DE3390103T1 - Optisch gekoppeltes IC-Feld - Google Patents

Optisch gekoppeltes IC-Feld

Info

Publication number
DE3390103T1
DE3390103T1 DE19833390103 DE3390103T DE3390103T1 DE 3390103 T1 DE3390103 T1 DE 3390103T1 DE 19833390103 DE19833390103 DE 19833390103 DE 3390103 T DE3390103 T DE 3390103T DE 3390103 T1 DE3390103 T1 DE 3390103T1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
chips
radiant energy
opening
field according
field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19833390103
Other languages
English (en)
Other versions
DE3390103C2 (de
Inventor
John Alexander Fair Haven N.J. Copeland
Stewart Edward Locust N.J. Miller
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AT&T Corp
Original Assignee
Western Electric Co Inc
AT&T Bell Laboratories Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Western Electric Co Inc, AT&T Bell Laboratories Inc filed Critical Western Electric Co Inc
Publication of DE3390103T1 publication Critical patent/DE3390103T1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3390103C2 publication Critical patent/DE3390103C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/43Arrangements comprising a plurality of opto-electronic elements and associated optical interconnections
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/80Optical aspects relating to the use of optical transmission for specific applications, not provided for in groups H04B10/03 - H04B10/70, e.g. optical power feeding or optical transmission through water
    • H04B10/801Optical aspects relating to the use of optical transmission for specific applications, not provided for in groups H04B10/03 - H04B10/70, e.g. optical power feeding or optical transmission through water using optical interconnects, e.g. light coupled isolators, circuit board interconnections
    • H04B10/803Free space interconnects, e.g. between circuit boards or chips

