DE3341384A1

DE3341384A1 - Elektrochromatisches element

Info

Publication number: DE3341384A1
Application number: DE19833341384
Authority: DE
Inventors: Kazuya Yokosuka Kanagawa Ishiwata
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1982-11-16
Filing date: 1983-11-15
Publication date: 1984-05-17
Also published as: DE3341384C2; US4508792A; JPS5990821A

Description

Beschreibung

Elektrochromatisches Element

Die Erfindung betrifft ein elektrochromatisches Element, d. h. ein Element, bei dem ein elektrochemisches Farbbildungs- und Farblöschphänomen, d. h. der elektrochromatische Effekt ausgenutzt wird. Speziell bezieht sich die Erfindung auf ein Bauelement mit einer neuen auf der Anodenseite vorgesehenen elektrochromatischen Schicht, die eine Farbe bilden kann.

Ein herkömmliches elektrochromatisches Element wurde dadurch hergestellt, daß zwischen einem Elektrodenplattenpaar eine Isolierschicht und als Farbbildungsschicht ein überzugfilm an der Kathodenseite gebildet wurden. Der Überzugfilm bestand aus Wolframdioxid (WO₂), Wolframtrioxid (WO₃), Molybdändioxid (MoO₂), Molybdäntrioxid (MoO₃), Divanadiumpentoxid (V₂O₁-) oder dergleichen. Es ist außerdem vorgeschlagen worden, als Farbbildungsschicht an der Anodenseite einen Überzug aus Iridiumhydroxid (Ir(OH)₂), Nickelhydroxid (Ni(OH)₂) oder

Chromtrioxid (Cr₂O₃) entweder allein oder in Kombination mit der oben erwähnten kathodenseitigen Farbbildungsschicht vorzusehen.

Diese vollständig als Festkörper ausgebildeten elektrochromatischen Elemente gemäß dem Stand der Technik weisen grundsätzlich das Problem einer geringen Ansprechgeschwindigkeit, eines schwachen Farbbildungseffekts, insbesondere einer geringen Farbdichte, und einer kurzen Lebensdauer auf. Andere Probleme kommen hinzu. Die obigen Probleme stehen praktischen Anwendungsmöglichkeiten von elektrochromatischen Elementen in beträchtlichem Ausmaß entgegen.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein elektrochromatisches Element zu schaffen, welches die obigen Probleme nicht aufwirft, welches insbesondere eine verbesserte Ansprechgeschwindigkeit, einen verbesserten Farbbildungseffekt und eine erhöhte Lebensdauer besitzt.

Diese Aufgabe wird bei einem elektrochromatischen Element durch die im Anspruch 1 oder die im Anspruch 3 angegebenen Merkmale gelöst.

Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 und 2 jeweils eine Querschnittansicht eines erfindungsgemäßen elektrochromatischen Elements, und

Fig. 3 eine Skizze einer Ionenplattier-Apparatur zum

Herstellen erfindungsgemäßer elektrochromatischer Elemente.

Die Fig. 1 und 2 zeigen im Querschnitt jeweils ein elektrochromatisches Element mit einem aus einer Glasplatte oder dergleichen bestehenden Substrat 1, einer aus einer transparenten leitenden Schicht oder einer Metallschicht aus beispielsweise Au, Al, Ni, Cr, Ag usw. bestehenden ersten Elektrode, einer als kathodenseitige Farbbildungsschicht vorgesehenen ersten elektrochromatischen Schicht 3, einer aus einem dielektrischen Material bestehenden Isolierschicht 4, einer als anodenseitige Farbbildungsschicht vorgesehenen zweiten elektrochromatischen Schicht 5 und einer aus einem leitenden Film bestehenden zweiten Elektrode 6.

