DE3390103T1 - Optisch gekoppeltes IC-Feld - Google Patents
Optisch gekoppeltes IC-FeldInfo
- Publication number
- DE3390103T1 DE3390103T1 DE19833390103 DE3390103T DE3390103T1 DE 3390103 T1 DE3390103 T1 DE 3390103T1 DE 19833390103 DE19833390103 DE 19833390103 DE 3390103 T DE3390103 T DE 3390103T DE 3390103 T1 DE3390103 T1 DE 3390103T1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- chips
- radiant energy
- opening
- field according
- field
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/43—Arrangements comprising a plurality of opto-electronic elements and associated optical interconnections
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B10/00—Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
- H04B10/80—Optical aspects relating to the use of optical transmission for specific applications, not provided for in groups H04B10/03 - H04B10/70, e.g. optical power feeding or optical transmission through water
- H04B10/801—Optical aspects relating to the use of optical transmission for specific applications, not provided for in groups H04B10/03 - H04B10/70, e.g. optical power feeding or optical transmission through water using optical interconnects, e.g. light coupled isolators, circuit board interconnections
- H04B10/803—Free space interconnects, e.g. between circuit boards or chips
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Description
Beschreibung Optisch gekoppeltes IC-Feld
Technisches Gebiet
Die Erfindung bezieht sich auf integrierte Schaltungen (ICs),
insbesondere auf IC-Felder.
Zugrunde liegender Stand der Technik
Innerhalb der vergangenen 20 Jahre hat sich die Geschwindigkeit, mit der Rechner zu arbeiten vermögen, um mehrere Größenordnungen
erhöht, während die Kosten der Rechner gleichermaßen dramatisch abgenommen haben. All dies v/urde ermöglicht durch die Erfindung
von Halbleiterbauelementen und die Entwicklung von integrierten Schaltungen. Mit Hilfe dieser Technologie können viele tausend
Schaltungselemente auf einem Halbleitermaterial-Chip ausgebildet werden, von dem jede Seite nur einen Bruchteil eines Zolls mißt.
Typischerweise werden hunderte derartiger Schaltungen Seite an Seite gleichzeitig auf einem gemeinsamen Wafer hergestellt. Die
Ausbeute eines solchen Prozesses zeigt jedoch abnehmende Tendenz, wenn die Packungsdichte und die Größe jedes Chips erhöht werden.
Weiterhin wird die Wärmeableitung zu einem Problem, wenn die Packungsdichte erhöht wird. Schließlich wird bei stark zunehmender
Anzcihl von Elementen ein immer größer werdender Bereich
-Φ -3
der Chip-Oberfläche von Verbindungsleitungen eingenommen. Bei
heutigen ICs kann auf diese Weise ein Anteil irgendwo von 30 bis 90 Prozent des Chips belegt sein. Weiterhin werden mit
zunehmender Chipgröße die anwachsenden Leiterlängen zu einem limitierenden Faktor, der die Geschwindigkeit, mit der das
Bauelement zu arbeiten vermag, festlegt.
Offenbarung der Erfindung
Gemäß der vorliegenden Erfindung werden IC-Chips gestapelt, um ein dreidimensionales Feld zu bilden, in welchem die Kopplung
zwischen den Chips auf optischem Wege bewirkt wird. Dies gestattet die Verwendung kleinerer, weniger dicht gepackter Chips,
so daß sich entsprechend höhere Ausbeuten ergeben. Weiterhin trägt die Verwendung kleinerer, weniger dicht gepackter Chips
dazu bei, die für Verbindungsleitungen benötigte Chipfläche zu reduzieren. Sie reduziert außerdem die Längen der Verbindungsleitung und ermöglicht dadurch höhere Arbeitsgeschwindigkeiten.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
Fig. 1 zeigt eine auseinandergezogene Darstellung eines optisch gekoppelten Feldes von integrierten Schaltungen;
Fig. 2 zeigt einen Schnitt durch das Fold nach Fig. 1;
Fig, 3 bis 5 zeigen beispielhafte Ausführungsbeispiele von
LEDs und Photodetektoren zur Verwendung in solchen Feldern; und
— Jt —
Fig. 6 zeigt die Verwendung von Fokussiermitteln in einer
Kopplungsöffnung.
