DE3420741C2 - Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial - Google Patents
Elektrophotographisches AufzeichnungsmaterialInfo
- Publication number
- DE3420741C2 DE3420741C2 DE3420741A DE3420741A DE3420741C2 DE 3420741 C2 DE3420741 C2 DE 3420741C2 DE 3420741 A DE3420741 A DE 3420741A DE 3420741 A DE3420741 A DE 3420741A DE 3420741 C2 DE3420741 C2 DE 3420741C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- oxygen
- carbon
- gas
- recording material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 65
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 85
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 85
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 78
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 78
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 78
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 55
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 100
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 22
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 22
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 21
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 21
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 19
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 7
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 6
- QUZPNFFHZPRKJD-UHFFFAOYSA-N germane Chemical compound [GeH4] QUZPNFFHZPRKJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052986 germanium hydride Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 4
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 4
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N Acetylene Chemical compound C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910007264 Si2H6 Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-naphthalen-1-ylethylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCNC(=O)CCC(=O)O)=CC=CC2=C1 CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical class C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005096 Si3H8 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000000654 isopropylidene group Chemical group C(C)(C)=* 0.000 description 1
- 238000007648 laser printing Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08214—Silicon-based
- G03G5/08235—Silicon-based comprising three or four silicon-based layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08214—Silicon-based
- G03G5/08221—Silicon-based comprising one or two silicon based layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/09—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
- H01L31/095—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation comprising amorphous semiconductors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial
mit einem elektrisch leitfähigen Träger
1, einer photoleitfähigen Schicht 2 aus amorphem Silizium
und einer auf der photoleitfähigen Schicht 2 ausgebildeten
Isolierschicht 3 aus amorphem Silizium.
Durch die DE 31 51 146 ist ein elektrophotographisches
Aufzeichnungsmaterial bekannt, das eine Sperrschicht aus
amorphem Silizium, eine photoleitfähige Schicht aus amorphem
Silizium und eine Isolierschicht aus amorphem Silizium
aufweist, wobei die Isolierschicht mindestens eines der
Elemente Kohlenstoff, Stickstoff und Sauerstoff enthält.
Als Beispiele sind Isolierschichten aus amorphem Silizium
angegeben, die einen hohen Anteil von 39 bis 66 Atom-%
Sauerstoff oder 30 bis 90 Atom-% Kohlenstoff enthalten, was
bei Kopierbildern zu Bildverschmieren bzw. Bildunschärfe
führt.
Ein anderes elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial
ist aus der DE 31 43 764 bekannt, dessen photoleitfähige
Schicht aus amorphem Silizium besteht, das in Richtung der
Schichtdicke einen wachsenden Sauerstoffgehalt aufweist,
das jedoch keine Isolierschicht aus amorphem Silizium aufweist,
die gleichzeitig spezifische Mengen Sauerstoff und
Kohlenstoff enthält.
Die DE 31 17 037 zeigt ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial
mit einer Sperrschicht aus amorphem Silizium,
die 0,05 bis 1% Sauerstoff und 20 000 ppm eines
Elementes der III. Hauptgruppe des periodischen Systems
aufweist. Auch dieses Aufzeichnungsmaterial hat keine Isolierschicht
aus amorphem Silizium mit gleichzeitigen Gehalt
an spezifischen Mengen Sauerstoff und Kohlenstoff.
Derartige elektrophotographische Aufzeichnungsmaterialien,
deren photoleitfähige Schichten aus amorphem Silizium (im
nachfolgenden als a-Si bezeichnet) bestehen, haben jedoch
einen unzureichend niederen Dunkelkwiderstand, so daß nachteiligerweise
solche photoleitfähige Schichten auch nicht
mit einer genügenden Ladungs-Rückhaltewirkung ausgestattet
werden können. Um diesen Nachteil zu beseitigen, wird gemäß
der JP-PA Sho 54 145 539 vorgeschlagen, der photoleitfähigen
Schicht aus a-Si Sauerstoff und/oder Stickstoff zuzusetzen.
Dadurch wird jedoch die Lichtempfindlichkeit verschlechtert,
was ebenfalls unerwünscht ist.
Angesichts des vorstehenden Umstandes wurde in der
JP-PA SHO 57-115551 ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial vorgeschlagen,
das eine photoleitfähige Schicht aus a-Si aufweist,
auf der eine elektrisch isolierende Schicht aus a-Si aufgebracht
ist, und die einen großen Anteil Kohlenstoff aufweist.
Der Gehalt an Kohlenstoff in einem solchen
elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterial führt jedoch dazu, daß die
elektrophotographischen Eigenschaften in Abhängigkeit
von der Kohlenstoffmenge stark variieren. Wenn beispielsweise
die in der Isolierschicht aus a-Si enthaltene Kohlenstoffmenge
relativ klein ist, würde die Schicht selbst
keinen ausreichend hohen Widerstand aufweisen, aber auch
die Ermüdung durch Belichtung wäre groß und bei hoher Luftfeuchtigkeit
wird eine Bildunschärfe verursacht. Auf der
anderen Seite verbessert ein großer Kohlenstoffgehalt
das Ladungs-Rückhaltevermögen und die Lichtdurchlässigkeit
der Isolierschicht, verringert aber die Härte der Schicht.
Zusätzlich erscheinen bei hoher Luftfeuchtigkeit infolge
der Schichtdefekte auf dem Bild weiße Flecken.
Wenn darüber hinaus eine photoleitfähige Schicht aus
a-Si direkt auf einen elektrisch leitfähigen Untergrund
aufgebracht wird, erscheinen auf der erhaltenen Abbildung
Muster wie weiße Flecken oder Löcher. Dies ist auf die Defekte
der photoleitfähigen Schicht aus a-Si zurückzuführen,
die ein Abfließen der Ladungsträger verursachen. Solche
Defekte treten leicht in Abhängigkeit von dem Oberflächenzustand
und der Verunreinigung des elektrisch leitfähigen
Untergrundes auf. Weiterhin können Ladungen vom Schichtträger
her injiziert werden und verschlechtern die Dunkelabfallcharakteristik,
was wiederum dazu führt, daß das Ladungsrückhaltevermögen
schwach wird.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial
mit einer amorphes Silizium enthaltenden photoleitfähigen
Schicht zu schaffen, das ausgezeichnete elektrophotographische
Eigenschaften hat und insbesondere frei von belichtungsabhängiger
Ermüdung ist sowie eine hohe Lichtempfindlichkeit,
ein hohes Ladungsrückhaltevermögen und eine hohe Oberflächenhärte
aufweist und in der Lage ist, Abbildungen von guter Qualität
auch bei Langzeitbetrieb in sehr feuchter Umgebung zu liefern.
Diese Aufgabe wird gem. der vorliegenden Erfindung durch
ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial
gelöst, das durch die Merkmale des Patentanspruches
1 oder 2 gekennzeichnet ist.
Weitere erfindungsgemäße Merkmale des elektrophotographischen
Aufzeichnungsmaterials sind den Unteransprüchen
3-6 zu entnehmen.
Ausführungsformen der Erfindung werden anhand der folgenden
Figuren im einzelnen beschrieben. Es zeigt
Fig. 1 den Schichtaufbau des elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials
gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2 den Schichtaufbau des elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials
gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 3 den Schichtaufbau des elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials,
gemäß der dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 4 ein Glimmentladungs-Zerlegungsgerät zur
Herstellung des elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials gemäß
der vorliegenden Erfindung;
Fig. 5 eine grafische Darstellung der Beziehung
zwischen dem Lichtabschwächungsverhältnis und dem
Kohlenstoffgehalt in der Isolierschicht des
elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials,
Fig. 6 eine grafische Darstellung der Spektralempfindlichkeit des elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials; und
Fig. 7 eine grafische Darstellung der Beziehung zwischen
dem Restpotential und dem Borgehalt in der
Sperrschicht des elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials.
Fig. 1 zeigt den Aufbau eines elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials
gemäß der ersten Ausführungsform der Erfindung,
wobei 1 einen elektrisch leitfähigen Träger
und 2 eine photoleitfähige Schicht mit wenigstens
a-Si und 3 eine Isolierschicht mit a-Si, Kohlenstoff
und Sauerstoff bezeichnet, wobei die Schichten 2 und 3
in dieser Reihenfolge auf den Träger 1 aufgebracht sind.
Die a-Si enthaltende photoleitfähige Schicht 2,
die auf den Träger 1 aufgebracht ist, ist mit einer
Dicke von 5-100 µ, vorzugsweise
10-60 µ, beispielsweise mittels Glimmentladungs-Zerlegung
(Plasmaentladung) oder Zerstäubung aufgebracht.