Das Substrat muß nicht unbedingt aus einer Glasplatte bestehen, es kann aus irgendeiner farblosen transparenten Platte bestehen, z. B. aus einer Kunststoffplatte wie z. B. einer Acrylharzplatte. Ein solches Substrat des Elements

kann entweder auf einer Seite einer der Elektroden vorgesehen sein oder aber auf beiden Seiten der Elektroden.

Die zweite Elektrode 6 kann transparent oder lichtundurchlässig sein. Ist sie transparent, so kann man das Element als elektrochromatisches Bauelement für Durchlicht einsetzen. Ein transparenter leitender Film kann z. B. ein ITO-FiIm sein, also ein Indiumoxid-(In₂O₃-)Film, der etwa 5 Gew.-% Zinnoxid (SnO₂) enthält, ein Nesa-Film oder dergleichen. Die erste elektrochromatische Schicht 3, die als kathodenseitige Farbbildungsschicht dient, kann ein Überzug aus Wolframdioxid (WO₂), Wolframtrioxid (WO₃), Molybdändioxid (MoO₂), Molybdäntrioxid (MoO₃) oder Divanadiumpentoxid (V₂O₅) sein. Die aus einem dielektrischen Stoff bestehende Isolierschicht 4 kann ein überzug sein, der aus einem Oxid besteht, z. B. aus Zirkondioxid (ZrO₂), Siliciummonoxid (SiO), Siliciumdioxid (SiO₂) oder Ditantalpentoxid (Ta₂O₅). Der Überzug kann auch aus einem Fluorid bestehen, z. B. aus Magnesiumfluorid (MgF₂).

Die als anodenseitige Farbbildungsschicht dienende zweite elektrochromatische Schicht 5 ist ein Überzug, der nach dem lonenplattierverfahren hergestellt wird, wobei cobaltoxide wie z. B. CoO und Co₂O₃ entweder jeweils allein oder in Verbindung unter Beisein von Sauerstoffgas (O₂) und/oder Wasser-

dampf (H₂O-Dampf) verwendet werden. Vorzugsweise wird das Sauerstoffgas und/oder der Wasserdampf in die auf etwa 10~ Torr evakuierte Ionenplattier-Vakuumkammer eingegeben,

-4 so daß sich ein Druck von annähernd 2,0 χ 10 bis -4

5,0 χ 10 Torr einstellt. Geeignete Niederschlagungsgeschwindigkeiten der Cobaltverbindung sind 0,6 - 2,0 S/s. Der sich ergebende Überzug, der durch die Ionenplattierung des Cobaltoxids bzw. Cobalts in Beisein von Sauerstoff gas und/oder Wasserdampf gebildet wird, besteht vermutlich aus Cobaltoxid, Cobalthydroxid (Co(OH)₂) oder einer Mischung dieser Stoffe.

Im Rahmen der Erfindung kann die kathodenseitige Farbbildungsschicht 3, die in Fig. 1 gezeigt ist, fortgelassen werden, so daß sich die in Fig. 2 gezeigte Struktur ergibt. Das elektrochromatische Element gemäß Fig. 2 weist ebenfalls im Vergleich zu bekannten Elementen eine verbesserte Ansprechgeschwindigkeit, einen besseren Farbbildungseffekt und eine höhere Lebensdauer auf.

Wie aus Fig. 3 hervorgeht, enthält die im Rahmen der vorliegenden Erfindung verwendete Ionenplattier-Apparatur eine Vakuumkammer 30, in der ein Träger 31, eine Hochfrequenzspule 32 und eine Elektronenkanone 33 angeordnet sind. Außerhalb der Vakuumkammer 30 sind eine Spannungsquelle 33 zum Anlegen einer GIeich-Vorspannung zwischen den Träger 31 und

