DE3506782C2 - Vorjustiergerät für Wafer - Google Patents
Vorjustiergerät für WaferInfo
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
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Family
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Family Applications (1)
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- 1985-03-27 JP JP6105685A patent/JPS60218853A/ja active Granted
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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Owner name: SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC., WILTON, CONN., US |
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Representative=s name: GRUENECKER, A., DIPL.-ING. KINKELDEY, H., DIPL.-IN |
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