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Description

Beschreibung Optisch gekoppeltes IC-Feld
Technisches Gebiet
Die Erfindung bezieht sich auf integrierte Schaltungen (ICs), insbesondere auf IC-Felder.
Zugrunde liegender Stand der Technik
Innerhalb der vergangenen 20 Jahre hat sich die Geschwindigkeit, mit der Rechner zu arbeiten vermögen, um mehrere Größenordnungen erhöht, während die Kosten der Rechner gleichermaßen dramatisch abgenommen haben. All dies v/urde ermöglicht durch die Erfindung von Halbleiterbauelementen und die Entwicklung von integrierten Schaltungen. Mit Hilfe dieser Technologie können viele tausend Schaltungselemente auf einem Halbleitermaterial-Chip ausgebildet werden, von dem jede Seite nur einen Bruchteil eines Zolls mißt. Typischerweise werden hunderte derartiger Schaltungen Seite an Seite gleichzeitig auf einem gemeinsamen Wafer hergestellt. Die Ausbeute eines solchen Prozesses zeigt jedoch abnehmende Tendenz, wenn die Packungsdichte und die Größe jedes Chips erhöht werden. Weiterhin wird die Wärmeableitung zu einem Problem, wenn die Packungsdichte erhöht wird. Schließlich wird bei stark zunehmender Anzcihl von Elementen ein immer größer werdender Bereich
-Φ -3
der Chip-Oberfläche von Verbindungsleitungen eingenommen. Bei heutigen ICs kann auf diese Weise ein Anteil irgendwo von 30 bis 90 Prozent des Chips belegt sein. Weiterhin werden mit zunehmender Chipgröße die anwachsenden Leiterlängen zu einem limitierenden Faktor, der die Geschwindigkeit, mit der das Bauelement zu arbeiten vermag, festlegt.
Offenbarung der Erfindung
Gemäß der vorliegenden Erfindung werden IC-Chips gestapelt, um ein dreidimensionales Feld zu bilden, in welchem die Kopplung zwischen den Chips auf optischem Wege bewirkt wird. Dies gestattet die Verwendung kleinerer, weniger dicht gepackter Chips, so daß sich entsprechend höhere Ausbeuten ergeben. Weiterhin trägt die Verwendung kleinerer, weniger dicht gepackter Chips dazu bei, die für Verbindungsleitungen benötigte Chipfläche zu reduzieren. Sie reduziert außerdem die Längen der Verbindungsleitung und ermöglicht dadurch höhere Arbeitsgeschwindigkeiten.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
Fig. 1 zeigt eine auseinandergezogene Darstellung eines optisch gekoppelten Feldes von integrierten Schaltungen;
Fig. 2 zeigt einen Schnitt durch das Fold nach Fig. 1;
Fig, 3 bis 5 zeigen beispielhafte Ausführungsbeispiele von LEDs und Photodetektoren zur Verwendung in solchen Feldern; und
Jt —
Fig. 6 zeigt die Verwendung von Fokussiermitteln in einer Kopplungsöffnung.
Detaillierte Beschreibung
In den Zeichnungen zeigt Fig. 1 eine auseinandergezogene Darstellung eines dreidimensionalen Feldes 10 von η IC-Chips 11-1, 11—2... 11-n gemäß der vorliegenden Erfindung. Die Chips werden vorteilhafterweise zwischen Wärmesenken 12-1, 12-2 ...12-(n + 1) angeordnet, wobei ihre breiten ebenen Flächen parallel zu und in Berührung mit den ebenen Flächen der benachbarten Wärmesenken liegen.
Jeder der Chips ist. mit den notwendigen elektrischen Verbindern, wie z.B. 13 und 14, ausgestattet, um den Schaltungen elektrische Energie zuzuführen, und, v/o es erforderlich ist, Informationssignale in das Feld und aus dem Feld heraus zu koppeln. Signale können außerdem optisch in das Feld hinein und aus dem Feld heraus mit Hilfe von optischen Fasern 16 und 17 gekoppelt werden. Außerdem werden optische Mittel dazu verwendet, Signale unter den integrierten Schaltungen des Feldes zu übertragen. Dies ist mehr im einzelnen in Fig. 2 dargestellt, die eine Schnittansicht durch das Feld zeigt. Verwendet man die gleichen Bezugszahlen wie in Fig. 1 zum Kennzeichnen entsprechender Bauelemente, so zeigt Fig. 2 eine Faser 16, die sich durch eine Öffnung 20 in der Wärmesenke 12-1 hindurch erstreckt, und einen Photodetektor 21,
