DE3430145A1 - Halbleiter-speichereinrichtung - Google Patents

Halbleiter-speichereinrichtung

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DE3430145A1 DE19843430145 DE3430145A DE3430145A1 DE 3430145 A1 DE3430145 A1 DE 3430145A1 DE 19843430145 DE19843430145 DE 19843430145 DE 3430145 A DE3430145 A DE 3430145A DE 3430145 A1 DE3430145 A1 DE 3430145A1
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Description

TER MEER ■ MÜLLER ■ STEINMEISTKR : " '~- Mitsubishi Denki K. K.
BESCHREIBUNG
Die Erfindung betrifft eine Halbleiter-Speichereinrichtung gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Eine zum Stand der Technik gehörende Halbleiter-Speichereinrichtung der genannten Art ist beispielsweise in Figur 1 dargestellt- Sie umfaßt MOS-FeIdeffekttransistoren 1, 2, 3 und 4 vom Anreicherungstyp, die nachstehend als MOSFETs bezeichnet werden.
Die Drain-Anschlüsse des P-Kanal MOSFET 1 und des N-Kanal MOSFET 2 sind miteinander verbunden, ebenso wie ihre Gate-Anschlüsse. Der Source-Anschluß des MOSFET 1 ist mit einer Stromversorgungsklemme 5 verbunden, während der Source-Anschluß des MOSFET an Erde liegt, so daß dadurch ein komplementärer MOS-Inverter 30a, im folgenden als CMOS-Inverter bezeichnet, gebildet wird. In entsprechender Weise wird durch den P-Kanal MOSFET 3 und den N-Kanal MOSFET 4 ein CMOS-Inverter 30b geschaffen.
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Durch diese beiden Inverter 30a und 30b wird eine bistabile Schaltung, also ein Flip-Flop erhalten. Dazu ist jeweils der Ausgang eines Inverters 30a, 30b mit dem Eingang des jeweils anderen Inverters 30b, 30a verbunden. Mit anderen Worten sind die Drain-Anschlüsse des P-Kanal MOSFETs 1 und des N-Kanal MOSFETs 2 mit den Gate-Anschlüssen des N-Kanal MOSFETs 4 und des P-Kanal MOSFETs 3 verbunden, während die Drain-Anschlüsse des P-Kanal MOSFETs 3 und des N-Kanal MOSFETs 4 mit den Gate-Anschlüssen des P-Kanal MOSFETs 1 und des N-Kanal MOSFETs 2 verbunden sind. Auf diese Weise wird eine Ein-Bit Speicherzelle 30 gebildet.
TER MEER -MÜLLER ■ STEINMEIgT^- ' ^Mitsubishi Denki K. K.
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Die N-Kanal MOSFETs 6 und 7, die als Übertragungstore zur Steuerung von Einschreib- und Ausleseoperationen verwendet werden, sind jeweils mit ihren Drain-Anschlüssen (oder Source-Anschlüssen) mit den Drain-Anschlüssen der MOSFETs 1 und 2 bzw. der MOSFETs 3 und 4 verbunden, während die entsprechenden Source-Anschlüsse der MOSFETs 6 und (oder ihre Drain-Anschlüsse) jeweils mit Bit-Leitungen 8 und 9 verbunden sind, die als Informationsleitungen sowohl zum Einschreiben als auch zum Auslesen dienen. Die Gate-Anschlüsse der N-Kanal MOSFETs 6 und 7 sind ferner mit einer Wort-Leitung 10 verbunden, die als Steuerleitung bzw. Wählleitung für das Einschreiben als auch für das Auslesen dient.
Mit einer Stromversorgungsklemme 5 sind jeweils die Source- und Gate-Anschlüsse von N-Kanal MOSFETs 11 und 12 verbunden, während ihre Drain-Anschlüsse jeweils mit den Bit-Leitungen 8 und 9 verschaltet sind. Eine Informations-Eingangssignalleitung 13 ist mit dem Gate-Anschluß eines P-Kanal MOSFET 14 und dem Gate-Anschluß eines N-Kanal MOSFET 15 verbunden, welche eine Einschreibschaltung 40 bilden. Die Informations-Eingangssignalleitung 13 liegt zusätzlich am Drain-Anschluß (oder Source-Anschluß) eines N-Kanal MOSFET 16, der als Tor zur Steuerung der einzuschreibenden Information dient. Der Source-Anschluß (oder Drain-Anschluß) des MOSFET 16 ist mit der Bit-Leitung verbunden, während sein Gate-Anschluß mit einer Einschreib-Steuersignalleitung 17 verbunden ist, welche zur Steuerung der Schreib- bzw. Speicheroperation der Speicherzelle 30 dient. Die Drain-Anschlüsse der MOSFETs 14 und 15 führen zum Drain-Anschluß (oder Source-Anschluß) eines N-Kanal MOSFET 18, der ebenfalls als Tor zur Steuerung
TER MEER · MÖLLER · STEINMEISTER: ; Mitsubishi Denki K. K.
