liegt,
das je nach Vorbehandlung, gemäß Beispiel 1e) 1300 bzw. 1525 mV beträgt.
Beispiel 1d) zeigt, daß das Abscheidepotential einer erfindungsgemäß
beschichteten Kathode nach der Aufbewahrung in salzhaltiger Lauge mit
zunehmender Zeit stark ansteigt, daß aber nach kathodischer Belastung
wieder das Anfangspotential annähernd erreicht werden kann. Dieser
Sachverhalt ist auch dem Beispiel 1e) zu entnehmen, das als Parallelbeispiel
zu Beispiel 1b) aufgenommen ist, da bei der hier beschriebenen
Kathode wegen des aufgebrachten Diaphragmas die H2-Abscheidespannung
nicht gemessen werden kann.
Ein Eisengitter (ST 12/03) mit den Abmessungen 11,5 × 1,5 cm (Oberfläche
65,6 cm2) wird mit 30 gew.%iger Salzsäure abgebeizt, dann mit Stickstoff
trockengeblasen und wie in Beispiel 2 der DE-OS 27 06 577 beschrieben mit
einer Nickelschicht versehen. Hierzu wird das Gitter in ein 30°C warmes
Bad folgender Zusammensetzung 5 Stunden lang eingetaucht:
18 g NiCl2 (0,138 Mol)
800 ml Wasser
300 ml 25%iges NH3 (4,4 Mol)
30 g Hydrazinhydrat (0,6 Mol).
800 ml Wasser
300 ml 25%iges NH3 (4,4 Mol)
30 g Hydrazinhydrat (0,6 Mol).
Daraus resultiert ein Molverhältnis Komplexbildner : Nickelsalz von 31,96
und ein Molverhältnis Reduktionsmittel zu Nickelsalz von 4,34 bei einem
Oberflächen (Elektrode cm2)-Volumen (Bad)-Verhältnis von 59,6 cm2/l
Nach Beendigung der Beschichtung wird die Kathode mit Wasser gespült und
das H2-Abscheidepotential zu 1290 mV bestimmt.
Ein Eisengitter (ST 12/03) mit den Abmessungen 11,5 × 1,5 (Oberfläche
65,6 cm2) wird wie in Vergleichsbeispiel 1 beschrieben vorbehandelt und
dann entsprechend Beispiel 1 der DE-OS 27 06 577 bei 28°C 5 Stunden lang
in ein Bad getaucht, das folgende Zusammensetzung aufweist.
18 g NiCl2 (0,14 Mol)
450 ml 25%iger NH3 (6,0 Mol)
3 g NaBH4 (0,08 Mol)
800 ml Wasser.
450 ml 25%iger NH3 (6,0 Mol)
3 g NaBH4 (0,08 Mol)
800 ml Wasser.
Daraus resultiert ein Molverhältnis Komplexbildner : Nickelsalz von 43,47
und ein Molverhältnis Reduktionsmittel : Nickelsalz von 0,57 bei einem
Oberflächen (Elektrode cm2)-Volumen (Bad/)-Verhältnis von 52,4 cm2/l
Nach dem Beschichten wird die Kathode mit Wasser gespült und das Abscheidepotential
zu 1285 mV bestimmt.
Aus den beiden Vergleichsbeispielen ist zu ersehen, daß bei einer stromlosen
Beschichtung nach dem Stand der Technik nur Potentiale erreicht
werden, die dem Abscheidepotential des Nickels entsprechen (1300 mV),
während Kathoden, die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren mit einer
Nickel-Schicht versehen worden sind, ein um etwa 200 mV niedrigeres Abscheidepotential
aufweisen.
Je ein Eisengitter (ST 12/03) mit den Abmessungen 1 × 12 cm (Oberfläche
48,6 cm2) wird wie in Beispiel 1a) beschrieben vorbehandelt, gewogen, und
20 Stunden lang in 0,064 l eines ruhenden Bades bei einer Temperatur von
20°C getaucht, das jeweils 2 g NaBH4/l enthält. Der Ammoniak- und Nickelsalzgehalt
wird entsprechend den in der Tabelle angegebenen Werten variiert.
Nach der Beschichtung werden die Kathoden mit Wasser gespült, mit Stickstoff
trockengeblasen und zur Bestimmung der abgeschiedenen Nickelmenge
erneut gewogen.