Für die Herstellung der photoleitfähigen Schicht aus a-Si werden
beispielsweise Gase, wie SiH₄, Si₂H₆, B₂H₆ in eine
evakuierbare Reaktionskammer eingeführt, wobei H₂
oder Ar als Trägergas verwendet wird, und die Glimmentladung
wird unter Anlegen einer Hochfrequenzspannung
durchgeführt, wobei auf dem Träger die photoleitfähige
Schicht aus a-Si ausgebildet wird, die Wasserstoff und
weiterhin, falls erforderlich, Bor enthält. Um eine
photoleitfähige Schicht aus a-Si : Ge auszubilden, kann
parallel GeH₄-Gas zugeführt werden. Die auf diese Weise
ausgebildete photoleitfähige Schicht 2 kann einen
geringen Dunkelwiderstand aufweisen und um diesen zu
verbessern, können Fremdatome der Hauptgruppe III des
periodischen Systems und eine kleine Menge Sauerstoff
zugesetzt werden. Beispielsweise können, wie durch die
US-PA 254 189 bekannt, 10-40 Atom-% Wasserstoff,
weniger als 0,05 Atom-% Sauerstoff und 10-20 000 ppm
Bor in die photoleitfähige Schicht aus a-Si dotiert
werden, um den Dunkelwiderstand, ohne Beeinträchtigung
der Lichtempfindlichkeit, zu verbessern.
Eine a-Si enthaltende Isolierschicht 3 wird in gleicher
Weise auf der photoleitfähigen Schicht 2 mit einer Dicke
von 0,01 bis 3 µm, beispielsweise durch Glimmentladungszersetzung
oder Zerstäubung aufgebracht. Diese
Isolierschicht 3 hat einen größeren spezifischen Widerstand
als die photoleitfähige Schicht 2 und ihr spezifischer
Widerstand ist entweder über die gesamte Schichtdicke hinweg
gleichförmig oder wird von der Grenze zur photoleitfähigen
Schicht 2 bis zur Oberfläche hin größer. Die Isolierschicht
3 enthält insbesondere zu den Hauptbestandteilen
a-Si oder a-Si : Ge die Bestandteile Kohlenstoff und Sauerstoff.
Hierdurch wird der spezifische Widerstand der Isolierschicht
3 erhöht, sowie auch die elektrophotographischen
Eigenschaften des elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials, wie beispielsweise
die Oberflächenhärte und Lichtempfindlichkeit
merklich verbessert. Darüber hinaus ist das elektrophotographische
Aufzeichnungsmaterial als solches frei von Lichtermüdung
und vom Standpunkt der Umweltverschmutzung aus betrachtet
besser. Dabei ist zu beachten, daß die Oberflächenhärte
einer Isolierschicht, die nur mit Kohlenstoff
dotiert ist, mit steigendem Kohlenstoffgehalt fortschreitend
niedriger wird, so daß das elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial
mit einer solchen Isolierschicht nicht für Dauerkopierbetrieb
über eine lange Zeitdauer hinweg geeignet
ist.
Zusätzlich erscheinen, wenn in der Isolierschicht nur
Kohlenstoff enthalten ist, auf den Abbildungen weiße
Punkte, die zu Bildunschärfe führen.
Bei der vorliegenden Erfindung werden zahlreiche
vorstehend beschriebene Nachteile beseitigt, indem
der Isolierschicht 3 aus a-Si zusätzlich zu Kohlenstoff
Sauerstoff zugesetzt wird. Der Sauerstoffzusatz
verbessert merklich die Lichtdurchlässigkeit der
Isolierschicht 3, und gemäß den im nachfolgenden beschriebenen
Versuchen beträgt die Lichtempfindlichkeit des
elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials mit einer Isolierschicht,
die 5 Atom-% Sauerstoff zusätzlich zu 40 Atom-%
Kohlenstoff enthält, den 1,8fachen Wert einer
Schicht, die nur einen Kohlenstoffgehalt von 40 Atom-%
in der Isolierschicht aufweist. Auch wurde keine Verschlechterung,
sondern eine merkliche Verbesserung der
Oberflächenhärte der Isolierschicht 3 festgestellt. Darüber
hinaus wurden selbst bei hoher Luftfeuchtigkeit oder fortlaufendem
Kopieren für eine lange Zeitdauer Bilder hoher
Qualität erhalten, ohne daß Bildunschärfen oder weiße
Flecken auftraten.
Die Mengen Sauerstoff und Kohlenstoff, die der Isolierschicht
3 zugesetzt sind, unterscheiden sich für den Fall,
bei dem sie gleichmäßig über die gesamte Schicht
und für den Fall, daß sie in Richtung der Dicke mit
ansteigendem Gehalt, d. h., auf die Oberfläche der
Schicht 3, enthalten sind. Für den Fall, daß Kohlenstoff
und Sauerstoff gleichförmig in der Isolierschicht 3
enthalten sind, beträgt der vorzugsweise Gehalt an Kohlenstoff
5-65 Atom-% bezogen auf a-Si und eine
sehr kleine Menge (wie beispielsweise 0,01 Atom-%) bis
10 Atom-% Sauerstoff bezogen auf a-Si. Die Mindestmengen
sollten 5 Atom-% für Kohlenstoff und eine
sehr kleine Menge von 0,01 Atom-% für Sauerstoff
betragen, weil die darunterliegenden Mengen nicht ausreichen,
den spezifischen Widerstand der elektrischen
Isolierschicht 3 anzuheben und darüber hinaus die Lichtdurchlässigkeit
schwach wird und die Lichtermüdung
merkbar wird. Der Kohlenstoffgehalt sollte nicht 65
Atom-% und der Sauerstoffgehalt nicht 10 Atom-% überschreiten,
da die darüberliegenden Mengen zu Bildunschärfe
und Verschlechterung der Oberflächenhärte der
Schicht 3 führen.
Der Kohlenstoffgehalt in der Isolierschicht 3 sollte,
wie vorstehend beschrieben, 5-65 Atom-% und vorzugsweise
40-65 Atom-% betragen. Wenn der Kohlenstoffgehalt
unter 40 Atom-%, und insbesondere unter 30 Atom-%
liegt, würde der spezifische Widerstand der Isolierschicht,
selbst wenn Sauerstoff enthalten ist, nicht hoch genug sein.
Wenn z. B. mit Licht mit einer Wellenlänge von 400-650 nm
belichtet wird, würde dieses teilweise in der Isolierschicht
absorbiert, und dies kann zu Bildunschärfe bei den reproduzierten
Bildern führen. Ein Kohlenstoffgehalt von mehr
als 40 Atom-% stellt jedoch die Isoliereigenschaften der
Schicht 3 sicher, und das Licht wird erst in der photoleitfähigen
Schicht absorbiert. Demgemäß ist es empfehlenswert,
wenn der Kohlenstoffgehalt weniger als 40 Atom-%
in der Isolierschicht beträgt, daß ein solches elektrophotographisches
Aufzeichnungsmaterial, obwohl es an sich auch in einem Normalkopiergerät
verwendbar ist, in einem Kopiergerät mit
einer Belichtungsquelle mit einer längeren Wellenlänge
von z. B. 650 nm oder mehr, wie beispielsweise einem
Laserprinter, verwendet wird.
Wenn Kohlenstoff und Sauerstoff mit in Richtung der
Dicke variierendem Gehalt enthalten sind, sollte jede
Menge jeweils in Richtung der Dicke der Isolierschicht 3
fortlaufend ansteigen. In diesem Fall können in der
Schicht 3 1-65 Atom-% Kohlenstoff und eine
sehr kleine Menge 0,01 Atom-% bis 25 Atom-%
Sauerstoff enthalten sein. Es besteht keine Notwendigkeit,
die Mengen von Kohlenstoff und Sauerstoff zu verändern.
Statt dessen ist es möglich, die Menge Kohlenstoff
über die Schichtdicke hinweg gleichbleibend zu halten, und
die Menge Sauerstoff fortlaufend ansteigen zu lassen oder
umgekehrt. Im letztgenannten Fall, d. h. für den Fall,
daß die Sauerstoffmenge bei fortlaufend ansteigender
Kohlenstoffmenge konstant bleibt, sollte die Mindestmenge
Sauerstoff ungefähr 10 Atom-% betragen.
Um die Isolierschicht 3 mittels Glimmentladungszerlegung
zu erzeugen, werden O₂ und C₂H₄-Gase parallel
mit SiH₄-Gas (falls erforderlich, weiterhin GeH₄-Gas)
eingeführt. Wenn die Isolierschicht mit im wesentlichen
gleichförmigem spezifischem Widerstand über die Schichtdicke
hinweg ausgebildet werden soll, dann werden die
zuströmenden Mengen O₂ und C₂H₄-Gas bezogen auf das
SiH₄ (und GeH₄-Gas) konstant gehalten. Wenn der spezifische
Widerstand der Schicht 3 mit der Schichtdicke
ansteigen soll, sollte andererseits die
Menge des zuströmenden O₂- und/oder C₂H₄-Gases stufenweise
erhöht werden.
In der Fig. 2 wird die zweite Ausführungsform des
elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials gemäß der vorliegenden Erfindung
dargestellt, wobei 4 eine Sperrschicht oder Zwischenschicht
bezeichnet, die zwischen dem Träger 1 und
der photoleitfähigen Schicht 2 ausgebildet ist. Die
photoleitfähige Schicht 2 ist die gleiche wie vorstehend
anhand der Fig. 1 beschrieben.