von einzuschreibenden Daten dient. Der Source-Anschluß (oder Drain-Anschluß) des N-Kanal MOSFET ist mit der Bit-Leitung 8 und sein Gate-Anschluß mit der Einschreib-Steuersignalleitung 17 verbunden. Auf diese Weise können die MOSFETs 16 und 18 über ihre jeweiligen Drain- und Source-Anschlüsse die Ausgangssignale der Einschreibschaltung 4 0 zu den Bit-Leitungen 8 und 9 übertragen. Beispielsweise liegt der Source-Anschluß des N-Kanal MOSFET 15 an Erde, während der Source-Anschluß des P-Kanal MOSFET 14 mit der Stromversorgungsklemme 5 verbunden ist.
Zur Speicherung von Information sind eine Vielzahl von Speicherzellen 30 und MOSFETs 6, 7 matrixförmig angeordnet. Dabei kann eine gewünschte Speicherzelle 30 zum Einschreiben von Information bzw. zum Auslesen direkt und wahlfrei angesteuert werden. Während in der Speicherzelle 30 Daten gespeichert sind, wird die Wortleitung 10 bei nahezu einer Nullspannung gehalten, so daß die MOSFETs 6 und 7 abgeschaltet bzw. unterbrochen sind. Die Speicherzelle 30, die durch die MOSFETs 1, 2, 3 und 4 gebildet ist, ist dann elektrisch von den Bit-Leitungen 8 und 9 getrennt. Sie befindet sich in einem von zwei stabilen Zuständen, wenn die Gate-Anschlüsse der MOSFETs 1 und 2 auf L-Pegel (Low-Pegel) gehalten werden. Zu dieser Zeit befindet sich der MOSFET 1 in seinem eingeschalteten
3Q Zustand, wobei sein Drain-Anschluß auf H-Pegel (High-Pegel) liegt. Dementsprechend liegen die Gate-Anschlüsse der MOSFETs 3 und 4 ebenfalls auf Η-Pegel, wodurch der MOSFET 4 eingeschaltet wird und sein Drain-Anschluß den L-Pegel annimmt.
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Befindet sich die Speicherzelle 30 in diesem stabilen Zustand, so kann in sie Information dadurch einge-
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schrieben werden, daß eine der Information entsprechende Spannung an die Bit-Leitungen 8 und angelegt wird, und daß die Wort-Leitung 10 mit einer Spannung mit Η-Pegel zur Adressierung der Speicherzelle 30 beaufschlagt wird.
Im folgenden sei angenommen, daß der logische Wert "1" in die Speicherzelle 30 eingeschrieben werden soll. Dazu wird an die Einschreib-Steuersignalleitung 17 die Spannung "H" (Η-Pegel) angelegt, wodurch die MOSFETs 16 und 18 eingeschaltet werden. Darüberhinaus wird eine Spannung "H", die dem logischen Wert "1" entspricht, an die Informations-Eingangssignalleitung 13 angelegt. Hierdurch wird die Bit-Leitung 9 über den MOSFET 16 auf H-Pegel gelegt. Zusätzlich werden die Gate-Anschlüsse der MOSFETs 14 und 15 auf Η-Pegel gehalten, wodurch der MOSFET 14 aus- und der MOSFET 15 eingeschaltet werden. Dadurch wird den Drain-Anschlüssen der MOSFETs 14 und 15 der L-Pegel zugeführt, der dann über' den MOSFET 18 auch an der Bit-Leitung 8 anliegt.
