DE3523803A1 - Photopolymerisationsinitiator - Google Patents

Photopolymerisationsinitiator

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DE3523803A1 DE19853523803 DE3523803A DE3523803A1 DE 3523803 A1 DE3523803 A1 DE 3523803A1 DE 19853523803 DE19853523803 DE 19853523803 DE 3523803 A DE3523803 A DE 3523803A DE 3523803 A1 DE3523803 A1 DE 3523803A1
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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Photopolymerisationsinitiator. Insbesondere betrifft die Erfindung einen Photopolymerisationsinitiator, der für eine photopolymerisierbare Harzzusammensetzung bzw. Harzmasse verwendet werden kann, welche durch Photopolymerisation in nur einem Teil, der einem Aktivierungsstrahl ausgesetzt wird, ausgehärtet wird und welche eine ausgezeichnete Haftung auf einem Trägermaterial besitzt.
Photopolymerisierbare Harzmassen wurden als Ausgangsmaterialien für Tinten bzw. Druckerschwärzen, die durch Aktivierungsstrahlen ausgehärtet werden, Farben und Photoresists verwendet. Sie besitzen den schwerwiegenden Nachteil, daß die Aushärtbarkeit von Überzugsfilmen daraus schlecht ist, wenn sie Licht ausgesetzt bzw. belichtet werden. Die Dicke des Überzugsfilms hat dabei einen großen Einfluß auf die Aushärtbarkeit. Beispielsweise besitzt der Überzugsfilm eines Photoresists oder einer Siebdrucktinte eine Dicke von 10 bis 100 µm, und deshalb wird die innere Oberfläche des Überzugsfilms nicht ausreichend ausgehärtet. Dieses Phänomen ist bemerkenswert, wenn ein Pigment oder ein Farbstoff in die photopolymerisierbare Harzmasse eingearbeitet wird und ein Tack bzw. Zug (tack) auf der Überzugsfilmoberfläche verbleibt. Deshalb kann die erwartete Aushärtbarkeit nicht erreicht werden.
Es wurden bereits Verfahren zum Lösen des Aushärtungsproblems durch Verwendung einer Kombination aus Photopolymerisationsinitiatoren vorgeschlagen, wie eine Kombination aus Benzophenon oder seinem Derivat mit 4,4′-Bis- (diethylamino)benzophenon (japanische Patentveröffentlichungen 37 902/1978 und 25 943/1979) und eine Kombination aus Xanthon mit einem 4,4′-Bis(dialkylamino)benzophenon (japanische Offenlegungsschrift 92 246/1977).
Obwohl diese Photopolymerisationsinitiatoren wirksam sind, sind Ihre Wirkungen bisher nicht ausreichend, insbesondere, wenn ein Farbstoff oder ein Pigment verwendet wird, da bei einer Überzugsfilmdicke von mehr als 10 µm die Aushärtbarkeit unzureichend wird und die Haftung auf einem Trägermaterial verringert wird.
Es wurde nun gefunden, daß eine photopolymerisierbare Zusammensetzung mit einer ausgezeichneten Überzugsfilmaushärtbarkeit und ausgezeichneter Haftung auf einem Trägermaterial erhalten werden kann, wenn eine Mischung aus Thioxanthon oder seinem Derivat mit einem Oximester als Photopolymerisationsinitiator verwendet wird.
Erfindungsgemäß wird eine Kombination aus zwei Verbindungen als Photopolymerisationsinitiator verwendet. Eine erfindungsgemäße Initiatorzusammensetzung umfaßt Thioxanthon der nachstehend angegebenen Formel oder ein Thioxanthonderivat mit einem Substituenten am aromatischen Ring und einen Oximester der allgemeinen Formel II.
Erfindungsgemäß wird die Initiatorzusammensetzung für eine photopolymerisierbare Harzmasse verwendet, welche 5 bis 80 Gew.-% einer photopolymerisierbaren Verbindung mit einer Doppelbindung für die Polymerisation und gegebenenfalls als Rest ein Polymerbindemittel umfaßt.