Die Sperrschicht 4 enthält bei der ersten Ausführungsform
a-Si (oder a-Si : Ge), Sauerstoff und Fremdatome der
III. Hauptgruppe des periodischen Systems, d. h., die Sperrschicht
4 besteht aus a-SixO1-x mit einem
Fremdatomzusatz aus der III. Hauptgruppe. Diese Sperrschicht 4
wird auf dem Träger 1 durch Glimmentladungszerlegung oder
Zerstäuben mit einer Dicke von 0,003 bis 2 µm,
vorzugsweise 0,005 bis 0,5 µm und insbesondere 0,01 bis
0,2 µm aufgebracht. In der Sperrschicht 4 ist Sauerstoff
mit 5-60 Atom-% enthalten und dies erhöht
in merklichem Ausmaß den spezifischen Widerstand der
Schicht 4, um ein Eindringen von Ladungen von dem Träger 1
wirksam zu verhindern. Der Einschluß von Sauerstoff ist
auch bezüglich der Ausgleichswirkung und Beschichtungseigenschaften
der Sperrschicht auf den Träger wirksam. Sauerstoff
allein in a-Si oder a-Si : Ge würde jedoch ein Ansteigen
des Restpotentials verursachen, und deswegen enthält
die Sperrschicht 4 gemäß der vorliegenden Erfindung weiterhin
Fremdatome der III. Hauptgruppe des periodischen Systems,
vorzugsweise Bor, mit einer Menge von weniger als 200 ppm.
Der Zusatz von Bor ermögllicht, daß in der photoleitfähigen
Schicht 2 erzeugte Ladungsträger leichter durch die Sperrschicht
4 zum Träger 1 wandern können, und dies verhindert
auf wirksame Weise ein Ansteigen des Restpotentials.
Die in der Sperrschicht 4 enthaltene Sauerstoffmenge
sollte oberhalb von 5 Atom-% liegen, da darunterliegende
Mengen nicht ausreichen, den spezifischen Widerstand
der Schicht zu verbessern. Die Menge sollte 60 Atom-%
jedoch nicht überschreiten,
da sonst die Abbildungen wolkig
werden und ein Ansteigen des Restpotentials trotz der
Anwesenheit von Bor verursacht wird. Für Bor sollte
die Menge nicht 200 ppm überschreiten, weil die Ladungs-
Aufnahmemöglichkeit des elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials
mit einer 200 ppm überschreitenden Menge schlechter
wird.
Die Sperrschicht 4 gemäß einer zweiten Ausführungsform
enthält wenigstens a-Si (oder a-Si : Ge), Kohlenstoff
und Sauerstoff und ist mit der gleichen Dicke wie
bei der ersten Ausführungsform auf dem Träger 1 ausgebildet.
Diese Sperrschicht 4 enthält, bezogen auf a-Si
oder a-Si : Ge, 5-60 Atom-% Kohlenstoff und eine
sehr kleine Menge (0,01 Atom-%) bis 10 Atom-%
Sauerstoff. Der Gehalt an Kohlenstoff und Sauerstoff
erhöht nicht nur merklich den spezifischen Widerstand
der Sperrschicht 4, um ein Eindringen von Ladungen aus
dem Träger 1 wirksam zu verhindern, sondern auch den Ausgleichseffekt
und die Beschichtungseigenschaften der
Sperrschicht auf den Träger 1. Zusätzlich ermöglicht
der Zusatz von Sauerstoff zusammen mit Kohlenstoff eine
Bewegung der in der photoleitfähigen Schicht 2 erzeugten
Ladungsträger zum Träger 1, wodurch ein Ansteigen des
Restpotentials verhindert wird.
Die in der Sperrschicht 4 enthaltene Kohlenstoffmenge
sollte oberhalb von 5 Atom-% liegen, weil die
darunterliegende Menge nicht ausreicht, den spezifischen
Widerstand der Schicht 4 zu verbessern. Für Sauerstoff
sollte die Menge nicht 10 Atom-% überschreiten, da die
erzielten Abbildungen sonst wolkig werden. In diesem Zusammenhang
hat die Sperrschicht 4 die Dicke von 0,003 µm oder mehr,
weil die geringere Dicke dann unwirksam ist, ein Eindringen
der Ladungen aus dem Träger 1 zu verhindern, und weniger
als 2 µm, weil eine größere Dicke ein Ansteigen des
Restpotentials nicht verhindern kann. Ein gutes Ergebnis
wird mit einer Dicke von 0,005-0,5 µm und das beste Ergebnis
wird mit 0,01-0,2 µm erzielt.
Die Sperrschicht 4 der zweiten Ausführungsform kann
weiterhin ein Fremdatom der III. Hauptgruppe des periodischen
Systems, vorzugsweise Bor, mit einer Menge von weniger als
200 ppm enthalten. Zusammen mit Sauerstoff ermöglicht der
Kohlenstoff die Bewegung der Ladungsträger durch die Sperrschicht,
der Zusatz eines Fremdatoms der III. Hauptgruppe ermöglicht
jedoch, daß die Ladungsträger leichter beweglich
sind, so daß das Auftreten eines Restpotentials wirksam
verhindert wird. Bor kann der Sperrschicht 4 beispielsweise
durch Zuführen von B₂H₆-Gas parallel zum SiH₄
(und, falls erforderlich GeH₄)-Gas, O₂ und C₂H₄-Gas in
die evakuierbare Reaktionskammer zugesetzt werden. Danach wird
auf der Sperrschicht 4 die photoleitfähige Schicht 2 ausgebildet,
um das elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial gemäß Fig. 2 zu erzeugen.
Fig. 3 zeigt ein elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial gemäß
einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
Auf dem Träger 1 ist die Reihe nach die Sperrschicht 4,
die photoleitfähige Schicht 2 und die Isolierschicht 3 aufgebracht.
Die anhand der Fig. 2 bereits beschriebene Sperrschicht
4 wird gemäß der ersten Ausführungsform aus a-Si
oder a-Si : Ge mit einem Gehalt von 5-60 Atom-% Sauerstoff
und weniger als 200 ppm eines Fremdatoms der
III. Hauptgruppe oder mit 5-60 Atom-% Kohlenstoff, einer
sehr kleinen Menge bis zu 10 Atom-% Sauerstoff und nur,
falls erforderlich, einem Fremdatom der III. Hauptgruppe bis
zu einer Menge von 200 ppm, hergestellt. Diese Sperrschicht
4 hat die Dicke von 0,003 bis 2 µm und kann das
Eindringen von Ladungen aus dem Träger 1 verhindern und
ermöglicht eine Bewegung der Ladungsträger durch die
Schicht 4.
Die photoleitfähige Schicht 2 enthält wenigstens a-Si
und hat eine Dicke von ungefähr 5-100 µm und ist auf
der Sperrschicht 4 ausgebildet. Diese photoleitfähige Schicht
2 ist die gleiche wie die anhand der Fig. 1 beschriebene
Schicht und es wird auf diese detaillierte Beschreibung
verwiesen. Die Isolierschicht 3, die auf
der photoleitfähigen Schicht 2 ausgebildet wird, wurde
anhand der Fig. 1 beschrieben und enthält Kohlenstoff
und Sauerstoff in a-Si oder a-Si : Ge. Wie bereits beschrieben,
enthält die Isolierschicht 3 aus a-Si ungefähr
5-65 Atom-%, vorzugsweise 40-65 Atom-%
Kohlenstoff und eine sehr kleine Menge bis zu 10 Atom-%
Sauerstoff, wenn Kohlenstoff und Sauerstoff beide gleichförmig
in der Schicht enthalten sind. Die Menge Kohlenstoff
sollte 1-65 Atom-% und die Menge an
Sauerstoff 0,01-25 Atom-% betragen, wenn diese Zusätze
über die Dicke der Schicht hinweg veränderlich sind.
Beim Ausbilden des elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials gemäß
der Fig. 1 bis 3, d. h. beim Ausbilden jeder der Schichten
2, 3 und 4, werden hydrierte Siliziumgase, bestehend
aus Si und H-Atomen, wie beispielsweise SiH₄, Si₂H₆,
Si₃H₈ und Si₄H₁₀ verwendet, damit in jeder Schicht a-Si
enthalten ist. Wenn Kohlenstoff, wie beispielsweise
in der Sperrschicht 4 und der Isolierschicht 3, enthalten
ist, werden gesättigte Kohlenwasserstoffe mit 1-5
Kohlenstoffatomen, wie beispielsweise CH₄, C₂H₆, C₃H₈
und n-C₄H₁₀, Kohlenwasserstoffe der Ethylenreihen mit
1-5 Kohlenstoffatomen, wie beispielsweise C₂H₄, C₃H₆
und C₄H₈ und Kohlenwasserstoffe der Acetylenreihen, wie
beispielsweise C₂H₂, C₃H₄ und C₄H₆ verwendet. Für den
Sauerstoffgehalt werden Gase, wie beispielsweise O₂,
O₃, CO, CO₂, NO, NO₂, N₂O, N₂O₃, N₂O₄, N₂O₅ und NO₃ verwendet.