Detaillierte Beschreibung
In den Zeichnungen zeigt Fig. 1 eine auseinandergezogene Darstellung
eines dreidimensionalen Feldes 10 von η IC-Chips 11-1, 11—2... 11-n gemäß der vorliegenden Erfindung. Die Chips werden
vorteilhafterweise zwischen Wärmesenken 12-1, 12-2 ...12-(n + 1)
angeordnet, wobei ihre breiten ebenen Flächen parallel zu und in Berührung mit den ebenen Flächen der benachbarten Wärmesenken
liegen.
Jeder der Chips ist. mit den notwendigen elektrischen Verbindern, wie z.B. 13 und 14, ausgestattet, um den Schaltungen elektrische
Energie zuzuführen, und, v/o es erforderlich ist, Informationssignale in das Feld und aus dem Feld heraus zu koppeln. Signale
können außerdem optisch in das Feld hinein und aus dem Feld heraus mit Hilfe von optischen Fasern 16 und 17 gekoppelt werden.
Außerdem werden optische Mittel dazu verwendet, Signale unter den integrierten Schaltungen des Feldes zu übertragen. Dies ist
mehr im einzelnen in Fig. 2 dargestellt, die eine Schnittansicht durch das Feld zeigt. Verwendet man die gleichen Bezugszahlen
wie in Fig. 1 zum Kennzeichnen entsprechender Bauelemente, so zeigt Fig. 2 eine Faser 16, die sich durch eine Öffnung 20 in
der Wärmesenke 12-1 hindurch erstreckt, und einen Photodetektor 21,
der in dem Chip 11-1 ausgebildet ist, um von der Faser 16
emittierte Strahlungsenergie zu empfangen. Außerdem sind in den Chips 11-1 und 11-2 LEDs 22 und 25 sowie zugehörige Photodetektoren
19, 24 und 27 ausgebildet. Strahlungsenergie wird
zwischen dem LED 22 und dem Detektor 24 über eine Öffnung 23 in der Wärmesenke 12-2 übertragen. In ähnlicher Weise wird
Strahlungsenergie zwischen der LED 25 und dem Detektor 27 über eine Öffnung 26 in der Wärmesenke 12-2 übertragen. Weiterhin
wird Strahlungsenergie von der Quelle 2 2 gemäß Zeichnung nach unten auf einen Detektor 19 auf den Chip 11-n durch Öffnungen
wie 28 und 29 in den dazwischenliegenden Chips und Wärmesenken gerichtet. Mit diesen Mitteln können Signale in einfacher Weise
zwischen den Chips übertragen werden, ohne daß leitende Verbindungsleitungen erforderlich sind, die im Stand der Technikf
von dem Ursprungsabschnitt der integrierten Schaltung zu dem Umfang des ersten Chips über eine externe Verbindung zu dem
Umfang des zweiten Chips und dann zu der Empfangsstelle der
zweiten integrierten Schaltung laufen müssen. Zusätzlich dazu, daß auf den Chips Fläche verbraucht wird, tragen die Längen der
zum Herstellen dieser Verbindungen vorgesehenen Leiter dazu bei, der Arbeitsgeschwindigkeit der sich ergebenden Schaltung eine
obere Grenze zu setzen.
Die IC-Chips 11-1 bis 11-n ähneln praktisch den heutzutage
üblichen IC-Chips mit der Ausnahme, daß sie vortoilhafterweise aus
Direktbandabstand -Halbleitermaterialien (d.h. GaAs,InP und
InGaAsP) hergestellt sind, so daß an verschiedenen Stellen
-A -(ρ
auf den Chips kleine LEDs unä Photodetektoren niedriger
Leistung enthalten sein können (siehe beispielsweise den Artikel von F. H. Eisen mit dem Titel "Materials and processes for GaAs
integrated circuits", Inst. Phys. Conf. Ser. No. 63 Chapter 11,
überreicht anläßtlich des Symp. GaAs and Related Compounds, Japan, 1981.)
