DE3424074A1 - Zahnpflegemittel - Google Patents
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Description
SHIKEN, Ltd.
12-go, 2-ban, 3-chome, DaidO/ Tennoji-ku, Osaka-shi,
Osaka-fu, Japan
Zahnpflegemittel
Die Erfindung bezieht sich auf ein Zahnpflegemittel gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Die Erfindung liegt somit auf dem Gebiet von bestimmten Kosmetika und quasi Pharmazeutika und betrifft insbesondere
die Zusammensetzung eines Zahnreinigungsmittels (im folgenden als "Zahnpflegemittel" bezeichnet)
, das täglich zum Entfernen der Flecken, des Zahnsteins unddes Zahnbelags von den Zähnen und ebenfalls
zum Entfernen der Speisereste aus den Spalten zwischen den Zähnen verwendet wird, um die Mundhöhle
zu reinigen und ihre Sauberkeit zu erhalten. Das Zahnpflegemittel umfaßt ein Zahnpulver und eine Zahnpaste,
die vollständig oder halbverknetet sind.
Die weitverbreitet verwendeten Zahnpflegemittel bestehen
im allgemeinen aus einem Polier- oder Reinigungsmittel, einem Schaummittel, einem Binder und aus
anderen Komponenten, d.h. gewöhnlichen Komponenten. Diese gewöhnlichen Komponenten sind nur wirksam,
Flecken von den Zähnen mittels einer physikalischen Schleifwirkung des Poliermittels und einer Zahnbürste
zu entfernen. Die dabei innerhalb der Mundhöhle erzeugten Schäume spielen ebenfalls eine beträchtliche Rolle.
Die bekannten Zahnpflegemittel haben jedoch den Nachteil,
daß der Oberflächenschmelz der Zähne verletzt wird, wenn die Schleifwirkung des Schleifmittels und
der Zahnbürste zu groß ist. Entsprechend haben die bekannten Zahnpflegemittel nur eine begrenzte Wirkung
beim Reinigen der Zähne und es ist im allgemeinen unmöglich, den Zahnstein von den Zähnen zu entfernen.
Aufgrund der oben beschriebenen Tatsache soll mit der
Erfindung ein Zahnpflegemittel geschaffen werden, bei dem eine fotokatlytische Reaktion aufgrund eines in
dem Zahnpflegemittel enthaltenen Halbleitermaterials und der auf das Material einfallenden Lichtenergie
ausgelöst wird, wodurch das Zahnpflegemittel eine wesentlich höhere Reinigungswirkung als die bekannten
Zahnpflegemittel hat, die nur durch physikalisches Schleifen der Zähne wirken.
Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Zahnpflegemittel der eingangs genannten Art, das ein
Poliermittel, ein Schaummittel, einen Binder und andere
übliche Bestandteile umfaßt, so weiterzubilden, daß eine fotokatalytische Reaktion ausgelöst wird.
Diese Aufgabe wird durch die in Anspruch 1 gekennzeichnete Erfindung gelöst, d.h. dadurch, daß in dem
Zahnpflegemittel ein Pulver eines η-Typ Halbleiters vorgesehen ist.
Gemäß der Erfindung wird nämlich das Pulver des n-Typ Halbleiters rings um den Zahnstein oder den Zahnbelag
verteilt, wobei sich Wasser oder Speichel zwischen den Pulverpartikeln und dem Zahnstein oder dem Zahnbelag
befindet, wenn das Zahnpflegemittel verwendet wird. Das Licht, das natürliches Licht sein kann, trifft
auf das Halbleiterpulver und erzeugt darin erregte Fotoelektronen. Entsprechend entstehen in jedem Pulverpartikel
eine Anzahl Löcher infolge der elektrischen Potentialdifferenz in den Leitungsbändern, wobei
diese Bänder in der dünnen Oberflächenschicht der Halbleitermaterialien liegen. Diese Löcher neigen dazu,
Elektronen aus dem Wasser aufzunehmen, so daß OH-Radikale erzeugt werden, die chemisch aktiv und instabil
sind.
Einzelheiten des obigen Mechanismus werden im folgenden dargestellt, wobei ein Pulver aus Titandioxid (TiO2)
als Halbleiterpulver verwendet wird.
