DE3332640C3 - - Google Patents

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Description

Die Erfindung betrifft eine Druckplatte gemäß dem Oberbegriff von Anspruch 1. Derartige Druckplatten sind z. B. aus der DE-OS 23 20 849 bekannt.
Photopolymerisierbare Gemische werden vielfach als lichtempfindliche bilderzeugende Schichten von lichtempfindlichen Druckplatten verwendet. Geeignete Gemische sind in zahlreichen Publikationen beschrieben. Z. B. ist aus der US-PS 34 58 311 ein Gemisch bekannt, das ein polymeres Bindemittel, Monomere und Photopolymerisationsinitiatoren enthält. Die US-PS 37 96 578 beschreibt ein Gemisch mit verbesserten Härtungseigenschaften, das durch Einführen von ungesättigten Doppelbindungen in die als Bindemittel verwendeten Polymeren erhalten wird. Gemische, in denen neuartige Photopolymerisationsinitiatoren eingesetzt werden, sind in den US-PS 35 49 367 und 37 51 259 sowie GB-PS 13 88 492 beschrieben. Nur ein Teil dieser Gemische wird in der Praxis angewandt. All diese Gemische haben jedoch den Nachteil, daß ihre Empfindlichkeit stark von der Oberflächentemperatur beeinflußt wird, welcher die erhaltene lichtempfindliche Druckplatte bei der bildmäßigen Belichtung ausgesetzt wird (im folgenden als "Temperaturabhängigkeit" bezeichnet).
Es wurde gefunden, daß unter gewöhnlichen Plattenherstellungsbedingungen Empfindlichkeitsänderungen auftreten, die in manchen Fällen das 2- bis 8fache betragen. Sind z. B. bei einer Temperatur der Plattenoberfläche von 45°C 10 Sekunden Belichtung erforderlich, um ein optimales Bild auf der lichtempfindlichen Druckplatte zu erhalten, so ist bei 10°C eine Belichtung von 20 bis 80 Sekunden notwendig. Andernfalls wird kein zufriedenstellendes Bild erhalten. Hinsichtlich der Druckformenherstellungsbedingungen ist jedoch eine Oberflächentemperatur von 10°C durchaus möglich, wenn bei niedrigen Außentemperaturen gearbeitet wird, während andererseits die Plattenoberfläche Temperaturen von 45°C oder darüber durch Absorption der von einer Lichtquelle ausgestrahlten Wärme erreichen kann, wenn die Verarbeitung kontinuierlich erfolgt oder der Druckrahmen in geringem Abstand zur Lichtquelle angeordnet ist. Unter diesen Bedingungen ist es sehr unwahrscheinlich, daß Bilder derselben Qualität stabil bei derselben Belichtung erhalten werden.
Photopolymerisierbare Gemische haben auch den weiteren Nachteil, daß durch restliche aktive Spezies eine Nachpolymerisation nach Beendigung der bildmäßigen Belichtung erfolgt. Je länger daher der Zeitabstand zwischen bildmäßiger Belichtung und Entwicklung wird, desto mehr nimmt die Empfindlichkeit zu (im folgenden als "latente Bildprogression" bezeichnet).
In der Praxis kann die Empfindlichkeit der photopolymerisierbaren Gemische durch latente Bildprogression auf das bis zu 2- bis 8fache zunehmen; dies auch bei den in den oben genannten Patentschriften beschriebenen photopolymerisierbaren Gemischen. Diese Erscheinung ist ein ernsthafter Nachteil bei der Verarbeitung von photopolymerisierbaren Gemischen zu Druckformen, da deutliche Unterschiede in der Dicke von Bildlinien und des Tones von Bildmustern auftreten, wenn die Entwicklung unmittelbar nach bzw. einige Zeit nach der bildmäßigen Belichtung durchgeführt wird.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine lichtempfindliche Druckplatte bereitzustellen, welche durch die Temperatur bei der bildmäßigen Belichtung kaum beeinflußt wird und außerdem Empfindlichkeitsänderungen unterdrückt, die von dem Zeitabstand zwischen bildmäßiger Belichtung und Entwicklung abhängen, so daß eine Bilderzeugung unter konstanten, stabilen Bedingungen möglich ist.