Fig. 3 bis 5 zeigen mehr im einzelnen beispielhafte LED- und
Photodetektorstrukturen zur Ausführung der vorliegenden Erfindung.
Bei der Ausführungsforni nach Fig. 3 bildet eine Epitaxialschicht
30 aus einem Materiell eines ersten Leitungstyps, die auf einem
Mesa eines Substratmaterials 31 entgegengesetzten Leitungstyps aufgebracht ist, eine Photodiode. Zum Zwecke der Anschauung ist
das Substrat als η-leitendes und die Epitaxialschicht als p-leitendes Material gekennzeichnet. Die Oberseite ist mit einer
Isolierschicht 33 überzogen, in der oberhalb der Schicht 30 eine öffnung gebildet ist. Ein Ohmscher Kontakt für die Photodiode
läßt sich dadurch herstellen, daß oberhalb der Schicht 30 eine erste metallische (z.B. aus Gold bestehende) Schicht 35
und auf der Bodenseite des Substrats 31 eine zweite metallische Schicht 34 aufgebracht wird. Durch eine in der Schicht 34 gebildete Öffnung wird Strahlungsenergie in die Diode hinein und
aus der Diode heraus gekoppelt.
Bei Verwendung als Signalsender wird in den oberen Kontakt 35
ein Treiberstrom eingespeist und über die Öffnung 36 in dem unteren Kontakt 34 wird Strahlungsenergie abgezogen, wie in
Fig. 3 gezeigt ist. Bei Verwendung als Photodetektor wird durch die öffnung in dem Kontakt 34 Strahlungsenergie auf die Diode
gerichtet, und am Kontakt 35 tritt der resultierende Ausgangsstrom auf.
Um die von der Photodiode gelieferte Strahlungsenergie zu
fokussieren und somit eine unerwünschte Kreuzkopplung zu anderen Photodetektoren auszuschließen, erstreckt sich der Kontakt 35
vorteilhafterweise an der Seite des Mesa 32 nach unten.
Die Ausführungsform nach Fig. 4 ist praktisch die gleiche wie die
in Fig. 3 gezeigte, sie enthält eine Schicht 40 eines n-leitenden Halbleitermaterials, das auf ein Mesa des darunterliegenden
Substrats 41 aus p-leitendein Material aufgebracht ist, um eine
Photodiode zu bilden. Ein Ohmscher Kontakt mit der Diode wird mit Hilfe eines ersten metallischen Verbinders 44 über eine in
einer Isolierschicht 46 befindliche Öffnung und einen zweiten metallischen Verbinder 47, der in Berührung steht mit der
Unterseite des Substrats 41, gebildet. Bei dieser Ausführungsform wird Strahlungsenergie in die Photodiode hinein und aus
der Photodiode heraus über eine in dem oberen metallischen Verbinder
44 befindliche Öffnung 45 übertragen.
Fig. 5 zeigt einen planaren Diodenaufbau zur Verwendung in Verbindung
mit der vorliegenden Erfindung, wobei die Photodiode
dadurch gebildet ist, daß in das Chip-Substrat 50 ein gceigneter Dotierstoff eindiffundiert ist, um eine Zone entgegengesetzten
-4t -
Leitungstyps zu bilden, beispielsweise eine p-leitende Zone
in einem η-leitenden Substrat. Ein metallischer Verbinder 52 macht Ohmschen Kontakt mit der Zone 51 über eine in einer
Isolierschicht 53 gebildete Öffnung 58. Ein zweiter metallischer Verbinder 55 stellt Ohmschen Kontakt mit der Unterseite des
Substrats her.
Bei dieser Ausführungsform kann Strahlungsenergie durch die
Isolierschicht 53 und/oder durch eine Öffnung 56 in dem zweiten metallischen Verbinder 55 in die Diode hinein oder aus der
Diode heraus übertragen werden. Auf diese Weise kann eine
gleichzeitige optische Kopplung zwischen einem Chip und zwei anderen, gegenüberliegend eingeordneten Chips in dem Feld oder
zwischen einem Chip und einer Faser oder irgendeiner anderen Kombination dieser Teile erfolgen.
