DE4135996A1 - Photopolymerisierbare zusammensetzung - Google Patents
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- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 20
- 239000003999 initiator Substances 0.000 title claims abstract description 18
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 22
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 10
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims abstract description 9
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims abstract description 7
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000004438 haloalkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 73
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 36
- -1 m-methoxyphenyl Chemical group 0.000 claims description 31
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 claims description 19
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 claims description 19
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 claims description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- 150000001251 acridines Chemical class 0.000 claims description 13
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 11
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 claims description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 8
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 5
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 4
- 229940027998 antiseptic and disinfectant acridine derivative Drugs 0.000 claims description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 4
- VZRCSQXNWRZMAR-UHFFFAOYSA-N 9-(4-chlorophenyl)acridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 VZRCSQXNWRZMAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FLDRLXJNISEWNZ-UHFFFAOYSA-N 9-methylacridine Chemical compound C1=CC=C2C(C)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 FLDRLXJNISEWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 9-phenylacridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 3
- GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound OCCCCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N itaconic acid Chemical class OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 3
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 claims description 3
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- FGTUGLXGCCYKPJ-SPIKMXEPSA-N (Z)-but-2-enedioic acid 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCCOCCOCCO FGTUGLXGCCYKPJ-SPIKMXEPSA-N 0.000 claims description 2
- SORHAFXJCOXOIC-CCAGOZQPSA-N (z)-4-[2-[(z)-3-carboxyprop-2-enoyl]oxyethoxy]-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(=O)OCCOC(=O)\C=C/C(O)=O SORHAFXJCOXOIC-CCAGOZQPSA-N 0.000 claims description 2
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LEHKKZRCBHDAEI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-acridin-9-ylphenyl)ethanone Chemical compound C1=CC(C(=O)C)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 LEHKKZRCBHDAEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 2-[(e)-but-2-enoyl]oxyethyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCOC(=O)\C=C\C APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 0.000 claims description 2
- APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 2-[(z)-but-2-enoyl]oxyethyl (z)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C/C(=O)OCCOC(=O)\C=C/C APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 0.000 claims description 2
- BMKCHYNIIHMNPB-UHFFFAOYSA-N 2-acridin-9-ylethanol Chemical compound C1=CC=C2C(CCO)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 BMKCHYNIIHMNPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YBKWKURHPIBUEM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[6-(2-methylprop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCCCCCNC(=O)C(C)=C YBKWKURHPIBUEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GDHSRTFITZTMMP-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanedioic acid;propane-1,2-diol Chemical compound CC(O)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O GDHSRTFITZTMMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 3-(3-prop-2-enoyloxypropoxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOCCCOC(=O)C=C KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GKOIZIJVSXORSJ-UHFFFAOYSA-N 3-acridin-9-yl-n,n-diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC(C=2C3=CC=CC=C3N=C3C=CC=CC3=2)=C1 GKOIZIJVSXORSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YSWZNKFDSSGXIS-UHFFFAOYSA-N 3-acridin-9-yl-n,n-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC(C=2C3=CC=CC=C3N=C3C=CC=CC3=2)=C1 YSWZNKFDSSGXIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CJCNCXPDKKIMNX-UHFFFAOYSA-N 3-acridin-9-ylbenzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC(C=2C3=CC=CC=C3N=C3C=CC=CC3=2)=C1 CJCNCXPDKKIMNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RKOMYGSVLTVDAD-UHFFFAOYSA-N 3-acridin-9-ylpropanenitrile Chemical compound C1=CC=C2C(CCC#N)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 RKOMYGSVLTVDAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WNLBSXDSYUMNDJ-UHFFFAOYSA-N 4-acridin-9-yl-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 WNLBSXDSYUMNDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BJUZAWLLCOKWGO-UHFFFAOYSA-N 4-acridin-9-ylbenzonitrile Chemical compound C1=CC(C#N)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 BJUZAWLLCOKWGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VJCPYDVHUJPWDY-UHFFFAOYSA-N 9-(2-chloroethoxy)acridine Chemical compound C1=CC=C2C(OCCCl)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 VJCPYDVHUJPWDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CZAZRIWJMXBMNQ-UHFFFAOYSA-N 9-(2-chloroethyl)acridine Chemical compound C1=CC=C2C(CCCl)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 CZAZRIWJMXBMNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WXKYFUDFQSTRHX-UHFFFAOYSA-N 9-(3-bromophenyl)acridine Chemical compound BrC1=CC=CC(C=2C3=CC=CC=C3N=C3C=CC=CC3=2)=C1 WXKYFUDFQSTRHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KTPOHTDATNALFV-UHFFFAOYSA-N 9-(3-chlorophenyl)acridine Chemical compound ClC1=CC=CC(C=2C3=CC=CC=C3N=C3C=CC=CC3=2)=C1 KTPOHTDATNALFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VJGXNHAKTHFWKE-UHFFFAOYSA-N 9-(3-ethoxyphenyl)acridine Chemical compound CCOC1=CC=CC(C=2C3=CC=CC=C3N=C3C=CC=CC3=2)=C1 VJGXNHAKTHFWKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DOGGTYYFTFGYQM-UHFFFAOYSA-N 9-(3-methylphenyl)acridine Chemical compound CC1=CC=CC(C=2C3=CC=CC=C3N=C3C=CC=CC3=2)=C1 DOGGTYYFTFGYQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YVQFMSIAMGCKOK-UHFFFAOYSA-N 9-(3-propan-2-ylphenyl)acridine Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C=2C3=CC=CC=C3N=C3C=CC=CC3=2)=C1 YVQFMSIAMGCKOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BEMKEPNSCSVFMZ-UHFFFAOYSA-N 9-(3-tert-butylphenyl)acridine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C=2C3=CC=CC=C3N=C3C=CC=CC3=2)=C1 BEMKEPNSCSVFMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KGWGFYSRASGBKP-UHFFFAOYSA-N 9-(4-bromophenyl)acridine Chemical compound C1=CC(Br)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 KGWGFYSRASGBKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HANIQCCYEOXWSU-UHFFFAOYSA-N 9-(4-ethoxyphenyl)acridine Chemical compound C1=CC(OCC)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 HANIQCCYEOXWSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RZALXPATCFPFDA-UHFFFAOYSA-N 9-(4-ethylphenyl)acridine Chemical compound C1=CC(CC)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 RZALXPATCFPFDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MQMCZRZPDPSXTD-UHFFFAOYSA-N 9-(4-methoxyphenyl)acridine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MQMCZRZPDPSXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KORJZGKNZUDLII-UHFFFAOYSA-N 9-(4-methylphenyl)acridine Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 KORJZGKNZUDLII-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OALXUIAACCQZQP-UHFFFAOYSA-N 9-(4-propan-2-ylphenyl)acridine Chemical compound C1=CC(C(C)C)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 OALXUIAACCQZQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UMXFXGSHCWIHKN-UHFFFAOYSA-N 9-(4-propylphenyl)acridine Chemical compound C1=CC(CCC)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 UMXFXGSHCWIHKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IANFMESFDABWRB-UHFFFAOYSA-N 9-(4-tert-butylphenyl)acridine Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 IANFMESFDABWRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CVPHOGZTLPMGBU-UHFFFAOYSA-N 9-ethylacridine Chemical compound C1=CC=C2C(CC)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 CVPHOGZTLPMGBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZHBWKWDAMIJZPW-UHFFFAOYSA-N 9-methoxyacridine Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 ZHBWKWDAMIJZPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HDLFSWMFFDMLRQ-UHFFFAOYSA-N 9-propan-2-ylacridine Chemical compound C1=CC=C2C(C(C)C)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 HDLFSWMFFDMLRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- REIHTKGNTQFKOQ-UHFFFAOYSA-N 9-propan-2-yloxyacridine Chemical compound C1=CC=C2C(OC(C)C)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 REIHTKGNTQFKOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UVQKXZGOPNTZQT-UHFFFAOYSA-N 9-propoxyacridine Chemical compound C1=CC=C2C(OCCC)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 UVQKXZGOPNTZQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZSGMOQYDNJRFDX-UHFFFAOYSA-N 9-propylacridine Chemical compound C1=CC=C2C(CCC)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 ZSGMOQYDNJRFDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XWUNIDGEMNBBAQ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A ethoxylate diacrylate Chemical compound C=1C=C(OCCOC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OCCOC(=O)C=C)C=C1 XWUNIDGEMNBBAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LAKGQRZUKPZJDH-GLIMQPGKSA-N C\C=C/C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C/C Chemical compound C\C=C/C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C/C LAKGQRZUKPZJDH-GLIMQPGKSA-N 0.000 claims description 2
- YDMUKYUKJKCOEE-SPIKMXEPSA-N OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCC(CO)(CO)CO Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.OC(=O)\C=C/C(O)=O.OCC(CO)(CO)CO YDMUKYUKJKCOEE-SPIKMXEPSA-N 0.000 claims description 2
- BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O Chemical compound OCC(CO)(CO)CO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O BEAWHIRRACSRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N Panavia opaque Chemical compound C1=CC(OCC(O)COC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCC(O)COC(=O)C(C)=C)C=C1 AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 2
- XQTIWNLDFPPCIU-UHFFFAOYSA-N cerium(3+) Chemical class [Ce+3] XQTIWNLDFPPCIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- DAOJMFXILKTYRL-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound OCCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O DAOJMFXILKTYRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethenylcarbamate Chemical class CCOC(=O)NC=C HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 claims description 2
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 claims description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical class C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 claims description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical compound O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 claims description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims description 2
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 claims description 2
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 claims description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 2
- YWUGWLNBQIOMHO-UHFFFAOYSA-N 1-(3-acridin-9-ylphenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC(C=2C3=CC=CC=C3N=C3C=CC=CC3=2)=C1 YWUGWLNBQIOMHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 4-[(e)-but-2-enoyl]oxybutyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCCCOC(=O)\C=C\C KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 0.000 claims 1
- IETBVHNTSXTIDT-UHFFFAOYSA-N 9-ethoxyacridine Chemical compound C1=CC=C2C(OCC)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 IETBVHNTSXTIDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 102100021570 B-cell lymphoma 3 protein Human genes 0.000 claims 1
- 101000971178 Homo sapiens B-cell lymphoma 3 protein Proteins 0.000 claims 1
- LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N [2-[[(e)-but-2-enoyl]oxymethyl]-3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)propyl] (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C\C LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N 0.000 claims 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 claims 1
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 claims 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N jdtic Chemical compound C1([C@]2(C)CCN(C[C@@H]2C)C[C@H](C(C)C)NC(=O)[C@@H]2NCC3=CC(O)=CC=C3C2)=CC=CC(O)=C1 ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N 0.000 claims 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 8
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 7
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 6
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxycyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCC(OC(=O)C=C)CC1 OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRODAHDDPILBSK-UHFFFAOYSA-N 9-(3-methoxyphenyl)acridine Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C3=CC=CC=C3N=C3C=CC=CC3=2)=C1 ZRODAHDDPILBSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEFIKULVPIMIPQ-UHFFFAOYSA-N 9-(4-butylphenyl)acridine Chemical compound C1=CC(CCCC)=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 IEFIKULVPIMIPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- OZQCLFIWZYVKKK-UHFFFAOYSA-N butane-1,3-diol 2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound CC(O)CCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O OZQCLFIWZYVKKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical group [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical class C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000386 donor Substances 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M hydrogensulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012457 nonaqueous media Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulphite Substances [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- RSEHMVDVWGHIAQ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)OC(C)(C)C)=CC=CC2=C1 RSEHMVDVWGHIAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical class C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N trizinc;diborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
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- Y10S430/114—Initiator containing
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- Y10S430/114—Initiator containing
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine
photopolymerisierbare Zusammensetzung, insbesondere eine
photopolymerisierbare Zusammensetzung, die hohe
Empfindlichkeit aufweist und bei der Herstellung einer
lithographischen Druckplatte, einer Harz-Hochdruckplatte,
eines Reservierungsmittels oder einer Photomaske zur
Herstellung einer bedruckten Tafel, einer
monochromatischen und farbigen Platte zur Übertragung
oder Farbentwicklung und einer Farbe entwickelnden Platte
verwendet werden kann.