Weiter kann in jeder Schicht Germanium enthalten
sein und für diesen Fall werden Gase, wie beispielsweise
GeH₄ und GE₂H₆ parallel zu dem hydrierten Siliziumgas
zugeführt. In jeder Schicht wird davon ausgegangen und
insbesondere für den Fall, daß die Schicht durch Glimmentladungszerlegung
ausgebildet wird, daß Wasserstoff mit
einer Menge von 10-40 Atom-% enthalten ist, da Gase,
wie SiH₄ und B₂H₆ verwendet werden.
Im folgenden wird ein Glimmentladungs-Zerlegungsgerät
mit kapazitiver Kopplung für die Herstellung des elektrophotographischen
Aufzeichnungsmaterials gemäß der vorliegenden Erfindung
beschrieben.
Fig. 4 zeigt einen ersten, zweiten, dritten, vierten
und fünften Tank 5, 6, 7, 8 und 9, die jeweils H₂,
SiH₄, B₂H₆, C₂H₄ und O₂-Gase eingeschlossen enthalten.
Das H₂-Gas im ersten Tank 5 ist ein Trägergas für SiH₄ und
wird auch für B₂H₆-Gas verwendet. Statt Wasserstoff können
auch Argon oder Helium verwendet werden. Falls eine der
herzustellenden Schichten Germanium enthalten soll, ist
auch ein Tank für GeH₄-Gas erforderlich. Die vorstehend
genannten Gase werden durch Öffnen des jeweiligen
ersten, zweiten, dritten, vierten und fünften Ventils
10, 11, 12, 13 und 14 freigegeben, wobei die Strömungsgeschwindigkeiten
durch zugehörige Mengenstromregler 15,
16, 17, 18 und 19 gesteuert werden. Die Gase aus dem ersten,
zweiten, dritten und vierten Tank 5, 6, 7 und 8 werden
einer ersten Hauptleitung 20 zugeführt und das O₂-Gas
aus dem fünften Tank 9 wird einer zweiten Hauptleitung
21 zugeführt. Die Bezugsziffern 22, 23, 24, 25, 26, 27 und
28 bezeichnen Absperrventile.
Die durch die erste und zweite Hauptleitung 20 und
21 strömenden Gase münden in eine dritte Hauptleitung 30,
die in einer Reaktionskammer 29 angeordnet ist. In der
Reaktionskammer 29 ist ein Drehtisch 33, der durch einen
Motor 32 drehbar ist, montiert, und auf dem Drehtisch 33
ist ein Träger 31 aus Aluminium, rostfreiem Stahl oder NESA-
Glas angeordnet, auf dem die a-Si-Schicht auszubilden
ist. Der Träger 31 ist elektrisch geeerdet und
wird durch eine geeignete Heizeinrichtung gleichförmig
auf eine Temperatur von 100-400°C, vorzugsweise
150-300°C vorgeheizt. Den Träger 31 umgibt
eine zylindrische Elektrode 34, die elektrisch an eine
hochfrequente Stromquelle 35 angeschlossen ist, und die
innen hohl ist und mit der dritten Hauptleitung 30 und
vierten Hauptleitung 36 an ihrer Außenwand verbunden
ist. An der Innenwand der Elektrode 34 sind mehrere,
nicht dargestellte Gasausströmöffnungen ausgebildet,
durch die die von der dritten Hauptleitung 30 zugeführten
Gase auf die Oberfläche des Trägers 31 geleitet werden.
Die durch die Ausströmöffnungen ausströmenden
Gase werden dann von ebenfalls in der Innenwand angeordneten
Bohrungen absorbiert und über die vierte
Hauptleitung 36 abgeführt. Von der Hochfrequenz-Stromquelle
35 wird ein hochfrequenter Strom mit
0,05-1,5 Kilowatt mit einer hierfür geeigneten Frequenz
von 1-50 MHz an die Elektrode 34 angelegt.
Da darüber hinaus ein hoher Evakuierungsgrad (Entladungsdruck:
0,065-0,26 · 10³ Pa) in der Reaktionskammer 24
für die Ausbildung jeder in den Fig. 1-3 gezeigten
Schichten wesentlich ist, ist die Kammer an eine
Rotationspumpe 37 und eine Diffusionspumpe 38 angeschlossen.
Wenn das elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial gemäß Fig. 1
ausgebildet wird, wird als erstes auf dem Träger 31(1)
eine photoleitfähige Schicht 2 aus a-Si ausgebildet.
Hierfür werden das erste und zweite Regelventil 10
und 11 geöffnet, um aus dem ersten und zweiten Tank 5
und 6 H₂ und SiH₄-Gas mit genauer Strömungsgeschwindigkeit
freizugeben, und, falls erforderlich, wird Sauerstoffgas
aus dem fünften Tank 9 durch Öffnen des fünften
Regelventils 14 und/oder B₂H₆-Gas aus dem dritten
Tank 7 durch Öffnen des dritten Regelventils 12 freigegeben.
Die Mengen der freigegebenen Gase werden durch
die Mengenstromregler 15, 16, 17, 19 gesteuert und das
SiH₄-Gas wird mit H₂ als Trägergas oder ein Gemisch aus
SiH₄-Gas und B₂H₆-Gas wird über die erste Hauptleitung 20
zugeführt. Gleichzeitig wird Sauerstoffgas mit einem vorbestimmten
Verhältnis zu SiH₄ über die zweite Hauptleitung
21 zugeführt und strömt mit dem Gas aus der ersten Hauptleitung
20 in der dritten Hauptleitung 30 zusammen, um
der Elektrode 34 zugeführt zu werden. Mit den aus den
Ausströmöffnungen gleichförmig ausströmenden Gasen wird
in der Reaktionskammer ein Vakuum von 0,0065-0,26 · 10³ Pa
aufrechterhalten, der Träger wird auf einer Temperatur
von 100-400°C gehalten und der an die Elektrode 34
angelegte Hochfrequenzstrom ist auf 0,05-1,5 Kilowatt
mit einer Frequenz von 1-50 MHz eingestellt. Unter diesen
Bedingungen findet eine Glimmentladung statt, um die
Gase zu zerlegen, wobei auf dem Träger 31 mit einer Geschwindigkeit
von ungefähr 0,5-5 µm/Stunde eine photoleitfähige
Schicht 2 aus a-Si mit wenigstens Wasserstoff
ausgebildet wird.
Wenn die gewünschte Dicke der photoleitfähigen Schicht
2 aus a-Si gebildet ist, wird entweder die Glimmentladung
unterbrochen oder es wird ohne Unterbrechung eine Isolierschicht
3 ausgebildet. Diese wird durch Freigeben von
Gasen aus dem ersten, zweiten, vierten und fünften
Tank 5, 6, 8 und 9 bewirkt. Wenn die Isolierschicht
3 über ihre Schichtdicke hinweg einen gleichförmigen
spezifischen Widerstand haben soll, dann werden die
Strömungsmengen aus jedem Tank gleich gehalten, so daß
die Schicht, bezogen auf a-Si gleichmäßig 5-60 Atom-%
Kohlenstoff und eine sehr kleine Menge bis zu 10 Atom-%
Sauerstoff enthält. Bei einer anderen Art der Herstellung
der Isolierschicht 3 wird die Strömungsmenge von C₂H₄
und/oder O₂ stufenweise während dem Bilden der Isolierschicht
3 erhöht.
Wenn die elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterialien gemäß der Fig. 2
und 3 hergestellt werden sollen, dann wird auf
dem Träger 31 als erstes die Sperrschicht 4 ausgebildet,
was durch gleichzeitiges Zuführen von H₂, SiH₄, B₂H₆ und O₂-Gas oder
H₂, SiH₄, O₂, C₂H₄ und B₂H₆ (nur falls erforderlich)
zur Elektrode 34 geschieht.
Unter Verwendung des in der Fig. 4 gezeigten Glimmentladungs-
Zerlegungsgerätes werden 10 verschiedene elektrophotographischer
Aufzeichnungsmaterialien hergestellt.
Die Reaktionskammer 29 wird mittels der Rotationspumpe
37 und der Diffusionspumpe 38 auf 0,13 · 10-3 Pa evakuiert.
Dann werden das erste bis dritte und das fünfte Regelventil
10, 11, 12 und 14 geöffnet, um aus dem ersten Tank 5
H₂-Gas, aus dem zweiten Tank 6 durch H₂ auf 30% verdünntes
SiH₄-Gas, aus dem dritten Tank 7 durch H₂ auf 200 ppm verdünntes
B₂H₆-Gas, und aus dem fünften Tank 9 O₂-Gas den
Mengenstromreglern 15, 16, 17, 19 mit einem Druck von 1 kg/cm²
zuzuführen. Durch Justierung der Skalen der jeweiligen Mengenstromregler
werden die Strömungsmengen für H₂ auf 277 sccm,
für SiH₄ auf 300 sccm, für B₂H₆ auf 23 sccm und für O₂ auf
1,0 sccm eingestellt und der Reaktionskammer 29 zugeführt.
Nachdem die jeweiligen Strömungsmengen stabilisiert worden
sind, wird der Druck in der Kammer auf 0,13 · 10³ Pa justiert.
