JPS59501431A - 光結合集積回路アレイ - Google Patents
光結合集積回路アレイInfo
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- JPS59501431A JPS59501431A JP58502649A JP50264983A JPS59501431A JP S59501431 A JPS59501431 A JP S59501431A JP 58502649 A JP58502649 A JP 58502649A JP 50264983 A JP50264983 A JP 50264983A JP S59501431 A JPS59501431 A JP S59501431A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/43—Arrangements comprising a plurality of opto-electronic elements and associated optical interconnections
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B10/00—Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
- H04B10/80—Optical aspects relating to the use of optical transmission for specific applications, not provided for in groups H04B10/03 - H04B10/70, e.g. optical power feeding or optical transmission through water
- H04B10/801—Optical aspects relating to the use of optical transmission for specific applications, not provided for in groups H04B10/03 - H04B10/70, e.g. optical power feeding or optical transmission through water using optical interconnects, e.g. light coupled isolators, circuit board interconnections
- H04B10/803—Free space interconnects, e.g. between circuit boards or chips
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
光結合集積回路アレイ
技術分野
本発明は集積回路(IC)#に集積回路アレイに係る。
本発明の背景
過去20年間、計算機の動作速度は側桁も増加し、一方それらの価格は、念激に
減少した。このすべてが半導体デバイス及び集積回路の発展により可能になった
。この技術により、数千の回路要素を谷1i1111インチ程度の部分の半導体
材料チップ上に適合させろことができる。典型的な場合、数百のそのような回路
が共通のウェハ上に。
そろえて同時に作られる。しかし、そのようなプロセスの歩留りは、充てん密度
及び各チップの寸法が増すのにつれ、減少する傾向がある。加えて熱分散は充て
ん密度が増加するとともに1問題となる傾向がある。最後に。
要索数が増すにつれ、チップ表面領域の次第に多くが。
イ目互接続リードによりとられるようになる。現在のICの場合、チップの6υ
ないし90パーセントがそのように占められる。更に、チップの大きさが増すに
つれ、増加したリード長が、デバイスが動作する速度を決める制限要因になる。
本発明の要約
不発明に従うと、集積回路チップは積み貫ねられ、三次元アレイが形成され、そ
の場合チップ間の結合は光学的に行われる。これにより、より小さく充てん密度
を下げることができ、そ−の結果対応して歩留りを高くすることが可能になる。
加えて、より小さく光てん密度の低いチップは、相互接続リードに必要なチップ
表面領域を減すのに役立つ。それはまた相互接続リードの長さを減し。
それにより動作速度を上げることが可能である。
図面の簡単な説明
第1図は集積回路の光学的に結合されたアレイの展開図。
第2図は第1図のアレイを貫く断面図。
第6ないし第5図はそのようなアレイ中に用いられるLED及び光検出器の実施
例を示す図。
第6図は結合開口中の焦点合せ手段の使用を示す図で図面を参照すると、第1図
は本発明に従うn個の集積回路チップ11−1.11−2−・・11−nから成
る三次元アレイ1oの展開図である。チップはそれらの広いプレーナ表面を、隣
接するヒートシンクのプレーナ表面に平行でかつ接触させて、ヒートシンク(2
〜1゜12−2・・・12(n+1)間に配置させると有利である。
回路に電気的パワーを供給し、適切な場合には情報信号を7レイ中に結合し、が
つアレイから取り出すために各チップには13及び14のような必要な電気的コ
ネクりが設けられる。1を号はまた光ファイバー6及び17により、光学的にア
レイ中に結合されかつ取り出すことがでごる。加えて、光学的手段はアレイの集
積回路中に信号を結合するために用いられる。これは第2図中に詳細に示されて
おり、この図はアレイを貫く断面である。対応する要素を示すために第1図中に
用いられているのと同じ参照数字を用いろと、第2図はヒートシンク12−1中
の開口20を貢いて延びるファイバ16と、ファイバ16から放出された放射エ
ネルギーを受けるために。
チップ11−1中に組込まれた光検出器21を示す。チップ11−1及び11−
2中に4人されたLED22及び25とそれに付随した光検出器19,24及び
27が示されている。放射エネルギーはヒートシンク12−2中り)fji10
23を通してL E D 22及び光検出器24間に結合される。同イアkに放
射エネルギーはヒートシンク12−2中の開口26を通して、LED25及び光
検出器27間に結合される。加えて、ソース22がらの放射エネルギーは、中間
のチップ及びヒートシンク中の28及び29のような開口を辿して、チップ11
−n上の検出器19に下方に回けられるように示されている。これにより、信−
号は’M ”、、l生す−トを必要とすることなく、チップ中に容易に結合され