Herkömmlich ist eine Vielzahl von photographischen
bilderzeugenden Systemen bekannt, in denen ein
aushärtbarer organischer Bestandteil, der eine
ethylenisch ungesättigte Gruppe aufweist, zur Erzeugung
von Bildern verwendet wird. Der organische Bestandteil
kann sich zur Aushärtung einer optisch induzierten
Additionsreaktion, normalerweise eine Polymerisations-
oder Vernetzungsreaktion, der ethylenisch ungesättigten
Gruppen unterziehen, wodurch ein Bild entsteht.
Als andere photographische bilderzeugende Systeme sind
Systeme bekannt, die eine Kombination eines
Leukofarbstoffs enthalten, der durch eine
Oxidationsreaktion oder eine Reaktion mit einer Säure und
einem ein Radikal erzeugenden Mittel, welches als
Oxidationsmittel oder als Säure wirkt, die Farbe
entwickeln kann. Beispiele für solche Systeme sind z. B.
in Phot. Sci. Eng., S. 589 (1961) und den US-PS 30 42 515
und 36 15 568 offenbart.
Gegenwärtig ist als eine dieser bilderzeugenden Methoden,
bei denen eine lichtempfindliche Zusammensetzung
verwendet wird, die einen aushärtbaren organischen
Bestandteil, mit einer ethylenisch ungesättigten Gruppe
enthält, eine Methode geläufig, bei der Bilder durch eine
photographische Technik kopiert werden, wozu eine
lichtempfindliche Zusammensetzung verwendet wird, die
z. B. eine polymerisierbare, ethylenisch ungesättigte
Verbindung, einen Photopolymerisationsinitiator, eine
lineare polymerische Verbindung, die einen Film erzeugen
kann, und einen Wärmepolymerisationsinhibitor enthält.
Wie in der jap. Patentveröffentlichung (nachfolgend
"J. P. KOKOKU" genannt) Nr. Sho 35-5093 (=US-PS 29 27 022)
und Sho 35-8495 beschrieben ist, bewirkt die
lichtempfindliche Zusammensetzung durch Bestrahlung mit
aktinischen Lichtstrahlen eine Photopolymerisation und
wird demnach unlöslich gemacht. Deshalb kann dadurch ein
erwünschtes photopolymerisiertes Bild erhalten werden,
daß man eine lichtempfindliche Zusammensetzung in Form
eines geeigneten Films anwendet, die lichtempfindliche
Schicht mit aktinischen Lichtstrahlen durch einen
Negativfilm, der das erwünschte Bild trägt, bestrahlt und
dann lediglich die nicht belichteten Flächen mit einem
geeigneten Lösungsmittel entfernt (im folgenden einfach
"Entwicklung" genannt). Solch eine lichtempfindliche
Zusammensetzung ist sehr nützlich als lichtempfindliche
Schicht einer vorsensibilisierten Platte zur Verwendung
bei der Herstellung einer lithographischen Druckplatte.
Typische Beispiele für Photopolymerisationsinitiatoren
für dies photopolymerisierbaren, ethylenisch
ungesättigten Verbindungen sind unter anderem Benzyl,
Benzoin, Benzoinethylether, Anthrachinon, Acridin,
Phenazin, Benzophenon und 2-Ethylanthrachinon. Diese
Photopolymerisationsinitiatoren reagieren zwar auf
ultraviolette Strahlen kurzer Wellenlänge, haben jedoch
eine geringe Empfindlichkeit, reagieren außerdem fast
nicht auf sichtbare Lichtstrahlen, wie
Argonionen-Laserstrahlen langer Wellenlängen und sind
somit nicht ausreichend fähig, eine Polymerisation zu
initiieren.
Andererseits trat die Entwicklung von lichtempfindlichen
Materialien, die auf sichtbares Licht reagieren, in den
Vordergrund und es wurde z. B. ein Verbundsystem, das
einen photoreduzierbaren Farbstoff und ein aliphatisches
Amin enthält, wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 44-20 189
offenbart; ein Verbundsystem, das eine zyklische cis-α-
Dicarbonylverbindung und einen Farbstoff enthält, wie in
der ungeprüften Veröffentlichung des japanischen Patents
Nr. Sho 48-84 183 (im folgenden als "J. P. KOKAI"
bezeichnet) offenbart; ein System, das ein
Hexaarylbiimidazol, einen Radikalerzeuger und einen
Farbstoff enthält, wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 45-37 377
offenbart; ein System, das ein Hexaarylbiimidazol und ein
p-Dialkylaminobenzylidenaceton enthält, wie in J. P. KOKAI
Nr. Sho 47-2 528 und Sho-54-1 55 292 (=US-PS 41 62 162)
offenbart; und ein System, das ein substituiertes Triazin
und einen Mercocyaninfarbstoff enthält, wie in J. P. KOKAI
Nr. 54-1 51 024 offenbart; vorgeschlagen.
Kürzlich wurde eine Methode zur Erzeugung von Bildern
unter Verwendung eines Lasers untersucht, und ein
Laserfaksimile etc. wird bereits praktisch verwendet.
Aus diesem Grund wird dementsprechend nach der
Entwicklung einer lichtempfindlichen Zusammensetzung
verlangt, die hohe Empfindlichkeit aufweist und auf diese
kürzlich entwickelten Methoden anwendbar ist; aber eine
Zusammensetzung, die ausreichende Empfindlichkeit
aufweist, wurde noch nicht entwickelt.
Ziel der vorliegenden Erfindung ist dementsprechend die
Bereitstellung einer photopolymerisierbaren
Zusammensetzung, die hochempfindlich gegenüber
Lichtstrahlen, jeder gewünschten Wellenlänge, vom
ultravioletten bis zum sichtbaren Bereich ist und die
gute Lagerungsstabilität und Wärmestabilität aufweist.
Die Erfinder dieser Erfindung haben verschiedene Studien
durchgeführt, um das obengenannte Ziel zu erreichen, und
haben als Ergebnis festgestellt, daß ein
Kombinationssystem aus einer Oniumverbindung und einem
Acridinderivat, das einen Substituenten, wie z. B. eine
Phenylgruppe, an der 9-Position aufweist, die
Photopolymerisationsrate polymerisierbarer Verbindungen,
die eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung
aufweisen, erheblich beschleunigen kann und sie haben
somit die vorliegende Erfindung abgeschlosssen.
Erfindungsgemäß wird eine photopolymerisierbare
Zusammensetzung bereitgestellt, die eine polymerisierbare
Verbindung, die wenigstens eine ethylenisch ungesättigte
Doppelbindung aufweist, und einen
Photopolymerisationsinitiator enthält, worin der
Photopolymerisationsinitiator eine Oniumverbindung und
ein Acridinderivat der folgenden allgemeinen Formel (I)
enthält;
worin R¹ eine unsubstituierte oder substituierte Phenyl-,
Alkyl- oder Alkoxygruppe ist.
Diphenyliodoniumverbindungen und
Triphenylsulfoniumverbindungen sind als Initiatoren der
kationischen Polymerisation bekannt (J. Plymer Sci.
Symposium, Nr. 56 (1976), S. 383; und J. Polymer Sci.
Polymer Chemistry Edition, 22 (1984), S. 69-76). Außerdem
ist es bekannt, diese Verbindungen auch als
photoinitiierte Radikalpolymerisationsinitiatoren zu
verwenden, wie z. B. in J. P. (KOKAI) Nr. Sho 60-2 58 204,
Sho 62-1 50 242 und Hei 2-1 66 451 offenbart. Die
Empfindlichkeiten dieser Systeme sind jedoch noch nicht
ausreichend und es ist noch höhere Empfindlichkeit
erwünscht.