Die Erfindung betrifft insbesondere einen Initiator oder einen Sensibilisator für die Photopolymerisation, welcher umfaßt:
(A) Thioxanthon oder sein Derivat der allgemeinen Formel I worin
Ar1 und Ar2 jeweils einen substituierten oder unsubstituierten, aromatischen Kern bedeuten, und
(B) einen Oximester der allgemeinen Formel II worin
R1 und R2 gleich oder verschieden sein können und jeweils eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, eine substituierte oder unsubstituierte Phenyl-, Naphthyl-, Anthryl-, Pyridyl- oder Chinylygruppe bedeuten oder R1 und R2 zusammen einen Ring bilden können, wie Cyclohexanon, Anthron, 10-Methyl-9(10H)-Akridon, Piperidon und 9-Fluorenon, und
R3 eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen oder eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe bedeutet.
Der erfindungsgemäße Photopolymerisationsinitiator bildet eine photopolymerisierbare Harzmasse zusammen mit einer photopolymerisierbaren Verbindung, gegebenenfalls einem Polymerbindemittel und anderen Zusätzen, wie nachstehend näher beschrieben wird.
Der erfindungsgemäße Photopolymerisationsinitiator ist zur Verwendung mit einer photopolymerisierbaren Verbindung mit wenigstens einer polymerisierbaren Doppelbindung in dem Molekül geeignet. Typische Beispiele für diese Verbindungen schließen Styrolverbindungen, wie Styrol per se, α-Methylstyrol und Chlorstyrol; monofunktionelle (Meth)- acrylate, wie Methyl(meth)acrylat, Ethyl(meth)acrylat, n- und i-Propyl(meth)acrylate, n-, sec- und t-Butyl(meth)acrylate, Tetrahydrofurfuryl(meth)acrylat, 2-Ethylhexyl(meth)acrylat, Lauryl(meth)acrylat, Stearyl(meth)acrylat, Butoxyethyl(meth)acrylat, Cyclohexyl(meth)acrylat, Phenoxyethyl(meth)acrylat, Methoxyethyl(meth)acrylat, Ethoxyethyl(meth)acrylat, Polyethylenglykol(meth)acrylat und Polypropylenglykol(meth)acrylat; bifunktionelle (Meth)acrylate, wie Ethylenglykoldi(meth)acrylat, Diethylenglykoldi(meth)acrylat, Triethylenglykoldi(meth)acrylat, Propylenglykoldi(meth)acrylat, Dipropylenglykoldi(meth)acrylat, Polyethylenglykoldi(meth)acrylat, Polypropylenglykoldi(meth)acrylat, 1,4-Butandioldi(meth)acrylat, Neopentylglykoldi(meth)acrylat und 1,6-Hexandioldi(meth)acrylat; und trifunktionelle oder höherfunktionelle (Meth)acrylate, wie Trimethylolpropantri(meth)acrylat, Trimethylolethantri(meth)acrylat und Pentaerythrittetra(meth)acrylat, ein. Diese polymerisierbaren Verbindungen können entweder alleine oder in Kombination verwendet werden. Sie werden in einer Menge von 5 bis 80 Gew.-%, vorzugsweise 10 bis 50 Gew.-%, bezogen auf die photopolymerisierbare Harzzusammensetzung, verwendet.
Die Polymerbindemittel schließen Polystyrol, Polymethylmethacrylat, Methylmethacrylat/Ethylacrylat-Copolymer, Poly(meth)acrylsäure, Styrol/ (Meth)acrylsäure-Copolymer, (Meth)acrylsäure/Methylmethacrylat- Copolymer, Polyvinylbutyral, Celluloseester, Polyacrylamid und gesättigte Polyester ein. Das Bindemittel wird in Abhängigkeit von seinem Zweck gewählt. Es wird bevorzugt in einer Menge von 100 Gewichtsteilen, bezogen auf 1 bis 10 Gewichtsteile Oximester, verwendet.