Weiterhin wird eine Aluminiumtrommel mit einem Durchmesser
von 120 mm als Träger 31 verwendet und auf eine Temperatur
von 200°C vorgeheizt.
Nach der Stabilisierung der Strömungsmenge der jeweiligen
Gase und dem Innendruck der Kammer wird von der
Stromquelle 35 an die Elektrode 34 ein hochfrequenter Strom
mit 300 Watt (Frequenz 13,56 MHz) angelegt, um eine Glimmentladung
zu erzeugen. Diese Glimmentladung wird für ungefähr
7 Stunden durchgeführt, um auf dem Träger 31 eine photoleitfähige
Schicht 2 aus a-Si mit einer Dicke von ungefähr
20 µm auszubilden, die Wasserstoff, Bor und eine kleine
Menge Sauerstoff enthält.
Nach dem Ausbilden der photoleitfähigen Schicht
aus a-Si wird der Strom von der hochfrequenten Stromquelle
35 zeitweilig unterbrochen, während die Strömungsmengen
der Mengenstromregler auf Null gestellt werden und
die Kammer evakuiert wird. Dann werden aus dem ersten Tank 5
210 sccm H₂-Gas, aus dem zweiten Tank 6 300 sccm durch H₂
auf 30% verdünntes SiH₄-Gas und aus dem vierten Tank 8
90 sccm C₂H₄-Gas in die Reaktionskammer 29 geleitet und
von der Stromquelle 35 ein Strom mit 300 Watt bei einem
auf 0,13 · 10³ Pa justierten Innendruck angelegt. Die Glimmentladung
wird für 3 Minuten fortgeführt, um eine Isolierschicht
3 aus a-Si mit einer Dicke von ungefähr 0,1 µm
zu bilden, die Wasserstoff und ungefähr 40 Atom-% Kohlenstoff
enthält. dieses lichtempfindliche Element wird als
Probe A bezeichnet.
Auf ähnliche Weise werden vier elektrophotographische Aufzeichnungsmaterialien
jeweils mit einer photoleitfähigen Schicht aus a-Si,
jedoch mit verschiedenen Mengen Kohlenstoff in der Isolierschicht
3 ausgebildet, indem die Strömungsmenge des C₂H₄-
Gases verändert wird. Diese elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterialien
werden als Proben B, C, D und E bezeichnet und enthalten
die folgenden Kohlenstoffmengen:
Probe | |
Kohlenstoffanteil (Atom-%) | |
A | |
40 | |
B | 7 |
C | 16 |
D | 60 |
E | 70 |
Auf ähnliche Weise, wie vorstehend beschrieben,
wird auf dem Träger 31 die photoleitfähige Schicht 2
aus a-Si aufgebracht und dann wird die Kammer 29 evakuiert.
Dann werden aus dem ersten Tank 200 sccm H₂-Gas, aus dem
zweiten Tank 6 300 sccm durch Wasserstoff auf 30% verdünntes
SiH₄-Gas, aus dem vierten Tank 8 90 sccm C₂H₄-Gas
und aus dem fünften Tank 9 10 sccm O₂-Gas in die Kammer
29 geleitet und von der Stromquelle 35 wird ein Strom
mit 300 Watt bei einem auf 0,13 · 10³ Pa justierten Innendruck
angelegt. Die Glimmentladung wird für 3 Minuten
fortgeführt, um die Isolierschicht 3 mit einer Dicke von
0,1 µm aus a-Si, Wasserstoff, 40 Atom-%
Kohlenstoff und 5 Atom-% Sauerstoff herzustellen. Dieses
elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial wird als Probe F bezeichnet.
Es werden vier andere elektrophotographische Aufzeichnungsmaterialien jeweils
mit der gleichen photoleitfähigen Schicht aus
a-Si, jedoch mit verschiedenen Mengen Kohlenstoff in
der Isolierschicht, gebildet. Diese elektrophotographischen
Aufzeichnungsmaterialien werden als Proben G, H, I und J bezeichnet und
enthalten die folgenden aufgeführten Kohlenstoff- und
Sauerstoffmengen in der Isolierschicht:
Jeder dieser Proben A-J wurde in einer Testeinrichtung
für die Lichtempfindlichkeit angeordnet und einer
Koronaladung und wiederholten Lichtlöschung unterzogen.
Als Ergebnis kam heraus, daß die Proben A, B, C, D und
E ohne Sauerstoff in der Isolierschicht einen Abfall an
Oberflächenpotential aufweisen. Der Grad dieses Abfalls
oder der Abschwächung des Oberflächenpotentials ist größer
oder kleiner je nachdem die Kohlenstoffmenge in der Isolierschicht
verringert bzw. erhöht wird. Auf der anderen
Seite zeigen die Proben F, G, H, I und J mit Sauerstoff
in der Isolierschicht im allgemeinen einen geringen Abfall
des Oberflächenpotentials. Das Ausmaß an Oberflächenpotentialabfall
wird als "Lichtermüdung" bezeichnet
und wird hier durch den Unterschied der Oberflächenpotentiale
bei der ersten Umdrehung (V₀₁) und der zehnten
Umdrehung (V₀₁₀) des elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials definiert,
d. h.,
Lichtermüdungsverhältnis=[(V₀₁-V₀₁₀)/V₀₁]×100
Fig. 5 zeigt die Beziehung zwischen diesem Lichtermüdungsverhältnis
und dem Gehalt an Kohlenstoff und
Sauerstoff in der Isolierschicht. Wie aus der Fig. 5
zu ersehen ist, wird das Lichtermüdungsverhältnis bei den
Proben A-D, die außer a-Si und Wasserstoff nur Kohlenstoff
enthalten und durch die Kurve X dargestellt sind, groß,
wenn der Kohlenstoffgehalt abnimmt. Im Gegensatz hierzu
zeigen jene Proben F-I, die in der Isolierschicht auch
Sauerstoff enthalten, ungeachtet des Kohlenstoffgehaltes
ein stabiles Lichtermüdungsverhältnis.
Als nächstes wurden jeweils die Proben A, B, D, E, F
und I auf +300V aufgeladen und ihre spektralen Empfindlichkeiten
gemessen, indem für die Wellenlängen von 450-800 nm
alle 50 nm Lichtenergie bestimmt wurde, die erforderlich
war, um das jeweilige Oberflächenpotential
durch Belichten auf die Hälfte zu verringern. Die Ergebnisse
sind in der Fig. 6 dargestellt, wobei die Kurven
A, B, D, F und I jeweils den Proben A, B, D, F und I entsprechen.
Wie daraus zu ersehen ist, werden die Empfindlichkeiten
insbesondere im kurzwelligen Bereich mit ansteigendem
Kohlenstoffgehalt in der Isolierschicht verbessert, wie
dies durch Vergleich der Kurven B, A und D zu ersehen ist,
die jeweils 7, 40 und 60 Atom-% Kohlenstoff enthalten.
Die Probe E mit 70 Atom-% Kohlenstoff zeigt im wesentlichen
die gleiche Charakteristik wie die Kurve D, was bedeutet,
daß die Empfindlichkeit sich oberhalb eines Kohlenstoffgehaltes
von 60 Atom-% nicht mehr verändert.
Gemäß Vergleich der Kurven A und F, bei denen jeweils
40 Atom-% Kohlenstoff und in der Probe F weiterhin
5 Atom-% Sauerstoff enthalten sind, ist die Empfindlichkeit
für die Probe F höher, was zeigt, daß durch
Zusatz von Sauerstoff zusammen mit ungefähr 40 Atom-%
Kohlenstoff die Empfindlichkeit auf die gleiche Weise
verbessert wird wie durch Erhöhung des Kohlenstoffgehaltes.
auf der anderen Seite wurde festgestellt, daß
der Gehalt von Sauerstoff zusammen mit ungefähr 5-20
Atom-% Kohlenstoff keine Verbesserung der Empfindlichkeit
im kurzwelligen Bereich zeigt. Daher ist ein Kohlenstoffgehalt
in der Isolierschicht von ungefähr 40-65
Atom-% vorzuziehen, es sei denn, daß das elektrophotographische
Aufzeichnungsmaterial für die Belichtung mit einer Wellenlänge
größer als 650 nm verwendet wird, wie dies in Laserdrucken
der Fall ist.
Die Messungen der Oberflächenhärte bei jeder der Proben
A-J hat gezeigt, daß die Proben mit Kohlenstoff und
ohne Sauerstoff in der Isolierschicht im allgemeinen eine
geringere Härte als die Proben mit Sauerstoff und Kohlenstoff
aufweisen. Insbesondere zeigt die Probe E mit
70 Atom-% Kohlenstoff Beschädigung durch Reibung. Die
Proben F-I zeigen selbst bei fortlaufendem Kopieren
keine Beschädigungen an den Oberflächen, aber die Probe
J mit 70 Atom-% Kohlenstoff und 5 Atom-% Sauerstoff
zeigt ein schnelles Ansteigen des Restpotentials, obwohl
keine Beschädigung durch Reibung festgestellt werden
konnte.