Nimmt in diesem Zustand die Wort-Leitung 10 den Η-Pegel an, so werden die MOSFETs 6 und 7 eingeschaltet. Hierdurch gelangen die Potentiale der Bit-Leitungen 8 und 9 an die Speicherzelle 30. Als Folge davon wird der MOSFET 1 ausgeschaltet, während der MOSFET 2 eingeschaltet wird, so daß sich die Zustände der MOSFETs 1,2, 3 und 4 umkehren.
Die Speicherzelle 30 geht in ihren anderen stabilen Zustand über, was gleichbedeutend mit der Speicherung der Information "1" ist. Anschließend werden an die Wort-Leitung 10 und an die Einschreib-Steuersignalleitung 17 Spannungen mit L-Pegel gelegt. Die Schreib- bzw. Speicheroperation ist damit beendet.
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Soll Information aus der Speicherzelle 30 ausgelesen werden, so wird eine Spannung mit derselben Amplitude wie beim Einschreibvorgang an die Wort-Leitung 10 gelegt, wodurch die MOSFETs 6 und 7 wiederum eingeschaltet werden. Dies bietet eine Gewähr dafür, daß die elektrischen Ladungen, die über die MOSFETs 11 und 12 in den Bit-Leitungen 8 und 9 gespeichert sind, durch die in der Speicherzelle 30 gespeicherte Information absorbiert werden, wodurch eine Potentialdifferenz zwischen den Bit-Leitungen 8 und 9 in Übereinstimmung mit der gespeicherten Information in der Speicherzelle 30 entsteht. Auf diese Weise wird die gespeicherte Information zu den Bit-Leitungen 8 und 9 übertragen, die anschließend durch einen Lesesignal-Verstärker verstärkt und ausgegeben wird.
Zur Durchführung der genannten Leseoperation ist es üblich, die Bit-Leitungen 8 und 9 vorher soweit über die MOSFETs 11 und 12 aufzuladen, bis sie auf einer Spannung mit Η-Pegel liegen. Dies ist wichtig, um beim Einschreibvorgang eine fehlerhafte Übertragung der Information von den Bit-Leitungen 8 und 9 in die Speicherzelle 30 zu verhindern. Diese fehlerhafte Übertragung könnte dann auftreten, wenn die MOSFETs 6 und 7 zu einem Zeitpunkt eingeschaltet werden, zu dem die Bit-Leitungen 8 und 9, die eine große parasitäre Kapazität besitzen, mit Information beaufschlagt sind, die der in der Speicherzelle 30 gespeicherten Information entgegengesetzt ist.
Bei der oben beschriebenen Halbleiter-Speichereinrichtung nach dem Stand der Technik werden die Bit-Leitungen 8 und 9 permanent geladen, ungeachtet der Tatsache, daß eine Aufladung nur erforderlich ist, wenn eine Ausleseoperation durchgeführt werden soll.
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Beim Einschreib- bzw. Speicherprozess überlagern sich daher die elektrischen Ladungen sowie die einzuschreibende Information. Hierdurch ergeben sich ein Mehrverbrauch an elektrischer Leistung sowie eine Herabsetzung der Arbeitsgeschwindikeit der Halbleiter-Speichereinrichtung.
In dem Aufsatz "A 4K Static 5V RAM" von Jeffrey M. Schlageter et al, erschienen zur International Solid-state Circuit Conference, 1976, ist eine derartige konventionelle Methode zur Steuerung des Einschreib- bzw. Leseprozesses bei den genannten Halbleiter-Speichereinrichtungen beschrieben. Dort wird ausgeführt, daß nach Löschung eines Arbeitssignals die Bit- und Daten-Leitungen mit einer Zwischenspannung in Bezug auf die Netz-Spannung beaufschlagt werden.
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Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Halbleiter-Speichereinrichtung der genannten Art so weiterzubilden, daß sie eine erhöhte Arbeitsgeschwindigkeit bei gleichzeitiger Verringerung der Leistungsaufnahme besitzt.
Die Lösung dieser Aufgabe ist im Anspruch 1 angegeben.
Vorteilhafte Weiterbildungen sind den Unteransprüchen zu entnehmen.