Entsprechend dem ersten Schritt (1) werden in den dünnen
Oberflächensichten
folgt ausgebildet:
folgt ausgebildet:
Oberflächensichten der Ti02-Partikel die Löcher wie
P+ + e" (1)
wobei P jeweils eins der Löcher, und e"~ eins der erregten
Elektronen darstellt.
Die Löcher der TiO2-Partikel nehmen dann die im Speichel
enthaltenen Elektronen aus den Wassermolekülen auf. Dieser Prozeß wird durch die folgende Formel dargestellt
und als zweiter Schritt (2) bezeichnet:
H2O + P+ -OH + H+ (2)
wobei ·0Η jeweils eins der OH-Radikale darstellt.
Der zweite Schritt (2) ist schematisch in der einzigen Figur der Zeichnung dargestellt.
Die OH-Radikale wirken auf die organischen Substanzen und zersetzen organische Substanzen, wie den Zahnstein,
wie im folgenden dargelegt. Die Zersetzμng des Zahnsteins
führt zu einer Abnahme der mittels des Zahnsteins erzeugten Säuren, so daß eine Asch-Extraktion
(Extraktion von Kalziumkarbonat aus den
Zähnen), die aufgrund eines niedrigeren pH-Wertes der
Zähne bewirkt wird, verhindert wird.
Es wird angenommen, daß die oben erwähnte Zersetzung wie folgt abläuft. Der Hauptbestandteil des Zahnsteins
der Zähne ist nämlich Dextran, welches ein Polykondensat von Glukosemolekülen ist und von den aktiven OH-Radikalen
angegriffen wird, so daß es entsprechend der folgenden Formel (3) zerfällt:
CH-OHI\OH
2 N + n/2 O2 (3)
H OH
Glukose
Glukose
— 6 —
wobei η eine ganze Zahl ist.
wobei η eine ganze Zahl ist.
Es wird weiter angenommen, daß die aktiven OH-Radikale
sehr wirksam auf einige organische Säuren, wie z.B. Milchsäure /CH^CH(OH)COOH/ wirken und diese zersetzen,
wodurch eine Asch-Extraktion der Zähne bewirkt wird. Die Zersetzung der Milchsäure findet nach der folgenden
Formel (4) statt:
CH3-CH-COOH >
CO2 (4)
Es ist verständlich, daß das Zahnpflegemittel gemäß der Erfindung wirksam die Zähne vor Verfall und Vereiterung
schützt und weiter das. Reinigen der Zähne beschleunigt. Der Oberflächenschmelz der Zähne wird
nicht verletzt, da 'es bei dem erfindungsgemäßen Zahnpflegemittel
nicht erforderlich ist, übermäßig starke physikalische Kraft aufzuwenden, die sonst auf die
Zähne bei Verwendung bekannter Zahnpflegemittel ausgeübt wird.
Der wichtigste Vorteil der Erfindung beruht auf der Tatsache, daß das Pulver des η-Typ Halbleiters über
den gesamten Raum der Mundhöhle verteilt wird und mit der Zahnoberfläche ausschließlich auf den Rückseiten
der Zähne in Berührung kommt, wodurch das Halbleiterpulver eine ausgezeichnete Wirkung bei der Verhinderung
ow des Zahnverfalls und der Zahnvereiterung hat. Diese
Wirkung ist wesentlich besser als bei der Verwendung einer Zahnbürste, an der ein η-Typ Halbleiterstück befestigt
ist, wobei eine photo-elektrochemische Wirkung
des Stücks verwendet wird.
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Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden im folgenden beschrieben und anhand der Zeichnung erläutert.
Es zeigt:
Fig. 1 den Mechanismus der Erzeugung der OH-Radikale,
der sich abspielt, wenn Lichtstrahlen auf TiO„—Pulver im Speichel strahlen.
Eine erste Ausführungsform des Zahnpflegemittels ist
eine sogenannte Zahncreme, die folgende Bestandteile umfaßt (wie in Tabelle 1 gezeigt):
1. Kalziumhydrogenphosphat als Polier- oder Reinigungsmittel;
2. in Propylenglycol gelöstes Sorbit als Benetzungsmittel;
3. Natriumlaurylsulfat als Schaummittel;
4. Carboxymethylcellulose als Bindemittel;
5. andere Bestandteile wie Konservierungsmittel, reines Wasser, Duft- und Süßmittel;
6. Chlorhexidinhydrochlorid als Entkeimungsmittel; und 25
7. ein Pulver aus Titandioxid (TiO^) als Pulver eines
η-Typ Halbleiters.
