DE4007991A1

DE4007991A1 - Elektrochromes bauelement

Info

Publication number: DE4007991A1
Application number: DE4007991A
Authority: DE
Inventors: Tatsuo Endo; Mitsuyoshi Mizuno
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1989-03-13
Filing date: 1990-03-13
Publication date: 1990-09-20
Also published as: US5187607A

Description

Die Erfindung betrifft ein elektrochromes Bauelement. Ein sol ches elektrochromes Bauelement soll im folgenden auch als "EC- Bauelement" oder als "ECD" abgekürzt bezeichnet werden.

Ein Stoff, der einer elektrolytischen Oxidation oder Deoxidation unterliegt und daher reversibel eine Farbe annimmt, wenn eine po sitive oder eine negative Spannung angelegt wird, wird als elektro chromer Stoff oder EC-Material bezeichnet. Das Phänomen bezeich net man als Elektrochromismus. Seit über 20 Jahren macht man Ver suche, um aus einem solchen EC-Material ein EC-Bauelement (ECD) herzustellen, welches eine Farbe annimmt und wieder in den trans parenten Zustand zurückkehrt, wenn man eine angelegte Spannung in geeigneter Weise einstellt. Damit will man ein EC-Bauelement als eine Lichtmenge steuerndes Bauelement (zum Beispiel als Spie gel mit Blendschutz) oder als 7-Segment-Ziffernanzeige verwenden. In der japanischen Patentveröffentlichung 52-46 098 ist zum Beispiel ein Festkörper-ECD beschrieben, bei dem eine durch sichtige Elektrodenschicht (Kathode), eine aus Wolframtrioxid bestehende Dünnschicht, eine aus beispielsweise Siliciumdioxid bestehende Isolierschicht und eine Elektrodenschicht (Anode) nacheinander auf einem Glassubstrat gebildet sind. Wenn an diese ECD ein elektrisches Feld gelegt wird, wird die Wolfram trioxid-(WO₃-) Dünnschicht blau. Die Farbe der WO₃-Dünnschicht verschwindet allmählich, und die Dünnschicht nimmt wieder ihren durchsichtigen Zustand ein, wenn man die Polarität des elektri schen Feldes umkehrt. Dieser Mechanismus der Färbung und Farb änderungs-Umkehr des EC-Materials ist bislang noch nicht erklärt worden. Es wird jedoch in Betracht gezogen, daß eine geringe Menge Wasser in WO₃ und der Isolierschicht (der ionenleitenden Schicht) die Farbgebung und die Rückgängigmachung der Farbände rung von WO₃ steuern. Man nimmt an, daß die Reaktionsformel für den Fall, daß WO₃ eine Farbe annimmt, folgendermaßen lau tet:

Kathodenseite: H₂O → H⁺ + OH^-
WO₃ + n H⁺ + n e^- - H_nWO₃
(transparent) (blau)
Anodenseite: OH^- → (1/2) · H₂O + (1/4) · O₂ ↑ + (1/2) e^-

Mindestens eine Schicht des Paares von Elektrodenschichten, die direkt oder indirekt durch eine EC-Schicht getrennt sind, muß transparent sein, damit durch diese Elektrode hindurch die Färbung oder das Verschwinden der Farbe der EC-Schicht beobach tet werden kann. Im Falle eines Durchlicht-ECDs müssen sogar beide Elektrodenschichten transparent sein. Beispiele für trans parente Elektrodenstoffe sind SnO_2, In₂O_3, ITO (ein Gemisch aus SnO₂ und In₂O₃) und ZnO. Diese Stoffe besitzen jedoch keine her vorragende Transparenz, so daß es notwendig ist, die Elektroden schichten aus solchen Stoffen sehr dünn zu machen. Aus diesem und aus anderen Gründen wird ein ECD im allgemeinen auf einem Substrat wie einer Glasplatte oder Kunststoffplatte ausgebil det.

Bei einem herkömmlichen ECD jedoch ist das Ansprechverhalten bei der Färbung nicht zufriedenstellend.

Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung eines elektrochromen Bauelements, welches sich durch hervorragendes Ansprechen bei der Färbung auszeichnet.

Diese Aufgabe ist durch die Patentansprüche 1 und 5 alternativ gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen sind in den Unteransprüchen ange geben.

Erfindungsgemäß umfaßt ein elektrochromes Bauelement eine erste Elektrodenschicht, eine elektrochrome Schicht, eine zweite Elektrodenschicht, wobei die erste Elektrodenschicht, die elek trochrome Schicht, die zweite Elektrodenschicht nacheinander auf einem Substrat angeordnet sind, zumindest eine der ersten und der zweiten Elektrodenschichten eine transparente Elektro denschicht ist, und eine leitende Dünnschicht, deren Wider stand niedriger ist als der der transparenten Elektrodenschicht, auf einem Teil des Substrats ausgebildet ist, während ein Teil der transparenten Elektrodenschicht auf der leitenden Dünn schicht gebildet ist.

Die vorliegende Erfindung schafft in einer zweiten bevorzugten Ausführungsform ein elektrochromes Bauelement, welches aufweist: eine erste Elektrodenschicht, eine elektrochrome Schicht eine zweite Elektrodenschicht, wobei die erste Elektrodenschicht, die elektrochrome Schicht und die zweite Elektrodenschicht nacheinander auf dem Substrat gebildet sind, die erste und/oder die zweite Elektrodenschicht eine Transparentelektrodenschicht ist, und eine leitende Dünnschicht, deren Widerstand niedriger ist als der der transparenten Elektrodenschicht, in Berührung mit der transparenten Elektrodenschicht steht, derart, daß die Fläche der leitenden Dünnschicht größer ist als die Quer schnittsfläche des Substrats, betrachtet in vertikaler Rich tung.

Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 eine Schnittansicht eines herkömmlichen elektrochromen Bauelements;

Fig. 2 eine Schnittansicht einer ersten Ausfüh rungsform eines elektrochromen Bauelements gemäß der Erfindung;

Fig. 3 eine Schnittansicht einer Modifizierung der ersten Ausführungsform nach Fig. 2;

Fig. 4 eine Schnittansicht einer zweiten Ausfüh rungsform eines erfindungsgemäßen elektro chromen Bauelements, und

Fig. 5, 6 und 7 Schnittansichten einer ersten, einer zwei ten und einer dritten Modifizierung der zweiten Ausführungsform der Erfindung.

Anhand der Fig. 1 soll nun das Prinzip einer ersten Ausfüh rungsform der Erfindung erläutert werden, wozu in Fig. 1 ein bereits konzipiertes Bauelement dargestellt ist.

Fig. 1 zeigt eine transparente Elektrodenschicht 2 (zum Beispiel aus einem Gemisch aus Zinnoxid und Indiumoxid); eine reversible elektrolytisch oxidierende oder unter Oxidation sich färbende Schicht 3 (zum Beispiel aus Iridiumoxid oder Iridiumhydroxid); eine ionenleitende Schicht 4 (zum Beispiel aus Tantaloxid); eine mit Deoxidation sich färbende Schicht 5 (zum Beispiel aus Wolframoxid); und eine transparente Elektrodenschicht 6 (zum Beispiel aus einem Gemisch aus Zinnoxid und Indiumoxid). Durch diese Schichten 2 bis 6 wird im wesentlichen ein EC-Bau element (ECD) aufgebaut. Wie oben erwähnt, ist dieses ECD auf einem Glassubstrat 1 gebildet. Weiterhin sind ein Dichtungs material 7, zum Beispiel Epoxyharz, und ein zum Schutz vorge sehenes, dichtendes Substrat 8 vorgesehen. Die reversible elektrolytische oxidierende Schicht oder mit Oxidation sich färbende Schicht 3, die ionenleitende Schicht 4 und die mit Deoxidation sich färbende Schicht 5 bilden in Kombination eine EC-Schicht.

In einem solchen ECD müssen Elektrodenverbindungen vorhanden sein, über die den Elektrodenschichten 2 und 6 von außen Span nung zugeführt wird. Das in Fig. 1 dargestellte ECD besitzt Elektrodenverbindungsabschnitte 2 a und 2 b an den beiden Stirn flächen des Glassubstrats 1. Wenn die transparente Elektroden schicht 2 auf der Oberfläche des Substrats 1 durch Niederschla gung aus dem Vakuum gebildet wird, erreicht ein Teil des Ma terials die beiden Stirnflächen des Substrats 1, so daß Elektro denverbindungsabschnitte 2 a und 2 b entstehen.

Allerdings bestehen die Elektrodenverbindungsabschnitte 2 a und 2 b aus dem gleichen Stoff wie die transparente Elektroden schicht 2, also zum Beispiel aus ITO oder SnO₂, so daß der Widerstand der transparenten Elektrodenschichten 2 und 6 höher ist als der einer reflektierenden Elektrodenschicht, die zum Beispiel aus Al besteht. Folglich werden an praktisch sämtli chen Oberflächen der Elektrodenverbindungsabschnitte 2 a und 2 b Dünnschichten 9 a und 9 b aus Aluminium (Al) mit einer Dicke von 50 µm aufgetragen, und dann werden Dünnschichten 10 a und 10 b aus Kupfer (Cu) mit einer Dicke von 100 µm aufgetragen, und zwar durch das Plasmasprühverfahren, um leitende Dünn schichten A und B zu erhalten, von denen sich jede aus zwei Schichten aus Kupfer bzw. Aluminium zusammensetzt. Der elektri sche Widerstand dieser Dünnschichten A und B ist so klein, daß er vernachlässigbar ist.

Die leitenden Dünnschichten A und B werden an externe Verdrah tungsanschlüsse La bzw. Lb angeschlossen. Folglich werden elek trische Ladungen oder Elektronen, die von einer externen Span nungsquelle E kommen, über die gesamten leitenden Dünnschichten A und B rasch verteilt und fließen dann in die Elektrodenverbin dungsabschnitte 2 a und 2 b, die in Kontakt stehen mit den leiten den Dünnschichten A und B. Diese Ausgestaltung gestattet es, die Geschwindigkeit, mit der elektrische Ladungen oder Elektronen an die Elektrodenschichten 2 und 6 gelangen, zu erhöhen im Vergleich zu der Lösung, bei der die externen Verdrahtungen La und Lb di rekt an die Elektrodenverbindungsabschnitte 2 a und 2 b ange schlossen werden.

Wie oben erwähnt, werden die leitenden Dünnschichten A und B durch Plasmasprühen gebildet. Sie können aber auch durch Dick schichttechnik aufgebracht werden, indem leitende Paste aufge tragen wird, die so beschaffen ist, daß sie bei normalen Tempe raturen oder bei Erwärmung oder Trocknung (Erhitzung) fest wird. Alternativ können die Dünnschichten in Dünnschichttechnik aus gebildet werden, zum Beispiel durch Vakuum-Niederschlagung, Zerstäubung oder Ionenimplantation.

Wenn die Elektrodenverbindungsabschnitte und die leitenden dünnen Schichten hergestellt werden sollen, werden, falls die Elektro denverbindungsabschnitte 2 a und 2 b auf den beiden Stirnflächen des Substrats 1 gebildet werden und die leitenden Dünnschichten A und B anschließend auf den Oberflächen der Elektrodenverbin dungsabschnitte 2 a und 2 b gebildet werden, die Elektrodenver bindungsabschnitte 2 a und 2 b abträglich beeinflußt durch das Ausbilden der leitenden Dünnschichten A und B, so daß sie be einträchtigt werden. Genauer gesagt: Wenn die leitenden Dünn schichten A und B auf den Oberflächen der Elektrodenverbindungs abschnitte 2 a und 2 b erzeugt werden, zum Beispiel durch Plasma sprühen, werden die Elektrodenverbindungsabschnitte 2 a und 2 b durch dieses Plasmasprühverfahren beschädigt, so daß ihre Ober fläche rauh wird. Dadurch erhöht sich ihr Widerstand. Dies kann zu der Möglichkeit führen, daß die Elektrodenverbindungsab schnitte 2 a und 2 b nicht mehr in der Lage sind, als Elektroden zu fungieren. Wenn, alternativ, die Schichten 3 bis 6 nachein ander nach der Bildung der Elektrodenverbindungsabschnitte 2 a und 2 b erzeugt werden, und wenn anschließend die leitenden Dünnschichten A und B auf den Oberflächen der Elektrodenver bindungsabschnitte 2 a und 2 b erzeugt werden, wird das Ausbilden der leitenden Dünnschichten A und B ebenfalls die auf dem Sub strat 1 befindlichen Schichten 2 bis 6 abträglich beeinflussen, wodurch das Leistungsvermögen des Bauelements und die Ausbeute bei der Herstellung der Bauelemente leidet.

Fig. 2 ist eine schematische Schnittansicht einer ersten Aus führungsform eines erfindungsgemäßen EC-Bauelements.

Eine zum Beispiel aus Gold (Au) bestehende leitende Dünnschicht 11 wird auf einem Abschnitt 1 a einer Oberseite eines Glassub strats 1 durch Plasmasprühen gebildet, und dann wird eine trans parente Elektrode 2 auf dem Glassubstrat 1 derart gebildet, daß ein Elektrodenverbindungsabschnitt 2 c auf einem Teil der Dünn schicht 11 zu liegen kommt (oder gemäß Beispiel nach der Fig. 1 auf einem geneigten Abschnitt), was durch Niederschlagung unter Vakuum geschieht.

Anschließend werden die reversible elektrolytische Oxidations schicht 3, die feste elektrolytische Schicht 4 und die Deoxi dations-Färbungsschicht 5 nacheinander als EC-Schicht gebildet.

Als nächstes wird eine reflektierende Elektrodenschicht 12 aus Aluminium (Al) über die Deoxidations-Färbungsschicht 5 derart aufgebracht, daß ein Teil der reflektierenden Elektrodenschicht 12 in Kontakt steht mit einem Endabschnitt lb des Glassubstrats 1.

Schließlich wird über die Oberseite der Elektrodenschicht 12 und den Elektrodenverbindungsabschnitt 2 c der transparenten Elektro denschicht 2 mit Ausnahme eines Endabschnitts 12 a der reflektie renden Elektrodenschicht 12 ein dichtendes Epoxyharzmaterial 7 aufgebracht, und anschließend wird ein abdichtendes Substrat 8 auf dem Dichtungsmaterial 7 angebracht.

Bei dem so ausgestalteten EC-Bauelement wird der andere Abschnitt der leitenden Dünnschicht 11, die nicht von dem Elektrodenver bindungsabschnitt 2 c bedeckt ist, sowie der Endabschnitt 12 a der reflektierenden Elektrodenschicht 12 mit der externen Verdrahtung La bzw. Lb verbunden, die ihrerseits an die externe Spannungs quelle E angeschlossen sind. Demzufolge verteilen sich die elektrischen Ladungen (der Strom) von der Spannungsquelle E über die leitende Dünnschicht 11 oder die reflektierende Elektro denschicht 12 sehr rasch, und der Strom fließt auch in die trans parente Elektrodenschicht 2, die in Berührung mit der Dünnschicht 11 steht. Die Folge davon ist, daß die Geschwindigkeit, mit der die elektrischen Ladungen (der Strom) an die Elektrodenschich ten 2 und 12 gelangen, zunimmt, wodurch das Ansprechverhalten der Färbung oder das Verschwinden von Farbe des EC-Bauelements verbessert wird.

Fig. 3 ist eine schematische Schnittansicht einer Modifizierung der ersten Ausführungsform der Erfindung.

Auf praktisch den gesamten Oberflächen der beiden Stirnseiten des Glassubstrats 1 nach Fig. 3 werden erste Dünnschichten 13 a und 13 b aus Kupfer (Cu) gebildet, dann werden Dünnschichten 14 a und 14 b aus Nickel (Ni) gebildet, was durch Plasmasprühen geschieht. Diese Dünnschichten aus Kupfer und Nickel bilden leitende Dünnschichten 15 a und 15 b.

Anschließend wird die transparente Elektrodenschicht 2 auf der Oberseite des Glassubstrats 1 durch Vakuum-Niederschlagung der art gebildet, daß Abschnitte von ihr die Stirnflächen des Sub strats 1 überspreizen, das heißt, einen Teil jeder der leiten den Dünnschichten 15 a und 15 b übergreifen.

Anschließend wird die Elektrodenschicht 2, die die Oberseite des Substrats 1 abdeckt, getrennt in einen Elektrodenverbin dungsabschnitt 2 a für die Elektrodenschicht 6 und die untere Elektrodenschicht 2. Dies geschieht durch Fotoätzen.

Als nächstes werden die reversible elektrolytische Oxidations schicht 3, die Festkörper-Elektrolytschicht 4, die Deoxidations- Färbungsschicht 5 nacheinander als EC-Schicht wie beim ersten Ausführungsbeispiel nach Fig. 2 aufgebracht.

Als nächstes wird die transparente Elektrodenschicht 6 aus ITO über die Deoxidations-Färbungsschicht 5 derart aufgebracht, daß ein Teil von ihr in Berührung mit dem Elektrodenverbindungsab schnitt 2 a steht.

Schließlich erfolgt ein Überzug mit abdichtendem Epoxyharzma terial 7, und anschließend wird auf dem Abdichtungsmaterial 7 ein dichtendes Substrat 8 aufgebracht.

Bei dem derart ausgestalteten EC-Bauelement werden die übrigen Abschnitte der leitenden Dünnschichten 15 a und 15 b, die nicht von den Elektrodenverbindungsabschnitten 2 a bzw. 2 b bedeckt sind, mit den externen Verdrahtungen La und Lb verbunden, die ihrer seits an die externe Spannungsquelle E angeschlossen werden, um eine Spannung an die Elektrodenschichten 2 und 6 über die Elek trodenverbindungsabschnitte 2 a und 2 b zu legen.

Da die Dünnschichten 15 a und 15 b an den beiden Stirnflächen des Substrats 1 vorgesehen sind, erhöht sich die Anzeigefläche des Substrats 1, so daß das EC-Bauelement ein relativ verbessertes Aussehen hat. Wenn eine Spannung zwischen die Elektrodenschich ten 2 und 6 gelegt wird, verteilen sich die elektrischen Ladun gen oder Ströme von der externen Spannungsquelle E über die leitenden Dünnschichten 15 a und 15 b sehr rasch und fließen an schließend über die Elektrodenverbindungsabschnitte 2 a und 2 b in die Elektrodenschichten 2 und 6. Die Folge ist, daß die Geschwindigkeit, mit der die elektrischen Ladungen oder Ströme an die Elektrodenschichten 2 und 6 gelangen, zunimmt, und die Reaktion bei der Farbbildung und bei dem Verschwinden von Far be des EC-Bauelements verbessert wird.

Fig. 4 zeigt eine schematische Schnittansicht einer zweiten Aus führungsform des erfindungsgemäßen EC-Bauelements. Bei dieser Ausführungsform wird als Substrat ein Brillenglas 16 eingesetzt. Die zwei Stirnflächen des Brillenglases 16 sind V-förmig gestal tet, so daß das Brillenglas 16 mühelos in den Rahmen eines Son nenbrillengestells eingesetzt werden kann. Auf praktisch den gesamten Oberflächen der Stirnseiten, die jeweils aus geneig ten Flächen 16 a und 16 b bestehen, sind erste Dünnschichten 17 a und 17 b aus Silber (Ag) mit einer Dicke von etwa 1 µm und an schließend Dünnschichten 18 a und 18 b aus Gold (Au) mit einer Dicke von etwa 500 A durch Plasmasprüchen aufgebracht. Die zwei Schichten aus Silber und Gold auf den zwei Stirnflächen des Glases 16 bilden leitende Dünnschichten 19 a und 19 b.

Das Ansprechverhalten bei der Farbgebung und bei dem Rückgängig machen der Farbänderung verbessert sich, indem man die Fläche der Dünnschicht größer macht als die Fläche des Querschnitts des Substrats 16, betrachtet in einer vertikalen Richtung, in der das EC-Bauelement schichtförmig aufgebaut ist.

Als nächstes wird die transparente Elektrode 2 aus ITO auf den Abschnitt des Glassubstrats 1 und auf den Abschnitt der leiten den Dünnschicht 19 b mit einer Dicke von etwa 200 nm aufgebracht. Anschließend wird eine reversible elektrolytische Oxidations schicht 3, bestehend aus einem Gemisch aus Zinnoxid (SnO₂) und Iridiumoxid (IrO₂), die Fest-Elektrolytschicht 4 aus Tantaloxid (Ta₂O₅), und die Deoxidations-Färbungsschicht 5 aus Wolframoxid (WO₃) nacheinander als EC-Schicht genaus wie beim ersten Aus führungsbeispiel gebildet. Die Dicke der Schicht 3 beträgt etwa 150 nm, während die Dicken der Schichten 4 und 5 500 nm betragen.

Schließlich wird auf der Oberseite der Deoxidations-Farbgebungs schicht 5 eine transparente Elektrodenschicht 6 aus ITO ebenso gebildet wie auf einem Teil der leitenden Dünnschicht 19 a, wo bei die Schichtdicke 200 nm beträgt.

Da bei dieser Ausführungsform die Elektrodenverbindungsabschnit te 2 b und 6 a und die leitenden Dünnschichten 19 a und 19 b, die jeweils in Kontakt mit den Elektrodenverbindungsabschnitten 2 b und 6 a stehen, an den V-förmigen Stirnflächen des Substrats ge bildet sind, läßt sich die "Anzeigefläche" auf der Oberseite des linsenartigen Substrats 1 vergrößern. Damit läßt sich prak tisch die gesamte Oberfläche des linsenförmigen Substrats 1 als "Anzeigefläche" hernehmen, so daß das Erscheinungsbild des ECD günstiger ist.

Fig. 5 zeigt eine erste Modifizierung des zweiten Ausführungs beispiels der Erfindung. Das in Fig. 5 dargestellte EC-Bauele ment unterscheidet sich von dem nach Fig. 4 dadurch, daß der Elektrodenverbindungsabschnitt 2 a aus geneigten Flächen 20 a 2 und 20 a 3 besteht, daß die leitende Dünnschicht 11 a auf diesen geneigten Flächen gebildet ist, daß der Elektrodenverbindungs abschnitt 6 a aus geneigten Flächen 20 b 2 und 20 b 3 besteht, und daß die leitende Dünnschicht 11 b auf diesen geneigten Flächen ausgebildet ist. Bei dieser modifizierten Ausführungsform er hält man den gleichen Effekt wie bei der Ausführungsform nach Fig. 4, wenn die Bildung der Dünnschichten derart durchgeführt wird, daß sie die EC-Schicht nicht beeinträchtigt.

Fig. 6 zeigt eine zweite Modifizierung der zweiten Ausführungs form. Dieses EC-Bauelement nach Fig. 6 unterscheidet sich von dem nach Fig. 5 durch die Gestalt der Stirnflächen 22 a und 22 b des Substrats 1. Die Elektrodenverbindungsabschnitte 2 a und 6 a sind an den Stirnflächen 22 a und 22 b gebildet, und leitende Dünnschichten 23 a und 23 b sind anschließend auf den Elektro denverbindungsabschnitten 2 a und 6 a gebildet.

Fig. 7 zeigt eine dritte Modifizierung der zweiten Ausführungs form. Das ECD nach Fig. 7 unterscheidet sich von dem nach Fig. 6 dadurch, daß es als Substrat ein linsenförmiges Substrat 1 mit gekrümmter Oberfläche und ein gekrümmtes Substrat 8 aufweist, und dadurch, daß leitende Dünnschichten 30 a und 30 b auf den gesamten Stirnflächen des ECD ausgebildet sind. Die leitenden Dünnschichten 30 a und 30 b sind durch Maskierung der konvexen Fläche des Substrats 1 und der konkaven Fläche des Substrats 8 mit einem Maskenmaterial und durch anschließendes Aufbringen von Aluminium mit einer Dicke von 50 µm und anschließendes Auf bringen von Kupfer mit einer Dicke von 100 µm gebildet, und zwar in dem Bereich, der sich von den Elektrodenverbindungs abschnitten 2 a und 6 a erstreckt bis zu den Stirnflächen des Substrats 80. Dies wird im Naßverfahren durchgeführt. Das Harz 7 wird durch Wasseranteile leicht beeinträchtigt. Allerdings schützen die leitenden Dünnschichten 30 a und 30 b das Harz 7 und verlangsamen deren Qualitätsverschlechterung. Damit muß sich das Harzmaterial 7 nicht verschlechtern, wenn das EC-Bau element einem Heißwasser-Tauchtest und einem Sprühtest mit neutralem Salz unterzogen wird.

Claims

1. Elektrochromes Bauelement, umfassend:
ein Substrat (1),
eine erste Elektrodenschicht (2),
eine elektrochrome Schicht (3, 4, 5),
eine zweite Elektrodenschicht, wobei die erste Elektroden schicht, die elektrochrome Schicht (3, 4, 5) und die zweite Elektrodenschicht nacheinander auf dem Substrat (1) ge bildet sind und zumindest eine von der ersten und der zweiten Elektrodenschicht eine transparente Elektrodenschicht ist; und
eine leitende Dünnschicht (11, 12; 15 a, 15 b; 19 a, 19 b; 11 a, 11 b; 23 a, 23 b; 30 a, 30 b), die auf einem Teil des Substrats (1) gebildet ist, wobei die leitende Dünnschicht einen Wider stand aufweist, der niedriger ist als der der transparenten Elektrodenschicht, wobei ein Teil der transparenten Elek trodenschicht (2) auf der leitenden Dünnschicht (11, 15 a, 15 b; 19 a, 19 b; 23 a, 23 b; 30 a, 30 b) gebildet ist.

2. Bauelement nach Anspruch 1, bei dem die leitende Dünnschicht auf einer Stirnfläche des Substrats (1) gebildet ist.

3. Bauelement nach Anspruch 2, bei dem die Flächengröße der Stirnfläche größer ist als die Querschnittsfläche des Sub strats, betrachtet in einer vertikalen Richtung.

4. Bauelement nach Anspruch 3, bei dem die Stirnfläche einen V-förmigen Querschnitt aufweist.

5. Elektrochromes Bauelement, umfassend:
ein Substrat,
eine erste Elektrodenschicht,
eine elektrochrome Schicht,
eine zweite Elektrodenschicht, wobei die erste Elektroden schicht, die elektrochrome Schicht und die zweite Elektro denschicht nacheinander auf dem Substrat gebildet sind, die erste und/oder die zweite Elektrodenschicht als trans parente Elektrodenschicht ausgebildet ist, und ein Teil der transparenten Elektrodenschicht auf einer Stirnfläche des Substrats gebildet ist; und
eine leitende Dünnschicht, deren Widerstand niedriger ist als der der transparenten Elektrodenschicht, wobei die leitende Dünnschicht auf einem Teil der transparenten Elektro denschicht derart gebildet ist, daß ein Flächenbereich von ihr größer ist als eine in vertikaler Richtung betrachtete Querschnittsfläche des Substrats.

6. Bauelement nach Anspruch 5, bei dem die Stirnfläche des Sub strats derart ausgebildet ist, daß ihre Fläche größer ist als die in vertikaler Richtung betrachtete Querschnitts fläche des Substrats.

7. Bauelement nach Anspruch 6, bei dem die Stirnfläche einen V-förmigen Querschnitt aufweist.

8. Bauelement nach Anspruch 6, gekennzeichnet durch ein weiteres Substrat (8), das auf der zweiten Elektroden schicht ausgebildet ist, wobei die leitende Dünnschicht in einem Bereich ausgebildet ist, der sich von dem Teil der transparenten Elektrodenschicht zu einer Stirnfläche des anderen Substrats hin erstreckt.

9. Bauelement nach Anspruch 8, gekennzeichnet , durch eine Harzschicht (7), die zwischen der zweiten Elektroden schicht und dem anderen Substrat (8) gebildet ist.