Das erfindungsgemäße Thioxanthon und seine Derivate besitzen die vorstehend angegebene allgemeine Formel I, worin die aromatischen Kerne Ar1 und Ar2 mit einem oder mehreren der folgenden Substituenten substituiert sind: Wasserstoff; Halogene, wie Chlor oder Brom; Alkylgruppen mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, welche durch Hydroxy oder Chlor substituiert sein können, wie Methyl, Ethyl, n-Propyl, Isopropyl, n-Butyl, sec-Butyl, t-Butyl, n-Amyl, Isoamyl, n-Hexyl, 1,1-Dimethylbutyl, 1-Ethyl-2-methylpropyl, 2-Ethylbutyl, 1,3-Dimethylbutyl, 4-Methylpentyl, n-Heptyl, 1-Methylhexyl, 1-Ethyl-1,2-dimethylpropyl, n-Octyl, 2-Ethylhexyl, 2,2,4-Trimethylpentyl, n-Nonyl, 1,3,5-Trimethylhexyl, n-Dodecyl, Chlormethyl, 2-Chlorethyl und 2-Hydroxyethylgruppen; Alkoxygruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, welche durch Hydroxy, Chlor, Alkoxygruppen mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder Alkoxy-alkoxygruppen, worin jede Alkoxygruppen 1 bis 4 Kohlenstoffatome besitzt, substituiert sein können, wie Methoxy, Ethoxy, n-Propoxy, Isopropoxy, sec-Butoxy, n-Butoxy, n-Pentyloxy, Isopentyloxy, 2-Ethylhexyloxy, Allyloxy, 2-Chlorethoxy, 2-Hydroxypropoxy, Glycidyloxy, 2-Hydroxyethoxy, Methoxyethoxy, Butoxyethoxy, Ethoxyethoxyethoxy und Benzyloxygruppen; Acyloxygruppen mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen, wie Acetyloxy, Propionoyloxy, Acryloyloxy, Methacryloyloxy, Butyroyloxy, Isobutyroyloxy, Nonanoyloxy, Crotonoyloxy, Decanoyloxy, Dodecanoyloxy, Stearoyloxy, Fumaroyloxy, Phthaloyloxy, Cinnamoyloxy und Benzoyloxy; Alkoxycarbonylgruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, welche durch Hydroxy oder Chlor substituiert sein können, wie Methoxycarbonyl, Ethoxycarbonyl, 2-Hydroxypropoxycarbonyl, 2- Chlorethoxycarbonyl, n-Butoxycarbonyl, 2-Ethylhexylcarbonyl und Octyloxycarbonyl; zusätzlich Cyclohexyl-, Phenyl, Phenoxy-, Vinyloxycarbonyl-, Allyloxycarbonyl-, Glycidyloxycarbonyl- und Benzyloxycarbonylgruppen Die Ringe Ar1 und Ar2 können durch die gleiche Gurppe substituiert sein. Alternativ dazu können sie jeweils durch verschiedene Gruppen substituiert sein. Jeder Ring kann wenigstens 2 Substituenten der gleichen Gruppe oder verschiedener Gruppen besitzen. Die Art der Substitution begrenzt nicht die vorliegende Erfindung.
Die erfindungsgemäßen Oximester sind durch die vorstehend allgemeine Formel II angegeben, worin R1 und R2 gleich oder verschieden sein können und die in den folgenden Gruppen 1) bis 4) gegebene Bedeutung besitzen:
1) eine geradkettige oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 1 bis 10, vorzugsweise 1 und 5 Kohlenstoffatomen,
2) eine Phenyl-, Naphthyl- oder Anthrylgruppe, welche durch eine geradkettige oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 1 bis 10, vorzugsweise 1 bis 5 Kohlenstoffatomen, eine Alkoxylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen, ein Halogen oder eine Amino-, Dimethylamino-, Diethylamino- oder Mercaptogruppe oder dgl. substituiert sein kann,
3) eine Pyridylgruppe, wie eine 2-Pyridylgruppe, eine Chinolylgruppe, wie eine 6-Chinolylgruppe oder Pyridyl- oder Chinolylgruppe, substituiert durch die gleichen Substituenten wie in 2) und
4) eine Fluorenylgruppe, gebildet durch einen Ringschluß zwischen R1 und R2, welche durch die gleichen Substituenten wie in 2) usw. substituiert sein kann.
R3 besitzt die in den folgenden Gruppen 5) und 6) angegebene Bedeutung:
5) eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen, wie eine Methyl-, Ethyl-, Propyl-, i-Propyl-, Butyl- oder t-Butylgruppe und
6) eine Arylgruppe, wie eine Benzoyl-, Toluyl-, Chlorbenzoyl-, Nitrobenzoyl-, Methoxybenzoyl-, Napthyl- und Anthrachinongruppe, welche unsubstituiert sein kann oder durch die gleichen Substituenten wie in 2) substituiert sein kann.
