DE3400197C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Halbleitereinrichtung mit Druckkontakt
nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.
Derartige Halbleitereinrichtungen sind insbesondere als Hochstromhalb
leitereinrichtungen einsetzbar.
Es ist auf dem Gebiet der Hochstromhalbleitereinrichtungen,
insbesondere Hochstromgatter-Abschaltthyristoren (gate turn
off=GTO), allgemein bekannt, daß die Kathodenseite des Ele
mentes gegen seine Anodenseite gepreßt wird (Preßmethode).
Wie in Fig. 1 gezeigt ist, wird konventionell eine Hochstrom-
GTO-Struktur, die große Ströme abschalten kann, so angepaßt,
daß eine Mehrzahl von Kathodenemittern in der Form von Inseln
gebildet werden, von denen jede mit einer Gatterelektrode um
geben ist.
Ein Halbleiterelement (11) in Fig. 1 ist ein GTO und hat eine
P-N-P-N-Vierschichtenstruktur. Eine Schicht 11a vom P-Typ stellt
einen Anodenemitterbereich, eine Schicht 11b vom N-Typ einen
Anodenbasisbereich, eine Schicht 11c vom P-Typ einen Kathoden
basisbereich und ein Bereich 11d vom N-Typ einen Kathoden
emitterbereich dar. Eine Anodenelektrode 10 ist auf dem Anoden
emitterbereich 11a angeordnet und ist elektrisch mit demsel
ben verbunden. Die Anodenelektrode 10 weist im allgemeinen
eine Legierung eines Metalls mit einem thermischen Ausdehnungs
koeffizienten, der sich von dem des Siliziums (Si) kaum unter
scheidet, auf, z. B. Molybdän (Mo). Der Kathodenemitterbereich
11d weist viele diskrete Inseln auf, auf denen Kathodenelek
troden 12 montiert sind, damit sie in elektrischen Kontakt mit
diesen Inseln kommen. Über die Kathodenbasisbereiche 11c um
die Inseln der jeweiligen Kathodenemitterbereiche 11d herum
sind Gate-Elektroden 13 angeordnet, die in elektrischer Ver
bindung mit den Kathodenbasisbereichen gehalten werden. Die
jeweiligen Kathodenelektroden 12 sind elektrisch miteinander
über ein Kathodeneinsatzstück 14 verbunden, welches aus einem
thermisch und elektrisch hochleitfähigem Metall, wie Molybdän
(Mo) besteht. Damit die jeweiligen, die Kathodenemitterbereiche
11d umgebenden Gate-Elektroden 13 nicht in Kontakt mit
dem Kathodeneinsatzstück 14 während des Pressens des Ele
mentes kommen, werden die Kathodenbasisbereiche durch chemisches
Ätzen oder andere wohlbekannte Methoden vertieft. Das Kathoden
einsatzstück 14 wird an dem GTO-Element 11 durch Verwendung
von Silikongummi 18 oder andere konventionelle Materialien be
festigt, damit es sich nicht während der Montage bewegt.
Zwei Elektrodenblöcke 16 und 17 sind auf der Anodenelektrode
10 und dem Kathodeneinsatzstück 14 so angeordnet, daß sie in
elektrische Verbindung mit denselben jeweils kommen. Diese
Elektrodenblöcke 16 und 17 bestehen aus einem Material mit
sehr hoher thermischer Leitfähigkeit und guter Affinität für
das Kathodeneinsatzstück 14, das typisch aus Kupfer (Cu) be
steht, z. B. Molybdän (Mo). Durch Pressen der beiden Elektroden
blöcke 16 und 17 gegeneinander in Richtung des Pfeiles wird
ein GTO-Element mit zufriedenstellender Wärmeabstrahlung
erhalten.