Es ist ein Vorteil der Erfindung, daß eine große Anzahl relativ kleiner ICs in einem einzigen Stapel derart angeordnet werden
kann, daß die Geschwindigkeit nicht leidet. Da die Herstellungsausbeute
bei kleinen Chips stets größer ist als die Ausbeute größerei- Chips, könnte ein größerer Prozentsatz von verarbeiteten
Wafern in einem optisch gekoppelten Feld erfindungsgemäß verwendet
werden, als es möglich wäre, wenn die gleiche Funktion in einem einzigen, größeren Chip verwirklicht würde. Weiterhin
sind die Fassungen für heute übliche ICs typischerweise viel größer als das darin befindliche IC-Chip, und zwar aufgrund der
- Vb -
mechanischen Herausführung der vielen elektrischen Verbindungen. Ein optisch gekoppeltes Chipfeld dagegen besitzt weniger externe
Verbindungen und kann so ausgebildet werden, daß nur externe Gleichspannungsverbindungen und ein optisches Faserband erforderlich
sind. Hierdurch erhält man kleinere Fassungen.
Wie in den Fig. 1 und 2 gezeigt ist, können zwischen den Chips Wärmesenken vorgesehen sein. Falls erforderlich, können die
Wärmesenken dick genug gemacht werden, damit sie Leitungen für Kühlfluide enthalten. Ferner kann in der Kopplungsöffnung eine
Linse vorgesehen sein, um den optischen Kopplungswirkungsgrad zu erhöhen, wie in Fig. 6 gezeigt ist, in der eine Linse 60 in
einer Kopplungsöffnung 61 dargestellt ist, Letztere kann sich
entweder in einem Chip oder in einer Wärmesenke, durch das bzw. durch die Energie übertragen wird, befinden. Die Verwendung von
spärischen Glaslinsen würde das Erfordernis einer Orientierungsausrichtung während der Herstellung ausräumen.
Claims (6)
- PatentansprücheIC-Feld, mit mindestens zwei IC-Chips, die jeweils ein Paar breiter ebener Flächen aufweisen, und die aufeinandergestapelt sind, wobei ihre breiten ebenen Flächen im wesentlichen parallel zueinander liegen, gekennzeichnet durcheine mindestens eine Strahlungsenergiequelle enthaltende Einrichtung (22), die an einem der Chips angeordnet ist und mindestens einen Strahlungsenergiedetektor (24), der an den anderen der Chips angeordnet ist, um von der Quelle emittierte Strahlungsenergie zu empfangen.
- 2 . Feld nach Anspruch 1,gekennzeichnet durcheine Mehrzahl von η Chips, wobei η eine ganze Zahl größer als zwei ist, und eine Mehrzahl von Strahlungsenergiequellen sowie Strahlungsenergiedetektoren, die unter den Chips verteilt sind, wobei jede Quelle derart ausgebildet ist, daß sie Strahlungsenergie zu mindestens einem der Detektoren überträgt.Kndctl.-.sUnfli' « (Otrti Mmuhori Λ0 liMofon (Π'-.V) P.ü3603/f.»36Ck. TcIi χ 5217313 Ti'lcorin.riH· Prttr.TllconsultTck'fax (CCIl [ ?! Wk '.tvidiT·, und München (059) 8 M 461K Attcnlion PalontconsultA4
- 3. Feld nach Anspruch 1,dadurch gekennzeichnet , daß zwischen benachbarten Paaren von Chips eine Wärmesenke angeordnet ist.
- 4. Feld nach Anspruch 3, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (23), die Strahlungsenergie durch die Wärmesenke überträgt,
- 5. Feld nach Anspruch 4,dadurch gekennzeichnet , daß die Einrichtung eine Öffnung ist.