der in dem Chip 11-1 ausgebildet ist, um von der Faser 16 emittierte Strahlungsenergie zu empfangen. Außerdem sind in den Chips 11-1 und 11-2 LEDs 22 und 25 sowie zugehörige Photodetektoren 19, 24 und 27 ausgebildet. Strahlungsenergie wird zwischen dem LED 22 und dem Detektor 24 über eine Öffnung 23 in der Wärmesenke 12-2 übertragen. In ähnlicher Weise wird Strahlungsenergie zwischen der LED 25 und dem Detektor 27 über eine Öffnung 26 in der Wärmesenke 12-2 übertragen. Weiterhin wird Strahlungsenergie von der Quelle 2 2 gemäß Zeichnung nach unten auf einen Detektor 19 auf den Chip 11-n durch Öffnungen wie 28 und 29 in den dazwischenliegenden Chips und Wärmesenken gerichtet. Mit diesen Mitteln können Signale in einfacher Weise zwischen den Chips übertragen werden, ohne daß leitende Verbindungsleitungen erforderlich sind, die im Stand der Technikf von dem Ursprungsabschnitt der integrierten Schaltung zu dem Umfang des ersten Chips über eine externe Verbindung zu dem Umfang des zweiten Chips und dann zu der Empfangsstelle der zweiten integrierten Schaltung laufen müssen. Zusätzlich dazu, daß auf den Chips Fläche verbraucht wird, tragen die Längen der zum Herstellen dieser Verbindungen vorgesehenen Leiter dazu bei, der Arbeitsgeschwindigkeit der sich ergebenden Schaltung eine obere Grenze zu setzen.
Die IC-Chips 11-1 bis 11-n ähneln praktisch den heutzutage üblichen IC-Chips mit der Ausnahme, daß sie vortoilhafterweise aus Direktbandabstand -Halbleitermaterialien (d.h. GaAs,InP und InGaAsP) hergestellt sind, so daß an verschiedenen Stellen
-A -(ρ
auf den Chips kleine LEDs unä Photodetektoren niedriger Leistung enthalten sein können (siehe beispielsweise den Artikel von F. H. Eisen mit dem Titel "Materials and processes for GaAs integrated circuits", Inst. Phys. Conf. Ser. No. 63 Chapter 11, überreicht anläßtlich des Symp. GaAs and Related Compounds, Japan, 1981.)
Fig. 3 bis 5 zeigen mehr im einzelnen beispielhafte LED- und Photodetektorstrukturen zur Ausführung der vorliegenden Erfindung. Bei der Ausführungsforni nach Fig. 3 bildet eine Epitaxialschicht 30 aus einem Materiell eines ersten Leitungstyps, die auf einem Mesa eines Substratmaterials 31 entgegengesetzten Leitungstyps aufgebracht ist, eine Photodiode. Zum Zwecke der Anschauung ist das Substrat als η-leitendes und die Epitaxialschicht als p-leitendes Material gekennzeichnet. Die Oberseite ist mit einer Isolierschicht 33 überzogen, in der oberhalb der Schicht 30 eine öffnung gebildet ist. Ein Ohmscher Kontakt für die Photodiode läßt sich dadurch herstellen, daß oberhalb der Schicht 30 eine erste metallische (z.B. aus Gold bestehende) Schicht 35 und auf der Bodenseite des Substrats 31 eine zweite metallische Schicht 34 aufgebracht wird. Durch eine in der Schicht 34 gebildete Öffnung wird Strahlungsenergie in die Diode hinein und aus der Diode heraus gekoppelt.
Bei Verwendung als Signalsender wird in den oberen Kontakt 35 ein Treiberstrom eingespeist und über die Öffnung 36 in dem unteren Kontakt 34 wird Strahlungsenergie abgezogen, wie in
Fig. 3 gezeigt ist. Bei Verwendung als Photodetektor wird durch die öffnung in dem Kontakt 34 Strahlungsenergie auf die Diode gerichtet, und am Kontakt 35 tritt der resultierende Ausgangsstrom auf.