Die vorstehenden Oximester schließen verschiedene Keton- O-acyloxime ein. Beispiele dafür sind Dimethylketon-O- acetyloxim, Diethylketon-O-acetyloxim, Acetophenon-O- acetyloxim, Acetophenon-O-benzoyloxim, Acetophenon-O- (p-methylbenzoyl)oxim, p-Methylacetophenon-O-(p-tolylcarbonyl)oxim, 2-Naphthylmethylketon-O-acetyloxim, 2- Naphthylphenylketon-O-propylcarbonyloxim, 9-Anthrylmethylketon- O-acetyloxim, 2-Naphthylmethylketon-O-benzoyloxim, Benzophenon-O-acetyloxim, Benzophenon-O-phenylacetyloxim, Benzophenon-O-(p-Chlorbenzoyl)oxim, p-Dimethylaminoacetophenon- O-acetyloxim, p,p′-Bis (dimethylamino)benzophenon- O-acetyloxim, p,p′-Bis(diethylamino)benzophenon-O- benzoyloxim, Fluorenon-O-(p-methylbenzoyl)oxim, Fluorenon- O-acetyloxim, 2-Pyridylmethylketon-O-acetyloxim, Di(2- pyridyl)keton-O-acetyloxim, 6-Chinolylmethylketon-O-ethylcarbonyloxim and 6-Chinolylphenylketon-O-acetyloxim. Diese Oximester begrenzen die vorliegende Erfindung nicht.
Diese Oximester und die vorstehenden Thioxanthone oder ihre Derivate können entweder alleine oder in einer Mischung aus zwei oder mehreren Verbindungen davon verwendet werden.
Der erfindungsgemäße Photopolymerisationsinitiator kann in Kombination mit einem bekannten Photosensiblilisator, wie Benzoin, Benzoinalkylether, Benzophenon, Benzyl-2,4,- 5,-triphenylbiimidazol oder einem Derivat davon verwendet werden.
Das Verhältnis von Thioxanthon oder seinem Derivat zu dem Oximester wird zweckmäßigerweise in Abhängigkeit von ihren Arten oder der photopolymerisierbaren Verbindung gewählt. Üblicherweise liegt das Gewichtsverhältnis von Thioxanthon oder seinem Derivat zu dem Oximester im Bereich von 1:100 bis 10:1.
Die Menge des erfindungsgemäßen Photopolymerisationsinitiators liegt im Bereich von 0,01 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 10 Gew.-%, bezogen auf die photopolymerisierbare Zusammensetzung (fest).
Die photopolymerisierbare Harzmasse, die den erfindungsgemäßen Photopolymerisationsinitiator enthält, wird auf das Trägermaterial durch ein bekanntes Verfahren aufgetragen und dann einem Aktivierungsstrahl ausgesetzt, um die Photopolymerisationsreaktion zu induzieren.
Die Quellen für die verwendeten Aktivierungsstrahlen schließen Quellen für ferne Ultraviolettstrahlen, wie eine Hg-Lampe, eine Niedrigdruck- Quecksilberlampe und einen Excimer-Laser (Handelsname) ein, die jeweils eine intensive Emission bei 200 bis 300 nm besitzen. Weiterhin können solche mit einem Emissionsspektrum von 300 nm oder höher, wie eine Hg-Lampe, eine Xenon-Lampe und eine Hochdruck-Quecksilberlampe, verwendet werden. N2-Laser, Argon-Laser und He-Ne-Laser können ebenfalls verwendet werden.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung.
Beispiel 1
Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung wurde durch Mischung der folgenden Komponenten erhalten:
Trimethylolpropantriacrylat5 g
2-Chlorthioxanthon0,01 g
4-Methylbenzophenonoximacetat0,25 g
Methylethylketon5 g
5 ml der Zusammensetzung wurden in eine Teströhre aus Pyrex-Glas gegeben und Licht einer 2 kW Ultrahochdruck- Quecksilberlampe in einem Abstand von 50 cm über 1 Minute ausgesetzt. Das Polymer haftete in Form eines Films an der inneren Wand der Röhre in dem ausgesetzten Teil. Als das Polymer herausgenommen und in Aceton gegeben wurde, löste es sich nicht darin.
Beispiel 2
Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung wurde durch Mischen der folgenden Komponenten erhalten:
Poly(methylmethacrylat)50 g
Trimethylolpropantriacrylat30 g
2-Chlorthioxanthon0,05 g
4-Methylbenzophenonoximacetat1,5 g
Methylethylketon150 g
Die Zusammensetzung wurde gleichmäßig auf einen Polyethylenglykolterephthalatfilmträger mit einer Dicke von 100 µ mittels eines Applikators aufgebracht und dann bei 75°C getrocknet, um eine empfindliche Schicht mit einer Dicke von 25 µ zu bilden. Dieses Produkt wurde Licht einer 2 kW Ultrahochdruck-Quecksilberlampe in einem Abstand von 50 cm über 30 Sekunden ausgesetzt. Wenn der Polyethylenglykolterephthalatfilm in einem spitzen Winkel gebogen wurde, bildeten sich Risse in der photoempfindlichen Schicht, was zeigte, daß er ausreichend ausgehärtet worden war.