- 6. Feld nach Anspruch 4,dadurch gekennzeichnet , daß die Einrichtung eine Öffnung (61) und eine innerhalb der Öffnung angeordnete Fokussiereinrichtung (60) enthält.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/409,401 US4533833A (en) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | Optically coupled integrated circuit array |
PCT/US1983/001127 WO1984000822A1 (en) | 1982-08-19 | 1983-07-22 | Optically coupled integrated circuit array |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3390103T1 true DE3390103T1 (de) | 1984-10-18 |
DE3390103C2 DE3390103C2 (de) | 1993-04-08 |
Family
ID=23620336
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19833390103 Granted DE3390103T1 (de) | 1982-08-19 | 1983-07-22 | Optisch gekoppeltes IC-Feld |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4533833A (de) |
EP (1) | EP0118467B1 (de) |
JP (1) | JPS59501431A (de) |
CA (1) | CA1206576A (de) |
DE (1) | DE3390103T1 (de) |
GB (1) | GB2125620B (de) |
HK (1) | HK80786A (de) |
IT (1) | IT1235859B (de) |
NL (1) | NL192413C (de) |
WO (1) | WO1984000822A1 (de) |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4862231A (en) * | 1983-11-18 | 1989-08-29 | Harris Corporation | Non-contact I/O signal transmission in integrated circuit packaging |
GB2152749A (en) * | 1984-01-14 | 1985-08-07 | Peter Michael Jeffery Morrish | Interconnection of integrated circuitry by light |
US5009476A (en) * | 1984-01-16 | 1991-04-23 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor layer with optical communication between chips disposed therein |
GB2157488B (en) * | 1984-04-14 | 1987-09-16 | Standard Telephones Cables Ltd | Interconnecting integrated circuits |
JPS63502315A (ja) * | 1986-01-21 | 1988-09-01 | アメリカン テレフォン アンド テレグラフ カムパニ− | ウエハサイズで集積化されたアセンブリの相互接続 |
DE3633251A1 (de) * | 1986-09-30 | 1988-03-31 | Siemens Ag | Optoelektronisches koppelelement |
DE3720153A1 (de) * | 1987-06-16 | 1988-12-29 | Siemens Ag | Anordnung zur optoelektronischen kopplung von integrierten schaltungen, die in mindestens zwei halbleiterscheiben enthalten sind |
FR2620284B1 (fr) * | 1987-09-09 | 1991-06-28 | France Etat | Dispositif de connexion optique, pour la connexion de systemes electroniques complexes tels que les piles de cartes electroniques en panier |
US4948960A (en) * | 1988-09-20 | 1990-08-14 | The University Of Delaware | Dual mode light emitting diode/detector diode for optical fiber transmission lines |
DE3834335A1 (de) * | 1988-10-08 | 1990-04-12 | Telefunken Systemtechnik | Halbleiterschaltung |
DE3835601A1 (de) * | 1988-10-19 | 1990-05-03 | Messerschmitt Boelkow Blohm | Digitalrechner mit einer multiprozessor-anordnung |
GB9001547D0 (en) * | 1990-01-23 | 1990-03-21 | British Telecomm | Interconnection |
US5047623A (en) * | 1990-02-02 | 1991-09-10 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Transparent selective illumination means suitable for use in optically activated electrical switches and optically activated electrical switches constructed using same |
DE4005003C2 (de) * | 1990-02-19 | 2001-09-13 | Steve Cordell | Verfahren zur Unterbindung des Kenntnisgewinnens derStruktur oder Funktion eines integrierten Schaltkreises |
US5146078A (en) * | 1991-01-10 | 1992-09-08 | At&T Bell Laboratories | Articles and systems comprising optically communicating logic elements including an electro-optical logic element |
US5237434A (en) * | 1991-11-05 | 1993-08-17 | Mcnc | Microelectronic module having optical and electrical interconnects |
US5266794A (en) * | 1992-01-21 | 1993-11-30 | Bandgap Technology Corporation | Vertical-cavity surface emitting laser optical interconnect technology |