Um die von der Photodiode gelieferte Strahlungsenergie zu fokussieren und somit eine unerwünschte Kreuzkopplung zu anderen Photodetektoren auszuschließen, erstreckt sich der Kontakt 35 vorteilhafterweise an der Seite des Mesa 32 nach unten.
Die Ausführungsform nach Fig. 4 ist praktisch die gleiche wie die in Fig. 3 gezeigte, sie enthält eine Schicht 40 eines n-leitenden Halbleitermaterials, das auf ein Mesa des darunterliegenden Substrats 41 aus p-leitendein Material aufgebracht ist, um eine Photodiode zu bilden. Ein Ohmscher Kontakt mit der Diode wird mit Hilfe eines ersten metallischen Verbinders 44 über eine in einer Isolierschicht 46 befindliche Öffnung und einen zweiten metallischen Verbinder 47, der in Berührung steht mit der Unterseite des Substrats 41, gebildet. Bei dieser Ausführungsform wird Strahlungsenergie in die Photodiode hinein und aus der Photodiode heraus über eine in dem oberen metallischen Verbinder 44 befindliche Öffnung 45 übertragen.
Fig. 5 zeigt einen planaren Diodenaufbau zur Verwendung in Verbindung mit der vorliegenden Erfindung, wobei die Photodiode dadurch gebildet ist, daß in das Chip-Substrat 50 ein gceigneter Dotierstoff eindiffundiert ist, um eine Zone entgegengesetzten
-4t -
Leitungstyps zu bilden, beispielsweise eine p-leitende Zone in einem η-leitenden Substrat. Ein metallischer Verbinder 52 macht Ohmschen Kontakt mit der Zone 51 über eine in einer Isolierschicht 53 gebildete Öffnung 58. Ein zweiter metallischer Verbinder 55 stellt Ohmschen Kontakt mit der Unterseite des Substrats her.
Bei dieser Ausführungsform kann Strahlungsenergie durch die Isolierschicht 53 und/oder durch eine Öffnung 56 in dem zweiten metallischen Verbinder 55 in die Diode hinein oder aus der Diode heraus übertragen werden. Auf diese Weise kann eine gleichzeitige optische Kopplung zwischen einem Chip und zwei anderen, gegenüberliegend eingeordneten Chips in dem Feld oder zwischen einem Chip und einer Faser oder irgendeiner anderen Kombination dieser Teile erfolgen.
Es ist ein Vorteil der Erfindung, daß eine große Anzahl relativ kleiner ICs in einem einzigen Stapel derart angeordnet werden kann, daß die Geschwindigkeit nicht leidet. Da die Herstellungsausbeute bei kleinen Chips stets größer ist als die Ausbeute größerei- Chips, könnte ein größerer Prozentsatz von verarbeiteten Wafern in einem optisch gekoppelten Feld erfindungsgemäß verwendet werden, als es möglich wäre, wenn die gleiche Funktion in einem einzigen, größeren Chip verwirklicht würde. Weiterhin sind die Fassungen für heute übliche ICs typischerweise viel größer als das darin befindliche IC-Chip, und zwar aufgrund der
- Vb -
mechanischen Herausführung der vielen elektrischen Verbindungen. Ein optisch gekoppeltes Chipfeld dagegen besitzt weniger externe Verbindungen und kann so ausgebildet werden, daß nur externe Gleichspannungsverbindungen und ein optisches Faserband erforderlich sind. Hierdurch erhält man kleinere Fassungen.
Wie in den Fig. 1 und 2 gezeigt ist, können zwischen den Chips Wärmesenken vorgesehen sein. Falls erforderlich, können die Wärmesenken dick genug gemacht werden, damit sie Leitungen für Kühlfluide enthalten. Ferner kann in der Kopplungsöffnung eine Linse vorgesehen sein, um den optischen Kopplungswirkungsgrad zu erhöhen, wie in Fig. 6 gezeigt ist, in der eine Linse 60 in einer Kopplungsöffnung 61 dargestellt ist, Letztere kann sich entweder in einem Chip oder in einer Wärmesenke, durch das bzw. durch die Energie übertragen wird, befinden. Die Verwendung von spärischen Glaslinsen würde das Erfordernis einer Orientierungsausrichtung während der Herstellung ausräumen.