Die Halbleiter-Speichereinrichtung nach der Erfindung umfaßt im wesentlichen wenigstens eine aus MOSFETs bestehende Speicherzelle, eine Bitleitung zur Übertragung von in die Speicherzelle einzuschreibender und aus ihr ausgelesener Information, eine Einschreib-Steuersignalleitung zur Steuerung des Einschreibens von Information in die Speicherzelle, einen MOSFET von einem ersten Leitfähigkeitstyp zur Aufladung der Bitleitung, wenn keine Information in die Speicherzelle eingeschrieben wird, dessen Source-Anschluß mit einer Stromversorgungsklemme, dessen Gate-Anschluß mit der Einschreib-Steuersignalleitung und dessen Drain-Anschluß mit der Bitleitung verbunden sind, und einen MOSFET von einem zweiten Leitfähigkeitstyp, dessen Drain-Anschluß (oder Source-Anschluß) mit der Bitleitung, dessen Gate-Anschluß mit der Einschreib-Steuersignalleitung und dessen Source-Anschluß (oder Drain-Anschluß) mit dem Ausgang einer Schreibschaltung zum Einschreiben von Information in die Speicherzelle verbunden sind, wobei der MOSFET vom zweiten Leitfähigkeitstyp zur Übertragung eines Ausgangssignals der Schreibschaltung zu der Bitleitung dient.
TER MEER -MÜLLER ■ 8TBNMB^R; ' : M,i^nbjghi,.t)anki K. K.
Bei der erfindungsgemäßen Halbleiter-Speichereinrichtung wird eine Bitleitung über einen MOSFET aufgeladen, der über die Einschreib-Steuersignalleitung unmittelbar angesteuert wird, wenn keine Information in die Speicherzelle eingeschrieben werden soll. Soll dagegen Information in die Speicherzelle eingeschrieben werden, so wird der MOSFET so angesteuert, daß keine Aufladung der Bitleitung erfolgt, so daß eine Überlagerung von einzuschreibender Information ■iQ und Ladespannung in einer Bitleitung vermieden wird.
Nach einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung sind für eine Speicherzelle zwei Bitleitungen vorgesehen, wobei jeweils zwei MOSFETs vom ersten und zweiten Leitfähigkeitstyp entsprechend vorhanden sind. Die Schreibschaltung besitzt einen Inverter, der an seinem Eingang die von außen ankommende Schreibinformation empfängt und diese Schreibinformation bzw. die invertierte Schreibinformation jeweils an unterschiedliche Bitleitungen über die genannten MOSFETs vom zweiten Leitfähigkeitstyp abgibt.
Beispielsweise können die MOSFETs vom ersten Leitfähigkeitstyp P-Kanal MOSFETs und die MOSFETs vom zweiten Leitfähigkeitstyp N-Kanal MOSFETs sein.
Die Zeichnung stellt ein Ausführungsbeispiel der Erfindung dar. Es zeigen:
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Figur 1 eine Schaltungsanordnung des Hauptteils einer
Halbleiter-Speichereinrichtung nach dem Stand der Technik, und
Figur 2 eine Schaltungsanordnung desjenigen Teils einer Halbleiter-Speichereinrichtung nach
der Erfindung, der dem in Figur 1 genannten
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Teil entspricht.
In der Figur 2 sind gleiche Elemente wie in Figur 1 mit gleichen Bezugszeichen versehen. Die Bitleitungen 8 und 9 sind mit P-Kanal MOSFETs 19 und 20 (MOSFETs vom ersten Leitfähigkeitstyp) verbunden, durch die sie aufgeladen werden. Jeder Source-Anschluß der MOSFETs 19 und 20 ist mit einer Stromversorgungsklemme 5 verbunden, während die entsprechenden Drain-Anschlüsse jeweils mit den Bitleitungen 8 und 9 verschaltet sind. Ihre Gate-Anschlüsse sind gemeinsam mit der Einschreib-Steuersignalleitung 17 verbunden. Die MOSFETs 19 und 20 werden durch ein geeignetes Signalpotential auf der Einschreib-Steuersignalleitung 17 nur dann eingeschaltet, wenn keine Information in die Speicherzelle 30 eingeschrieben werden soll, wodurch die Bitleitungen 8 und 9 über die entsprechenden Source- bzw. Drain-Anschlüsse der MOSFETs 19 und 20 aufgeladen werden.
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Es sind weiterhin N-Kanal MOSFETs 16 und 18 (MOSFETs vom zweiten Leitfähigkeitstyp) vorhanden, die dazu dienen, die von einer Schreibschaltung 40 ausgegebene Schreibinformation bzw. die dazu invertierte Schreibinformation an jeweils unterschiedliche Bitleitungen 9 und 8 zu übertragen, wie bereits unter Figur 1 erläutert.