Beispiel 3
Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung wurde durch Mischen der folgenden Komponenten erhalten:
Poly(methylmethacrylat)50 g
Trimethylolpropantriacrylat15 g
Tetraethylenglykoldiacrylat10 g
Benzotriazol0,2 g
N-Methyldiethanolamin0,05 g
Viktoriablau0,04 g
2-Chlorthioxanthon0,1 g
4-Methylbenzophenonoximacetat1,5 g
Methylethylketon120 g
Die Zusammensetzung wurde gleichmäßig auf einen Polyethylenglykolterephthalatfilmträger mit einer Dicke von 25 µ aufgebracht und bei 75°C getrocknet, um einen photoempfindlichen Film mit einer Dicke von 25 µ zu erhalten. Die photoempfindliche Schicht wurde auf eine Kupferplatte, deren Oberfläche vorher mit Aceton gewaschen worden war, mittels einer Gummirolle bzw. -walze aufgebracht und auf 100°C erwärmt, um ein Laminat zu bilden. Dann wurde eine Stouffer- Stufentablette (Stouffer step tablet, ein Handelsname von Stouffer Graphic Arts Instrument Corporation) daraufgesetzt und Licht einer Ultrahochdruck-Quecksilberlampe (2 kW) in einem Abstand von 50 cm über 10 Sekunden ausgesetzt. Ein nichtausgesetzter Teil wurde mit 1,1,1- Trichlorethan weggewaschen, um die Entwicklung zu bewirken. Ein hochqualitatives Bild wurde bis zur 7. Stufe erhalten.
Beispiel 4
Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung wurde durch Mischen der folgenden Komponenten erhalten:
Poly(methylmethacrylat/Butylacrylat/ Methacrylsäure50 g
(61/17/22 Gew.-%)
Trimethylolpropantriacrylat30 g
Benzotriazol0,2 g
N-Methyldiethanolamin0,05 g
Viktoriablau0,04 g
2-Chlorthioxanthon0,1 g
4-Methylbenzophenonoximacetat1,5 g
Methylethylketon45 g
Dioxan60 g
Die Zusammensetzung wurde auf den Filmträger aufgebracht und auf die gleiche Weise wie in Beispiel 3 getrocknet, um eine empfindliche Schicht mit einer Dicke von 25 µ zu erhalten. Nach dem Lichtaussetzen, auf die gleiche Weise wie vorstehend beschreiben, gefolgt von einer Entwicklung mit einer 1%igen, wäßrigen Natriumcarbonatlösung bei 40°C, wurde ein hochqualitatives Bild bis zur 6. Stufe erhalten.
Beispiel 5
Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung wurde durch Mischen der folgenden Komponenten erhalten:
Poly(methylmethacrylat)50 g
Trimethylolpropantriacrylat15 g
Tetraethylenglykoldiacrylat10 g
2-Phenylamino-4,6-dithiol-s-triazin0,2 g
N-Methyldiethanolamin0.05 g
Viktoriablau0,04 g
2-Chlorthioxanthon0.1 g
4-Methylbenzophenonoximacetat1,5 g
o-Toluolsulfonamid2,4 g
p-Toluolsulfonamid3,6 g
Methylethylketon120 g
Ein hochqualitatives Bild wurde bis zur 5. Stufe auf die gleiche Weise wie in Beispiel 3 erhalten.
Beispiel 6
Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung wurde durch Mischen der folgenden Komponenten erhalten:
Poly(methylmethacrylat)50 g
Trimethylolpropantriacrylat16 g
Tetraethylenglykoldiacrylat13 g
2-Phenylamino-4,6-dithiol-s-triazin0,2 g
N-Methyldiethanolamin0,05 g
Viktoriablau0.04 g
2,2′-Di(o-chlorphenyl)-4,4′,5,5′- tetraphenylbisimidazol1,5 g
Leukokristallviolett0,15 g
2-Chlorthioxanthon0,1 g
4-Methylbenzophenonoximacetat1,5 g
o-Toluolsulfonamid2,4 g
p-Toluolsulfonamid3,6 g
Methylethylketon120 g
Ein hochqualitatives Bild wurde bis zur 8. Stufe auf die gleiche Weise wie in Beispiel 3erhalten.