Die Aufgabe wird durch eine Druckplatte der eingangs genannten Art mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
Zweckmäßige Ausgestaltungen dieser Druckplatte sind Gegenstand der Unteransprüche.
Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist die Verwendung dieser Druckplatte zur Herstellung von Flachdruckformen.
Für die erfindungsgemäßen Druckplatten geeignete Schichtträger sind dimensionsstabile plattenförmige Materialien, wie sie für herkömmliche Druckplatten verwendet werden. Spezielle Beispiele sind Papierbögen, mit Kunststoffen, wie Polyethylen, Polypropylen oder Polystyrol, beschichtete Papiere, Platten aus Metallen, wie Aluminium (einschließlich Aluminiumlegierungen), Zink oder Kupfer, Folien aus Kunststoffen, wie Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat oder Polyvinylacetat, und mit den genannten Metallen laminierte oder bedampfte Papiere oder Kunststoffolien. Unter diesen Trägern sind Aluminiumplatten besonders bevorzugt, da sie hohe Dimensionsstabilität aufweisen und billig sind. Ferner sind Verbundfolien, bei denen eine Aluminiumfolie auf eine Polyethylenterephthalatfolie aufgebracht ist (JP-PS 18 327/73) ebenfalls ausgezeichnet als Träger geeignet.
Bei Verwendung von Trägern mit Metalloberfläche, insbesondere Aluminium, ist es bevorzugt, diese einer Oberflächenbehandlung zu unterziehen, z. B. einer Körnung, einer Tauchbehandlung in einer wäßrigen Lösung von Natriumsilikat, Kaliumfluorozirkonat oder Phosphat, oder einer anodischen Oxidation. Von Vorteil sind auch Aluminiumplatten, die nacheinander einer Körnung und einer Tauchbehandlung in einer wäßrigen Natriumsilikatlösung unterzogen worden sind, und Aluminiumplatten, die anodisiert und einer Tauchbehandlung in einer wäßrigen Lösung eines Alkalimetallsilikats unterworfen wurden (US-PS 31 81 461). Die genannte anodische Oxidation erfolgt dadurch, daß man die Aluminiumplatte als Anode verwendet und einen elektrischen Strom durch einen Elektrolyten leitet, der eine wäßrige oder nicht-wäßrige Lösung einer anorganischen Säure, wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure oder Borsäure, oder einer organischen Säure, wie Oxalsäure oder Sulfaminsäure, oder eines Salzes davon oder eine Kombination aus zwei oder mehreren der genannten Lösungen darstellt.
Als Oberflächenbehandlung ist auch eine elektrolytische Abscheidung von Silikat gemäß der US-PS 36 58 662 wirksam. Ferner kann eine Oberflächenbehandlung angewandt werden, bei der ein vorher elektrolytisch gekörnter Träger der oben beschriebenen aniodischen Oxidation und Natriumsilikatbehandlung unterzogen wird; vgl. JP-PS 27 481/71 und JP-OS 58 602/77 und 30 503/77. Geeignet ist auch eine Oberflächenbehandlung, bei der nacheinander eine Bürstenkörnung, elektrolytische Körnung, anodische Oxidation und Natriumsilikatbehandlung erfolgt; siehe JP-OS 28 893/81. Diese Oberflächenbehandlungen werden nicht nur dazu durchgeführt, die Oberflächen der Metallträger hydrophil zu machen, sondern verhindern auch schädliche Reaktionen mit den darauf aufgebrachten lichtempfindlichen Zusammensetzungen und verbessern außerdem die Haftung der lichtempfindlichen Schichten auf den Metallträgeroberflächen.