Zur Erläuterung der Betriebsweise des erfindungsgemäßen Halbleiterspeichers sei angenommen, daß die Spannung auf der Wortleitung 10 den L-Pegel (Low-Pegel) einnimmt, wodurch die MOSFETs 6 und 7 ausgeschaltet werden, derart, daß die MOSFETs 1, 2, 3 und 4 von den Bitleitungen 8 und 9 elektrisch getrennt sind. Die Speicherzelle 30 befindet sich dann in einem stabilen Zustand, wobei die Drain-Anschlüsse der MOSFETs 1 und 2 auf Η-Pegel und die-
TER MEER . MÜLLER · STEINMEIgTTKR; I ^l tsuhqsili ; Denki K. K.
jenigen der MOSFETs 3 und 4 auf L-Pegel liegen.
Soll in diesem Zustand die Information "1" in die Speicherzelle 30 eingeschrieben werden, so wird die der Information "1" entsprechende Spannung "H" (High-Pegel) an ^e Informations-Eingangssignalleitung 13 angelegt, während die Einschreib-Steuersignalleitung 17 auf Η-Pegel liegt. Zu diesem Zeitpunkt sind die MOSFETs 19 und 20 ausgeschaltet, während die MOSFETs 16 und 18 eingeschaltet sind. Da der MOSFET 14 ausgeschaltet und der MOSFET 15 durch die an der Informations-Eingangssignalleitung 13 anliegende Spannung auf Η-Pegel eingeschaltet ist, wird eine Spannung mit L-Pegel an die Bitleitung 8 übertragen. Dagegen wird die Spannung an der Informations-Eingangssignalleitung 13 direkt über den MOSFET 16 auf die Bitleitung 9 übertragen, die den Η-Pegel annimmt.
Um die Einschaltoperation zum Abschluß zu bringen, wird eine Spannung mit Η-Pegel an die Wortleitung 10 gelegt, wodurch die MOSFETs 6 und 7 eingeschaltet werden. Daraufhin nehmen die Gate-Anschlüsse der MOSFETs 1 und 2 den Η-Pegel ein, während die Gate-Anschlüsse der MOSFETs 3 und 4 auf L-Pegel gezogen werden. Danach ist das Einschreiben der Information "1" in die Speicherzelle 30 beendet. Die Einschreiboperation wird abgeschlossen, indem sowohl die Wortleitung 10 als auch die Einschreib-Steuersignalleitung 17 wieder auf L-Pegel gelegt werden.
Soll die gespeicherte Information aus der Speicherzelle 30 ausgelesen werden, so werden an die Wortleitung 10 und die Einschreib-Steuersignalleitung 17 wiederum Spannungen mit L-Pegel angelegt. Dies hat zur Folge, daß die MOSFETs 19 und 20 eingeschaltet
TER meer - möller ■ steinmeister: - : j^tsubishi Denki K. K.
werden, so daß die Bitleitungen 8 und 9 mit Hilfe der Netzspannung aufgeladen werden. Sodann wird die Wortleitung 10 auf Η-Pegel gelegt, wodurch die MOSFETs 6 und 7 eingeschaltet werden und die elektrischen Ladungen auf den Bitleitungen 8 und 9 in Übereinstimmung mit der in der Speicherzelle gespeicherten Information absorbiert werden. Auf diese Weise wird zwischen den Bitleitungen 8 und 9 eine Potentialdifferenz in Übereinstimmung mit der in der Speicherzelle 30 gespeicherten Information erzeugt. Die zu den Bitleitungen 8 und 9 übertragene Information wird mit Hilfe eines Lesesignalverstärkers verstärkt und dann einem Ausgang bzw. einer Ausgangskiemme zugeführt.
15
Im vorhergehenden wurde die Erfindung im Zusammenhang mit einem Schreib/Lesespeicher mit wahlfreiem Zugriff beschrieben. Sie ist auf derartige Speicher jedoch nicht beschränkt.
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Darüberhinaus können eine Vielzahl von Halbleiter-Speichereinrichtungen vom CMOS-Typ mit Hilfe der Großtxntegrationstechnik matrixförmig angeordnet sein, wobei in jeder Spalte eine Schreibschaltung und ein Lesesignalverstärker vorhanden sind. In diesem Fall ergibt sich eine besonders hohe Arbeitsgeschwindigkeit bei gleichzeitiger weiterer Reduzierung der elektrischen Leistungsaufnahme.