、従来技術において導電性リードは集積回路の原点部分から、外部接続を通して
、第2のチップの周辺に走り2次に第2の集積回路の受信位置まで坑ずろ。チッ
プ」二のプこ質的な要素を用いるのに加え。
これらの接続に含まれるリード長は、得られる回路の動作速度の上限となる傾向
がある。
ICチップ11−1ないし11−nは現在のICチップと本質的に同様であるが
、それらが直接遷移半導体材料(すなわち、f)aAs 、 Inp及びInC
)aAsP )で作るのが有利であることが異り、それによりその上の各種の位
置に低パワーLED及び光検出器を含めることができる。
(たとえば、F、H,アイセン(Ejsen )による論文’ GaAs集積回
路用材料及びプロセス” + sYmp+ GaAsand Re1ated
Compounds で発表された In5t、Phys。
第3ないし第5図は本発明を実施するためのL E D及び光検出器構造の例を
詳細に示す。第3図の実施例において、相対する伝導形の基板材料61のメサ上
に堆積させた第1の伝導形材料のエピタキシャル層6oが、フォトダイオードを
形成する。説明のため、基板はn形を特徴とし、エピタキシャル層はp形材料で
あることを特徴とする。上部表面は絶縁層33で被覆され、その中には層30上
の開口が形成されている。フォトダイオードへのオーム性接触は2層3o上に第
1の金属(すなわち金)層をまた基板61の底部表面に第2の金属層ろ4を堆積
させることにより5作成される。放射エネルギーは層ろ4中の開口を通して、ダ
イオードに結合され、それから取り出される。
5
信号エミッタとして用いられる時、駆動電流が上部電極35に供給され、放射エ
ネルギーは第6図に示されるように、下部電極34中の開口を通して引き出され
る。
検出器として用いるならば放射エネルギーは電極64中の開口を通して、ダイオ
ード上に向けられ、得られる出力電流は電極35上に現われる。
フォトダイオードから導かれた放射エネルギーの焦点を合せ、従・つて他の光検
出器への寄生の結合を除くため。
電極35はメサ32の側面を下方に延びろと有利である。
第4図の実施例は、基本的に第6図と同じで、n形半導体材料の層40がp形材
料の下の基板41のメサ上に堆積され、フォトダイオードを形成する。オーム性
接触は絶縁層46中の開口を通して、第1の金属コネクタ44により、ダイオー
ドに作成され、第2の金属コネクタ47は基板41の下部表面と接触する。この
実施例において、放射エネルギーは上部金属コネクタ44中の開口45を通して
、フォトダイオード中に結合され、それから引き出される。
第5図は本発明と関連して用いられるプレーナダイオード構造を示いその場合フ
ォトダイオード(ま適当なドーパントをチップ基板5G中に拡散し、相対する伝
導形の領域、たとえばn形基板中のp影領域51を形成することにより作られる
。金属コネクタ52は絶縁層中の開口58を通して、領域51へのオーム性接触
を作る。
6 待人昭59−501431 (s)第2の金属コネクタ55は基板の底部表
面へのオーム性接触を作る。
この実施例において、放射エネルギーは絶縁層53及び第2の金属コネクタ55
中の開口56の両方又は一方を通して、ダイオード中に結合され、それから取り
出される。このようにして、光の結合はチップと他のチップ。
すなわちアレイ中で相対して配置されたチップ間あるいはチップとファイバ間又
はその任意の組合せの間で同時に行うことができる。
速度を犠牲にしないような方法で、多数の比較的小さなICを、単一のパッケー
ジ中に組み立てられることが。
本発明の利点である。小さなチップに対する製作歩留りが、大きなチップの歩留
りより常に大きい限り、単一の大きなチップ中に同じ機能を組込む場合より2本
発明に従い光学的に結合されたアレイでは、使用できる加工されたウェハの割合
は大きい。加えて、現在のICのパッケージは典型的な場合その中のICチップ
よりはるかに太きい。その理由は、多くの電気的接続を機械的にとり出す必要が
あるからである。それに対し、光学的に結合されたチップアレイは外部接続は少
く、外部d、c、接続及び光フアイバリボンのみが必要であるように設計できる
。
第1図及び第2図に示されるように、チップ間にヒートシンクを設けることがで
きる。もし必要ならばヒートシンクは冷却液体用の導管を含むように厚く作るこ
とができる。加えて、第6図に示されるように、光結合効率を増ずため、結合開
口中にレンズを含めることができる。
第6図中てルンズ60が結合開口61中に配置されているのが示されている。後
者はチップ又はヒートシンクのいずれかの中に配置することができ、それを通し
てエネルギーが伝達さ」tろ。球状カラスレンズを用いることにより、製作中方
向性の配置をする必要がなくなる可能性がある。
n−形基板
国際調査報告
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 それぞれが一対の広いプレーナ表面を有する少くとも2個の集積回路チップ から成り。 該チップはそれらの広いプレーナ表面を相互に本質的に平行にして、@接するも う一方と積み重ねられる集積回路アレイにおいて。 該チップの一つの上に配置された少くとも一つの放射エネルギーソース及び該ソ ースから放出された放射エネルギーを受けるために、該チップの他方の上に配置 された少(とも1個の放射エネルギー検出器(24)を含む手段(22)を%徴 とするアレイ。 2、請求の範囲第1項に記載されたアレイにおいて。 nが2以上の整数であるとき、n個のチップの複数のチップ。 該チップ間に分布した多数の放射エネルギーソース及び放射エネルギー検出器が 含まれ、各ソースは放射エネルギーを少くとも1個の該検出器に結合するのに適 していることを特徴とするアレイ。 3 請求の範囲第1項に記載されたアレイにおいて。 チップの隣接した対の間に、ヒートシンクが配置されていることを特徴とするア レイ。 4 請求の範囲第6項に記載されたアレイにおいて。 該ヒートシンクを通して放射エネルギーを結合するための手段(23)を特徴と するアレイ。 5 請求の範囲第4項に記載されたアレイにおいて。 該手段は開口であることを特徴とするアレイ。 6、請求の範囲第4項に記載されたアレイにお(・て。 該手段は開口(61)及び該開口中に配置された焦点合せ手段(60)から成る ことを特徴とずろアレイ。 1
Applications Claiming Priority (2)
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