Die obigen Bestandteile sind in der Zahncreme in dem in der Tabelle 1 angegebenen Gewichtsverhältnis
(Gew.%) enthalten.
Das TiC^-Pulver kann eine photoelektromotorische Kraft
in einer geeigneten Lösung schaffen und dient als
Photokatalysator, wenn es durch in die Mundhöhle während
des Zähneputzens eindringendes Licht bestrahlt wird.
— β mm
3Α2Α074
Insbesondere wird das TiO2~Pulver durch Reinigen,
Kalzinieren und darauffolgendes Pulverisieren einer Menge von Rohilmenit hergestellt. Bevorzugte Gewichtsprozentbereiche
des Titandioxid liegen bei etwa 1 - 30 Gew.% für Zahncreme/ und bei etwa 1-60 Gew.%
für Zahnpulver.
Tabelle Anteile der Bestandteile
Bestandteile | Gew., % |
Calciumhydrogenphosphat | 42 |
Siliciumanhydrid | 2 |
Sorbit in Propylenglycol | 10 |
Natriumcarboxymethylcellulose | 1 |
Duftstoff, Saccharinnatrium | 1 |
Reines Wasser | 32,9 |
Chloriiexidinhydrochlorid | 4 |
Titandioxid (TiO2) | 5 |
Paraoxybenzoat | 0,1 |
Natriumlaury!sulfat | 2 |
Andere Ausführungsformen sind wie folgt:
In einer zweiten Ausführungsform ist ein TiO2-Pulveranteil
von 30 Gew.% enthalten, wobei die Verhältnisse zwischen den anderen Bestandteilen unverändert sind.
In einer dritten Ausführungsform sind die Bestandteile ausgenommen des TiO2~Pulvers in von denen in Tabelle
angegebenen Anteilen unterschiedlichen Gewichtsprozenten enthalten, d.h. der Sulfatgehalt beträgt 4 Gew.%
und der Kalziumhydrogenphosphatanteil beträgt 40 Gew.%.
In einer vierten Ausführungsform, in der das TiO2-PuI-ver
der ersten Ausführungsform durch irgendein anderes Pulver eines η-Typ Halbleiters, wie z.B. Fe2O-.,
ersetzt ist, das für den menschlichen Körper ungefährlich ist, beträgt der Fe2O3-GeIIaIt 5 Gew.%.
In einer fünften Ausführungsform sind die Anteile der Bestandteile als auch der Anteil des TiO2-Pulvers von
denen in Tabelle 1 aufgeführten unterschiedliche.
Ein Ausführungsbeispiel der Bestandteile entsprechend der fünften Ausführungsform ist in Tabelle 2 angegeben
Tabelle Fünfte Ausführungsform
Bestandteile | Wirkung | Gew., % |
Calciumcarbonat | A | 40 |
gefälltes Calciumcarbonat | A | 40 |
Glycerin | B | 1,65 |
Natriumlaury!sulfat | C | 2 |
Äthylparaoxybenzoat | D | 0,1 |
Chlorhexidinglycolat | E | 0,1 |
Titandioxid (TiO3) | F | 10 |
Pfefferminz | G | 1,25 |
Saccharinnatrium | H | 0,1 |
Wasser | 4,8 |
- ίο -
Anmerkung: In Tabelle 2 bedeuten A die Poliermittel,
B das Benetzungsmittel, C das Schaummittel, D das Konservierungsmittel, E das Entkeimungsmittel,
F den η-Typ Halbleiter, G den Duftstoff, und H das Süßmittel.
Claims (2)
- PatentansprücheZahnpflegemittel, bestehend aus üblichen Bestandteilen, einschließlich mindestens einem Poliermittel, einem Schaummittel und einem Bindemittel, dadurch gekennz ei chnet, daß weiter ein Pulver eines N-Typ Halbleiters in dem Zahnpflegemittel enthalten ist.
- 2. Zahnpflegemittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Pulver Titandioxid ist, das durch Reinigen, Calzinieren und darauffolgendes Pulverisieren von Rohilmenit hergestellt wird.Asamstrasse 8, D-8000 München 90Patentanwalt Dr. Ing. Dipl.-Ing. A. SoIf (München)
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