die Elektronenkanone 33 und eine Hochfrequenz-Spannungsquelle zum Speisen der Hochfrequenzspule 32 mit Hochfrequenzenergie angeordnet. Ein Sauerstoffgasbehälter 36 und ein Wasser enthaltender Behälter 37 sind über Nadelventile 38 bzw. 39 mit der Vakuumkammer 30 verbunden, um in die Kammer 30 Sauerstoffgas und/oder Wasserdampf eingeben zu können. Die Bildung der zweiten elektrochromatisehen Schicht 5 erfolgt mittels des lonenplattierverfahrens, insbesondere dadurch, daß Cobaltoxid 40 auf der Elektronenkanone 33 und ein zu überziehender Gegenstand 41 (z. B. eine Elektrodenplatte) auf dem Träger 31 angeordnet werden. Das Ionenplattieren wird vorzugsweise bei einer Gleich-Vorspannung von 0,2 bis 3,6 KV und einer Hochfrequenzleistung von 13,56 MHz durchgeführt.

Wird an das auf diese Weise hergestellte elektrochromatische Festkörperelement eine vorbestimmte Spannung zwischen die erste und die zweite Elektrode gelegt, um eine elektrochemische Reaktion hervorzurufen, so zeigt das Element ein Farbbild, welches bei Anlegen einer Gegenspannung verschwindet.

Die "anodenseitige Farbbildungsschicht" oder die "Farbbildungsschicht an der Anodenseite" bedeutet hier eine Schicht, die in der Lage ist, eine Farbe zu bilden, wenn eine benachbarte Elektrode (diese braucht nur mit der Schicht elektrischen

Kontakt zu haben) mit dem Pluspol (+) verbunden wird und elektrischer Strom zwischen der Anode und der Kathode fließt. Der Begriff "kathodenseitige Farbbildungsschicht" oder "Farbbildungsschicht an der Kathodenseite" bedeutet hier eine Schicht, die in der Lage ist, eine Farbe zu bilden, wenn eine benachbarte Elektrode (diese muß lediglich elektrischen Kontakt mit der Schicht haben) an den negativen Pol (-) angeschlossen wird und ein elektrischer Strom zwischen der Anode und der Kathode fließen kann.

Im folgenden soll die Erfindung anhand von Beispielen näher erläutert werden.

Beispiel 1

Ein als die zweite Elektrode auf einem aus Corning 7059 (Corning Glass Co., USA) bestehendes, 0,8 mm dicken Glassubstrat gebildeter ITO-FiIm wurde mit einer zweiten elektrochromatischen Schicht einer Dicke von 150 Nanometer als die anodenseitige Farbbildungsschicht unter Verwendung der in Fig. 3 gezeigten Apparatur durch das reaktive Ionenplattierverfahren überzogen. Die Ionenplattierung wurde durchgeführt, indem in die Vakuumkammer Wasserdampf bis zu einem Druck von

-4

5,0 χ 10 Torr eingegeben und zuvor in der Kammer bereitgestelltes CoO verdampft wurde. Die Niederschlagungsgeschwindig-

keit wurde so gesteuert, daß sie 2,0 Ä/s betrug. Außerdem wurde über dieser elektrochromatischen Schicht ein Ta₂O₅-FiIm einer Dicke von 300 Nanometer als Isolierschicht aufgebracht, und darüber wurde als erste chromatische Schicht eine 300 Nanometer dicke WO₃-Schicht aufgebracht. Letztgenannte Schicht ist die kathodenseitige Farbbildungsschicht. Beide Schichten wurden durch Vakuumniederschlagung bei einem Vakuum von 2,0 χ 10 Torr und einer Niederschlagungsgeschwindigkeit von 10 A/s gebildet. Dann wurde als erste Elektrode auf der elektrochromatischen WO₃-Schicht ein 30 Nanometer dicker durchscheinender Au-FiIm gebildet.