Nach der Erfindung werden die Bitleitungen 8 und 9 mit Hilfe von MOSFETs 19, 20 aufgeladen, die direkt durch die Einschreib-Steuersignalleitung 17 angesteuert werden, derart, daß die Aufladung der Bitleitungen 8 und 9 nur vorgenommen wird, wenn keine Information in die Speicherzelle 30 eingeschrieben wird. Hieraus ergibt sich der Vorteil, daß keine
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Kollision zwischen der Ladespannung zum Aufladen der Bitleitungen 8 und 9 und der Schreibinformation bzw. der einzuschreibenden Information entstehen kann, was zu einer erhöhten Arbeitsgeschwindigkeit und zu einer Verringerung der elektrischen Leistungsaufnahme der Halbleiter-Speichereinrichtung führt.
- Leerseite -

Claims (3)

TER MEER-MÜLLER-STEINMEISTER PATENTANWÄLTE - EUROPEAN PATENT ATTORNEYS Dipl.-Chem. Dr. N, ter Meer Dipl.-ing. H. Steinmeister Dipl.-Ing, F. E. Müller Λ . . . . . _ Triftstrasse A1 Artur-Ladebeck-Strasse 51 D-8OOO MÜNCHEN 22 D-48OO BIELEFELD 1 Mü/ür/b Case: F-3273-04 · 16. August 1984 MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA 2-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, Japan Halbleiter-Speichereinrichtung Priorität: 17. August 1983, Japan, Ser.No. 58-151262 (P) PATENTANSPRÜCHE
1. Halbleiter-Speichereinrichtung,
gekennzeichnet durch wenigstens
- eine aus MOSFETs bestehende Speicherzelle (30),
- eine Bitleitung (8, 9) zur Übertragung von in die Speicherzelle einzuschreibender und aus ihr ausgelesener Information,
- eine Einschreib-Steuersignalleitung (17) zur Steuerung des Einschreibens von Information in die Speicherzelle,
- einen MOSFET (19, 20) von einem ersten Leitfähigkeitstyp zur Aufladung der Bitleitung (8, 9), wenn keine Information in die Speicherzelle (30) einge-
TER MEER -MÜLLER · STEINMEIOTtZR- " '- ; ;Ml:tsub>sh--i: Denki K. K.
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schrieben wird, dessen Source-Anschluß mit einer Stromversorgungsklemme (5), dessen Gate-Anschluß mit der Einschreib-Steuersignalleitung (17) und dessen Drain-Anschluß mit der Bitleitung (8, 9) verbunden sind, und
- einen MOSFET (18, 16) von einem zweiten Leitfähigkeitstyp, dessen Drain-Anschluß (oder Source-Anschluß) mit der Bitleitung (8, 9), dessen Gate-Anschluß mit der Einschreib-Steuersignalleitung (17) und dessen Source-Anschluß (oder Drain-Anschluß) mit dem Ausgang einer Schreibschaltung (40) zum Einschreiben von Information in die Speicherzelle (30) verbunden sind, wobei der MOSFET (18, 16) vom zweiten Leitfähigkeitstyp zur Übertragung eines Ausgangssignals der Schreibschaltung zu der Bitleitung (8, 9) dient.
2. Halbleiter-Speichereinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
- daß für eine Speicherzelle (30) zwei Bitleitungen (8, 9) vorgesehen sind,
- daß jeweils zwei MOSFETs vom ersten und zweiten Leitfähigkeitstyp entsprechend vorhanden sind, und
- daß die Schreibschaltung (40) einen Inverter umfaßt, der an seinem Eingang die von außen ankommende Schreibinformation empfängt und diese. Schreibinformation bzw. die invertierte Schreibinformation jeweils an unterschiedliche Bitleitungen (9, 8) über die MOSFETs (16, 18) vom zweiten Leitfähigkeitstyp abgibt.
3. Halbleiter-Speicheranordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die MOSFETs (19, 20) vom ersten Leitfähigkeitstyp P-Kanal MOSFETs und die MOSFETs (18, 19) vom zweiten Leitfähigkeitstyp N-Kanal MOSFETs sind.
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