Aus der Tabelle ist zu ersehen, daß bei geringen Molverhältnissen von
Ammoniak zu Nickelsalz in dem Bad spontan Nickel abgeschieden wird. Die
im Bad abgeschiedenen Nickelkeime bilden eine Konkurrenz zu dem zu beschichtenden
Eisengitter, d. h. in anderen Worten, daß auf dem Eisengitter
praktisch kein Nickel abgeschieden wird. Erst bei Versuch d), d. h. bei
einem Molverhältnis von NH3 : Nickelsalz von 88 wird die Abscheidung des
Nickels im Bad selbst stark zurückgedrängt, es wird allerdings mit
1,6 mg Ni/g Gitter noch sehr wenig Nickel auf dem Gitter abgeschieden.
Die auf dem Gitter abgeschiedene Nickel-Menge kann jedoch durch Zugabe
von NaOH stark gesteigert werden.
Je ein Eisengitter (ST 12/03) mit den Abmessungen 1 × 12 cm (Oberfläche
48,6 cm2) wird 20 Stunden lang in 0,064 l eines ruhenden Beschichtungsbades
(Temperatur 23°C) getaucht, das folgende Zusammensetzung aufweist:
10 g NaOH/l (250 mMol/l)
2,3 g NaBH4/l (0,06 Mol/l)
2,3 g NaBH4/l (0,06 Mol/l)
Der Gehalt des Bades an Nickelchlorid ist aus der folgenden Tabelle zu
ersehen, ebenso wie das jeweils eingehaltene Molverhältnis NH3(Komplexbildner): Ni.
Nach Beendigung der Beschichtung werden die Elektroden dem Bad entnommen,
mit Wasser gespült, 24 Stunden lang in 10 gew.%iger NaOH aufbewahrt und
anschließend 1,5 Stunden lang bei 360°C wärmebehandelt. Nach 60-minütiger
kathodischer Belastung bei 2 kA/m2 werden die folgenden in der Tabelle
aufgeführten H2-Abscheidepotentiale gemessen:
Aus der Tabelle ist zu ersehen, daß unter den erfindungsgemäßen Molverhältnissen
NaBH4 : Ni die niedrigsten H2-Abscheidepotentiale erhalten
werden.
Eisengitter werden entsprechend Beispiel 1a) beschichtet und entsprechend
Beispiel 1c) nachbehandelt, wobei während der Beschichtung nicht gerührt
bzw. gerührt wird.
Die Bestimmung des H2-Abscheidepotentials liefert folgende Werte:
Aus der Tabelle ist die Bedeutung der Beschichtung in einem nicht bewegten
Bad deutlich zu erkennen.
Eisengitter werden entsprechend Beispiel 1a) beschichtet und entsprechend
Beispiel 1c) nachbehandelt, wobei während der Beschichtung unterschiedliche
Temperaturen, wie in der Tabelle angegeben, eingehalten werden.
Die abgeschiedene Nickelschicht zeigt im Gegensatz zu den anderen
Schichten kein mattgraues, sondern ein schwarzes Aussehen mit schwammiger
Oberfläche und schlechter Haftung auf dem Grundkörper.
Claims (6)
1. Verfahren zur Herstellung von Elektroden, bestehend aus einem
elektrisch leitenden Grundkörper mit einer darauf abgeschiedenen
elektrochemisch aktiven borhaltigen Nickelschicht, die durch stromlose
Abscheidung aus einem Nickel(II)-salze und Komplexbildner enthaltenden
Bad durch Reduktion mit Natriumboranat erhalten worden ist,
dadurch gekennzeichnet, daß das Bad ein Molverhältnis von Komplexbildner :
Nickelsalz von 80 bis 200, ein Molverhältnis von Natriumboranat : Nickelsalz
von 0,7 bis 4,0 und einen Gehalt von Hydroxiden,
die stärker basisch sind als Ammoniak, von 10 bis 400 mMol/l und
einen Gehalt an Nickelsalzen von 10 bis 80 mMol/l aufweist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad eine
Temperatur von bis zu 30°C aufweist.
3. Verfahren nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß das
Bad eine Temperatur von 20 bis 25°C aufweist.
4. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das
Bad nicht bewegt wird.
5. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das
Bad Ionen des Kobalts, Aluminiums, Zinks, Chroms, Kupfers, Palladiums,
Platins in Mengen von 500 ppb bis 50 ppm enthält.