DE4211899C2 (de) * | 1992-04-09 | 1998-07-16 | Daimler Benz Aerospace Ag | Mikrosystem-Laseranordnung und Mikrosystem-Laser |
JP3959662B2 (ja) * | 1999-03-23 | 2007-08-15 | セイコーエプソン株式会社 | 光信号伝送装置およびその製造方法 |
US7831151B2 (en) | 2001-06-29 | 2010-11-09 | John Trezza | Redundant optical device array |
US6775308B2 (en) | 2001-06-29 | 2004-08-10 | Xanoptix, Inc. | Multi-wavelength semiconductor laser arrays and applications thereof |
US6633421B2 (en) | 2001-06-29 | 2003-10-14 | Xanoptrix, Inc. | Integrated arrays of modulators and lasers on electronics |
US6753197B2 (en) | 2001-06-29 | 2004-06-22 | Xanoptix, Inc. | Opto-electronic device integration |
US6790691B2 (en) | 2001-06-29 | 2004-09-14 | Xanoptix, Inc. | Opto-electronic device integration |
US6753199B2 (en) | 2001-06-29 | 2004-06-22 | Xanoptix, Inc. | Topside active optical device apparatus and method |
US6724794B2 (en) | 2001-06-29 | 2004-04-20 | Xanoptix, Inc. | Opto-electronic device integration |
US6731665B2 (en) | 2001-06-29 | 2004-05-04 | Xanoptix Inc. | Laser arrays for high power fiber amplifier pumps |
US6620642B2 (en) | 2001-06-29 | 2003-09-16 | Xanoptix, Inc. | Opto-electronic device integration |
US6831301B2 (en) * | 2001-10-15 | 2004-12-14 | Micron Technology, Inc. | Method and system for electrically coupling a chip to chip package |
JP2004022901A (ja) * | 2002-06-18 | 2004-01-22 | Seiko Epson Corp | 光インターコネクション集積回路、光インターコネクション集積回路の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
KR102059968B1 (ko) * | 2018-04-05 | 2019-12-27 | 한국과학기술연구원 | 중적외선을 이용한 반도체 칩간 광통신 기술 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1118826A (en) * | 1964-06-29 | 1968-07-03 | Texas Instruments Inc | Optoelectric systems |
GB1112992A (en) * | 1964-08-18 | 1968-05-08 | Texas Instruments Inc | Three-dimensional integrated circuits and methods of making same |
US3486029A (en) * | 1965-12-29 | 1969-12-23 | Gen Electric | Radiative interconnection arrangement |
CA874623A (en) * | 1966-09-28 | 1971-06-29 | A. Schuster Marvin | Radiation sensitive switching system for an array of elements |
US3493760A (en) * | 1966-12-14 | 1970-02-03 | Us Army | Optical isolator for electric signals |
GB1214315A (en) * | 1967-07-17 | 1970-12-02 | Mining & Chemical Products Ltd | Signal coupling device |
GB1304591A (de) * | 1970-02-18 | 1973-01-24 | ||
US3748479A (en) * | 1970-02-26 | 1973-07-24 | K Lehovec | Arrays of electro-optical elements and associated electric circuitry |
US3663194A (en) * | 1970-05-25 | 1972-05-16 | Ibm | Method for making monolithic opto-electronic structure |
GB1458544A (en) * | 1974-03-21 | 1976-12-15 | Standard Telephones Cables Ltd | Semiconductor laser stacks |
DE2737345C2 (de) * | 1976-08-20 | 1991-07-25 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Halbleiterlaser-Vorrichtung mit einem Peltier-Element |
US4169001A (en) * | 1976-10-18 | 1979-09-25 | International Business Machines Corporation | Method of making multilayer module having optical channels therein |
US4136928A (en) * | 1977-05-06 | 1979-01-30 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Optical integrated circuit including junction laser with oblique mirror |
JPS566479A (en) * | 1979-06-26 | 1981-01-23 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor integrated circuit |
DE3019645A1 (de) * | 1980-05-22 | 1981-12-03 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Isolierter einschub mit hoher spannungsfestigkeit |
JPS5890764A (ja) * | 1981-11-25 | 1983-05-30 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
-
1982