Beispiel 7
Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung wurde durch Mischen der folgenden Komponenten erhalten:
Poly(methylmethacrylat)50 g
Trimethylolpropantriacrylat16 g
Tetraethylenglykoldiacrylat13 g
N-Methyldiethanolamin0,05 g
Viktoriablau0,04 g
Thioxanthon0,5 g
4-Methylbenzophenonoximacetat1,5 g
o-Toluolsulfonamid2,4 g
p-Toluolsulfonamid3,6 g
Benzotriazol0,2 g
Methylethylketon120 g
Ein hochqualitatives Bild wurde bis zur 8. Stufe auf die gleiche Weise wie in Beispiel 3 erhalten.
Beispiel 8
Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung wurde durch Mischen der folgenden Komponenten erhalten:
Poly(methylmethacrylat)50 g
Trimethylolpropantriacrylat16 g
Tetraethylenglykoldiacrylat13 g
N-Methyldiethanolamin0,05 g
Viktoriablau0,04 g
2,4-Dimethylthioxanthon0,5 g
4-Methylbenzophenonoximacetat1,5 g
o-Toluolsulfonamid2,4 g
p-Toluolsulfonamid3,6 g
Benzotriazol0,2 g
Methylethylketon120 g
Ein hochqualitatives Bild wurde bis zur 7. Stufe auf gleiche Weise wie in Beispiel 3 erhalten.
Beispiel 9
Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung wurde durch Mischen der folgenden Komponenten erhalten:
Poly(methylmethacrylat)50 g
Trimethylolpropantriacrylat16 g
Tetraethylenglykoldiacrylat13 g
N-Methyldiethanolamin0,05 g
Viktoriablau0,04 g
2,4-Diethylthioxanthon0,5 g
4-Methylbenzophenonoximacetat1,5 g
o-Toluolsulfonamid2,4 g
p-Toluolsulfonamid3,6 g
Benzotriazol0,2 g
Methylethylketon120 g
Ein hochqualitatives Bild wurde bis zur 8. Stufe auf die gleiche Weise wie in Beispiel 3 erhalten.
Vergleichsbeispiel 1
Die folgenden Konponenten wurden zusammengemischt:
Poly(methylmethacrylat)50 g
Trimethylolpropantriacrylat15 g
Tetraethylenglykoldiacrylat10 g
Benzotriazol0,2 g
N-Methyldiethanolamin0,05 g
Viktoriablau0,04 g
2-Chlorthioxanthon0,1 g
Methylethylketon120 g
Nach dem Aufbringen, Trocknen und Lichtaussetzen, welches auf die gleiche Weise wie in Beispiel 3 durchgeführt wurde, konnte überhaupt kein Bild erhalten werden.
Vergleichsbeispiel 2
Die folgenden Komponenten wurden zusammengemischt:
Poly(methylmethacrylat)50 g
Trimethylolpropantriacrylat15 g
Tetraethylenglykoldiacrylat10 g
Benzotriazol0,2 g
N-Methyldiethanolamin0,05 g
Viktoriablau0,04 g
4-Methylbenzophenonoximacetat1,5 g
Methylethylketon120 g
Nach dem Aufbringen, Trocknen und Lichtaussetzen einer Ultrahochdruck-Quecksilberlampe, durchgeführt auf die gleiche Weise wie in Beispiel 3, konnte überhaupt kein Bild erhalten werden.

Claims (3)

1. Initiatorzusammensetzung für die Photopolymerisation, dadurch gekennzeichnet, daß sie:
(A) Thioxanthon oder ein Derivat der allgemeinen Formel I: worin
Ar1 und Ar2 jeweils einen aromatischen Ring oder einen substituierten, aromatischen Ring bedeuten, und
(B) einen Oximester der allgemeinen Formel II: worin
R1 und R2 gleich oder verschieden sein können und jeweils eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, eine substituierte oder unsubstituierte Phenyl-, Naphthyl-, Anthryl-, Pyridyl- oder Chinolylgruppe bedeuten oder R1 und R2 zusammen einen Ring bilden können und
R3 eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen oder eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe bedeutet,
umfaßt.
2. Initiatorzusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie die Verbindungen (A) und (B) in einem Gewichtsverhältnis von 1:100 bis 10:1 umfaßt.
3. Photopolymerisierbare Harzzusammensetzung, dadurch gekennzeichnet, daß sie 5 bis 80 Gew.-% einer photopolymerisierbaren Verbindung mit einer Doppelbindung für die Polymerisation, 0,01 bis 20 Gew.-% der zwei Initiatoren (A) und (B) gemäß Anspruch 1 und gegebenenfalls als Rest ein Polymerbindemittel umfaßt.
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US (1) US4590145A (de)
DE (1) DE3523803C2 (de)
GB (1) GB2178047B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19928742B4 (de) * 1998-06-26 2008-10-30 Ciba Holding Inc. Neue O-Acyloxim-Photostarter

Families Citing this family (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE59007720D1 (de) 1989-10-27 1994-12-22 Ciba Geigy Ag Verfahren zur Abstimmung der Strahlungsempfindlichkeit von photopolymerisierbaren Zusammensetzungen.
GB9123914D0 (en) * 1991-11-11 1992-01-02 Ici Plc Polymerisable compositions
CA2158915A1 (en) * 1994-09-30 1996-03-31 Dekai Loo Liquid photoimageable resist
JP3498869B2 (ja) * 1995-01-30 2004-02-23 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物を有する画像形成材料
US6025408A (en) * 1997-03-27 2000-02-15 First Chemical Corporation Liquid thioxanthone photoinitiators
KR100591030B1 (ko) 1999-03-03 2006-06-22 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. 옥심 유도체를 포함하는 광중합성 조성물
SG97168A1 (en) 1999-12-15 2003-07-18 Ciba Sc Holding Ag Photosensitive resin composition
NL1016815C2 (nl) 1999-12-15 2002-05-14 Ciba Sc Holding Ag Oximester-fotoinitiatoren.
KR100417091B1 (ko) * 2001-05-15 2004-02-05 주식회사 엘지화학 기능성 옥심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는 감광성조성물
CN100528838C (zh) * 2001-06-11 2009-08-19 西巴特殊化学品控股有限公司 具有复合结构的肟酯光引发剂
EP1567518B1 (de) * 2002-12-03 2009-01-14 Ciba Holding Inc. Heteroaromatische gruppen enthaltende oximester als photointiatoren
ATE381540T1 (de) * 2004-08-18 2008-01-15 Ciba Sc Holding Ag Oximesther-fotoinitiatoren
US7696257B2 (en) * 2004-08-20 2010-04-13 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing such compound
JP3798008B2 (ja) * 2004-12-03 2006-07-19 旭電化工業株式会社 オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
KR100763744B1 (ko) * 2005-11-07 2007-10-04 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물
CN101321727B (zh) 2005-12-01 2013-03-27 西巴控股有限公司 肟酯光敏引发剂
KR100814232B1 (ko) 2005-12-01 2008-03-17 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 착색 감광성 조성물
US8026296B2 (en) * 2005-12-20 2011-09-27 3M Innovative Properties Company Dental compositions including a thermally labile component, and the use thereof
CN102199119B (zh) * 2005-12-20 2014-07-16 西巴控股有限公司 肟酯光引发剂
US7896650B2 (en) * 2005-12-20 2011-03-01 3M Innovative Properties Company Dental compositions including radiation-to-heat converters, and the use thereof
US8293436B2 (en) * 2006-02-24 2012-10-23 Fujifilm Corporation Oxime derivative, photopolymerizable composition, color filter, and process for producing the same
TWI406840B (zh) * 2006-02-24 2013-09-01 Fujifilm Corp 肟衍生物、光聚合性組成物、彩色濾光片及其製法
KR101526618B1 (ko) 2007-05-11 2015-06-05 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
US8349548B2 (en) * 2007-05-11 2013-01-08 Basf Se Oxime ester photoinitiators
JP5535064B2 (ja) * 2007-05-11 2014-07-02 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア オキシムエステル光重合開始剤
EP2207062B1 (de) 2007-07-17 2012-09-12 FUJIFILM Corporation Lichtempfindliche Zusammensetzungen, härtbare Zusammensetzungen, neuartige Verbindungen, photopolymerisierbare Zusammensetzungen, Farbfilter und planographische Druckplattenvorläufer
KR101007440B1 (ko) 2007-07-18 2011-01-12 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물 및 이의제조방법
JP5305704B2 (ja) 2008-03-24 2013-10-02 富士フイルム株式会社 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5507054B2 (ja) * 2008-03-28 2014-05-28 富士フイルム株式会社 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子
CN102112438B (zh) 2008-06-06 2014-07-23 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
JP5171506B2 (ja) 2008-06-30 2013-03-27 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5669386B2 (ja) 2009-01-15 2015-02-12 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP4344400B1 (ja) * 2009-02-16 2009-10-14 株式会社日本化学工業所 オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
JP5535814B2 (ja) 2009-09-14 2014-07-02 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物
JP2011158655A (ja) 2010-01-29 2011-08-18 Fujifilm Corp 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子
JP5638285B2 (ja) 2010-05-31 2014-12-10 富士フイルム株式会社 重合性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および固体撮像素子
IT1402691B1 (it) * 2010-11-10 2013-09-13 Lamberti Spa Tioxantoni a bassa migrabilita'
CN106278967B (zh) * 2015-06-03 2020-08-07 江苏和成新材料有限公司 用于uv固化材料的酰基肟酯类化合物及其合成方法及应用
KR101796993B1 (ko) 2015-08-24 2017-11-13 (주)켐이 플루오렌 유도체, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
KR101744197B1 (ko) 2015-07-31 2017-06-09 (주)켐이 플루오렌 유도체, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
US11104802B2 (en) 2016-09-26 2021-08-31 University Of Washington PDMS resin for stereolithographic 3D-printing of PDMS
KR20180091232A (ko) 2017-02-06 2018-08-16 동우 화인켐 주식회사 옥심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는 광경화성 조성물
KR20180099105A (ko) 2017-02-28 2018-09-05 동우 화인켐 주식회사 옥심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는 광경화성 조성물
KR101968747B1 (ko) 2017-07-25 2019-04-12 (주)켐이 카바졸 유도체, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3558309A (en) * 1967-08-08 1971-01-26 Agfa Gevaert Nv Photopolymerisation of ethylenically unsaturated organic compounds
US3827957A (en) * 1973-01-12 1974-08-06 Scm Corp Photopolymerizable pigmented vehicles containing chlorosulfonated or alpha-haloalkylated polynuclear ketone initiators
US3857769A (en) * 1973-11-08 1974-12-31 Scm Corp Photopolymerizable coating compositions and process for making same which contains a thioxanthone and an activated halogenated azine compound as sensitizers
US3876519A (en) * 1973-05-04 1975-04-08 Scm Corp Process for photopolymerizing 'ethylenically unsaturated pigmented vehicles using a thioxanthone-halogenated naphthalene sensitizer system'mcginniss; vincent daniel
US3926643A (en) * 1974-05-16 1975-12-16 Du Pont Photopolymerizable compositions comprising initiator combinations comprising thioxanthenones

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4417023A (en) * 1982-01-21 1983-11-22 Diamond Shamrock Corporation Polysiloxane stabilizers for flatting agents in radiation hardenable compositions

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3558309A (en) * 1967-08-08 1971-01-26 Agfa Gevaert Nv Photopolymerisation of ethylenically unsaturated organic compounds
US3827957A (en) * 1973-01-12 1974-08-06 Scm Corp Photopolymerizable pigmented vehicles containing chlorosulfonated or alpha-haloalkylated polynuclear ketone initiators
US3876519A (en) * 1973-05-04 1975-04-08 Scm Corp Process for photopolymerizing 'ethylenically unsaturated pigmented vehicles using a thioxanthone-halogenated naphthalene sensitizer system'mcginniss; vincent daniel
US3857769A (en) * 1973-11-08 1974-12-31 Scm Corp Photopolymerizable coating compositions and process for making same which contains a thioxanthone and an activated halogenated azine compound as sensitizers
US3926643A (en) * 1974-05-16 1975-12-16 Du Pont Photopolymerizable compositions comprising initiator combinations comprising thioxanthenones

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19928742B4 (de) * 1998-06-26 2008-10-30 Ciba Holding Inc. Neue O-Acyloxim-Photostarter

Also Published As

Publication number Publication date
GB2178047B (en) 1989-07-19
GB2178047A (en) 1987-02-04
DE3523803C2 (de) 1994-03-31
GB8517863D0 (en) 1985-08-21
US4590145A (en) 1986-05-20

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