Gestützt auf die Annahme, daß die Fähigkeit von
Oniumverbindungen, eine Photopolymerisation zu
initiieren, durch die Gegenwart eines Elektronendonors
verstärkt werden kann, haben wir verschiedene
Verbindungen untersucht, um solche zu finden, die die
Initiierung der Photopolymerisation fördern können, und
wir stellten fest, daß die Acridinderivate der Formel (I)
die Initiierung der Photopolymerisation beträchtlich
fördern können.
Deshalb betrifft die vorliegende Erfindung eine
negativ-arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, die
eine photopolymerisierbare, ethylenisch ungesättigte
Verbindung, eine Oniumverbindung und ein Acridinderivat
der Formel (I) enthält, und die extrem hohe
Empfindlichkeit auf ultraviolette Strahlung, sichtbare
Strahlung und Elektronenstrahlung oder Röntgenstrahlung
aufweist.
Im folgenden wird die vorliegende Erfindung genauer
beschrieben.
Die photopolymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten
Verbindungen, die in der Erfindung verwendet werden, sind
Verbindungen, die mindestens eine ethylenisch
ungesättigte, polymerisierbare Doppelbindung aufweisen
und unter Atmosphärendruck einen Siedepunkt von nicht
weniger als 100°C haben.
Solche Verbindungen liegen chemisch z. B. als Monomere,
Präpolymere, d. h. Dimere, Trimere und Oligomere, oder als
Gemische oder Copolymere daraus vor. Beispiele für
Monomere und Copolymere daraus sind Ester aus
ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen, mehrere
Hydroxylgruppen enthaltenden Alkoholen und Amide aus
ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen,
polyvalenten Aminen.
Konkrete Beispiele für Estermonomere aus ungesättigten
Carbonsäuren und aliphatischen, mehrere Hydroxylgruppen
enthaltenden Alkoholen sind unter anderem Acrylate, wie
Ethylenglykoldiacrylat, Triethylenglykoldiacrylat,
1,3-Butandioldiacrylat, Tetramethylenglykoldiacrylat,
Propylenglykoldiacrylat, Neopentylglykoldiacrylat,
Trimethylolpropantriacrylat,
Trimethylolpropan-tri(acryloyloxypropyl)ether,
Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat, Pentaerythritdiacrylat, Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritdiacrylat,
Dipentaerythrithexaacrylat, Sorbittriacrylat,
Sorbittetraacrylat, Sorbitpentaacrylat,
Sorbithexaacrylat, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat und
Polyesteracrylatoligomere; Methacrylate, wie
Tetramethylenglykoldimethacrylat,
Triethylenglykoldimethacrylat,
Neopentylglykoldimethacrylat,
Trimethylolpropantrimethacrylat,
Trimethylolethantrimethacrylat,
Ethylenglykoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat,
Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritdimethacrylat,
Pentaerythrittrimethacrylat,
Pentaerythrittetramethacrylat,
Dipentaerythritdimethacrylat,
Dipentaerythrithexamethacrylat, Sorbittrimethacrylat,
Sorbittetramethacrylat,
Bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]- dimethylmethan und
Bis[p-(acryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethan;
Itaconate, wie Ethylenglykoldiitaconat,
Propylenglykoldiitaconat, 1,3-Butandioldiitaconat,
1,4-Butandioldiitaconat, Tetramethylenglykoldiitaconat,
Pentaerythritdiitaconat und Sorbittetraitaconat;
Crotonate, wie Ethylenglykoldicrotonat,
Tetramethylenglykoldicrotonat Pentaerythritdicrotonat und
Sorbittetracrotonat; Isocrotonate, wie
Ethylenglykoldiisocrotonat, Pentaerythritdiisocrotonat
und Sorbittetraisocrotonat; Maleate, wie
Ethylenglykoldimaleat, Triethylenglykoldimaleat,
Pentaerythritdimaleat und Sorbittetramaleat; und Gemische daraus.
Ethylenglykoldiacrylat, Triethylenglykoldiacrylat,
1,3-Butandioldiacrylat, Tetramethylenglykoldiacrylat,
Propylenglykoldiacrylat, Neopentylglykoldiacrylat,
Trimethylolpropantriacrylat,
Trimethylolpropan-tri(acryloyloxypropyl)ether,
Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat, Pentaerythritdiacrylat, Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritdiacrylat,
Dipentaerythrithexaacrylat, Sorbittriacrylat,
Sorbittetraacrylat, Sorbitpentaacrylat,
Sorbithexaacrylat, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat und
Polyesteracrylatoligomere; Methacrylate, wie
Tetramethylenglykoldimethacrylat,
Triethylenglykoldimethacrylat,
Neopentylglykoldimethacrylat,
Trimethylolpropantrimethacrylat,
Trimethylolethantrimethacrylat,
Ethylenglykoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat,
Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritdimethacrylat,
Pentaerythrittrimethacrylat,
Pentaerythrittetramethacrylat,
Dipentaerythritdimethacrylat,
Dipentaerythrithexamethacrylat, Sorbittrimethacrylat,
Sorbittetramethacrylat,
Bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]- dimethylmethan und
Bis[p-(acryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethan;
Itaconate, wie Ethylenglykoldiitaconat,
Propylenglykoldiitaconat, 1,3-Butandioldiitaconat,
1,4-Butandioldiitaconat, Tetramethylenglykoldiitaconat,
Pentaerythritdiitaconat und Sorbittetraitaconat;
Crotonate, wie Ethylenglykoldicrotonat,
Tetramethylenglykoldicrotonat Pentaerythritdicrotonat und
Sorbittetracrotonat; Isocrotonate, wie
Ethylenglykoldiisocrotonat, Pentaerythritdiisocrotonat
und Sorbittetraisocrotonat; Maleate, wie
Ethylenglykoldimaleat, Triethylenglykoldimaleat,
Pentaerythritdimaleat und Sorbittetramaleat; und Gemische daraus.
Konkrete Beispiele für Amidmonomere aus aliphatischen,
mehrere Hydroxylgruppen enthaltenden Aminen und
ungesättigten Carbonsäuren sind Methylenbisacrylamid,
Methylenbismethacrylamid, 1,6-Hexamethylenbisacrylamid,
1,6-Hexamethylenbismethacrylamid,
Diethylentriamintrisacrylamid, Xylylenbisacrylamid und
Xylylenbismethacrylamid.
Beispiele der vorausgehenden Verbindungen sind weiterhin
unter anderem Vinylurethanverbindungen, die mindestens
zwei polymerisierbare Vinylgruppen in einem Molekül
aufweisen, und durch Addition von eine Hydroxylgruppe
aufweisenden Vinylmonomeren der folgenden allgemeinen
Formel (A) an Polyisocyanatverbindungen, die mindestens
zwei Isocyantgruppen in einem Molekül aufweisen, wie in
J. P. KOKOKU Nr. Sho 48-41 708 offenbart, erhalten werden:
CH₂ = C(R²) COO CH₂CH(R³)OH (A)
worin R² und R³ jeweils sowohl H oder CH₃; als auch, wie
in J. P. Kokai Nr. Sho 51-37 193 offenbarte Urethanacrylate,
wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 49-43 191 und Sho 52 30 490 und
J. P. KOKAI Nr. Sho 48-64 183 offenbarte Polyesteracrylate;
polyfunktionelle Acrylate und Methacrylate, wie z. B.
Epoxyacrylate, die durch Reaktion von Epoxyharzen mit
Methacrylsäure erhalten werden; und im Bulletin of
Adhesive Society of Japan, 20, Nr. 7 (1984, S. 300-308
als photo-aushärtbare Monomere und Oligomere offenbarte
Verbindungen bedeuten. Die zu verwendende Menge dieser
Verbindungen beträgt 5 bis 50 Gew.-% (im folgenden
einfach als "%" bezeichnet) und insbesondere 10 bis 40%,
bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren
Zusammensetzung.
Im folgenden werden die in der erfindungsgemäßen
Zusammensetzung verwendeten
Photopolymerisationsinitiatoren genauer beschrieben.
Die Oniumverbindungen, die in der vorliegenden Verbindung
als Photopolymerisationsinitiatoren verwendet werden,
sind solche der allgemeinen Formeln (II) und (III):
worin Ar¹ und Ar² gleich oder verschieden sein können und
jeweils eine substituierte oder unsubstitierte Arylgruppe
bedeuten. Die Substituenten der Arylgruppe sind
vorzugsweise ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus
Alykl-, Halogenalky-, Cycloalkyl-, Aryl- Alkoxy-,
Nitro-, Carbonyl-, Alkoxycarbonyl-, Hydroxy- und
Mercaptogruppen und Halogenatomen und sind insbesondere
ausgewählt aus Alkylgruppen mit 1 bis 8
Kohlenstoffatomen, Alkoxygruppen mit 1 bis 8
Kohlenstoffatomen, einer Nitrogruppe und einem Chloratom.
R⁴, R⁵ und R⁶ können gleich oder verschieden sein und
jeweils eine substituierte oder unsubstituierte Alkyl-
oder Arylgruppe, und insbesondere eine Arylgruppe mit 6
bis 14 Kohlenstoffatomen, eine Alkylgruppe mit 1 bis 8
Kohlenstoffatomen oder deren substituiertes Derivat
bedeuten.
Bevorzugte Substituenten für die Arylgruppe sind z. B.
Alkoxygruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Alkylgruppen
mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, eine Nitrogruppe, eine
Carbonylgruppe, eine Hydroxygruppe und Halogenatome und
Substituenten für die Alkylgruppe sind z. B. Alkoxygruppen
mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, eine Carbonylgruppe und
Alkoxycarbonylgruppen.
Jeweils zwei aus R⁴, R⁵ und R⁶ und Ar¹ und Ar² können
durch eine Einfachbindung oder über einen Substituenten
miteinander verbunden sein.