Der Gehalt des Polymers (A) an ungesättigten Gruppen bzw. Carboxylgruppen beträgt vorzugsweise 10 bis 90 Molprozent bzw. 5 bis 60 Molprozent, insbesondere 20 bis 70 Molprozent bzw. 10 bis 40 Molprozent, als Molverhältnis bei der Copolymerisation.
Als ungesättigte Monomere (B) des erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Gemisches werden Verbindungen mit mindestens zwei additionspolymerisierbaren ungesättigten Gruppen bevorzugt. Spezielle Beispiele sind Ethylenglykoldi (meth)acrylat, Polyethylenglykoldi(meth)acrylat, Trimethylolethantri (meth)acrylat, Trimethylolpropantri(meth) acrylat, Neopentylglykoldi(meth)acrylat, Tri-, Tetra- und Hexa(meth)acrylate von Pentaerythrit oder Dipentaerythrit, Epoxydi(meth)acrylat, die in der JP-PS 7361/77 beschriebenen Oligoacrylate, die in der JP-PS 41 708/73 beschriebenen Acrylurethanharze und Acrylurethan-Oligomere.
Das Gewichtsverhältnis des Monomers oder Oligomers (B) zu dem Polymer (A) beträgt 1 : 9 bis 7 : 3, vorzugsweise 2,5 : 7,5 bis 5 : 5.
Die als Komponente (C) in dem erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Gemisch verwendeten Photopolymerisationsinitiatoren sind z. B. vicinale Polyketaldonylverbindungen (US-PS 23 67 660), α-Carbonylverbindungen (US-PS 23 67 661 und 23 67 670), Acyloinether (US-PS 24 48 828), mit α-Kohlenwasserstoffen substituierte aromatische Acyloinverbindungen (US-PS 27 22 512), mehrkernige Chinone (US-PS 30 46 127 und 29 51 758), Kombinationen von Triarylimidazol-Dimeren mit p-Aminophenylketonen (US-PS 35 49 367), Verbindungen der Benzothiazolreihe (US-PS 38 70 524), Kombinationen von Verbindungen der Benzothiazolreihe mit Verbindungen der Trihalogenmethyl-s- triazinreihe (US-PS 42 39 850), Acridin- und Phenazinverbindungen (US-PS 37 51 259) und Oxadiazolverbindungen (US-PS 42 12 970). Diese Polymerisationsinitiatoren werden in einer Menge von etwa 0,5 bis 15 Gewichtsprozent, vorzugsweise 2 bis 10 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren Zusammensetzung, angewandt.
Zusätzlich zu den beschriebenen Komponenten enthält das erfindungsgemäße photopolymerisierbare Gemisch vorzugsweise einen Wärmepolymerisationsinhibitor, wie Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-kresol, Pyrogallol, t-Brenzkatechin, Benzochinon, 4,4′-Thiobis-(3-methyl-6-t- butylphenol), 2,2′-Methylenbis-(4-methyl-6-t-butylphenol) oder 2-Mercaptobenzimidazol, in einer Menge von weniger als 2 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gesamtgewicht des Gemisches, vorzugsweise 100 bis 1000 ppm, bezogen auf die Monomermenge. Gegebenenfalls kann das photopolymerisierbare Gemisch außerdem Farbstoffe oder Pigmente zum Färben der lichtempfindlichen Schicht und/oder pH-Indikatoren als Ausdrucksmittel enthalten.
Das beschriebene photopolymerisierbare Gemisch wird in einem Lösungsmittel gelöst, z. B. 2-Methoxyethanol, 2-Methoxyethylacetat, Cyclohexan, Methylethylketon, Ethylendichlorid oder einem Gemisch aus zwei oder mehr dieser Lösungsmittel, und auf einen Träger aufgebracht. Die Trockenauftragsmenge des photopolymerisierbaren Gemisches beträgt etwa 0,1 bis 10 g/m², vorzugsweise 0,5 bis 5 g/m².