Schließlich wurde jede dieser Proben A-J in einem
Kopiergerät vom Tonerbildübertragungstyp EP-520 der
Anmelderin zum fortlaufenden Kopieren von 50 000 Kopien
bei einer Zimmertemperatur von 30°C und einer Luftfeuchtigkeit
von 80% angeordnet. Bei den von den Proben
B und C erhaltenen Kopierbildern begann nach 10 000
Kopien eine Bildunschärfe aufzutreten. Bei den Proben
E und J begann infolge der Erhöhung des Restpotentials
nach ungefähr 10 000 Kopien ein Fleckigwerden. Die Proben
A und D erzeugten bessere Kopierbilder als die Proben
B, C, E und J, aber die Bilder begannen zu verwischen und
es erschienen weiße Flecken. Im Gegensatz hierzu erzeugten
die Proben F, G, H und I, insbesondere F und I, von
Anfang bis Ende Bilder hoher Auflösung mit guten Halbtonwerten.
Unter den gleichen Bedingungen wie beim Beispiel 1
wurde auf den Träger 31 in Form einer Aluminiumtrommel
eine photoleitfähige Schicht 2 aufgebracht und dann das
Anlegen eines Stromes von der hochfrequenten Stromquelle
35 kurzzeitig unterbrochen, während die Strömungsmengen
der Mengenstromregler auf Null gestellt wurden, und die Kammer
evakuiert wurde. Danach wurden aus dem ersten Tank 5
210 sccm H₂-Gas, aus dem zweiten Tank 6 300 sccm
mittels H₂ auf 30% verdünntes SiH₄-Gas, aus
dem vierten Tank 8 90 sccm C₂H₄-Gas und aus dem fünften
Tank 9 1 sccm O₂-Gas in die Kammer 29 geleitet und
der Strom von 300 Watt angelegt. Gleichzeitig hiermit
wurde der Mengenstromregler 19 für einen solchen Anstieg
der Skala justiert, daß die Strömungsmenge O₂-Gas aus
dem fünften Tank 9 in 3 Minuten gleichmäßig von 1 sccm
auf 40 sccm erhöht wurde, wobei die Isolierschicht 3 mit
0,1 µm Dicke aus a-Si, mit einem Gehalt an
Wasserstoff, 40 Atom-% Kohlenstoff und 0,5-20 Atom-%
Sauerstoff, dessen Gehalt stufenweise ansteigt, gebildet
wurde.
Dieses elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial wurde dann in dem
Gerät EP-520 angeordnet und es wurden nacheinander 50 000
Kopien angefertigt. Als Ergebnis wurden von Anfang bis
Ende Kopierbilder guter Qualität und ohne Bildunschärfen
erhalten.
Auf den Träger 31 wurde unter den gleichen Bedingungen
wie beim Versuchsbeispiel 2 eine photoleitfähige
Schicht 2 aus a-Si aufgebracht und dann wurde aus dem
ersten Tank 5 210 sccm H₂-gas, aus dem zweiten Tank 6
300 sccm durch H₂ auf 30% verdünntes SiH₄-Gas, aus
dem vierten Tank 8 90 sccm C₂H₄-Gas und aus dem fünften
Tank 9 50 sccm O₂-Gas in die Kammer 29 geleitet und die
Glimmentladung wurde durchgeführt, um die Isolierschicht
3, bestehend aus a-Si, Wasserstoff, 40 Atom-%
Kohlenstoff und 30 Atom-% Sauerstoff zu bilden.
Dieses elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial wurde in dem Gerät
EP-520 zum fortlaufenden Kopieren angeordnet und die
erhaltenen Kopierbilder zeigten bereits nach den ersten
paar Kopien Unschärfen.
Die Reaktionskammer 29 wurde mittels der Rotationspumpe
37 und der Diffusionspumpe 38 auf 0,13 · 10-3 Pa
evakuiert. Dann wurde das erste bis fünfte Regelventil 10,
11, 12, 13 und 14 geöffnet, um aus dem ersten Tank 5 H₂-Gas
aus dem zweiten Tank 6 durch H₂ auf 30% verdünntes SiH₄-
Gas, aus dem dritten Tank 7 durch h₂ auf 200 ppm verdünntes
B₂H₆-Gas, aus dem vierten Tank 8 C₂H₄-Gas und
weiterhin aus dem fünften Tank 9 O₂-Gas in die Mengenstromregler
15, 16, 17, 18, 19 mit einem Druck von
1 kg/cm³ strömen zu lassen. Beim Justieren der Skalen
der jeweiligen Mengenstromregler wurden die Strömungsmengen
für H₂ auf 245 sccm, für SiH₄ auf 300 sccm,
für B₂H₆ auf 45 sccm, für C₂H₄ auf 90 sccm und für
O₂ auf 10 sccm eingestellt und die Gase der Reaktionskammer
29 zugeführt. Der Druck innerhalb der Kammer
wurde, nachdem die entsprechenden Strömungsmengen sich
stabilisiert hatte, dann auf 0,13 · 10³ Pa justiert. Weiterhin
wurde eine Aluminiumtrommel mit 120 mm Durchmesser
als Träger 31 verwendet und auf eine Temperatur von 200°C
vorgeheizt.
Nach der Stabilisierung der Strömungsmenge der jeweiligen
Gase und des inneren Druckes in der Kammer wurde
von der Stromquelle 35 ein hochfrequenter Strom von 300 Watt
(Frequenz 13,56 MHz) an die Elektrode 34 angelegt, um eine
Glimmentladung zu erzeugen. Diese Glimmentladung wurde
3 Minuten durchgeführt, um auf dem Träger 31 eine Sperrschicht
4 mit 0,1 µm dicke auszubilden, die aus a-Si,
Wasserstoff, 200 ppm Bor, 40 Atom-% Kohlenstoff
und 5 Atom-% Sauerstoff besteht.
Nach dem Ausbilden der Sperrschicht 4 wurde das Anlegen
des Stromes von der Hochfrequenzstromquelle 35 zeitweilig
unterbrochen, während die Strömungsmengen der Mengenstromregler
auf Null gestellt wurden und die Kammer evakuiert
wurde. Dann wurden aus dem ersten Tank 5 274 sccm H₂-Gas,
aus dem zweiten Tank 6 300 sccm durch H₂ auf 30% verdünntes
SiH₄-Gas, aus dem dritten Tank 7 25 sccm B₂H₆-Gas und
aus dem fünften Tank 9 1 sccm O₂-Gas in die Kammer 29 geleitet
und bei einem auf 0,13 · 10³ Pa justierten Innendruck
wurde ein Strom von 300 Watt angelegt. Die Glimmentladung
wurde 7 Stunden durchgeführt, um die photoleitfähige Schicht
2 aus a-Si mit einer Dicke von 20 µm auszubilden,
bestehend aus a-Si, Wasserstoff, Bor und einer kleinen
Menge Sauerstoff.
Das so hergestellte elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial wurde
als erstes aufgeladen und dann mit weißem Licht von
2,0 lx · s belichtet, um das Restpotential zu messen.
Es ergab sich ein Restpotential von 0 V.
Dieses elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial wurde dann in
dem Gerät EP-520 zum fortlaufenden Kopieren von 50 000 Kopien
angeordnet. Die erhaltenen Kopien hatten ein ausgezeichnetes
Auflösungsvermögen und waren von Anfang bis
Ende frei von Unschärfen. Nach 50 000 fortlaufenden Kopien
wurde das Restpotential nochmals gemessen, aber es
konnte kaum irgendein Anstieg festgestellt werden. Darüber
hinaus wurde keine Trennung der Sperrschicht vom Träger
festgestellt.
Unter den gleichen Bedingungen wie beim Versuchsbeispiel
3 wurde das elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial mit gleichem
Aufbau, jedoch ohne Bor, in der Sperrschicht 4 hergestellt.
Dieses elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial wurde dann auf
ähnliche Weise einem kontinuierlichen Kopiervorgang von
50 000 Kopien unterzogen und es wurden von Anfang bis Ende
Kopierbilder hoher Qualität und mit gutem Auflösungsvermögen
erhalten. Nach 50 000 Kopien war auch das Restpotential
kleiner als 50 V, was nur ein wenig höher als
beim Versuchsbeispiel 3 ist.
Unter den gleichen Bedingungen wie beim Versuchsbeispiel
3 mit Ausnahme der Einstellung für die Strömungsmenge
des O₂-Gases aus dem fünften Tank 9 auf 50 sccm
während dem Ausbilden der Sperrschicht 4, wurde das elektrophotographische
Aufzeichnungsmaterial mit dem gleichen Aufbau, jedoch mit
25 Atom-% Sauerstoff zusätzlich zu 40 Atom-%
Kohlenstoff in der Sperrschicht hergestellt. Dieses elektrophotographische
Aufzeichnungsmaterial wurde zum fortlaufenden Kopieren in
das Gerät EP-520 eingesetzt. Nach mehreren 1000 Kopien
begann jedoch einen Schlierenbildung, die bei fortgesetztem
Kopieren immer mehr zu bemerken war.
Die Reaktionskammer 29 wurde mittels der Rotationspumpe
37 und der Diffusionspumpe 38 auf 0,13 · 10-3 Pa evakuiert.
Dann wurden das erste bis fünfte Regelventil 10, 11, 12,
13 und 14 geöffnet, um aus dem ersten Tank 5 H₂-Gas, aus
dem zweiten Tank 6 durch H₂ auf 30% verdünntes SiH₄-Gas,
aus dem dritten Tank 7 durch H₂ auf 200 ppm verdünntes
B₂H₆-Gas, aus dem vierten Tank 8 C₂H₄-Gas und aus dem
fünften Tank 9 O₂-Gas in die Mengenstromregler 15, 16, 17,
18, 19 mit einem Druck von 1 kg/cm² strömen zu lassen.
Durch Justieren der Skalen der jeweiligen Mengenstromregler
wurden die Strömungsmengen für H₂ auf 245 sccm, für
SiH₄ auf 300 sccm, für B₂H₆ auf 23 sccm, für C₂H₄
auf 90 sccm und für O₂ auf 10 sccm eingestellt, und
es wurden die Gase der Reaktionskammer 29 zugeführt.
Der Druck innerhalb der Kammer wurde dann nach dem
Stabilisieren der jeweiligen Strömungsmengen auf 0,13 · 10³ Pa
justiert. Weiterhin wurde als Träger 31 eine
Aluminiumtrommel mit einem Durchmesser von 120 mm
verwendet und auf eine Temperatur von 200°C vorgeheizt.
Nach dem Stabilisieren der Strömungsmengen der jeweiligen
Gase und dem Innendruck der Kammer wurde von
der Stromquelle 35 ein hochfrequenter Strom von 300 Watt
(Frequenz 13,56 MHz) an die Elektrode 34 angelegt, um
die Glimmentladung zu erzeugen. Diese Glimmentladung
wurde für 3 Minuten durchgeführt, um auf den Träger 31
eine Sperrschicht 4 von 0,1 µm Dicke auszubilden, die
aus a-Si, Wasserstoff, 100 ppm Bor, 40 Atom-%
Kohlenstoff und 5 Atom-% Sauerstoff besteht.
Nach dem Herstellen der Sperrschicht 4 wurde das Anlegen
des Stromes von der Hochfrequenzstromquelle 35
kurzzeitig unterbrochen, während die Strömungsmengen der
Mengenstromregler auf Null gestellt wurden und die
Kammer evakuiert wurde. Danach wurden aus dem ersten
Tank 5 274 sccm H₂-Gas, aus dem zweiten Tank 6
300 sccm durch H₂ auf 30% verdünntes SiH₄-Gas, aus
dem dritten Tank 7 20 sccm B₂H₆-Gas und aus dem
fünften Tank 9 1 sccm O₂-Gas in die Kammer 29 geleitet
und bei einem auf 0,13 · 10³ Pa justierten Innendruck
wurde der Strom von 300 Watt angelegt. Die
Glimmentladung wurde für 7 Stunden durchgeführt, um
die photoleitfähige Schicht 2 aus a-Si zu bilden.
Nach dem Ausbilden der photoleitfähigen Schicht 2
aus a-Si wurde das Anlegen des Stromes von der Stromquelle
35 kurzzeitig unterbrochen und die Strömungsmengen
an den Mengenstromreglern wurden auf Null eingestellt,
und es wurde die Kammer evakuiert. Danach wurden aus dem
ersten Tank 5 200 sccm H₂-Gas, aus dem zweiten Tank
6 300 sccm durch H₂-Gas auf 30% verdünntes SiH₄-Gas,
aus dem vierten Tank 8 90 sccm C₂H₄-Gas und aus dem
fünften Tank 10 sccm O₂-Gas in die Kammer 29 geleitet
und es wurde bei einem auf 0,13 · 10³ Pa justierten Innendruck
ein Strom von 300 Watt angelegt. Die Glimmentladung
wurde für 3 Minuten durchgeführt, um eine Isolierschicht
3 mit 0,1 µm Dicke herzustellen, die aus
a-Si, Wasserstoff, 40 Atom-% Kohlenstoff und 5 Atom-%
Sauerstoff besteht.
Dieses elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial hat zwischen Träger
und Sperrschicht eine ausgezeichnete Haftung. Bei einem
fortlaufenden Kopiervorgang von 50 000 Kopien wurden von
Anfang bis Ende Bilder guter Qualität und hohen Auflösungsvermögens
ohne irgendwelche Flecken und Unschärfen
erhalten. Darüber hinaus trat kaum ein Anstieg des
Restpotentials auf.
Unter den gleichen Bedingungen wie beim Versuchsbeispiel
5, mit Ausnahme, daß beim Ausbilden der Sperrschicht
die Strömungsmenge für das B₂H₆-Gas auf 45 sccm eingestellt
wurde, wurde das elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial mit
einer gleichen Konstruktion hergestellt, welches jedoch
200 ppm Bor in der Sperrschicht 4 enthielt.
Dieses elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial wurde in das Gerät
EP-520 eingesetzt und einem fortlaufenden Kopiervorgang
unterzogen. Die erzielten Bilder hatten von Anfang bis
Ende ein gutes Auflösungsvermögen, ausgezeichnete Halbtonwerte
und eine hohe Bilddichte. Darüber hinaus wurden
selbst unter den Bedingungen mit hoher Temperatur
von 30°C und Luftfeuchtigkeit von 80% Kopien mit guter
Qualität erhalten.
Unter den gleichen Bedingungen wie beim Versuchsbeispiel
5, mit Ausnahme, daß für die Ausbildung der Sperrschicht
die Zufuhr von B₂H₆-Gas aus dem zweiten Tank 6
unterbunden wurde, wurde das elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial
mit der gleichen Konstruktion, jedoch ohne daß in der
Sperrschicht Bor enthalten ist, hergestellt. Dieses
elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial wurde dann einem fortlaufenden
Kopiervorgang von 50 000 Kopien unterzogen und gute
Kopierbilder erhalten. Das Restpotential war nur leicht
höher als beim Versuchsbeispiel 6, und selbst nach 50 000
Kopien geringer als 50 V.
Unter den gleichen Bedingungen wie beim Versuchsbeispiel
7, wurde auf dem Träger 31 die Sperrschicht bestehend
a-Si, Wasserstoff, 40 Atom-% Kohlenstoff und
5 Atom-% Sauerstoff ausgebildet und dann wurde auf der
Sperrschicht die photoleitfähige Schicht aus a-Si ausgebildet.
Nach der Herstellung der photoleitfähigen Schicht
wurden aus dem ersten Tank 5 210 sccm H₂-Gas, aus dem zweiten
Tank 6 300 sccm durch H₂-Gas auf 30% verdünntes SiH₄-Gas,
aus dem vierten Tank 8 90 sccm C₂H₄-Gas und aus dem
fünften Tank 9 sccm O₂-Gas in die Kammer geleitet und
bei einem auf 0,13 · 10³ Pa justierten Innendruck wurden an
die Elektrode 34 Watt angelegt. Gleichzeitig wurde der
Mengenstromregler 19 so justiert, daß die Strömungsmenge
des O₂-Gases aus dem fünften Tank 9 innerhalb von
3 Minuten gleichförmig von 1 sccm auf 40 sccm verändert
wurde, wobei die Isolierschicht 3 mit 0,1 µm
Dicke, bestehend aus a-Si Wasserstoff, 40 Atom-% Kohlenstoff
und von 0,5-20 Atom-% stetig ansteigendem
Sauerstoff, hergestellt wurde.
Beim fortlaufenden Kopieren mit einem elektrophotographischen
Aufzeichnungsmaterial wurden Bilder mit gutem Auflösungsvermögen
und gutem fortlaufendem Halbtonwert erhalten. Ähnlich
gute Bilder wurden selbst bei hoher Temperatur von 30°C
und Luftfeuchtigkeit von 80% erhalten.
Unter den gleichen Bedingungen wie beim Versuchsbeispiel
5, mit Ausnahme, daß die Einstellung für die Strömungsmengen
von H₂-Gas auf 382 sccm, für SiH₄-Gas auf
150 sccm, für B₂H₆-Gas auf 23 sccm und für O₂-Gas auf
45 sccm während dem Ausbilden der Sperrschicht 4 eingestellt
waren, wurde das elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial hergestellt,
welches auf seinem Träger 31 der Reihe nach die Sperrschicht
4 mit 0,1 µm Dicke aus a-Si, Wasserstoff, 100 ppm
Bor und 25 Atom-% Sauerstoff, die photoleitfähige Schicht 2
aus a-Si, Wasserstoff, Bor und Sauerstoff und die Isolierschicht
3 aus a-Si, Wasserstoff, 40 Atom-% Kohlenstoff
und 5 Atom-% Sauerstoff, aufweist. Das auf diese Weise
hergestellte elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial hat ausgezeichnete
Haftung und erzeugt selbst bei fortlaufendem Kopieren
von 50 000 Kopien Kopierbilder guter Qualität ohne Flecken
oder Unschärfen.
Unter den gleichen Bedingungen wie beim Versuchsbeispiel
5, mit Ausnahme, daß während dem Ausbilden der
Sperrschicht 4 der O₂-Strom aus dem fünften Tank 9 unterbunden
wurde, wurde das elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial mit
der gleichen Konstruktion, jedoch ohne Sauerstoff in
der Sperrschicht 4, hergestellt. Die Sperrschicht wurde
jedoch teilweise beim Herausnehmen aus der Reaktionskammer
29 abgetrennt und zeigt eine Beschädigung bezüglich der
Haftung an dem Träger.
Unter den gleichen Bedingungen wie beim Versuchsbeispiel
9, mit Ausnahme, daß während dem Ausbilden der
Sperrschicht 4 der Strom des B₂H₆-Gases aus dem zweiten
Tank 6 unterbunden wurde, wurde das elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial
mit dem gleichen Aufbau, welches jedoch nur a-Si,
Wasserstoff und 25 Atom-% Sauerstoff in der Sperrschicht 4
enthält, hergestellt. Dieses elektrophotographische Aufzeichnungsmaterial
wurde in das Gerät EP-520 für fortlaufendes Kopieren von
50 000 Kopien eingesetzt und erzeugte nach mehreren Tausend
Kopien Kopierbilder mit Flecken, und diese Flecken wurden
bei weiterem Kopieren immer offensichtlicher. Dies ist dem
Ansteigen des Restpotentials zuzuschreiben und steht in
enger Beziehung zur Bormenge in der Sperrschicht 4, wie
dies in der Fig. 7 gezeigt ist. Wie aus der Fig. 7 zu ersehen
ist, sinkt das Restpotential mit dem Ansteigen
der Bormenge in der Sperrschicht 4. Das Ansteigen der
Bormenge seinerseits führt jedoch zu einem stufenweisen
Abfallen des Oberflächenpotentials, d. h., die
Ladungsannahmefähigkeit des elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials
und die Bormenge sollte nicht größer als 200 ppm sein.
Die Erfindung ist nicht auf die vorstehend beschriebenen
Ausführungsbeispiele begrenzt, sondern es sind
zahlreiche Veränderungen und Modifikationen innerhalb
des Schutzumfanges der Erfindung denkbar.
Claims (6)
1. Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial mit
einem elektrisch leitfähigen Träger (1), einer photoleitfähigen
Schicht (2) aus amorphem Silizium und einer auf der photoleitfähigen
Schicht (2) ausgebildeten Isolierschicht (3) aus amorphem
Silizium, gekennzeichnet dadurch, daß die
Isolierschicht (3) 5 bis 65 Atom-% Kohlenstoff und 0,01 bis
10 Atom-% Sauerstoff enthält, wobei Kohlenstoff und Sauerstoff
gleichmäßig in der Schicht verteilt sind.
2. Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial mit
einem elektrisch leitfähigen Träger (1), einer photoleitfähigen
Schicht (2) aus amorphem Silizium und einer auf der
photoleitfähigen Schicht (2) aufgebrachten Isolierschicht
(3) aus amorphem Silizium, dadurch gekennzeichnet,
daß die Isolierschicht (3) 1 bis 65 Atom-% Kohlenstoff
und 0,01 bis 25 Atom-% Sauerstoff enthält, wobei
der Kohlenstoff- oder Sauerstoffgehalt in der Richtung der
Schichtdicke allmählich ansteigt.
3. Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial nach
einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß weiterhin zwischen dem Träger (1)
und der photoleitfähigen Schicht (2) eine Sperrschicht (4)
vorgesehen ist, bestehend aus amorphem Silizium, 5 bis 60
Atom-% Sauerstoff und maximal 200 ppm eines Fremdatoms aus
der III. Hauptgruppe des periodischen Systems.
4. Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial nach
einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß weiterhin zwischen dem Träger (1)
und der photoleitfähigen Schicht (2) eine Sperrschicht (4)
vorgesehen ist, bestehend aus amorphem Silizium, 5 bis 60
Atom-% Kohlenstoff und maximal 10 Atom-% Sauerstoff.
5. Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch
4, dadurch gekennzeichnet, daß die
Sperrschicht (4) weiterhin maximal 200 ppm eines Fremdatoms
der III. Hauptgruppe des periodischen Systems enthält.
6. Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß der
Kohlenstoffgehalt 40 bis 65 Atom-% beträgt.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9894083A JPS59223435A (ja) | 1983-06-02 | 1983-06-02 | 感光体 |
JP10005683A JPS59224847A (ja) | 1983-06-03 | 1983-06-03 | 感光体 |
JP10142283A JPS59226352A (ja) | 1983-06-06 | 1983-06-06 | 感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3420741A1 DE3420741A1 (de) | 1984-12-06 |
DE3420741C2 true DE3420741C2 (de) | 1996-03-28 |
Family
ID=27308801
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3420741A Expired - Lifetime DE3420741C2 (de) | 1983-06-02 | 1984-06-04 | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4738914A (de) |
DE (1) | DE3420741C2 (de) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6123158A (ja) * | 1984-07-11 | 1986-01-31 | Stanley Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
CA1305350C (en) * | 1986-04-08 | 1992-07-21 | Hiroshi Amada | Light receiving member |
JPS6313054A (ja) * | 1986-07-03 | 1988-01-20 | Konica Corp | 像形成方法 |
US5587264A (en) * | 1989-03-16 | 1996-12-24 | Dai Nippon Printing Co. Ltd. | Electrostatic information recording medium and electrostatic information recording and reproducing method |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3117037C2 (de) * | 1980-05-08 | 1987-05-14 | Takao Sakai Osaka Kawamura | Elektrophotografisches Aufzeichnungsmaterial |
US4394425A (en) * | 1980-09-12 | 1983-07-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconductive member with α-Si(C) barrier layer |
US4409308A (en) * | 1980-10-03 | 1983-10-11 | Canon Kabuskiki Kaisha | Photoconductive member with two amorphous silicon layers |
US4557987A (en) * | 1980-12-23 | 1985-12-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconductive member having barrier layer and amorphous silicon charge generation and charge transport layers |
GB2095030B (en) * | 1981-01-08 | 1985-06-12 | Canon Kk | Photoconductive member |
US4490453A (en) * | 1981-01-16 | 1984-12-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconductive member of a-silicon with nitrogen |
JPS57177156A (en) * | 1981-04-24 | 1982-10-30 | Canon Inc | Photoconductive material |
US4460669A (en) * | 1981-11-26 | 1984-07-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconductive member with α-Si and C, U or D and dopant |
US4460670A (en) * | 1981-11-26 | 1984-07-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconductive member with α-Si and C, N or O and dopant |
US4465750A (en) * | 1981-12-22 | 1984-08-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconductive member with a -Si having two layer regions |
US4483911A (en) * | 1981-12-28 | 1984-11-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconductive member with amorphous silicon-carbon surface layer |
US4452874A (en) * | 1982-02-08 | 1984-06-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconductive member with multiple amorphous Si layers |
US4452875A (en) * | 1982-02-15 | 1984-06-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Amorphous photoconductive member with α-Si interlayers |
US4501807A (en) * | 1982-03-08 | 1985-02-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconductive member having an amorphous silicon layer |
US4486521A (en) * | 1982-03-16 | 1984-12-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconductive member with doped and oxygen containing amorphous silicon layers |
US4490454A (en) * | 1982-03-17 | 1984-12-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconductive member comprising multiple amorphous layers |
US4491626A (en) * | 1982-03-31 | 1985-01-01 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Photosensitive member |
JPS58189643A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-11-05 | Minolta Camera Co Ltd | 感光体 |
-
1984
- 1984-06-04 DE DE3420741A patent/DE3420741C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-07-16 US US06/884,670 patent/US4738914A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4738914A (en) | 1988-04-19 |
DE3420741A1 (de) | 1984-12-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3311463C2 (de) | ||
DE2954551C2 (de) | ||
DE3433867C2 (de) | Elektrofotographisches Aufzeichnungsmaterial | |
DE3311462A1 (de) | Photoempfindliches element | |
DE3040031C2 (de) | ||
DE3211081C2 (de) | ||
DE3212184A1 (de) | Lichtempfindliches element | |
DE3412184C2 (de) | ||
DE3153301C2 (de) | ||
DE3200376C2 (de) | ||
DE3321648A1 (de) | Photorezeptor | |
DE3506657A1 (de) | Photoleitfaehige vorrichtung | |
DE3303700C2 (de) | ||
DE3418596C2 (de) | ||
DE60309253T2 (de) | Elektrophotographisches lichtempfindliches element | |
DE3420741C2 (de) | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial | |
DE3610076C2 (de) | ||
DE3524967A1 (de) | Lichtempfindliches element | |
DE3525359A1 (de) | Lichtempfindliches element | |
DE3216043C2 (de) | Elektrophotographisches Aufzeichungsmaterial | |
DE3719333C2 (de) | ||
DE3686955T2 (de) | Photorezeptor fuer die elektrophotographie. | |
DE3346043C2 (de) | ||
DE3404787A1 (de) | Lichtempfindliches element | |
DE3447624C2 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: G03G 5/147 |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: MINOLTA CO., LTD., OSAKA, JP |