Das Kathodeneinsatzstück 14 wird im allgemeinen durch Ätzen,
Schneiden und andere Verfahren bearbeitet. Dabei entsteht not
wendigerweise ein Grat an den Seitenbereichen des Kathoden
einsatzstückes 14. Dieser Grat ist die Hauptsache eines
Kurzschlusses mit der Gate-Elektrode während des Pressens der
Halbleitereinrichtung. Eine Möglichkeit, dieses Problem zu
überwinden ist, das Kathodeneinsatzstück so zu bearbeiten, daß
solche Grate entfernt werden. Dieses Vorgehen bringt jedoch
eine andere Schwierigkeit vom Standpunkt der Verfahrensan
wendung mit sich.
Eine Halbleitereinrichtung mit Druckontakt nach dem Oberbegriff des
Patentanspruches 1 ist aus der DE 28 21 268 A1 bekannt. Bei der
bekannten Halbleitereinrichtung mit Druckkontakt wird der schalen
förmige erste Leiter als Zwischenlage mit einem umgreifenden Kragen
ausgebildet. In den verformten Bereichen wird die Materialstärke
geringer als in den nicht verformten Bereichen ausgelegt. Zwar hat
diese Vorgehensweise den Vorteil, daß der erste Leiter eine gewisse
mechanische Stabilität hat, die Herstellungsweise für einen derartigen
ersten Leiter ist jedoch sehr komplex und schwierig. In gewissen
Bereichen des Materials, das den ersten Leiter bilden soll, muß vor
dem Biegen Material weggenommen werden, so daß das Biegen erleichtert
wird. Dieses Wegnehmen von Material ist ein aufwendiger Herstellungs
schritt. Darüber hinaus bilden sich nach dem Biegen an den Übergängen
der Bereiche geringer Materialstärke zu den Bereichen höherer
Materialstärke scharfe Kanten. Diese scharfen Kanten haben ähnliche
Wirkung wie die oben diskutierten Grate und verursachen daher die
entsprechenden Probleme.
Aus der DE-OS 25 56 749 ist eine Halbleitereinrichtung mit Druck
kontakt bekannt, bei der der Wärmefluß von der Halbleitereinrichtung
zu den Elektrodenblöcken optimiert werden soll. Dazu wird zwischen
einer napfförmigen Elektrode, einer Druckplatte und einem Elektroden
block jeweils eine Wärmeleitschicht wie eine Wärmeleitpaste auf
Silikonbasis vorgesehen. Diese Wärmeleitpaste hat den Nachteil, daß
erstens ihr elektrischer Widerstand relativ groß ist und zweitens sie
sich beim Stromdurchfluß im Laufe der Zeit zersetzt. Daher muß
zusätzlich eine Stromzuführungselektrode von der Halbleitereinrichtung
zu dem Elektrodenblock zum Umgehen der Wärmeleitschichten vorgesehen
sein. Durch diese Anordnung wird die Halbleitereinrichtung sehr
kompliziert und teuer in der Herstellung
Weiterhin ist aus der DE 30 09 511 A1 eine Halbleitervorrichtung mit Druckkontakten
bekannt, bei der gegen das Halbleiterelement eine ringförmige Metall
scheibe gepreßt wird. Die ringförmige Metallscheibe hat zur Steuerung
der Druckverteilung abgerundete Kanten. Es ist jedoch sehr schwierig,
eine ringförmige Metallscheibe herzustellen, die abgerundete Kanten
aufweist. Diese abgerundeten Kanten müssen mit einem Spezialwerkzeug
erzeugt werden. Weiterhin muß der Leiter während der Montage durch
Silikongummi oder ähnliches fixiert werden, damit kein Verrutschen
während der Montage auftreten kann.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Halbleitereinrichtung mit
Druckkontakt nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1 zu schaffen,
bei der der erste Leiter trotz des Druckes keine schädlichen Aus
wirkungen auf das Halbleiterelement ausübt, dabei jedoch einfach
herzustellen und leicht zu montieren ist.
Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Halbleitereinrichtung mit
Druckkontakt, die durch die Merkmale des Patentanspruches 1 gekenn
zeichnet ist.
Bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen
gekennzeichnet.
Es folgt die Beschreibung eines Ausführungsbeispieles anhand
der Figuren. Von den Figuren zeigen:
Fig. 1 als Querschnitt eine konventionelle Halbleiterein
richtung mit Druckkontakt;
Fig. 2 als Querschnitt eine Halbleitereinrichtung mit
Druckkontakt gemäß einer Ausführungsform der
Erfindung
und
Fig. 3 als Querschnitt einen schalenförmigen ersten Leiter
und einen in den ersten Leiter eingepaßten zweiten
Leiter zur Verwendung in der Halbleitereinrichtung
gemäß der in Fig. 2 gezeigten Ausführungsform der
Erfindung.
In Fig. 2 wird ein Querschnitt einer Halbleitereinrichtung
gezeigt, bei der die Gratbildung an einem Kathodeneinsatz
stück keine Gefahr bildet. Dabei sind Komponenten, die ähn
lich wie in Fig. 1 sind, mit gleichen Bezugszeichen versehen.
Die Gate-Elektroden 13, welche im Zentrum des GTO-Elementes
11 vorgesehen sind, werden durch Anschlüsse 51 nach außen
geführt. Bei der gezeigten Struktur kann der zentrale Bereich
des GTO-Elementes 11 in eine kreisförmige Form mit geeignetem
Durchmesser geformt sein (es sind auch andere Formen wie
z. B. ein Hexagon oder ein Quadrat anwendbar).
Jede der Kathodenelektroden 12 weist einen schalenförmigen
ersten Leiter 245 und einen zweiten Leiter 246 auf, der in
den ersten Leiter eingepaßt ist und mit diesem in elektri
schem Kontakt gehalten wird. Alle Kathodenelektroden sind
miteinander durch das derart aufgebaute Kathodeneinsatz
stück 24 elektrisch verbunden. Auf dem Kathodeneinsatzstück
24 über den Kathodenelektroden 12 ist der erste Elektroden
block 17 montiert, welcher in elektrischer Verbindung mit
dem Kathodeneinsatzstück 24 gehalten wird. Der zweite Elek
trodenblock 16 ist auf den Anodenelektroden 10 angeordnet
und mit denselben elektrisch verbunden. Zur guten Wärmeab
strahlung bestehen die auf der Kathoden- und Anodenseite
vorgesehenen ersten und zweiten Elektrodenblöcke 17 und 16
aus Kupfer (Cu). Ein Hochstrom-GTO-Element mit zufriedenstel
lender Wärmestrahlung wird schließlich erhalten durch Pressen
der beiden Blöcke 16 und 17 gegeneinander in Richtung des
Pfeiles.
In dem in Fig. 2 gezeigten Fall muß der schalenförmige erste
Leiter 245 gebogen werden und in Übereinstimmung mit der
am besten in Fig. 3(a) gezeigten Form gebogen und bearbeitet
werden. Außerdem ist es notwendig, einen relativ dicken zweiten
Leiter 246 so zu bearbeiten, daß er in den ersten Leiter
245 eingepaßt werden kann.
Im allgemeinen ist Molybdän (Mo) ein geeignetes Material
für den schalenförmigen ersten Leiter 245. Die Dicke von
Molybdän, die auf einfache Weise ein Biegen ermöglicht, ist
200 µm oder weniger. Deshalb muß die Dicke des ersten Leiters
245 200 µm oder weniger sein. Für den Fall, daß der erste
Leiter 245 eine Dicke zwischen 100 bis 200 µm aufweist, be
steht die Gefahr, daß der erste Leiter 245 während des Pres
sens des Elementes gebogen wird, wodurch ein Kurzschluß
entstehen kann.