Die auf den Träger aufgebrachte Schicht des photopolymerisierbaren Gemisches wird vorzugsweise mit einer Schutzschicht aus einem Sauerstoff abhaltenden Polymer versehen, z. B. Polyvinylalkohol oder sauren Cellulosen, um die polymerisationsinhibierende Wirkung des in der Luft enthaltenen Sauerstoffs zu verhindern. Ein Beschichtungsverfahren für eine derartige Schutzschicht ist z. B. in den US-PS 34 58 311, GB-PS 14 41 339 und JP-PS 49 729/80 beschrieben.
Flachdruckformen werden unter Verwendung der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Platte folgendermaßen hergestellt:
Zunächst wird die lichtempfindliche Druckplatte unter Verwendung einer an UV-Strahlen reichen Lichtquelle, z. B. einer Metallhalogenidlampe oder Hochdruck-Quecksilberlampe, bildmäßig belichtet. Dann entwickelt man mit einer Entwicklerlösung, um die nicht belichteten Bereiche der photopolymerisierbaren Schicht zu entfernen. Anschließend wird auf die verbliebenen Bereiche der Schicht ein desensibilisierender Gummi aufgetragen. Eine bevorzugte Entwicklerlösung ist eine wäßrige alkalische Lösung, die eine geringe Menge eines organischen Lösungsmittels enthält, z. B. Benzylalkohol, 2-Phenoxyethanol der 2-Butoxyethanol. Beispiele für derartige Entwicklerlösungen sind in den US-PS 34 75 171 und 36 15 480 beschrieben. Auch die in den JP-OS 26 602/75, JP-PS 39 464/81 und US-PS 41 86 006 beschriebenen Entwicklerlösungen sind für das erfindungsgemäße Verfahren ausgezeichnet geeignet.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung. Alle Prozente und Teile beziehen sich auf das Gewicht, sofern nichts anderes angegeben ist.
Beispiel 1
Eine Grundplatte wird nach dem Verfahren der GB-PS 20 47 274 hergestellt. Hierbei wird die Oberfläche einer 0,24 mm dicken Aluminiumplatte unter Verwendung einer Nylonbürste und einer wäßrigen Suspension von Bims (400 mesh) gekörnt und gründlich gewaschen. Dann taucht man 60 Sekunden in eine 10prozentige wäßrige Natronlauge von 70°C, um die Oberfläche anzuätzen, wäscht mit fließendem Wasser, neutralisiert durch Spülen mit 20%iger HNO₃ und wäscht nochmals mit Wasser. Hierauf erfolgt eine elektrolytische Oberflächenaufrauhung in 1%iger wäßriger Salpetersäure durch Anlegen einer sinusförmigen Wechselspannung bei einer Strommenge von 160 Coulomb/dm², wobei die Anodenspannung 12,7 V und das Verhältnis der Strommengen an Kathode bzw. Anode 0,8 betragen. Die Oberflächenrauhigkeit der so behandelten Platte beträgt 0,6 µm (bei Ra-Darstellung). Hierauf wird die Platte 2 Minuten in 30%ige Schwefelsäure von 50°C eingebracht, um ihre Oberfläche zu entmatten, und dann in 20%iger Schwefelsäure anodisiert, indem 2 Minuten ein elektrischer Strom mit einer Dichte von 2 A/dm² durchgeleitet wird. Hierbei kann die Grundplatte eine Dicke von 2,7 g/m² erreichen. Die Grundplatte wird dann 1 Minute in 2,5% wäßrige Natriumsilikatlösung von 70°C getaucht, mit Wasser gewaschen und getrocknet.
Auf die erhaltene Grundplatte wird ein lichtempfindliches Gemisch aus den folgenden Bestandteilen aufgetragen:
Lichtempfindliches Gemisch (1):
Pentaerythrit-tetraacrylat  1,75 g
Poly(allylmethacrylat/methacrylsäure) (Copolymerisations-Molverhältnis 85 : 15)  3,25 g
2-Trichlormethyl-5-(p-n-butoxystyryl)- 1,3,4-oxadiazol  0,2 g
öllöslicher Blaufarbstoff (C.I. 42595)  0,08 g
Methylethylketon  20 g
2-Methoxyethanol  20 g
Diese Zusammensetzung wird gelöst, filtriert und unter Verwendung einer Sprühscheibe bei etwa 2000 U/min auf die Grundplatte aufgetragen und 2 Minuten bei 100°C getrocknet. Der Trockenauftrag des Überzuges beträgt 3 g/m². Hierauf wird eine 3gewichtsprozentige wäßrige Lösung von Polyvinylalkohol (Viskosität 5,3 ±0,5 mPas, gemessen bei 20°C in Form einer 4% Lösung mit einem Höppler-Viskosimeter; Verseifungsgrad 86,5 bis 89,0 Molprozent; Polymerisationsgrad 1000 oder weniger) unter Verwendung einer Sprühscheibe bei etwa 180 U/min auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht aufgetragen. Die Trockenauftragmenge dieser Schutzschicht beträgt 1,5 g/m². Die so hergestellte, vorsensibilisierte Platte wird als Probe A bezeichnet.
Im folgenden wird das Herstellungsverfahren für die in dem lichtempfindlichen Gemisch verwendete Poly(allylmethacrylat/ methacrylsäure) näher erläutert:
In einen 3 Liter-Vierhalskolben, der mit Rührerstab und -blatt, Rückflußkühler, Tropftrichter und Thermometer ausgerüstet ist, werden 1,68 Liter 1,2-Dichlorethan als Lösungsmittel eingebracht und auf 70°C erhitzt, während die Luft in dem Kolben durch Stickstoff ersetzt wird. 100,8 g Allylmethacrylat, 7,6 g Methacrylsäure und 1,68 g 2,2′-Azobis- (2,4-dimethylvaleronitril) als Polymerisationsinitiator werden in 0,44 Liter 1,2-Dichlorethan gelöst und in den Tropftrichter eingefüllt. Das erhaltene Gemisch wird innerhalb 2 Stunden unter Rühren zu dem heißen Lösungsmittel getropft. Nach beendetem Zutropfen wird das Reaktionsgemisch weitere 5 Stunden bei 70°C gerührt, um die Reaktion zu vervollständigen. Nach beendetem Erhitzen gibt man 0,04 g p-Methoxyphenol als Polymerisationsinhibitor zu und engt die Lösung auf 500 ml ein. Das Konzentrat wird mit 4 Liter Hexan versetzt, um das Reaktionsprodukt auszufällen. Durch Trocknen im Vakuum erhält man 61 g (56%) des gewünschten Copolymers, dessen Viskositätszahl [η] bei 30°C in MEK-Lösung 0,068 beträgt.
Zum Vergleich wird eine weitere lichtempfindliche Druckplatte hergestellt, wobei man ein lichtempfindliches Gemisch (2) verwendet, das wie das lichtempfindliche Gemisch (1) hergestellt wird, jedoch dieselbe Menge Poly(methylmethacrylat/methacrylsäure) mit einem Copolymerisations- Molverhältnis von 90 : 10 anstelle der Poly(allylmethacrylat/ methacrylsäure) enthält. Durch Auftragen einer Polyvinylalkoholschicht auf die Schicht des lichtempfindlichen Gemisches (2) wie im Fall der Probe A erhält man eine als Probe B bezeichnete lichtempfindliche Druckplatte.
Auf jede dieser lichtempfindlichen Druckplatten (A) und (B) werden eine Grauskala-Tafel und ein Plattenkontrollkeil aufgelegt, worauf man mit einem 24×28 2 kW-Vakuumdrucker belichtet. Die belichtete Platte wird 50 Sekunden bei Raumtemperatur in die nachstehende Entwicklerlösung getaucht und die erhaltene Oberfläche wird leicht mit Watte gerieben, um die nicht belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht zu entfernen.
Entwicklerlösung:
Natriumsulfit  5 g
Benzylalkohol  30 g
Natriumcarbonat  5 g
Natriumisopropylnaphthalinsulfonat  12 g
Reines Wasser  1000 g
Es werden Flachdruckformen hergestellt, wobei die Oberflächentemperatur des Glasrahmens des Druckers während der Belichtung 10°C bzw. 45°C beträgt. Die Formen werden im Falle der Probe A mit A-10 bzw. A-45, im Falle der Probe B mit B-10 bzw. B-45 bezeichnet. Eine Zunahme der Oberflächentemperatur der Platte bei der Belichtung von 10°C auf 45°C bewirkt bei Probe B eine Erhöhung der Empfindlichkeit auf das etwa 8-fache, bei der Probe A jedoch nur auf das etwa 1- oder 2fache.
Unter Verwendung der hergestellten Flachdruckformen werden Bögen von Qualitätspapier unter Verwendung einer handelsüblichen Druckfarbe und Druckmaschine bedruckt. Zwischen B-10 und B-45 wird ein großer Unterschied in der Tonreproduktion der Drucke festgestellt, während zwischen A-10 und A-45 kaum ein Unterschied feststellbar ist. Vergleicht man die Temperaturabhängigkeit mit dem Plattenkontrollkeil, so nehmen die mit B-45 reproduzierten Halbtonpunkte im Vergleich zu B-10 um 7% oder mehr im Mitteltonbereich zu. Andererseits ist zwischen A-45 und A-10 kaum ein Punktwachstum feststellbar. Diese Ergebnisse zeigen, daß die erfindungsgemäße Druckplatte eine stark verringerte Temperaturabhängigkeit hat.
Beispiel 2
Die Proben A und B von Beispiel 1 werden bei einer Temperatur des Glasrahmens des Druckers von 15°C belichtet und dann sofort entwickelt. Die erhaltenen Druckformen werden mit A-1 bzw. B-1 bezeichnet. Außerdem werden Formen A-2 und B-2 hergestellt, wobei die Entwicklung 1 Stunde nach der Belichtung erfolgt.
Die erhaltenen Proben werden wie in Beispiel 1 getestet. Aus den in der folgenden Tabelle genannten Ergebnissen ist ersichtlich, daß die latente Bildprogression bei der erfindungsgemäßen Druckplatte gegenüber der Probe B wesentlich verringert ist.

Claims (12)

1. Lichtempfindliche Druckplatte aus einem Schichtträger und einer Schicht aus einem photopolymerisierbaren Gemisch, das
  • (A) ein polymeres Bindemittel mit seitenständigen Carboxylgruppen,
  • (B) ein Monomer oder Oligomer mit mindestens zwei polymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Doppelbindungen und
  • (C) einen Photopolymerisationsinitiator enthält,
dadurch gekennzeichnet, daß das Polymer (A) ein Allylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymer ist.
2. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger eine Aluminiumplatte ist.
3. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger eine Verbundfolie in Form einer auf eine Polyethylenterephthalatfolie aufgebrachten Aluminiumfolie ist.
4. Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Komponente (B) Ethylenglykoldi(meth)acrylat, Polyethylenglykoldi(meth)acrylat, Trimethylolethantri(meth)acrylat, Trimethylolpropantri(meth)acrylat, Neopentylglykoldi(meth)acrylat, Tri-, Tetra- oder Hexa(meth)acrylat von Pentaerythrit oder Dipentaerythrit oder Epoxydi(meth)acrylat ist.
5. Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Mischungsverhältnis von Komponente (B) zu Komponente (A) 1 : 9 bis 7 : 3 beträgt.
6. Druckplatte nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Mischungsverhältnis von Komponente (B) zu Komponente (A) 2,5 : 7,5 bis 5 : 5 beträgt.
7. Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Komponente (C) in einer Menge von 0,5 bis 15 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gesamtgewicht des photopolymerisierbaren Gemisches, vorhanden ist.
8. Druckplatte nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Komponente (C) in einer Menge von 2 bis 10 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gesamtgewicht des photopolymerisierbaren Gemisches, vorhanden ist.
9. Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das photopolymerisierbare Gemisch auf den Schichtträger in einer Trockenauftragsmenge von 0,1 bis 10 g/m² aufgetragen ist.
10. Druckplatte nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das photopolymerisierbare Gemisch auf den Schichtträger in einer Trockenauftragsmenge von 0,5 bis 5 g/m² aufgetragen ist.
11. Verwendung der Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 10 zur Herstellung von Flachdruckformen.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5953836A (ja) * 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPH0767868B2 (ja) * 1984-10-23 1995-07-26 三菱化学株式会社 感光性平版印刷版
US5080999A (en) * 1985-06-10 1992-01-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive diazo resin composition containing a higher fatty acid or higher fatty acid amide
JPS62290705A (ja) * 1986-06-10 1987-12-17 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合性組成物
JPS6343913A (ja) * 1986-08-05 1988-02-25 ザ スタンダ−ド オイル カンパニ− ペンダント官能基を有するニトリルアクリレ−トコ−ティング組成物および放射線硬化法
DE3811832C2 (de) * 1987-04-10 1998-06-04 Fuji Photo Film Co Ltd Trockene, vorsensibilisierte Platte und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
JP2520686B2 (ja) * 1988-03-18 1996-07-31 富士写真フイルム株式会社 湿し水不要感光性平版印刷板
US5188032A (en) * 1988-08-19 1993-02-23 Presstek, Inc. Metal-based lithographic plate constructions and methods of making same
JP2549303B2 (ja) * 1988-09-21 1996-10-30 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH0389353A (ja) * 1989-09-01 1991-04-15 Nippon Paint Co Ltd ポジ型感光性樹脂組成物
KR0140908B1 (ko) * 1995-01-20 1998-06-15 박흥기 액정 디스플레이 칼라필터용 안료분산 포토 레지스트 조성물
US6159658A (en) * 1996-03-19 2000-12-12 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin composition with polymer having an ionic group and having a polymerizable group in the side chain and printing plate materials
EP0851299B1 (de) 1996-12-26 2000-10-25 Mitsubishi Chemical Corporation Photoempfindliche lithographische Druckplatte
US6232364B1 (en) * 1999-02-18 2001-05-15 Shimizu Co., Ltd. Ultraviolet curable coating compositions for cationic electrodeposition applicable to metallic materials and electrically conductive plastic materials
US6893797B2 (en) * 2001-11-09 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Llc High speed negative-working thermal printing plates
US7056639B2 (en) * 2001-08-21 2006-06-06 Eastman Kodak Company Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid
JP4152656B2 (ja) * 2002-04-02 2008-09-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
EP1445120B1 (de) 2003-02-06 2007-07-18 FUJIFILM Corporation Lichtempfindliche Flachdruckplatte
JP2005122113A (ja) * 2003-08-28 2005-05-12 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物及び画像記録材料
US7858292B2 (en) * 2007-12-04 2010-12-28 Eastman Kodak Company Imageable elements with components having 1H-tetrazole groups
EP2194429A1 (de) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gummierzusammensetzungen mit Nanoteilchen zur Verbesserung der Kratzempfindlichkeit in Bild- und Nicht-Bild-Bereichen von lithografischen Druckplatten
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
CN101613276B (zh) * 2009-06-23 2012-12-26 苏州苏大欧罗新材料科技有限公司 彩色滤光片用彩色光阻剂
EP2293144B1 (de) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Verfahren zum Trocknen von Lithographiedruckplatten nach einer Einstufenverarbeitung
US8900798B2 (en) 2010-10-18 2014-12-02 Eastman Kodak Company On-press developable lithographic printing plate precursors
US20120090486A1 (en) 2010-10-18 2012-04-19 Celin Savariar-Hauck Lithographic printing plate precursors and methods of use
US20120141941A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Mathias Jarek Developing lithographic printing plate precursors in simple manner
US20120141942A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Domenico Balbinot Method of preparing lithographic printing plates
US20120141935A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Bernd Strehmel Developer and its use to prepare lithographic printing plates
US20120199028A1 (en) 2011-02-08 2012-08-09 Mathias Jarek Preparing lithographic printing plates
JP5705584B2 (ja) 2011-02-24 2015-04-22 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
CN103562794B (zh) 2011-03-28 2016-07-13 富士胶片株式会社 平版印刷版的制版方法
US8632940B2 (en) 2011-04-19 2014-01-21 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US9029063B2 (en) 2011-09-22 2015-05-12 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
US8632941B2 (en) 2011-09-22 2014-01-21 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors with IR dyes
BR112014007169A2 (pt) 2011-09-26 2017-04-04 Fujifilm Corp processo para fazer placa de impressão litográfica
EP2762973B1 (de) 2011-09-26 2017-11-29 Fujifilm Corporation Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte
US8679726B2 (en) 2012-05-29 2014-03-25 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
US8889341B2 (en) 2012-08-22 2014-11-18 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors and use
US8927197B2 (en) 2012-11-16 2015-01-06 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
EP2735903B1 (de) 2012-11-22 2019-02-27 Eastman Kodak Company Negativ arbeitende Lithografiedruckplattenvorläufer mit hochverzweigtem Bindemittelmaterial
US9063423B2 (en) 2013-02-28 2015-06-23 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and use
EP2778782B1 (de) 2013-03-13 2015-12-30 Kodak Graphic Communications GmbH Negativ arbeitende strahlungsempfindliche Elemente
US9201302B2 (en) 2013-10-03 2015-12-01 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursor
US20170021656A1 (en) 2015-07-24 2017-01-26 Kevin Ray Lithographic imaging and printing with negative-working photoresponsive printing members
US11633948B2 (en) 2020-01-22 2023-04-25 Eastman Kodak Company Method for making lithographic printing plates

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3376138A (en) * 1963-12-09 1968-04-02 Gilano Michael Nicholas Photosensitive prepolymer composition and method
US3556792A (en) * 1968-05-22 1971-01-19 Gaf Corp Novel substituted allyl polymer derivatives useful as photoresists
BE757124A (fr) * 1969-10-09 1971-04-06 Kalle Ag Plaques d'impression a plat composee de feuilles
GB1376450A (en) * 1970-12-26 1974-12-04 Asahi Chemical Ind Photopolymerizable compositions and elements containing them
US3796578A (en) * 1970-12-26 1974-03-12 Asahi Chemical Ind Photopolymerizable compositions and elements containing addition polymerizable polymeric compounds
US3825430A (en) * 1972-02-09 1974-07-23 Minnesota Mining & Mfg Light-sensitive composition and method
GB1425423A (en) * 1972-04-26 1976-02-18 Eastman Kodak Co Photopolymerisable compositions
JPS5756485B2 (de) * 1973-01-25 1982-11-30
JPS5549729B2 (de) * 1973-02-07 1980-12-13
JPS5017827A (de) * 1973-06-18 1975-02-25
JPS6046694B2 (ja) * 1976-02-16 1985-10-17 富士写真フイルム株式会社 金属画像形成材料
SU781746A1 (ru) * 1979-01-15 1980-11-23 Предприятие П/Я А-7850 Фотополимеризующа с композици
JPS55133035A (en) * 1979-04-02 1980-10-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electron sensitive resin material
SU911443A1 (ru) * 1979-07-09 1982-03-07 Всесоюзный научно-исследовательский и проектный институт химической промышленности Фотополимеризующа с композици
US4289842A (en) * 1980-06-27 1981-09-15 Eastman Kodak Company Negative-working polymers useful as electron beam resists

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5946643A (ja) 1984-03-16
GB2129822B (en) 1987-06-03
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GB8323618D0 (en) 1983-10-05
CA1206366A (en) 1986-06-24
JPH0363740B2 (de) 1991-10-02
GB2129822A (en) 1984-05-23
US4511645A (en) 1985-04-16
DE3332640A1 (de) 1984-03-15

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