X- ist ein Anion (Gegenion). Konkrete Beispiele sind
unter anderem Halogenidanionen,
BF₄-, BCl₄-, ZrCl₅-, SbCl₆-, FeCl₄-,
GaCl₄-, GaBr₄-, AlI₄-, AlCl₄-, SbF₆-,
CF₃SO₃-, PF₆-, BPh₄- (Ph = Phenyl),
kondensierte mehrkernige aromatische Sulfonatanionen, wie Naphthalin-1-sulfonatanion und Anthracen-1-sulfonatanion, Anthrachinonsulfonatanionen, Anthracensulfonatanionen, Sulfonatgruppen enthaltende Farbstoffe und ähnliche, aber X- ist nicht auf diese konkreten Beispiele beschränkt.
BF₄-, BCl₄-, ZrCl₅-, SbCl₆-, FeCl₄-,
GaCl₄-, GaBr₄-, AlI₄-, AlCl₄-, SbF₆-,
CF₃SO₃-, PF₆-, BPh₄- (Ph = Phenyl),
kondensierte mehrkernige aromatische Sulfonatanionen, wie Naphthalin-1-sulfonatanion und Anthracen-1-sulfonatanion, Anthrachinonsulfonatanionen, Anthracensulfonatanionen, Sulfonatgruppen enthaltende Farbstoffe und ähnliche, aber X- ist nicht auf diese konkreten Beispiele beschränkt.
Folgende sind konkrete Beispiele der Verbindungen der
Formel (II):
Außerdem sind nachfolgend konkrete Beispiele der
Verbindungen der allgemeinen Formel (III) aufgeführt:
Die Menge der Oniumverbindung beträgt von 0,01 bis 50
Gew.-Teile, insbesondere 0,1 bis 20 Gew.-Teile pro 100
Gew.-Teile der photopolymerisierbaren, ethylenisch
ungesättigten Verbindung.
Die vorhergehenden Verbindungen der allgemeinen Formeln
(II) und (III) können hergestellt werden durch Zugabe
einer wäßrigen oder alkoholischen Lösung einer
aromatischen Sulfonsäure oder deren Natriumsalz zu einer
wäßrigen oder alkoholischen Lösung eines Halogenids,
Bisulfats oder Perhydrohalogenids einer Oniumverbindung,
die z. B. nach den in J. W. Knapczyk et al., J. Am. Chem.
Soc., 91 (1969), S. 145; A. L. Maycock et al., J. Org.
Chem., 35 (1970), S. 2532; E. Goethals et al., Bull.
Soc. Chem. Belg., 73 (1964), S. 546; H. M. Leicester, J.
Am. Chem. Soc., 51 (1929), S. 3587; J. V. Crivello et
al., J. Polym. Soc. Polym. Chem. Ed., 18 (1980), S.
2677; US-PS 28 07 648 und 42 47 473; F. M. Beringer et
al., J. Am. Chem. Soc., 75 (1953), S. 2705 und J. P.
KOKAI Nr. Sho 53-1 01 331 offenbarten Verfahren hergestellt
wird, wonach die sich ergebenden Niederschläge durch
Filtration gewonnen werden.
Ein anderer Bestandteil des erfindungsgemäßen
photopolymerisierbaren Initiators ist das Acridinderivat
der Formel (I). Beispiele für den Substituenten der
Phenylgruppe von R³ sind u. a. eine C₁ Bis C₈ Alkylgruppe,
eine C₁ bis C₈ Alkoxygruppe, ein Halogenatom, eine
Cyanogruppe, eine Nitrogruppe, eine Acylgruppe und eine
Dialkylaminogruppe, Beispiele für den Substituenten der
Alkylgruppe von R³ sind u. a. eine C₁ bis C₈ Alkoxygruppe,
ein Halogenatom, eine Cyanogruppe, eine Acylgruppe und
eine Dialkylaminogruppe und Beispiele für den
Substituenten der Alkoxygruppe von R³ sind u. a. eine C₁
bis C₈ Alkoxygruppe, eine C₁ bis C₈ Halogenalkoxygruppe,
ein Halogenatom, eine Cyanogruppe und eine
Hydroxylgruppe.
Konkrete Beispiele der Verbindungen der Formel (I) sind
u. a.
9-Phenylacridin, 9-(p-Methylphenyl)acridin,
9-(p-Ethylphenyl)acridin, 9-(p-n-Propylphenyl)acridin,
9-(p-Isopropylphenyl)acridin, 9-(p-n-Butylphenyl)acridin,
9-(p-tert-Butylphenyl)acridin,
9-(p-Methoxyphenyl)acridin, 9-(p-Ethoxyphenyl)acridin,
9-(p-Acetylphenyl)acridin,
9-(p-Dimethylaminophenyl)acridin,
9-(p-Cyanophenyl)acridin, 9-(p-Chlorphenyl)acridin,
9-(p-Bromphenyl)acridin, 9-(m-Methylphenyl)acridin,
9-(m-n-Propylphenyl)acridin,
9-(m-Isopropylphenyl)acridin, 9-(m-n-Butylphenyl)acridin,
9-(m-tert-Butylphenyl)acridin,
9-(m-Methoxyphenyl)acridin, 9-(m-Ethoxyphenyl)acridin,
9-(m-Acetylphenyl)acridin,
9-(m-Dimethylaminophenyl)acridin,
9-(m-Diethylaminophenyl)acridin,
9-(m-Cyanophenyl)acridin, 9-(m-Chlorphenyl)acridin,
9-(m-Bromphenyl)acridin, 9-Methylacridin, 9-Ethylacridin,
9-n-Propylacridin, 9-Isopropylacridin,
9-Cyanoethylacridin, 9-Hydroxyethylacridin,
9-Chlorethylacridin, 9-Methoxyacridin, 9-Ethoxycridin,
9-n-Propoxyacridin, 9-Isopropoxyacridin und
9-Chlorethoxyacridin.
9-Phenylacridin, 9-(p-Methylphenyl)acridin,
9-(p-Ethylphenyl)acridin, 9-(p-n-Propylphenyl)acridin,
9-(p-Isopropylphenyl)acridin, 9-(p-n-Butylphenyl)acridin,
9-(p-tert-Butylphenyl)acridin,
9-(p-Methoxyphenyl)acridin, 9-(p-Ethoxyphenyl)acridin,
9-(p-Acetylphenyl)acridin,
9-(p-Dimethylaminophenyl)acridin,
9-(p-Cyanophenyl)acridin, 9-(p-Chlorphenyl)acridin,
9-(p-Bromphenyl)acridin, 9-(m-Methylphenyl)acridin,
9-(m-n-Propylphenyl)acridin,
9-(m-Isopropylphenyl)acridin, 9-(m-n-Butylphenyl)acridin,
9-(m-tert-Butylphenyl)acridin,
9-(m-Methoxyphenyl)acridin, 9-(m-Ethoxyphenyl)acridin,
9-(m-Acetylphenyl)acridin,
9-(m-Dimethylaminophenyl)acridin,
9-(m-Diethylaminophenyl)acridin,
9-(m-Cyanophenyl)acridin, 9-(m-Chlorphenyl)acridin,
9-(m-Bromphenyl)acridin, 9-Methylacridin, 9-Ethylacridin,
9-n-Propylacridin, 9-Isopropylacridin,
9-Cyanoethylacridin, 9-Hydroxyethylacridin,
9-Chlorethylacridin, 9-Methoxyacridin, 9-Ethoxycridin,
9-n-Propoxyacridin, 9-Isopropoxyacridin und
9-Chlorethoxyacridin.
Die Acridinderivate der Formel (I) werden in einer Menge
von 0,01 bis 50 Gew.-Teilen, insbesondere von 0,1 bis 20
Gew.-Teilen pro 100 Gew.-Teilen der
photopolymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten
Verbindung verwendet.
Das Gewichtsverhältnis der Oniumverbindungen und den
Acridinderivaten der Formel (I) in der erfindungsgemäßen
Zusammensetzung beträgt 1 : 100 bis 100 : 1.
Zusätzlich kann man, wenn erwünscht, der
erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Zusammensetzung
eine Wasserstoffdonorverbindung, wie N-Phenylglycin,
2-Mercaptobenzothiazol oder Alkyl-N,N-dialkylbenzoate,
zufügen, um die Fähigkeit, die Photopolymerisation der
Zusammensetzung zu initiieren, weiter zu verbessern.
Solch eine Wasserstoffdonorverbindung wird der
erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung
vorzugsweise in einer Menge von 1 bis 30%, bezogen auf
das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, zugefügt.
Die erfindungsgemäße Zusammensetzung kann weiterhin
Polymerbindemittel enthalten, die lineare organische
Polymere sind und willkürlich aus der Gruppe, bestehend
aus mit den photopolymerisierbaren, ethylenisch
ungesättigten Verbindungen verträglichen Polymeren,
ausgewählt werden. Vorzugsweise werden Bindemittel aus
linearen organischen Polymeren ausgewählt, die in Wasser
oder einer leicht alkalischen wäßrigen Lösung löslich
sind oder mit diesen Flüssigkeiten quellen, so daß die
resultierende lichtempfindliche Schicht mit Wasser oder
einer leicht alkalischen wäßrigen Lösung entwickelt
werden kann.
Es wurde vorausgehend diskutiert, daß das lineare
organische Polymer nicht nur als filmerzeugendes Mittel
der Zusammensetzung dient, sondern auch dazu dient, der
resultierenden lichtempfindlichen Schicht die Fähigkeit
zu verleihen, daß sie mit Wasser, einer leicht
alkalischen wäßrigen Lösung oder einem organischen
Lösungsmittel entwickelt werden kann. Zum Beispiel kann
die resultierende Schicht mit Wasser entwickelt werden,
wenn als Bindemittel ein wasserlösliches organisches
Polymer verwendet wird. Beispiele für solche
wasserlöslichen, linearen organischen Polymere sind die
in J. P. KOKAI Nr. Sho 59-44 615, Sho 54-92 723, Sho
59-53 836 (= US-PS 46 87 727) und Sho 59-71 048 (= US-PS
45 37 855) und J. P. KOKOKU Nr. Sho 54-34 327 (= US-PS 38 04 631),
Sho 58-12 577 (= US-PS 39 30 865) und Sho 54-25 957
(= US-PS 42 39 849) offenbarten Additionspolymere, die an
ihren Seitenketten Carboxylgruppen aufweisen und
Methacrylsäurecopolymere, Acrylsäurecopolymere,
Itaconsäurecopolymere, Crotonsäurecopolymere,
Maleinsäurecopolymere und teilweise veresterte
Maleinsäurecopolymere umfassen. Beispiele solcher
Polymere umfassen weiterhin saure Zellulosederivate, an
ihren Seitenketten Carboxylgruppen aufweisen, und
Verbindungen, die durch Zugabe eines zyklischen
Säureanhydrids zu einem Hydroxylgruppen aufweisenden
Additionpolymeren erhalten werden. Besonders bevorzugte
Beispiele dieser Verbindungen sind Copolymere aus
Benzyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure/wahlweise anderen
additionspolymerisierbaren Vinylmonomeren und
Allyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure/wahlweise anderen
additionspolymerisierbaren Vinylmonomeren.
Zusätzlich zu den vorhergehenden Polymeren sind als
wasserlösliches Polymer auch Polyvinylpyrrolidon und
Polyethylenoxide bevorzugt. Weiterhin sind auch ein
alkoholisches Nylon und/oder ein Polyether aus
2,2-Bis(4-hydroxyphenyl)propan und Epichlorhydrin
anwendbar, um die Stärke des ausgehärteten Films zu
erhöhen. Diese linearen organischen Polymere können in
beliebiger Menge in der Zusammensetzung enthalten sein.
Übersteigt sie jedoch 90%, haben die resultierenden
Bilder keine zufriedenstellende Stärke. Aus diesem Grund
beträgt ihre Menge vorzugsweise 30 bis 85%. Darüberhinaus
beträgt das Gewichtsverhältnis der polymerisierbaren,
ethylenisch ungesättigten Verbindung und dem linearen
organischen Polymer vorzugsweise 1/9 bis 7/3 und
insbesondere 3/7 bis 5/5.
Zusätzlich zu den vorausgehenden Bestandteilen kann die
erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung
gewünschtenfalls eine kleine Menge eines
Wärmepolymerisationsinhibitors enthalten, um die
unerwünschte Wärmepolymerisation der polymerisierbaren,
ethylenisch ungesättigten Verbindung während der
Herstellung der Zusammensetzung oder deren Lagerung zu
verhindern. Beispiele geeigneter
Wärmepolymerisationsinhibitoren sind Hydrochinon,
p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-cresol, Pyrogallol,
t-Butylcatechol, Benzochinon,
4,4′-Thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol),
2,2′-Methylenbis(4-methyl-6-t-butylphenol),
2-Mercaptobenzimidazol und das Cer(III)salz von
N-Nitrosophenylhydroxylamin. Die Menge des
Wärmepolymerisationsinhibitors beträgt vorzugsweise etwa
0,01% bis etwa 5%, bezogen auf das Gesamtgewicht der
lichtempfindlichen Zusammensetzung. Die Zusammensetzung
kann wahlweise weiterhin eine höhere Fettsäure oder deren
Derivat, wie z. B. Behensäure oder ein Behensäureamid
enthalten, damit sich die Verbindung auf der Oberfläche
der resultierenden lichtempflindlichen Schicht ausbreitet,
um so den polymerisationsinhibierenden Effekt von
Sauerstoff zu verhindern. Die Menge der höheren Fettsäuren
oder ihres Derivats beträgt vorzugsweise etwa 0,5% bis
etwa 10%, bezogen auf das Gesamtgewicht der
Zusammensetzung.
Die photopolymerisierbare Zusammensetzung kann weiterhin
einen Farbstoff oder ein Pigment zur Einfärbung der
resultierenden lichtempfindlichen Schicht enthalten. Die
Menge des beizumischenden Farbstoffs oder Pigments
beträgt vorzugsweise etwa 0,1% bis etwa 5%, bezogen auf
das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Die
Zusammensetzung kann darüberhinaus einen anorganischen
Füllstoff und/oder anderen bekannte Zusätze zur
Verbesserung der physikalischen Eigenschaften des
resultierenden ausgehärteten Films enthalten.
Die erfindungsgemäße photopolymerisierbare
Zusammensetzung wird in einer Vielzahl von organischen
Lösungsmitteln gelöst und dann auf die Oberfläche eines
Trägers (Substrats) aufgetragen um eine
lichtempfindliche Schicht zu erzeugen. Beispiele der
hierbei verwendeten Lösungsmittel umfassen Aceton,
Methylethylketon, Cyclohexan, Ethylacetat,
Ethylendichlorid, Tetrahydrofuran, Toluol,
Ethylenglykolmonomethylether,
Ethylenglykolmonoethylether, Ethylenglykoldimethylether,
Propylenglykolmonomethylether,
Propylenglykolmonoethylether, Acetylaceton, Cyclohexanon,
Diacetonalkohol, Ethylenglykolmonomethyletheracetat,
Ethylenglykolmonoethyletheracetat,
Ethylenglykolmonoisopropylether,
Ethylenglykolmonobutyletheracetat, 3-Methoxypropanol,
Methoxyethanol, Diethylenglykolmonomethylether,
Diethylenglykolmonoethylether,
Diethylenglykoldimethylether,
Diethylenglykoldiethylether,
Propylenglykolmonomethyletheracetat,
Propylenglykolmonoethyletheracetat,
3-Methoxypropylacetat, N,N-Dimethylformamid,
Dimethylsulfoxid, γ-Butyrolacton, Methyllactat und
Ethyllactat. Diese Lösungsmittel können allein oder in
Kombination verwendet werden. Die Konzentration der
Beschichtungslösung beträgt geeigneterweise 2 bis 50%,
bezogen auf ihren Feststoffanteil.
Die Beschichtungsmenge der photopolymerisierbaren
Zusammensetzung, die auf die Oberfläche des Trägers
aufgebracht wird, beträgt vorzugsweise etwa 0,1 g/m² bis
etwa 10 g/m² (nach dem Trocknen gewogen) und
insbesondere 0,5 bis 5 g/m².
Der vorhergenannte Träger kann ein plattenähnliches
Material sein, das gute Dimensionsstabilität aufweist.
Beispiele eines solchen dimensionsstabilen,
plattenähnlichen Materials sind Papier, mit einem
Plastikfilm, wie z. B. einem Film aus Polyethylen,
Polypropylen oder Polystyrol beschichtetes Papier,
Metallplatten, wie eine Aluminium- (einschließlich einer
Aluminiumlegierungs-)platte, eine Zinkplatte und eine
Stahlplatte, Kunststoffilme, wie Cellulosediacetat-,
Cellulosetriacetat-, Cellulosepropionat-,
Cellulosebutyrat-, Celluloseacetatbutyrat-,
Cellulosenitrat-, Polyethylenterephthalat-, Polyethylen-,
Polystyrol-, Polypropylen-, Polycarbonat- und
Polyvinylacetalfilme und mit einer Folie aus den
vorhergehenden Metallen oder mit einer Schicht der
vorhergehenden Metalle beschichtetes Papier oder
Kunststoffilme. Von diesen Trägern werden insbesondere
Aluminiumplatten wegen ihrer Dimensionsstabilität und
ihres geringen Preises bevorzugt. Bevorzugte Träger sind
weiterhin u. a. z. B. wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 48-18 327
offenbarte Verbundplatten, wie solche, die einen
Polyethylenterephthalatfilm und eine daran gebundene
Aluminiumplatte enthalten.
Der eine Oberfläche aus Metall, insbesondere eine
Aluminiumoberfläche aufweisende Träger, wird vorzugsweise
Oberflächenbehandlungen, wie Körnen, Tauchen in eine
wäßrige Lösung aus Natriumsilikat, Kaliumfluorozirconat,
Phosphat oder ähnliche und/oder Anodisierung ausgesetzt.
Vorzugsweise werden Aluminiumplatten verwendet, die nach
dem Körnen in eine wäßrige Lösung aus Natriumsilicat
eingetaucht werden. Zur Verwendung eignen sich
Aluminiumträger, die anodisiert werden und dann in eine
wäßrige Lösung aus einem Alkalimetallsilicat, wie in
J. P. KOKOKU Nr. Sho 47-5 125 offenbart, eingetaucht
werden. Die vorhergehende Anodisierungsbehandlung kann
durchgeführt werden, indem man elektrischen Strom durch
eine Aluminiumplatte leitet, die in einem Elektrolyten,
der ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus
wäßrigen und nicht-wäßrigen Lösungen anorganischer
Säuren, wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure oder
Borsäure, oder organischer Säuren, wie Oxalsäure oder
Sulfaminsäure, oder einem Gemisch daraus als Anode dient.
Eine Silikat-Galvanotechnik (silicate-electrodeposition),
wie in US-PS 36 58 662 offenbart, kann auch wirksam als
die vorhergehende Oberflächenbehandlung verwendet werden.
Weiterhin sind als Oberflächenbehandlungen unter anderem
z. B., wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 46-27 481 und J. P. KOKAI
Nr. Sho 52-58 602 und Sho 52-30 503 offenbart, eine
Kombination aus elektrolytischem Körnen, der
vorhergehenden Anodisierung und der Behandlung mit
Natriumsilikat.
Es kann weiterhin geeignet sein, die Aluminiumplatte
einem mechanischen Körnen, einem chemischen Ätzen, einem
elektrolytischen Körnen, einer Anodisierungsbehandlung
und einer Silikatbehandlung in dieser Reihenfolge, wie in
J. P. KOKAI Nr. Sho 56-28 893 offenbart, auszusetzen.
Nach diesen Oberflächenbehandlungen kann eine
Grundbeschichtung auf den Träger aufgetragen werden.
Solch eine Grundbeschichtung kann aus einem
wasserlöslichen Harz, wie Polyvinylphosphonsäure, einem
Polymer oder Copolymer, welches an den Seitenketten
Sulfonatgruppen aufweist, Polyacrylsäure, einem
wasserlöslichen Metallsalz, wie einem Zinkborat, einem
gelben Farbstoff oder einem Aminsalz, erhalten werden.
Diese Hydrophilierungsbehandlungen werden nicht nur
durchgeführt, um die Oberfläche des Trägers hydrophil
zu machen, sondern auch, um schädliche Reaktionen mit der
photopolymerisierbaren Zusammensetzung, die nachfolgend
hierauf aufgebracht wird, zu verhindern, und um die
Adhäsion an die lichtempfindliche Schicht zu verstärken.
Auf die auf den Träger aufgebrachte photopolymerisierbare
Zusammensetzung kann eine Schutzschicht aufgebracht
werden, um den polymerisationsinhibierenden Effekt von
Sauerstoff an Luft zu eliminieren. Die Schutzschicht kann
aus einem Polymer erzeugt werden, das ausgezeichnete
Sperreigenschaften gegenüber Sauerstoff aufweist, wie
Polyvinylalkohol, insbesondere solche, die mindestens zu
99% verseift sind, und saure Cellulosen. Das Verfahren
zur Aufbringung solcher Schutzschichten ist genau, z. B. in
US-PS 34 58 311 und J. P. KOKOKU Nr. Sho 55-49 729,
beschrieben.
Die erfindungsgemäße photopolymerisierbare
Zusammensetzung findet vielfältig Verwendung. Zum
Beispiel kann sich die Zusammensetzung einer gewöhnlichen
Photopolymerisationsreaktion unterziehen und kann als
Photoreservierungsmittel (photoresist) bei der
Herstellung lithographischer Druckplatten und bedruckter
Tafeln verwendet werden.
Das die erfindungsgemäße photopolymerisierbare
Zusammensetzung enthaltende lichtempfindliche Material
wird bildweise belichtet und anschließend werden die
nicht-belichteten Flächen durch Behandlung mit einem
Entwickler entfernt, um Bilder zu erzeugen. Beispiele
bevorzugter Entwickler, die verwendet werden, wenn die
photopolymerisierbare Zusammensetzung angewandt wird, um
eine lichtempfindliche Schicht auf einer lithographischen
Druckplatte zu erzeugen, sind diejenigen, die in J. P.
KOKOKU Nr. Sho 57-7 427 beschrieben sind und konkrete,
bevorzugt verwendete Beispiele davon, sind u. a. wäßrige
Lösungen aus anorganischen, alkalischen Mitteln, wie
Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Natriumhydroxid,
Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, tertiäres
Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres
Ammoniumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat,
Natriummetasilikat, Natriumbicarbonat oder wäßriges
Ammoniak, oder aus organischen, alkalischen Mittel, wie
Monoethanolamin oder Diethanolamin. Die Konzentration der
alkalischen Lösung beträgt 0,1 bis 10 Gew.-%,
vorzugsweise 0,5 bis 5 Gew.-%.
Die alkalische wäßrige Lösung kann wahlweise kleine
Mengen von Tensiden und/oder ein organisches
Lösungsmittel, wie Benzylalkohol, 2-Phenoxyethanol oder
2-Butoxyethanol. Beispiele solcher Entwickler
sind, z. B. in den US-PS 33 75 171 und 36 15 480,
offenbart. Bevorzugte Entwickler sind auch in J. P. KOKAI
Nr. Sho 50-26 601 und Sho 58-54 341 und J. p. KOKOKU Nr. Sho
56-39 464 und Sho 56-42 860 offenbart.
Die erfindungsgemäße photopolymerisierbare
Zusammensetzung weist über einen weiten
Wellenlängenbereich, der von ultravioletten bis zu
sichtbaren Bereichen reicht, hohe Empfindlichkeit auf
aktinischer Strahlung auf. Deshalb können als in dem
Belichtungsverfahren verwendbare Lichtquellen z. B.
folgende genannt werden: Superhochdruck-, Hochdruck-,
Mitteldruck- und Niederdruckquecksilberlampen, chemische
Lampen, Kohlenstoff-Lichtbogenlampen, Xenonlampen,
Metallhalogenidlampen, verschiedene Laserlampen, die
Lichtstrahlen im sichtbaren und ultravioletten Bereich
ausstrahlen, fluoreszierende Röhren, Wolframlampen und
Solarstrahlen.
Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend unter
Bezugnahme auf die folgenden nicht-beschränkenden
Ausführungsbeispiele genauer beschrieben und der durch
die Erfindung praktisch erzielte Effekt wird auch genauer
im Vergleich mit Vergleichsbeispielen diskutiert.
Die Oberfläche einer Aluminiumplatte von 0,30 mm Dicke
wurde mit einer wäßrigen Bimssteinsuspension (400 mesh)
und einer Nylonbürste gekörnt, wonach die Platte
ausreichend mit Wasser gewaschen wurde. Nachdem die
Platte durch 60 s langes Eintauchen in eine 10%ige
wäßrige Lösung aus Natriumhydroxid bei 70°C geätzt
worden war, wurde sie unter fließendem Wasser gewaschen,
mit 20%iger Salpetersäurelösung neutralisiert und
gewaschen und dann mit Wasser gewaschen. Die Oberfläche
der Platte wurde unter den Bedingungen von 12,7 V
Spannung und einer Anodenzeitelektrizität (anode time
electricity) von 160 C/dm² in einer 1%igen wäßrigen
Salpetersäurelösung elektrolytisch aufgerauht. Die
Rauhheit der Oberfläche wurde zu diesem Zeitpunkt
bestimmt und als 0,6 µ (Ra-Einheit) festgestellt.
Anschließend wurde die Platte zum Reinigen (desmutting)
2 min bei 55°C in eine 30% wäßrige Schwefelsäurelösung
eingetaucht und dann bei einer Stromdichte von 2 A/dm²
2 min in einer 20% wäßrigen Schwefelsäurelösung
anodisiert, so daß die Dicke der resultierenden
anodischen Oxidschicht 2,7 g/m² erreichte.
Eine lichtempfindliche Lösung der folgenden
Zusammensetzung wird auf die Oberfläche der so
behandelten Aluminiumplatte in einer Menge von 1,5 g/m²
(nach dem Trocknen gewogen) aufgetragen und wurde dann
bei 80°C 2 min getrocknet, um eine lichtempfindliche
Schicht zu ergeben.
Lichtempfindliche Lösung | |
Trimethylolpropantriacrylat|2,0 g | |
Allylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymer (Molverhältnis der Copolymerisation: 80/20) | 2,0 g |
Initiator (siehe Tabelle I) | X g |
Cu-Phthalocyanin-Pigment | 0,2 g |
fluorhaltiges, nicht-ionisches Tensid (Fluorad FC-430, erhältlich von 3M Corporation) | 0,03 g |
Methylethylketon | 20 g |
Propylenglykolmonomethyletheracetat | 20 g |
Auf die lichtempfindliche Schicht wurde eine 3gew.-%ige
Polyvinylalkohollösung (Verseifungsgrad: 86,5 bis 89
mol-%; Polymerisationsgrad: 1000) in einer Menge von
2 g/m² (nach dem Trocknen gewogen) aufgetragen und dann bei
100°C 3 min getrocknet.
Die Lichtempfindlichkeit der resultierenden
vorsensibilisierten Platten wurde mit einer "Eye Rotary
Exposure Machine" (Eye Graphics Co., Ltd., Lichtquelle:
Metallhalogenidlampe) gemessen. Die Empfindlichkeit wurde
mit Hilfe einer Fuji-PS-Stufenleitvorrichtung (Fuji PS
Step Guide) (erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.:
Stufentafel mit 15 Stufen, deren Anfangsstufe eine
transmissionsoptische Dichte bzw. optische
Transmissionsdichte von 0,05 hatte und deren Unterschied
in der optischen Dichte 0,15 betrug) bestimmt. Die
Empfindlichkeit wurde ausgedrückt als die Zahl klarer
Stufen der PS-Stufenleitvorrichtung, die beobachtet
wurden, wenn jede vorsensitisierte Platte mit einer
Illuminanz belichtet wurde, die an der Oberfläche des
lichtempfindlichen Films 20 s lang 200 lux betrug.
Die Entwicklung dieser belichteten vorsensibilisierten
Platten wurde durch einminütiges Eintauchen bei 25°C in
einer Entwickler der folgenden Zusammensetzung
durchgeführt.
Die Ergebnisse der Empfindlichkeitsmessung, die
beobachtet wurden, wenn die Art und Menge der
Photopolymerisationsinitiatoren verschiedentlich geändert
wurde, sind in der nachfolgenden Tabelle I
zusammengefaßt.
Die in Beispiel 1 angewandte Verfahrensweise wurde
wiederholt, jedoch wurde die Aluminiumplatte 2 min bei
einer Stromdichte von 2 A/dm² in einer 5% wäßrigen
Phosphorsäurelösung anodisiert, so daß die Dicke der
resultierenden anodischen Oxidschicht 0,8 g/m² betrug,
an Stelle der Anodisierung in einer 20% wäßrigen
Schwefelsäurelösung, wie in Beispiel und der
anschließenden 10 s langen Behandlung mit einer 3%
wäßrigen Natriumsilikatlösung bei 70°C, um einen
Aluminiumträger zu erzeugen. Eine Beschichtungslösung der
folgenden Zusammensetzung wurde auf den resultierenden
Aluminiumträger aufgetragen und dann getrocknet, um eine
lichtempfindliche Schicht zu ergeben.
Lichtempfindliche Lösung | ||
Trimethylolpropantrimethacrylat|2,3 g | ||
Benzylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymer (Molverhältnis der Copolymerisation: 65/35) | 3,0 g | |
Initiator (siehe Tabelle II) @ | Oniumverbindung | 0,1 g |
Acridinderivat | 0,1 g | |
Cu-Phthalocyanin-Pigment | 0,2 g | |
fluorhaltiges, nichtionisches Tensid (Fluorad FC-430 erhältlich von 3M Corporation) | 0,03 g | |
Methylethylketon | 20 g | |
Propylenglykolmonomethyletheracetat | 20 g |
Das Gewicht der getrockneten beschichteten,
lichtempfindlichen Schicht betrug 1,5 g/m². Anschließend
wurde, wie in Beispiel 1, eine Sauerstoffsperrschicht aus
Polyvinylalkohol auf die lichtempfindliche Schicht
aufgetragen, die resultierenden, vorsensitisierten
Platten wurden gemäß Beispiel 1 belichtet und durch
1minütiges Eintauchen bei 25°C in einen Entwickler der
folgenden Zusammensetzung, wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho
56-42 860 offenbart, entwickelt.
Entwickler | |
Natriumsulfit|3 g | |
Benzylalkohol | 30 g |
Triethanolamin | 20 g |
Monoethanolamin | 5 g |
Plex NBL (Natrium-t-butylnaphthalinsulfonat; erhältlich von Koa Atlas Co., Ltd.) | 30 g |
Wasser | 1000 g |
Die Ergebnisse der Empfindlichkeitsmessung, die
beobachtet wurden, wenn die Art der Initiatoren
verschiedentlich geändert wurde, sind in der folgenden
Tabelle II zusammengestellt.
Claims (23)
1. Photopolymerisierbare Zusammensetzung, die eine
polymerisierbare Verbindung, die wenigstens eine
ethylenisch ungesättigte Doppelbindung aufweist, und
einen Photopolymerisationsinitiator enthält, worin der
Photopolymerisationsinitiator eine Oniumverbindung
und ein Acridinderivat der folgenden allgemeinen
Formel (I) enthält:
worin R¹ eine unsubstituierte oder substituierte Phenyl-,
Alkyl- oder Alkoxygruppe ist.
2. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1
worin R¹ ausgewählt ist aus einer Gruppe, bestehend
aus einer unsubstituierten Phenylgruppe, einer
Phenylgruppe, die mit einer C₁ bis C₈ Alkylgruppe, einer
C₁ bis C₈ Alkoxygruppe, einem Halogenatom, einer
Cyanogruppe, einer Nitrogruppe, einer Acylgruppe oder
einer Dialkylaminogruppe substituiert ist; einer
unsubstituierten Alkylgruppe, einer Alkylgruppe, die mit
einer C₁ bis C₈ Alkoxygruppe, einem Halogenatom, einer
Cyanogruppe, einer Acylgruppe oder einer
Dialkylaminogruppe substituiert ist; einer
unsubstituierten Alkoxygruppe und einer Alkoxygruppe,
die mit einer C₁ bis C₈ Alkoxygruppe, einer C₁ bis C₈
Halogenalkoxygruppe, einem Halogenatom, einer
Cyanogruppe oder eine Hydroxylgruppe substituiert ist.
3. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 2,
worin das Acridinderivat ausgewählt ist aus der
Gruppe, bestehend aus 9-Phenylacridin,
9-(p-Methylphenyl)acridin, 9-(p-Ethylphenyl)acridin,
9-(p-n-Propylphenyl)acridin,
9-(p-Isopropylphenyl)acridin,
9-(p-n-Butylphenyl)acridin,
9-(p-tert.-Butylphenyl)acridin,
9-(p-Methoxyphenyl)acridin, 9-(p-Ethoxyphenyl)acridin,
9-(p-Acetylphenyl)acridin,
9-(p-Dimethylaminophenyl)acridin,
9-(p-Cyanophenyl)acridin, 9-(p-Chlorphenyl)acridin,
9-(p-Bromphenyl)acridin, 9-(m-Methylphenyl)acridin,
9-(m-Isopropylphenyl)acridin,
9-(m-n-Butylphenyl)acridin,
9-(m-tert.-Butylphenyl)acridin,
9-(m-Methoxyphenyl(acridin, 9-(m-Ethoxyphenyl)acridin,
9-(m-Acetylphenyl)acridin,
9-(m-Dimethylaminophenyl)acridin,
9-(m-Diethylaminophenyl)acridin,
9-(m-Cyanophenyl)acridin,
9-(m-Chlorphenyl)acridin, 9-(m-Bromphenyl)acridin,
9-Methylacridin, 9-Ethylacridin, 9-n-Propylacridin,
9-Isopropylacridin, 9-Cyanoethylacridin,
9-Hydroxyethylacridin, 9-Chlorethylacridin,
9-Methoxyacridin, 9-Ethoxyacridin, 9-n-Propoxyacridin,
9-Isopropoxyacridin und 9-Chlorethoxyacridin.
9-(p-Methylphenyl)acridin, 9-(p-Ethylphenyl)acridin,
9-(p-n-Propylphenyl)acridin,
9-(p-Isopropylphenyl)acridin,
9-(p-n-Butylphenyl)acridin,
9-(p-tert.-Butylphenyl)acridin,
9-(p-Methoxyphenyl)acridin, 9-(p-Ethoxyphenyl)acridin,
9-(p-Acetylphenyl)acridin,
9-(p-Dimethylaminophenyl)acridin,
9-(p-Cyanophenyl)acridin, 9-(p-Chlorphenyl)acridin,
9-(p-Bromphenyl)acridin, 9-(m-Methylphenyl)acridin,
9-(m-Isopropylphenyl)acridin,
9-(m-n-Butylphenyl)acridin,
9-(m-tert.-Butylphenyl)acridin,
9-(m-Methoxyphenyl(acridin, 9-(m-Ethoxyphenyl)acridin,
9-(m-Acetylphenyl)acridin,
9-(m-Dimethylaminophenyl)acridin,
9-(m-Diethylaminophenyl)acridin,
9-(m-Cyanophenyl)acridin,
9-(m-Chlorphenyl)acridin, 9-(m-Bromphenyl)acridin,
9-Methylacridin, 9-Ethylacridin, 9-n-Propylacridin,
9-Isopropylacridin, 9-Cyanoethylacridin,
9-Hydroxyethylacridin, 9-Chlorethylacridin,
9-Methoxyacridin, 9-Ethoxyacridin, 9-n-Propoxyacridin,
9-Isopropoxyacridin und 9-Chlorethoxyacridin.
4. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 3,
worin das Acridinderivat ausgewählt ist aus der
Gruppe, bestehend aus 9-Phenylacridin,
9-(p-Chlorphenyl)acridin, 9-(p-Methylenphenyl)acridin,
9-Methylacridin und 9-Methoxyphenyl)acridin.
5. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1,
worin das Acridinderivat der Formel (I) in einer
Menge vn 0,01 bis 50 Gew.-Teilen pro 100 Gewichtsteilen
der polymerisierbaren Verbindungen verwendet wird.
6. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 5,
worin das Acridinderivat der Formel (I) in einer
Menge von 0,1 bis 20 Gew.-Teilen pro 100 Gewichtsteilen
der polymerisierbaren Verbindungen verwendet wird.
7. Photopolymerisierbare Verbindung nach Anspruch 1,
worin das Gewichtsverhältnis der Oniumverbindungen und
der Acridinderivate der Formel (I) 1 : 100 bis 100 : 1
beträgt.
8. Photopolymerisierbare Verbindung nach Anspruch 1,
worin die Oniumverbindung ausgewählt ist aus der Gruppe,
bestehend aus den Verbindungen der folgenden allgemeinen
Formeln (II) der (III):
worin Ar¹ und Ar² gleich oder verschieden sein können
und jeweils eine substituierte oder unsubstituierte
Arylgruppe bedeuten, wobei die Substituenten der
Arylgruppe ausgewählt sind aus der Gruppe, bestehend aus
Alkyl-, Halogenalkyl-, Cycloalkyl, Aryl-, Alkoxy-,
Nitro-, Carbonyl-, Alkoxycarbonyl-, Hydroxy- und
Mercaptogruppen und Halogenatomen; R⁴, R⁵ und R⁶ gleich
oder verschieden sein können und jeweils eine
substituierte oder unsubstituierte Alkyl- oder
Arylgruppe bedeuten, mit der Maßgabe, daß jeweils zwei
aus R⁴, R⁵ und R⁶ und Ar¹ und Ar² durch eine
Einfachbindung oder über einen Substituenten miteinander
verbunden sein können; und X- ein Anion ist.
9. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 8,
worin R⁴, R⁵ und R⁶ jeweils eine Arylgruppe mit 6 bis
14 Kohlenstoffatomen, eine Alkylgruppe mit 1 bis 8
Kohlenstoffatomen oder deren substituiertes Derivat
bedeuten.
10. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 9,
worin die Substituenten der Arylgruppe ausgewählt
sind aus Alkoxygruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen,
Alkylgruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, einer
Nitrogruppe, einer Carbonylgruppe, einer Hydroxylgruppe
und Halogenatomen und die Substituenten der Alkylgruppe
ausgewählt sind aus Alkoxygruppen mit 1 bis 8
Kohlenstoffatomen, einer Carbonylgruppe und
Alkoxycarbonylgruppen.
11. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 8,
worin Ar¹ und Ar² jeweils eine substituierte
Arylgruppe bedeutet, die mit Substituenten ausgewählt
aus der Gruppe, bestehend aus Alkylgruppen mit 1 bis 8
Kohlenstoffatomen, Alkoxygruppen mit 1 bis 8
Kohlenstoffatomen, einer Nitrogruppe und einem Chloratom
substituiert ist.
12. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 8,
worin das Anion ausgewählt ist aus der Gruppe,
bestehend aus
BF₄-, BCL₄-, ZrCl₅-, SbCL₆-, FeCl₄-, GaCl₄-,
GaBr₄-, AlI₄-, AlCl₄-, SbF₆-, CF₃SO₃-,
PF₆-, BPh₄-,
kondensierten mehrkernigen aromatischen Sulfonatanionen, Anthracensulfonatanionen und eine Sulfonatgruppe enthaltenden Farbstoffe.
BF₄-, BCL₄-, ZrCl₅-, SbCL₆-, FeCl₄-, GaCl₄-,
GaBr₄-, AlI₄-, AlCl₄-, SbF₆-, CF₃SO₃-,
PF₆-, BPh₄-,
kondensierten mehrkernigen aromatischen Sulfonatanionen, Anthracensulfonatanionen und eine Sulfonatgruppe enthaltenden Farbstoffe.
13. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1,
worin die photopolymerisierbare Verbindung, die
mindestens eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung
aufweist, eine Verbindung ist, die unter
Atmosphärendruck einen Siedepunkt von nicht weniger als
100°C hat.
14. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 13,
worin die polymerisierbare Verbindung ein Ester aus
einer ungesättigten Carbonsäure und einem aliphatischen,
mehrere Hydroxylgruppen enthaltenden Alkohol oder ein
Amid aus einer ungesättigten Carbonsäure und einem
aliphatischen, polyvalenten Amin ist.
15. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 14,
worin das Estermonomer aus einer ungesättigten
Carboxylgruppe und einem aliphatischen, mehrere
Hydroxylgruppen enthaltenden Alkohol ausgewählt ist aus
der Gruppe, bestehend aus Acrylaten, Methacrylaten,
Itaconaten, Crotonaten, Isocrotonaten, Maleaten und
Gemischen daraus.
16. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 15,
worin das Estermonomer ausgewählt ist aus der
Gruppe, bestehend aus Ethylenglykoldiacrylat,
Triethylenglykoldiacrylat, 1,3-Butandioldiacrylat,
Tetramethylenglykoldiacrylat, Propylenglykoldiacrylat, Neopentylglykoldiacrylat, Trimethylolpropantriacrylat,
Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether,
Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat,
1,4-Cyclohexandioldiacrylat,
Tetraethylenglykoldiacrylat, Pentaerythritdiacrylat,
Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrittetraacrylat,
Dipentaerythritdiacrylat, Dipentaerythrithexaacrylat,
Sorbittriacrylat, Sorbittetraacrylat,
Sorbitpentaacrylat, Sorbithexaacrylat,
Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat,
Polyesteracrylatoligomeren;
Tetramethylenglykoldimethacrylat,
Triethylenglykoldimethacrylat,
Neopentylglykoldimethacrylat,
Trimethylolpropantrimethacrylat,
Trimethylolethantrimethacrylat,
Ethylenglykoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat,
Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritdimethacrylat,
Pentaerythrittrimethacrylat,
Pentaerythrittetramethacrylat,
Dipentaerythritdimethacrylat,
Dipentaerythrithexamethacrylat, Sorbittrimethacrylat,
Sorbittetramethacrylat,
Bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]- dimethylmethan,
Bis[p-(acryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethan,
Ethylenglykoldiitaconat, Propylenglykoldiitaconat,
Tetramethylenglykoldiitaconat, Pentaerythritdiitaconat,
Sorbittetraitaconat, Ethylenglykoldicrotonat,
Tetramethylenglykoldicrotonat, Pentaerythritdicrotonat,
Sorbittetracrotonat, Ethylenglykoldiisocrotonat,
Pentaerythritdiisocrotonat, Sorbittetraisocrotonat,
Ethylenglykoldimaleat, Triethylenglykoldimaleat,
Pentaerythritdimaleat, Sorbittetramaleat und Gemischen daraus.
Triethylenglykoldiacrylat, 1,3-Butandioldiacrylat,
Tetramethylenglykoldiacrylat, Propylenglykoldiacrylat, Neopentylglykoldiacrylat, Trimethylolpropantriacrylat,
Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether,
Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat,
1,4-Cyclohexandioldiacrylat,
Tetraethylenglykoldiacrylat, Pentaerythritdiacrylat,
Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrittetraacrylat,
Dipentaerythritdiacrylat, Dipentaerythrithexaacrylat,
Sorbittriacrylat, Sorbittetraacrylat,
Sorbitpentaacrylat, Sorbithexaacrylat,
Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat,
Polyesteracrylatoligomeren;
Tetramethylenglykoldimethacrylat,
Triethylenglykoldimethacrylat,
Neopentylglykoldimethacrylat,
Trimethylolpropantrimethacrylat,
Trimethylolethantrimethacrylat,
Ethylenglykoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat,
Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritdimethacrylat,
Pentaerythrittrimethacrylat,
Pentaerythrittetramethacrylat,
Dipentaerythritdimethacrylat,
Dipentaerythrithexamethacrylat, Sorbittrimethacrylat,
Sorbittetramethacrylat,
Bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]- dimethylmethan,
Bis[p-(acryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethan,
Ethylenglykoldiitaconat, Propylenglykoldiitaconat,
Tetramethylenglykoldiitaconat, Pentaerythritdiitaconat,
Sorbittetraitaconat, Ethylenglykoldicrotonat,
Tetramethylenglykoldicrotonat, Pentaerythritdicrotonat,
Sorbittetracrotonat, Ethylenglykoldiisocrotonat,
Pentaerythritdiisocrotonat, Sorbittetraisocrotonat,
Ethylenglykoldimaleat, Triethylenglykoldimaleat,
Pentaerythritdimaleat, Sorbittetramaleat und Gemischen daraus.
17. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 14,
worin das Amidmonomer ausgewählt ist aus der Gruppe,
bestehend aus Methylenbisacrylamid,
Methylenbismethacrylamid, 1,6-Hexamethylenbisacrylamid,
1,6-Hexamethylenbismethacrylamid,
Diethylentriamintrisacrylamid, Xylylenbisacrylamid,
Xylylenbismethacrylamid, Vinylurethanverbindungen mit
mindestens zwei polymerisierbaren Vinylgruppen in einem
Molekül, die erhalten werden durch Zugabe von eine
Hydroxylgruppe aufweisenden Vinylmonomeren mit der
folgenden allgemeinen Formel (A) zu mindestens zwei
Isocyanatgruppen in einem Molekül aufweisenden
Polyisocyanatverbindungen
CH₂ = C(R²)COOCH₂CH(R³)OH (A)worin R² und R³ jeweils H oder CH₃, Urethanacrylate,
Polyesteracrylate und polyfunktionelle (Meth)acrylate
sind.
18. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1,
worin die Menge der polymerisierbaren Verbindungen 5
bis 50 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der
photopolymerisierbaren Zusammensetzung, beträgt.
19. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 18,
worin die Menge der polymerisierbaren Verbindung
10 bis 40%, bezogen auf das Gesamtgewicht der
photopolymerisierbaren Zusammensetzung, beträgt.
20. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1,
die außerdem eine Wasserstoffdonorverbindung in
einer Menge von 1 bis 30%, bezogen auf das Gesamtgewicht
der Zusammensetzung, enthält.
21. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1,
worin das organische Polymerbindemittel ausgewählt
ist aus der Gruppe, bestehend aus linearen, organischen
Polymeren, die in Wasser oder einer leicht alkalischen
wäßrigen Lösung löslich sind oder mit diesen
Flüssigkeiten quellen, und dessen Menge 30 bis 85%
beträgt.
22. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1,
worin außerdem ein Wärmepolymerisationsinhibitor in
einer Menge von etwa 0,01 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das
Gesamtgewicht der Zusammensetzung, enthalten ist.
23. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 22,
worin der Wärmepolymerisationsinhibitor ausgewählt
ist aus der Gruppe, bestehend aus Hydrochinon,
p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-cresol, Pyrogallol,
t-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4′-Thiobis(3-methyl-6-t-
butylphenol), 2,2′-Methylen bis(4-methyl-6,t-
butylphenol), 2-Mercaptobenzimidazol und dem
Cer(III)salz von N-Nitrosophenylhydroxylamin.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2296514A JPH04170546A (ja) | 1990-11-01 | 1990-11-01 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4135996A1 true DE4135996A1 (de) | 1992-05-07 |
Family
ID=17834528
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4135996A Withdrawn DE4135996A1 (de) | 1990-11-01 | 1991-10-31 | Photopolymerisierbare zusammensetzung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5346805A (de) |
JP (1) | JPH04170546A (de) |
DE (1) | DE4135996A1 (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7147983B1 (en) * | 1996-10-07 | 2006-12-12 | Shipley Company, L.L.C. | Dyed photoresists and methods and articles of manufacture comprising same |
KR100457693B1 (ko) * | 1997-05-15 | 2005-01-17 | 주식회사 코오롱 | 해상도 및 텐팅성이 개선된 광경화성 조성물 |
US20030087178A1 (en) * | 2001-04-20 | 2003-05-08 | Adrian Lungu | Photopolymerizable element for use as a flexographic printing plate and a process for preparing the plate from the element |
DE602006008960D1 (de) * | 2005-07-20 | 2009-10-15 | Eastman Kodak Co | Für lithographische druckplatten geeignete photopolymerzusammensetzung |
JP5030638B2 (ja) | 2007-03-29 | 2012-09-19 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP5344034B2 (ja) * | 2009-03-13 | 2013-11-20 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2361041C3 (de) * | 1973-12-07 | 1980-08-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
US4610952A (en) * | 1983-09-14 | 1986-09-09 | General Electric Company | Photoresist compositions and method |
US4708925A (en) * | 1984-12-11 | 1987-11-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin |
DE3537380A1 (de) * | 1985-10-21 | 1987-04-23 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
WO1988007042A1 (en) * | 1987-03-17 | 1988-09-22 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Substituted acridine derivatives and their use |
US4940648A (en) * | 1988-02-12 | 1990-07-10 | Hoechst Celanese Corporation | Increased sensitivity photoinitiation compositions |
JPH01238656A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | Nippon Paint Co Ltd | 高感度光重合性組成物 |
JPH02166451A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-06-27 | Canon Inc | 光重合性樹脂組成物および記録媒体 |
-
1990
- 1990-11-01 JP JP2296514A patent/JPH04170546A/ja active Pending
-
1991
- 1991-10-31 DE DE4135996A patent/DE4135996A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-09-17 US US08/122,187 patent/US5346805A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04170546A (ja) | 1992-06-18 |
US5346805A (en) | 1994-09-13 |
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