- 1982-08-19 US US06/409,401 patent/US4533833A/en not_active Expired - Lifetime
-
1983
- 1983-07-22 JP JP58502649A patent/JPS59501431A/ja active Pending
- 1983-07-22 DE DE19833390103 patent/DE3390103T1/de active Granted
- 1983-07-22 WO PCT/US1983/001127 patent/WO1984000822A1/en active IP Right Grant
- 1983-07-22 EP EP83902614A patent/EP0118467B1/de not_active Expired
- 1983-07-22 NL NL8320242A patent/NL192413C/nl not_active IP Right Cessation
- 1983-07-28 CA CA000433470A patent/CA1206576A/en not_active Expired
- 1983-08-17 GB GB08322132A patent/GB2125620B/en not_active Expired
- 1983-08-18 IT IT8322581A patent/IT1235859B/it active
-
1986
- 1986-10-23 HK HK807/86A patent/HK80786A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL192413B (nl) | 1997-03-03 |
GB2125620B (en) | 1985-12-24 |
GB2125620A (en) | 1984-03-07 |
DE3390103C2 (de) | 1993-04-08 |
NL8320242A (nl) | 1984-07-02 |
CA1206576A (en) | 1986-06-24 |
EP0118467A4 (de) | 1986-11-06 |
WO1984000822A1 (en) | 1984-03-01 |
IT1235859B (it) | 1992-11-16 |
IT8322581A0 (it) | 1983-08-18 |
NL192413C (nl) | 1997-07-04 |
EP0118467B1 (de) | 1990-10-03 |
GB8322132D0 (en) | 1983-09-21 |
EP0118467A1 (de) | 1984-09-19 |
HK80786A (en) | 1986-10-31 |
JPS59501431A (ja) | 1984-08-09 |
US4533833A (en) | 1985-08-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3390103T1 (de) | Optisch gekoppeltes IC-Feld | |
DE3879109T2 (de) | Signalprozessor mit zwei durch rillen umgebene halbleiterscheiben. | |
DE69130732T2 (de) | Herstellungsverfahren für eine Opto-elektronische Strahlungsdetektormatrix | |
DE19510631B4 (de) | Halbleiterbauelement | |
DE69501195T2 (de) | Hybride halbleiteranordnung | |
DE112008000248B4 (de) | System mit im Waferbonding-Zwischenraum gebildeten Chipkühlkanälen | |
DE69802028T2 (de) | Halbleiterlasergehäuse mit System zur Leistungsüberwachung | |
DE3889477T2 (de) | Strahlungsempfindliche Halbleiteranordnung. | |
DE2310053A1 (de) | Feld aus lichtemittierenden und lichtempfangenden elementen in logischer anordnung | |
EP0335104A2 (de) | Vorrichtung zum optischen Verbinden eines oder mehrerer optischer Sender mit einem oder mehreren optischen Detektoren eines oder mehrerer integrierter Schaltkreise | |
DE68917428T2 (de) | Sonnenzelle und ihr Herstellungsverfahren. | |
DE69409780T2 (de) | Verfahren zur Herstellung opto-elektrischer Halbleiterbauelemente | |
DE128947T1 (de) | Spannungsvervielfacher mit integrierter schaltung. | |
DE3300986A1 (de) | Mehrschichtige optische integrierte schaltung | |
DE3926065C2 (de) | ||
DE2704373A1 (de) | Halbleiteranordnung und verfahren zur herstellung von halbleiteranordnungen | |
DE19700520A1 (de) | Halbleiter-Fotodetektorvorrichtung | |
DE69130899T2 (de) | Vorrichtungen und Systeme mit optisch kommunizierenden logischen Elementen | |
DE2929484C2 (de) | Monolithische Halbleiteranordnung zur Umwandlung von in unterschiedlichen Wellenlängenbereichen liegenden Lichtsignalen in elektrische Signale | |
DE2920108A1 (de) | Halbleiteranordnung mit einer anzahl in reihe geschalteter photoempfindlicher zellen | |
DE112019004265T5 (de) | Lichtemittierendes element und elektronikeinrichtung | |
DE2248068A1 (de) | Optisch-elektronische anordnung | |
DE102020112915B4 (de) | Photonische vorrichtung und verfahren mit verlängerter quanteneffektstrecke | |
DE3586196T2 (de) | Lichtemittierende diodenanordnung. | |
DE69811755T2 (de) | Leuchtdiodenanordnung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: AT & T TECHNOLOGIES, INC., NEW YORK, N.Y., US |
|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: BLUMBACH, KRAMER & PARTNER, 65193 WIESBADEN |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |