DE3502370A1 - Verfahren zur herstellung von dickschichtstrukturen - Google Patents

Verfahren zur herstellung von dickschichtstrukturen

Info

Publication number
DE3502370A1
DE3502370A1 DE19853502370 DE3502370A DE3502370A1 DE 3502370 A1 DE3502370 A1 DE 3502370A1 DE 19853502370 DE19853502370 DE 19853502370 DE 3502370 A DE3502370 A DE 3502370A DE 3502370 A1 DE3502370 A1 DE 3502370A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
paste
glass
enamel
film structures
heat treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19853502370
Other languages
English (en)
Inventor
Horst Dipl.-Chem. Dr. 7030 Böblingen Richter
Stauros Dipl.-Chem. Dr. 7000 Stuttgart Smernos
Otto 7000 Stuttgart Thaidigsmann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alcatel Lucent Deutschland AG
Original Assignee
Standard Elektrik Lorenz AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Standard Elektrik Lorenz AG filed Critical Standard Elektrik Lorenz AG
Priority to DE19853502370 priority Critical patent/DE3502370A1/de
Publication of DE3502370A1 publication Critical patent/DE3502370A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4846Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
    • H01L21/4867Applying pastes or inks, e.g. screen printing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/482Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of lead-in layers inseparably applied to the semiconductor body
    • H01L23/4827Materials
    • H01L23/4828Conductive organic material or pastes, e.g. conductive adhesives, inks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/05Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate
    • H05K1/053Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate the metal substrate being covered by an inorganic insulating layer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung von Dickschichtstrukturen
  • Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von Dickschichtstrukturen auf dem Emailüberzug eines Metallsubstrates durch Aufbringen einer Leitende Teilchen aus lösbarem Metall enthaltenden Paste und einer anschließenden Wärmebehandlung zum Einbrennen der Paste.
  • Es ist be-kannt, Dickschichtstrukturen, die aus Leiter-und/oder Widerstandsbahnen bestehen, auf einem isolierenden Substrat dadurch herzustellen, daß geeignete leitende Pasten, vorzugsweise durch Aufdrucken nach dem Siebdruckverfahren, auf ein isolierendes Substrat aufgebracht und danach einer Wärmebehandlung unterworfen werden. Die verwendeten Pasten enthalten leitende Teilchen, beispielsweise aus Gold, Silber, Palladium, Kupfer, Nickel oder Kohlenstoff, ein Glas, ein Bindemittel sowie ein Losungsmittel. Nach dem Aufdrucken wird eine Wärmebehandlung angewendet, die dazu dient, organische Bestandteile zu verbrennen und den Glasanteil der Paste zu schmelzen, um hierdurch einen festen Verbund der Leitpartikel zum Basismaterial herzustellen. Die Temperatur der Wärmebehandlung richtet sich nach dem verwendeten Substrat sowie der verwendeten Paste. Der Gehalt der Paste an Glas und leitenden Bestandteilen muß so aufeinander abgestimmt sein, daß einerseits nach der Wärmebehandlung eine gute Haftung der leitenden Bahnen auf dem Substrat gegeben ist, andererseits die gewünschte Leitfähigkeit erhalten wird. Bei Leiterbahnen wird naturgemäß eine sehr hohe Leitfähigkeit gewunscht.
  • Ein bestimmter Gehalt an Glas ist jedoch in jedem Falle zur Haftung der Schicht auf dem Substrat und zum Zusammenhalten der leitenden Teilchen unerläßlich.
  • In letzter Zeit haben sich in der Elektronik mit einer Emailschicht überzogene Metallsubstrate wegen ihrer mechanischen Stabilität, guten Wärmeleitfähigkeit und hohen Temperaturbeständigkeit eingeführt. Leitende Pasten für solche mit einer Emailschicht überzogenen Metallsubstrate enthalten stets Glas oder Glasbestandteile. Die Zusammensetzung des Glases wird hierbei so gewählt, daß dessen Erweichungspunkt niedriger ist als der des Emails, auf dem die Dickschichtstruktur erzeugt wird. Hierbei hat es sich als nachteilig erwiesen, daß Leiterbahnen je nach dem Glasanteil der Paste und der Art der Metallpartikel (z.B. Ag/Pd-Paste (75/25)) mehr oder weniger schlecht lötbar sind.
  • Aufgabe der Erfindung ist es, das Verfahren zur Herstellung von Dickschichtstrukturen gemäß dem Oberbegriff des Patentanspuchs so abzuwandeln, daß die Leiterbahnen ohne Schwierigkeit Lösbar sind.
  • Diese Aufgabe wird durch die im Kennzeichen des Anspruchs angegebenen Maßnahmen gelöst.
  • Die Erfindung geht von der Erkenntnis aus, daß die Glasbestandteile, die üblicherweise in den Leiterstrukturen enthalten sind, ein Verlöten sehr erschweren oder unmöglich machen, weil sie von dem flüssigen Lot nicht benetzt werden. Andererseits wird bei Verwendung einer glasfreien Paste keine Haftung auf der Emailschicht erzielt, wenn das Einbrennen in üblicher Weise, nämlich unterhalb des Erweichungspunktes der Emailschicht stattfindet. Ein Erhitzen beim Einbrennen auf eine Temperatur wesentlich über dem Erweichungspunkt der Emailschicht muß nämlich deshalb vermieden werden, weil bei einer zu starken Erweichung der Emailschicht das Pastenmaterial in diese einsinkt oder an deren Oberfläche wegschwimmt, so daß keine genauen Strukturen mehr erhalten werden können.
  • Es hat sich jedoch gezeigt, daß durch Verwendung einer glasfreien Paste Strukturen erhalten werden, die sehr gut Lötfähig sind. Zur Erzielung einer guten Haftung solcher Schichten muß jedoch bei dem Einbrennen eine Temperatur angewandt werden, die etwas über der Erweichungstemperatur des betreffenden Emails liegt. Man bekommt dann eine gute Haftung auf der Emailschicht wie bei Verwendung von glashaltigen Pasten. Die oberste Schicht der Emailschicht übernimmt sozusagen die Rolle des Glases für die Dickschichtstruktur. Natürlich muß auch in diesem Falle vermieden werden, daß die Erhitzung bei so hohen Temperaturen oder so Lange stattfindet, daß das Pastenmaterial in die Emailschicht einsinkt oder auf dieser wegschwimmt. Wie Versuche ergeben haben, ist es aber ohne weiteres möglich, durch eine Wärmebehandlung dicht oberhalb des Erweichungspunktes des betreffenden Emails Strukturen einzubrennen, die auf dem Email gut haften, die sehr gut Lötfähig sind und die eine sehr gute Leitfähigkeit haben.
  • Ausführungsbeispiel: Eine Paste, die bei dem Verfahren gemäß der Erfindung verwendet werden kann, besteht beispielsweise aus 80 Gew.-% Silber und 20 Gew.-% Palladium mit einem Zusatz von Äthylzellulose und Terpineol. Die letzteren beiden Bestandteile dienen nur zur Erzielung einer geeigneten Rheologie für die Verarbeitung der Paste, die beispielsweise durch Aufdrucken nach dem Siebdruckverfahren auf die Emailschicht des Substrates aufgebracht wird. Die zunächst als Bindemittel und Lösungsmittel dienenden Bestandteile werden bei der anschließenden Wärmebehandlung verdampft bzw. zersetzt. Mit einer solchen Paste wurden Leiterbahnen auf der Emailschicht eines Stahlsubstrates erzeugt. Die Emailschicht hatte einen Erweichungspunkt 0 von 640 C. Die Wärmebehandlung zum Einbrennen der Leiterbahnen wurde bei 6750C zehn Minuten lang durchgefuhrt. Dabei werden gut haftende Leiterbahnen erhalten, die sich sehr gut Löten lassen. Ein Einsinken des Materials der Leiterbahnen findet erst bei einer Er-0 hitzung auf Temperaturen über 725 c statt. Hieraus ist ersichtlich, daß es ohne weiteres möglich ist, die Einbrenntemperatur so zu wählen, daß eine gute Haftung der Leiterbahnen aus glasfreien Pasten erzielt wird, ohne daß die Gefahr besteht, daß das Leiterbahnmaterial in die Emailschicht einsinkt.

Claims (1)

  1. Patentanspruch Verfahren zur Herstellung von Dickschichtstrukturen auf dem Emailüberzug eines Metallsubstrates durch Aufbringen einer Leitende Teilchen aus lotbarem Metall enthaltenden Paste und einer anschließenden Wärmebehandlung zum Einbrennen der Paste, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t, daß eine von Glas oder Glasbestandteilen freie Paste verwendet wird und die Wärmebehandlung bei einer Temperatur über dem Erweichungspunkt der Emailschicht durchgefuhrt wird.
DE19853502370 1985-01-25 1985-01-25 Verfahren zur herstellung von dickschichtstrukturen Withdrawn DE3502370A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19853502370 DE3502370A1 (de) 1985-01-25 1985-01-25 Verfahren zur herstellung von dickschichtstrukturen

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19853502370 DE3502370A1 (de) 1985-01-25 1985-01-25 Verfahren zur herstellung von dickschichtstrukturen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3502370A1 true DE3502370A1 (de) 1986-07-31

Family

ID=6260683

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19853502370 Withdrawn DE3502370A1 (de) 1985-01-25 1985-01-25 Verfahren zur herstellung von dickschichtstrukturen

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3502370A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3723051A1 (de) * 1987-07-11 1989-01-19 Kernforschungsz Karlsruhe Halbleiter fuer einen resistiven gassensor mit hoher ansprechgeschwindigkeit
DE3843626A1 (de) * 1988-12-23 1990-06-28 Flachglas Ag Verfahren zur herstellung einer verbund-kraftfahrzeugscheibe

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3723051A1 (de) * 1987-07-11 1989-01-19 Kernforschungsz Karlsruhe Halbleiter fuer einen resistiven gassensor mit hoher ansprechgeschwindigkeit
DE3843626A1 (de) * 1988-12-23 1990-06-28 Flachglas Ag Verfahren zur herstellung einer verbund-kraftfahrzeugscheibe

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3414065C2 (de)
DE602004006951T2 (de) Leitfähige paste
DE2655085C2 (de)
DE2617226C2 (de) Paste und Verfahren zur Bildung eines elektrischen Dickfilmleiters
DE2336581C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer transparenten Heizscheibe
DE2810427C3 (de) Silbermassen für aufgedruckte Leitermuster
DE2944368C2 (de) Verfahren zum Verlöten an sich nicht lötbarer Oberflächen
DE2122297A1 (de) Mit Vorflußmitteln überzogenes Lötpulver und Lötverfahren
DE2523009A1 (de) Silbermasse und ihre verwendung
DE2556560A1 (de) Material zum verbinden von glassubstraten und verfahren zum herstellen solcher verbindungen
DE2912402A1 (de) Glasartiges material fuer einen elektrischen widerstand und verfahren zu dessen herstellung
DE3621667A1 (de) Mit einer mehrzahl von dickfilmen beschichtetes substrat, verfahren zu seiner herstellung und dieses enthaltende vorrichtung
DE2650466C2 (de) Elektrischer Widerstand
DE1796088B2 (de) Verfahren zum herstellen eines haftenden, duennen, leitfaehigen films auf einem keramischen werkstueck
DE2550275C2 (de) Verfahren zum Herstellen von Barrieren für Lötzinn auf Leiterzügen
DE2324327C2 (de) Keramisches Material für den Gebrauch in Widerstandspasten zur Herstellung von Dickschichtwiderständen und Verfahren zur Herstellung dieses Materials
DE2640316A1 (de) Material fuer einen elektrischen widerstand und verfahren zur herstellung eines widerstandes
EP2844414B1 (de) Verfahren zur herstellung eines metallisierten aus aluminium bestehenden substrats
DE2606963C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer hartlötbaren Dickschichtschaltung auf ein vorzugsweise aus einer Oxidkeramik bestehendes Trägerplättchen
DE2010920B2 (de) Zusammensetzung zur Beschichtung eines Substrates mit einem anorganischen Material
DE1646606A1 (de) Metallisierungs-Zusammensetzung
DE1596934A1 (de) Den elektrischen Strom leitende Loetglasmischungen und Verfahren zum Aufbringen derselben auf Glasoberflaechen
DE3900741A1 (de) Verfahren zum abschliessen eines bleigefuellten kondensators und danach hergestellter kondensator
DE3502370A1 (de) Verfahren zur herstellung von dickschichtstrukturen
DE3016412A1 (de) Temperaturabhaengiges elektrisches bauelement und verfahren und material zur herstellung desselben

Legal Events

Date Code Title Description
8139 Disposal/non-payment of the annual fee