6. Verwendung der Elektroden nach Ansprüchen 1 bis 5 als Kathoden für
die Chloralkali-Elektrolyse.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853532866 DE3532866A1 (de) | 1985-09-14 | 1985-09-14 | Verfahren zur herstellung von elektroden |
EP86112216A EP0215381B1 (de) | 1985-09-14 | 1986-09-04 | Verfahren zur Herstellung von Elektroden |
DE8686112216T DE3667076D1 (en) | 1985-09-14 | 1986-09-04 | Process for manufacturing electrodes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853532866 DE3532866A1 (de) | 1985-09-14 | 1985-09-14 | Verfahren zur herstellung von elektroden |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3532866A1 true DE3532866A1 (de) | 1987-03-26 |
Family
ID=6280992
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19853532866 Withdrawn DE3532866A1 (de) | 1985-09-14 | 1985-09-14 | Verfahren zur herstellung von elektroden |
DE8686112216T Expired DE3667076D1 (en) | 1985-09-14 | 1986-09-04 | Process for manufacturing electrodes |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE8686112216T Expired DE3667076D1 (en) | 1985-09-14 | 1986-09-04 | Process for manufacturing electrodes |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0215381B1 (de) |
DE (2) | DE3532866A1 (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100961011B1 (ko) * | 2005-10-07 | 2010-06-01 | 닛코킨조쿠 가부시키가이샤 | 무전해 니켈 도금액 |
CN113169055B (zh) * | 2018-12-05 | 2023-08-08 | 三菱电机株式会社 | 半导体装置及半导体装置的制造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2307852C3 (de) * | 1973-02-17 | 1975-12-11 | Deutsche Automobilgesellschaft Mbh, 3000 Hannover | Luft- und Lagerbeständige Katalysatoren für die kathodische Wasserstoffentwicklung |
-
1985
- 1985-09-14 DE DE19853532866 patent/DE3532866A1/de not_active Withdrawn
-
1986
- 1986-09-04 EP EP86112216A patent/EP0215381B1/de not_active Expired
- 1986-09-04 DE DE8686112216T patent/DE3667076D1/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0215381B1 (de) | 1989-11-23 |
DE3667076D1 (en) | 1989-12-28 |
EP0215381A1 (de) | 1987-03-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Rao et al. | Chemical and electrochemical depositions of platinum group metals and their applications | |
DE3118320C2 (de) | ||
DE102006035854B4 (de) | Elektrode aus leitfähigem Diamant und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE2630398C3 (de) | Kathode für die Elektrolyse in alkalischem Medium | |
KR900002842B1 (ko) | 전해처리에 있어서 전극의 제조방법 및 그 전극의 사용 | |
DE2636447A1 (de) | Neue mangandioxidelektroden | |
DD243718A5 (de) | Elektrode fuer elektrochemiesche prozesse, verfahren zur herstellung derselben | |
DE2126840B2 (de) | Elektroden | |
JPH0694597B2 (ja) | 電気化学的工程において使用する電極とその製造方法 | |
DE3116032A1 (de) | Kathode fuer elektrochemische reaktionen und verfahren zu ihrer herstellung | |
DE3047636C2 (de) | ||
DE2307852C3 (de) | Luft- und Lagerbeständige Katalysatoren für die kathodische Wasserstoffentwicklung | |
DE3001946A1 (de) | Nickel-molybdaenkathode | |
DE2929787A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer elektrodenoberflaeche auf einem metallsubstrat | |
DE2652152A1 (de) | Elektrode fuer elektrolytische reaktionen und verfahren zu deren herstellung | |
DE3003819A1 (de) | Elektroden | |
DE2909593C2 (de) | ||
DE3022492A1 (de) | Aktivierte elektrode auf nickel-basis und deren verwendung fuer die wasser-elektrolyse | |
DE4232958C1 (de) | ||
DE2811472C2 (de) | ||
DE2527386A1 (de) | Kathodenoberflaechen mit niedrigen wasserstoffueberspannungen | |
EP0215381B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Elektroden | |
DE2449603A1 (de) | Elektrode, verfahren zur herstellung der elektrode und verwendung der elektrode in einem elektrochemischen verfahren | |
EP0328128B1 (de) | Verfahren zur Haftvermittlung zwischen Metallwerkstoffen und galvanischen Aluminiumschichten und hierbei eingesetzte nichtwässrige Elektrolyte | |
DE1909031A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Raney-Katalysatoren enthaltenden Elektroden |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8130 | Withdrawal |