Wie der erste Leiter 245 besteht der zweite Leiter 246 vor
zugsweise aus Molybdän (Mo). Die Dicke des zweiten Leiters
246 aus Molybdän ist vorzugsweise 500 µm oder mehr. Es macht
nichts aus, ob einige Grate an Randbreiten des zweiten Lei
ters 246 vorhanden sind, da er in den ersten schalenförmigen
Leiter 245 eingepaßt ist.
Die Biegebreite W des ersten Leiters 245 ist größer (W₁)
und nicht kleiner (W₂) als die Dicke (beispielsweise 1 mm)
des relativ dicken zweiten Leiters 246, der dahinein einge
paßt wird. Wenn nämlich die Biegebreite W gleich W₂ ist oder
wenn sie kleiner als die Dicke des zweiten Leiters 246 ist,
ist es notwendig, den zweiten Leiter 246 an Ort und Stelle
zu fixieren mittels Silikongummis oder anderen wohlbekannten
Materialien, genauso wie bei einer konventionellen Einrich
tung, was nachteilig ist. Wenn jedoch die Biegebreite W
gleich W₁ oder größer als die Dicke des zweiten Leiters 246
ist, dann kann ein Teil des ersten Elektrodenblockes 17 in
den ersten Leiter 245 eingepaßt werden. Dadurch werden das
Herstellungsverfahren und die Montage erleichtert.
Wie schon erwähnt wurde, wird der schalenförmige erste Leiter
245 des Kathodeneinsatzstückes 24 durch Biegen vervollstän
digt, so daß der Biegebereich abgerundet ist und keine Grate
aufweist. Bei der Halbleitereinrichtung besteht kein Problem
eines Kurzschlusses während des Pressens der Einrichtung,
so wie es bei einer konventionellen Einrichtung auftrat,
da die jeweiligen Kathodenelektroden 12 elektrisch über einen
gratfreien schalenförmigen ersten Leiter 245 elektrisch
verbunden sind.
Claims (6)
1. Halbleitereinrichtung mit Druckkontakt mit
- - einem Halbleiterelement (11) mit mindestens einer Kathode (12) und einer Anode (10),
- - einem Paar von gegen das Halbleiterelement (11) gepreßten Elektrodenblöcken (16, 17), und
- - einem zwischen einem ersten Elektrodenblock (17) des Paares von Elektrodenblöcken (16, 17) und dem Halbleiter element (11) angeordneten und mit dem ersten Elektroden block (17) in elektrischem Kontakt gehaltenen schalen förmigen ersten Leiter (245) mit einer in elektrischem Kontakt mit dem Halbleiterelement (11) gehaltenen Bodenplatte, einer an dem äußeren Rand der Bodenplatte hochgebogenen Wand, wobei mindestens ein Bereich des ersten Elektrodenblockes (17) fest in den ersten Leiter (245) eingepaßt ist, und einer Öffnung in der Mitte der Bodenplatte,
dadurch gekennzeichnet,
- - daß der erste Leiter (245) eine an der Öffnung hoch gebogene Wand aufweist,
- - daß die Biegestellen am äußeren Rand und an der Öffnung abgerundet sind und
- - daß ein ringförmiger zweiter Leiter (246) in den ersten Leiter eingepaßt und in elektrischem Kontakt damit ge halten ist.
2. Halbleitereinrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß der äußere Rand und der Rand der
Öffnung in der Bodenplatte des schalenförmigen ersten Leiters
(245) kreisförmig ausgebildet sind.
3. Halbleitereinrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die ersten und zweiten Leiter
(245, 246) aus Molybdän bestehen.
4. Halbleitereinrichtung nach einem der Ansprüche 1-3,
dadurch gekennzeichnet, daß der erste Leiter (245) relativ
dünn ist und der zweite Leiter (246) relativ dick ist.
5. Halbleitereinrichtung nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke des ersten Leiters
(245) 200 µm oder weniger und die Dicke des zweiten Leiters
(246) 500 µm oder mehr ist.
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