Bei Anlegen einer Gleichspannung von 2,0 Volt zwischen die mit der kathodenseitigen Farbbildungsschicht in Kontakt befindliche erste Elektrode und die mit der anodenseitigen Farbbildungsschicht in Kontakt befindliche zweite Elektrode bildete das fertige elektrochromatische Festkörperelement eine Farbe. Hierbei war die erste Elektrode mit der Kathode verbunden, während die zweite Elektrode mit der Anode verbunden war. Demzufolge dauerte es 500 Millisekunden, bis der Anstieg der optischen Dichte (AO.D.) einen Wert von 0,3 erreichte. Als die Zuführung der Spannung beendet wurde, blieb der gefärbte Zustand als solcher erhalten. Als anschließend die Polaritäten der Elektroden während der Zeit der Farb-

bildung umgekehrt wurden, wurde wieder der farblose Zustand hergestellt.

Beispiel 2

Ein auf einem aus Corning 7059 bestehenden, 0,8 mm dicken Glässubstrat als die zweite Elektrode gebildeter ITO-FiIm wurde mit einer 150 Nanometer dicken zweiten elektrochromatischen Schicht als die anodenseitige Farbbildungsschicht überzogen, und zwar mittels reaktiver Ionenplattierung bei einer Dampfniederschlagungsgeschwindigkeit von 2,0 A/s. Dieses Plattieren wurde in der in Fig. 3 dargestellten Apparatur durchgeführt. In die Vakuumkammer wurde Wasserdampf bis zu

-4
einem Druck von 3,0 χ 10 Torr und dann Sauerstoffgas bis zu

-4
einem Druck von 5,0 χ 10 Torr eingegeben, und vorab in der Kammer bereitgestelltes CoO wurde verdampft. Diese elektrochromatische Schicht wurde mit einer 300 Nanometer dicken Ta₂ ©,--Isolierschicht überzogen, und dann wurde auf diese Schicht eine 300 Nanometer dicke WO₃-Schicht als erste elektrochromatische Schicht aufgebracht, welche die kathodenseitige Farbbildungsschicht darstellte. Beide Schichten wurden durch

-5 Dampfniederschlagung in Vakuum bei einem Druck von 2,0 χ 10 Torr und einer Dampfniederschlagungsgeschwindigkeit von 10 8/s gebildet. Dann wurde als erste Elektrode auf der elektrochromatischen WO₃-Schicht eine 30 Nanometer dicke

durchscheinende leitende Au-Schicht aufgebracht.

Das so hergestellte elektrochromatische Element wurde betrieben, indem zwischen die erste und die zweite Elektrode eine Gleichspannung von 2,0 Volt gelegt wurde (wie im Beispiel 1). Es dauerte 600 Millisekunden, bis der Anstieg der optischen Dichte ^0.D. einen Wert von 0,3 erreichte.

Beispiel 3

Ein auf einem aus Corning 7059 bestehenden, 0,8 mm dicken Glassubstrat als die zweite Elektrode gebildeter ITO-FiIm wurde mit einer 150 Nanometer dicken zweiten elektrochromatischen Schicht als anodenseitige Farbbildungsschicht durch reaktives Ionenplattieren bei einer Dampfniederschlagungsgeschwindigkeit von 3,0 8/s überzogen. Das Plattieren erfolgte mittels der in Fig. 3 gezeigten Apparatur. In die Vakuum-

-4 kammer wurde-Wasserdampf bis zu einem Druck von 5,0 χ 10 Torr eingegeben, und vorab in die Kammer eingebrachtes Co₂O₃ wurde verdampft. Über diese elektrochromatische Schicht wurde eine 300 Nanometer dicke Ta₂O₃-Isolierschicht aufgebracht, welche anschließend von einer 300 Nanometer dicken WO₃-Schicht als erste elektrochromatische Schicht überzogen wurde. Letztere war die kathodenseitige Farbbildungsschicht. Beide Schichten

wurden durch Vakuumniederschlagung bei einem Druck von 2,0 χ 10 Torr und einer Dampfniederschlagungsgeschwindigkeit von 10 A/s gebildet. Dann wurde auf der elektrochromatischen WO₃-Schicht als die erste Elektrode ein 30 Nanometer dicker durchscheinender leitender Au-FiIm gebildet.

Das so hergestellte elektrochromatische Element wurde durch Anlegen einer Gleichspannung von 2,0 Volt zwischen die erste und die zweite Elektrode in der gleichen Weise betrieben wie beim Beispiel 1. Es dauerte 480 Millisekunden, bis der Anstieg der optischen Dichte ÄO.D. einen Wert von 0,3 erreichte.

Beispiel 4

Ein auf einem aus Corning 7059 bestehenden, 0,8 mm dicken Glassubstrat als die zweite Elektrode gebildeter ITO-FiIm wurde durch reaktives Ionenplattieren bei einer Dampfniederschlagungsgeschwindigkeit von 3,0 R/s mit einer als die anodenseitige Farbbildungsschicht dienenden zweiten, 150 nm dicken elektrochromatischen Schicht überzogen. Das Plattieren erfolgte mittels der in Fig. 3 gezeigten Apparatur. In die Vakuumkammer wurde Wasserdampf bis zu einem Druck von

-4
3,0 χ 10 Torr und dann Sauerstoffgas bis zu einem Druck

-4
von 5,0 χ 10 Torr eingegeben, und vorab in der Kammer be-

reitgestelltes Co₂O₃ wurde verdampft. Über diese elektrochromatische Schicht wurde eine 300 Nanometer dicke Ta₂O₁^-IsO-lierschicht gezogen, über welche dann eine 300 Nanometer dicke WO₃-Schicht als erste elektrochromatische Schicht gezogen wurde. Beide Schichten wurden durch Vakuumniederschlagung bei einem Vakuum von 2,0 χ 10 Torr gebildet, wobei die Dampfniederschlagungsgeschwindigkeit 10 S/s betrug. Anschließend wurde auf der elektrochromatischen WO₃-Schicht als die erste Elektrode ein durchscheinender leitender Au-FiIm mit einer Dicke von 30 Nanometer gebildet.

Das so hergestellte elektrochromatische Element wurde wie im Beispiel 1 durch Anlegen einer Gleichspannung von 2,0 Volt an die erste und die zweite Elektrode betrieben. Es dauerte 700 Millisekunden, bis der Anstieg der optischen Dichte &0.D. einen Wert von 0,3 erreichte.

Beispiel 5

Ein auf einem aus Corning 7059 bestehenden, 0,8 mm dicken Glassubstrat als die zweite Elektrode gebildeter ITO-FiIm wurde durch reaktives Ionenplattieren bei einer Dampfniederschlagungsgeschwindigkeit von 4,0 ä/s mit einer als die anodenseitige Farbbildungsschicht dienenden, 150 Nanometer dicken zweiten elektrochromatischen Schicht überzoaen. Das

Plattieren erfolgte mittels der in Fig. 3 gezeigten Apparatur. In die Vakuumkammer wurde Sauerstoffgas bis zu einem

-4
Druck von 5,0 χ 10 Torr eingegeben, und vorab in der Kammer bereitgestelltes CoO wurde verdampft. Die elektrochromatische Schicht wurde außerdem mit einer 300 Nanometer dicken Ta₂O₁--Isolierschicht überzogen, auf der anschließend als erste elektrochromatische Schicht eine 300 Nanometer dicke WO₃-Schicht aufgebracht wurde. Letztere ist die kathodenseitige Farbbildungsschicht. Beide Schichten wurden in einem Vakuum von 2,0 χ 10 Torr bei einer Dampfniederschlagungsgeschwindigkeit von 10 S/s gebildet. Danach wurde als die erste Elektrode auf der elektrochromatisehen WO₃-Schicht ein durchscheinender leitender Au-FiIm mit einer Dicke von 30 Nanometer gebildet.

Das so hergestellte elektrochromatische Element wurde wie beim Beispiel 1 durch Anlegen einer Gleichspannung von 2 V zwischen die erste und die zweite Elektrode betrieben. Es dauerte 600 Millisekunden, bis der Anstieg der optischen Dichte AO.D. einen Wert von 0,3 erreichte.

Beispiel 6

Ein auf einem aus Corning 7059 bestehenden, 0,8 mm dicken Glassubstrat als die zweite Elektrode gebildeter ITO-FiIm

wurde durch reaktives lonenplattieren bei einer Dampfniederschlagungsgeschwindigkeit von 4,0 8/s mit einer als anodenseitige Farbbildungsschicht dienenden, 150 Nanometer dicken zweiten elektrochromatischen Schicht überzogen. Das Plattieren erfolgte mittels der in Fig. 3 gezeigten Apparatur. In die Vakuumkammer wurde Sauerstoffgas bis zu einem

-4
Druck von 5,0 χ 10 Torr eingegeben, und vorab in der Kammer bereitgestelltes Co₂O₃ wurde verdampft. Diese elektrochromatische Schicht wurde mit einer 300 Nanometer dicken Ta₂O₁--Isolierschicht überzogen, auf der dann als erste elektrochromatische Schicht eine 300 Nanometer dicke WO₃-Schicht gebildet wurde, welche die kathodenseitige FarbbildungsSchicht darstellte. Beide Schichten wurden durch Vakuumniederschlagung bei einem Druck von 2,0 χ 10 Torr und einer Vakuuta™ niederschlagungsgeschwindigkeit von 10 Ä/s gebildet. Auf die elektrochromatische WO₃-Schicht wurde als die erste Elektrode eine 30 Nanometer dicke durchscheinende leitende Au-Schicht aufgebracht.

Das so hergestellte el-ektrochromatische Element wurde wie im Beispiel 1 durch Anlegen einer Gleichspannung von 2 Volt an die erste und die zweite Elektrode betrieben» Es dauerte 700 Millisekunden? bis der Anstieg der optischen Dichte 40.D. einen Wert von 0,2 erreichte.

BAD ORIGINAL

Beispiel 7

Ein auf einem aus Corning 7059 bestehenden, 0,8 mm dicken Glassubstrat als die zweite Elektrode gebildeter ITO-FiIm wurde durch reaktives Ionenplattieren bei einer Dampfniederschlagungsgeschwindigkeit von 3,0 S/s mit einer 150 Nanometer dicken zweiten elektrochromatischen Schicht, die als anodenseitige Farbbildungsschicht diente, überzogen. Das Plattieren wurde mit der in Fig. 3 gezeigten Apparatur durchgeführt, indem Wasserdampf in das Vakuum bis zu einem Druck von

-4
3,0 χ 10 Torr und dann Sauerstoffgas bis zu einem Druck

-4

von 5,0 χ 10 Torr eingegeben und vorab in die Kammer eingebrachtes Co₂O₃ verdampft wurde. Diese elektrochromatische Schicht wurde mit einem 300 Nanometer dicken Ta₂ 0,--lsolierfilm überzogen, und zwar durch Vakuumniederschlagung bei einem Druck von 2,0 χ 10 Torr und einer Dampfniederschlagungsgeschwindigkeit von 10 S/s. Dann wurde auf der Isolierschicht als die erste Elektrode ein durchscheinender leitender Au-FiIm mit einer Dicke von 30 Nanometer gebildet.

Das so gefertige elektrochromatische Element wurde wie im Beispiel 1 durch Anlegen einer Gleichspannung von 2,0 Volt an die erste und die zweite Elektrode betrieben. Es dauerte 800 Millisekunden, bis der Anstieg der optischen Dichte ΔO.D. einen Wert von 0,3 erreichte.

- 19 Beispiel 8

Ein auf einem aus Corning 7059 bestehenden, 0,8 mm dicken Glassubstrat als die zweite Elektrode gebildeter ITO-PiIm wurde durch reaktives Ionenplattieren bei einer Dampfniederschlagungsgeschwindigkeit von 4,0 S/s mit einer 150 Nanometer dicken, als anodenseitige Farbbildungsschicht dienenden zweiten elektrochromatischen Schicht überzogen. Das Plattieren wurde mit der in Fig. 3 gezeigten Apparatur durchgeführt. Hierzu wurde in die Vakuumkammer Sauerstoffgas bis

-5
zu einem Druck von 5,0 χ 10 Torr eingegeben, und es wurde vorab in die Kammer eingebrachtes Co₂O₃ verdampft. Die elektrochromatische Schicht wurde mit einer 300 Nanometer dicken Ta₂O₃-Isolierschicht durch Vakuumniederschlagung bei einem Druck von 2,0 χ 10 Torr und einer Niederschlagungsgeschwindigkeit von 10 a/s überzogen. Auf die Isolierschicht wurde als die erste Elektrode eine 30 Nanometer dicke, durchscheinende leitende Au-Schicht aufgebracht.

Das auf diese Weise hergestellte elektrochromatische Element wurde wie im Beispiel 1 durch Anlegen einer Gleichspannung von 2,0 Volt an die erste und die zweite Elektrode betrieben. Es dauerte 800 Millisekunden, bis der Anstieg der optischen Dichte ÄO.D. einen Wert von 0,2 erreichte.

Claims

Patentansprüche

1. Elektrochromatisches Element mit einer zwischen einem Paar Elektrodenplatten befindlichen elektrochromatischen Schicht,

dadurch gekennzeichnet , daß die elektrochromatische Schicht (5) ein Überzug ist, der durch lonenplattierung von Cobaltoxid im Beisein von Sauerstoffgas und/oder Wasserdampf gebildet wird.

2. Elektrochromatisches Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Cobaltoxid aus der aus CoO, Co₂O₃ bestehenden Gruppe oder einer Kombination dieser Stoffe ausgewählt ist.

Radeckestraße 43 8000 München 60 Telefon (089)883403/883604 Telex 5212313 Telegramme Patentconsult

Sonnenberger SlraOe 43 6200 Wiesbaden Telefon (06121) 5629<!3/561998 Telex 4186237 Telegramme Pateniconsult

Telefax (CCITT 2) Wiesbaden und München (0S9) 8S44äi8 Atiention Patentconsult

3. Elektrochromatisches Element, mit einer kathodenseitigen Farbbildungsschicht und einer anodenseitigen Farbbildungsschicht zwischen einem Elektrodenplatten-Paar, dadurch gekennzeichnet , daß die anodenseitige Farbbildungsschicht ein Überzug ist, der durch Ionenplattierung von Cobaltoxid im Beisein von Sauerstoffgas und/oder Wasserdampf gebildet wird.

4. Elektrochromatisches Element nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet , daß das Cobaltoxid aus der aus CoO, Co₂O₃ bestehenden Gruppe oder einer Kombination dieser Stoffe ausgewählt ist.

5. Elektrochromatisches Element nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet , daß zwischen der kathodenseitigen Farbbildungsschicht und der anodenseitigen Farbbildungsschicht eine Isolierschicht vorgesehen ist.

6. Elektrochromatisches Element nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet , daß die kathodenseitige Farbbildungsschicht ein Überzug aus mindestens einem Metalloxid ist, welches aus der Gruppe Wolframdioxid, Wolframtrioxid, Molybdändioxid, Molybdäntrioxid und Divanadiumpentoxid ausgewählt ist.

7. Elektrochromatisches Element nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet , daß die Isolierschicht ein Film aus mindestens einer dielektrischen Substanz ist, die aus der Gruppe Zirkondioxid, Siliciummonoxid, Siliciumdioxid, Ditantalpentoxid und Magnesiumfluorid ausgewählt ist.