Claims (6)

  1. Patentansprüche
    IC-Feld, mit mindestens zwei IC-Chips, die jeweils ein Paar breiter ebener Flächen aufweisen, und die aufeinandergestapelt sind, wobei ihre breiten ebenen Flächen im wesentlichen parallel zueinander liegen, gekennzeichnet durch
    eine mindestens eine Strahlungsenergiequelle enthaltende Einrichtung (22), die an einem der Chips angeordnet ist und mindestens einen Strahlungsenergiedetektor (24), der an den anderen der Chips angeordnet ist, um von der Quelle emittierte Strahlungsenergie zu empfangen.
  2. 2 . Feld nach Anspruch 1,
    gekennzeichnet durch
    eine Mehrzahl von η Chips, wobei η eine ganze Zahl größer als zwei ist, und eine Mehrzahl von Strahlungsenergiequellen sowie Strahlungsenergiedetektoren, die unter den Chips verteilt sind, wobei jede Quelle derart ausgebildet ist, daß sie Strahlungsenergie zu mindestens einem der Detektoren überträgt.
    Kndctl.-.sUnfli' « (Otrti Mmuhori Λ0 liMofon (Π'-.V) P.ü3603/f.»36Ck. TcIi χ 5217313 Ti'lcorin.riH· Prttr.Tllconsult
    Tck'fax (CCIl [ ?! Wk '.tvidiT·, und München (059) 8 M 461K Attcnlion Palontconsult
    A4
  3. 3. Feld nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet , daß zwischen benachbarten Paaren von Chips eine Wärmesenke angeordnet ist.
  4. 4. Feld nach Anspruch 3, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (23), die Strahlungsenergie durch die Wärmesenke überträgt,
  5. 5. Feld nach Anspruch 4,
    dadurch gekennzeichnet , daß die Einrichtung eine Öffnung ist.
  6. 6. Feld nach Anspruch 4,
    dadurch gekennzeichnet , daß die Einrichtung eine Öffnung (61) und eine innerhalb der Öffnung angeordnete Fokussiereinrichtung (60) enthält.
DE19833390103 1982-08-19 1983-07-22 Optisch gekoppeltes IC-Feld Granted DE3390103T1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/409,401 US4533833A (en) 1982-08-19 1982-08-19 Optically coupled integrated circuit array
PCT/US1983/001127 WO1984000822A1 (en) 1982-08-19 1983-07-22 Optically coupled integrated circuit array

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3390103T1 true DE3390103T1 (de) 1984-10-18
DE3390103C2 DE3390103C2 (de) 1993-04-08

Family

ID=23620336

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19833390103 Granted DE3390103T1 (de) 1982-08-19 1983-07-22 Optisch gekoppeltes IC-Feld

Country Status (10)

Country Link
US (1) US4533833A (de)
EP (1) EP0118467B1 (de)
JP (1) JPS59501431A (de)
CA (1) CA1206576A (de)
DE (1) DE3390103T1 (de)
GB (1) GB2125620B (de)
HK (1) HK80786A (de)
IT (1) IT1235859B (de)
NL (1) NL192413C (de)
WO (1) WO1984000822A1 (de)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4862231A (en) * 1983-11-18 1989-08-29 Harris Corporation Non-contact I/O signal transmission in integrated circuit packaging
GB2152749A (en) * 1984-01-14 1985-08-07 Peter Michael Jeffery Morrish Interconnection of integrated circuitry by light
US5009476A (en) * 1984-01-16 1991-04-23 Texas Instruments Incorporated Semiconductor layer with optical communication between chips disposed therein
GB2157488B (en) * 1984-04-14 1987-09-16 Standard Telephones Cables Ltd Interconnecting integrated circuits
JPS63502315A (ja) * 1986-01-21 1988-09-01 アメリカン テレフォン アンド テレグラフ カムパニ− ウエハサイズで集積化されたアセンブリの相互接続
DE3633251A1 (de) * 1986-09-30 1988-03-31 Siemens Ag Optoelektronisches koppelelement
DE3720153A1 (de) * 1987-06-16 1988-12-29 Siemens Ag Anordnung zur optoelektronischen kopplung von integrierten schaltungen, die in mindestens zwei halbleiterscheiben enthalten sind
FR2620284B1 (fr) * 1987-09-09 1991-06-28 France Etat Dispositif de connexion optique, pour la connexion de systemes electroniques complexes tels que les piles de cartes electroniques en panier
US4948960A (en) * 1988-09-20 1990-08-14 The University Of Delaware Dual mode light emitting diode/detector diode for optical fiber transmission lines
DE3834335A1 (de) * 1988-10-08 1990-04-12 Telefunken Systemtechnik Halbleiterschaltung
DE3835601A1 (de) * 1988-10-19 1990-05-03 Messerschmitt Boelkow Blohm Digitalrechner mit einer multiprozessor-anordnung
GB9001547D0 (en) * 1990-01-23 1990-03-21 British Telecomm Interconnection
US5047623A (en) * 1990-02-02 1991-09-10 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Transparent selective illumination means suitable for use in optically activated electrical switches and optically activated electrical switches constructed using same
DE4005003C2 (de) * 1990-02-19 2001-09-13 Steve Cordell Verfahren zur Unterbindung des Kenntnisgewinnens derStruktur oder Funktion eines integrierten Schaltkreises
US5146078A (en) * 1991-01-10 1992-09-08 At&T Bell Laboratories Articles and systems comprising optically communicating logic elements including an electro-optical logic element
US5237434A (en) * 1991-11-05 1993-08-17 Mcnc Microelectronic module having optical and electrical interconnects
US5266794A (en) * 1992-01-21 1993-11-30 Bandgap Technology Corporation Vertical-cavity surface emitting laser optical interconnect technology
DE4211899C2 (de) * 1992-04-09 1998-07-16 Daimler Benz Aerospace Ag Mikrosystem-Laseranordnung und Mikrosystem-Laser
JP3959662B2 (ja) * 1999-03-23 2007-08-15 セイコーエプソン株式会社 光信号伝送装置およびその製造方法
US7831151B2 (en) 2001-06-29 2010-11-09 John Trezza Redundant optical device array
US6775308B2 (en) 2001-06-29 2004-08-10 Xanoptix, Inc. Multi-wavelength semiconductor laser arrays and applications thereof
US6633421B2 (en) 2001-06-29 2003-10-14 Xanoptrix, Inc. Integrated arrays of modulators and lasers on electronics
US6753197B2 (en) 2001-06-29 2004-06-22 Xanoptix, Inc. Opto-electronic device integration
US6790691B2 (en) 2001-06-29 2004-09-14 Xanoptix, Inc. Opto-electronic device integration
US6753199B2 (en) 2001-06-29 2004-06-22 Xanoptix, Inc. Topside active optical device apparatus and method
US6724794B2 (en) 2001-06-29 2004-04-20 Xanoptix, Inc. Opto-electronic device integration
US6731665B2 (en) 2001-06-29 2004-05-04 Xanoptix Inc. Laser arrays for high power fiber amplifier pumps
US6620642B2 (en) 2001-06-29 2003-09-16 Xanoptix, Inc. Opto-electronic device integration
US6831301B2 (en) * 2001-10-15 2004-12-14 Micron Technology, Inc. Method and system for electrically coupling a chip to chip package
JP2004022901A (ja) * 2002-06-18 2004-01-22 Seiko Epson Corp 光インターコネクション集積回路、光インターコネクション集積回路の製造方法、電気光学装置および電子機器
KR102059968B1 (ko) * 2018-04-05 2019-12-27 한국과학기술연구원 중적외선을 이용한 반도체 칩간 광통신 기술

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1118826A (en) * 1964-06-29 1968-07-03 Texas Instruments Inc Optoelectric systems
GB1112992A (en) * 1964-08-18 1968-05-08 Texas Instruments Inc Three-dimensional integrated circuits and methods of making same
US3486029A (en) * 1965-12-29 1969-12-23 Gen Electric Radiative interconnection arrangement
CA874623A (en) * 1966-09-28 1971-06-29 A. Schuster Marvin Radiation sensitive switching system for an array of elements
US3493760A (en) * 1966-12-14 1970-02-03 Us Army Optical isolator for electric signals
GB1214315A (en) * 1967-07-17 1970-12-02 Mining & Chemical Products Ltd Signal coupling device
GB1304591A (de) * 1970-02-18 1973-01-24
US3748479A (en) * 1970-02-26 1973-07-24 K Lehovec Arrays of electro-optical elements and associated electric circuitry
US3663194A (en) * 1970-05-25 1972-05-16 Ibm Method for making monolithic opto-electronic structure
GB1458544A (en) * 1974-03-21 1976-12-15 Standard Telephones Cables Ltd Semiconductor laser stacks
DE2737345C2 (de) * 1976-08-20 1991-07-25 Canon K.K., Tokio/Tokyo Halbleiterlaser-Vorrichtung mit einem Peltier-Element
US4169001A (en) * 1976-10-18 1979-09-25 International Business Machines Corporation Method of making multilayer module having optical channels therein
US4136928A (en) * 1977-05-06 1979-01-30 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Optical integrated circuit including junction laser with oblique mirror
JPS566479A (en) * 1979-06-26 1981-01-23 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor integrated circuit
DE3019645A1 (de) * 1980-05-22 1981-12-03 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Isolierter einschub mit hoher spannungsfestigkeit
JPS5890764A (ja) * 1981-11-25 1983-05-30 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
NL192413B (nl) 1997-03-03
GB2125620B (en) 1985-12-24
GB2125620A (en) 1984-03-07
DE3390103C2 (de) 1993-04-08
NL8320242A (nl) 1984-07-02
CA1206576A (en) 1986-06-24
EP0118467A4 (de) 1986-11-06
WO1984000822A1 (en) 1984-03-01
IT1235859B (it) 1992-11-16
IT8322581A0 (it) 1983-08-18
NL192413C (nl) 1997-07-04
EP0118467B1 (de) 1990-10-03
GB8322132D0 (en) 1983-09-21
EP0118467A1 (de) 1984-09-19
HK80786A (en) 1986-10-31
JPS59501431A (ja) 1984-08-09
US4533833A (en) 1985-08-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3390103T1 (de) Optisch gekoppeltes IC-Feld
DE3879109T2 (de) Signalprozessor mit zwei durch rillen umgebene halbleiterscheiben.
DE69130732T2 (de) Herstellungsverfahren für eine Opto-elektronische Strahlungsdetektormatrix
DE19510631B4 (de) Halbleiterbauelement
DE69501195T2 (de) Hybride halbleiteranordnung
DE112008000248B4 (de) System mit im Waferbonding-Zwischenraum gebildeten Chipkühlkanälen
DE69802028T2 (de) Halbleiterlasergehäuse mit System zur Leistungsüberwachung
DE3889477T2 (de) Strahlungsempfindliche Halbleiteranordnung.
DE2310053A1 (de) Feld aus lichtemittierenden und lichtempfangenden elementen in logischer anordnung
EP0335104A2 (de) Vorrichtung zum optischen Verbinden eines oder mehrerer optischer Sender mit einem oder mehreren optischen Detektoren eines oder mehrerer integrierter Schaltkreise
DE68917428T2 (de) Sonnenzelle und ihr Herstellungsverfahren.
DE69409780T2 (de) Verfahren zur Herstellung opto-elektrischer Halbleiterbauelemente
DE128947T1 (de) Spannungsvervielfacher mit integrierter schaltung.
DE3300986A1 (de) Mehrschichtige optische integrierte schaltung
DE3926065C2 (de)
DE2704373A1 (de) Halbleiteranordnung und verfahren zur herstellung von halbleiteranordnungen
DE19700520A1 (de) Halbleiter-Fotodetektorvorrichtung
DE69130899T2 (de) Vorrichtungen und Systeme mit optisch kommunizierenden logischen Elementen
DE2929484C2 (de) Monolithische Halbleiteranordnung zur Umwandlung von in unterschiedlichen Wellenlängenbereichen liegenden Lichtsignalen in elektrische Signale
DE2920108A1 (de) Halbleiteranordnung mit einer anzahl in reihe geschalteter photoempfindlicher zellen
DE112019004265T5 (de) Lichtemittierendes element und elektronikeinrichtung
DE2248068A1 (de) Optisch-elektronische anordnung
DE102020112915B4 (de) Photonische vorrichtung und verfahren mit verlängerter quanteneffektstrecke
DE3586196T2 (de) Lichtemittierende diodenanordnung.
DE69811755T2 (de) Leuchtdiodenanordnung

Legal Events

Date Code Title Description
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: AT & T TECHNOLOGIES, INC., NEW YORK, N.Y., US

8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8328 Change in the person/name/address of the agent

Free format text: BLUMBACH, KRAMER & PARTNER, 65193 WIESBADEN

8339 Ceased/non-payment of the annual fee