DE4135996A1 - Photopolymerisierbare zusammensetzung - Google Patents

Photopolymerisierbare zusammensetzung

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alkoxy
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Syunichi Kondo
Akira Umehara
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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine photopolymerisierbare Zusammensetzung, insbesondere eine photopolymerisierbare Zusammensetzung, die hohe Empfindlichkeit aufweist und bei der Herstellung einer lithographischen Druckplatte, einer Harz-Hochdruckplatte, eines Reservierungsmittels oder einer Photomaske zur Herstellung einer bedruckten Tafel, einer monochromatischen und farbigen Platte zur Übertragung oder Farbentwicklung und einer Farbe entwickelnden Platte verwendet werden kann.
Herkömmlich ist eine Vielzahl von photographischen bilderzeugenden Systemen bekannt, in denen ein aushärtbarer organischer Bestandteil, der eine ethylenisch ungesättigte Gruppe aufweist, zur Erzeugung von Bildern verwendet wird. Der organische Bestandteil kann sich zur Aushärtung einer optisch induzierten Additionsreaktion, normalerweise eine Polymerisations- oder Vernetzungsreaktion, der ethylenisch ungesättigten Gruppen unterziehen, wodurch ein Bild entsteht.
Als andere photographische bilderzeugende Systeme sind Systeme bekannt, die eine Kombination eines Leukofarbstoffs enthalten, der durch eine Oxidationsreaktion oder eine Reaktion mit einer Säure und einem ein Radikal erzeugenden Mittel, welches als Oxidationsmittel oder als Säure wirkt, die Farbe entwickeln kann. Beispiele für solche Systeme sind z. B. in Phot. Sci. Eng., S. 589 (1961) und den US-PS 30 42 515 und 36 15 568 offenbart.
Gegenwärtig ist als eine dieser bilderzeugenden Methoden, bei denen eine lichtempfindliche Zusammensetzung verwendet wird, die einen aushärtbaren organischen Bestandteil, mit einer ethylenisch ungesättigten Gruppe enthält, eine Methode geläufig, bei der Bilder durch eine photographische Technik kopiert werden, wozu eine lichtempfindliche Zusammensetzung verwendet wird, die z. B. eine polymerisierbare, ethylenisch ungesättigte Verbindung, einen Photopolymerisationsinitiator, eine lineare polymerische Verbindung, die einen Film erzeugen kann, und einen Wärmepolymerisationsinhibitor enthält. Wie in der jap. Patentveröffentlichung (nachfolgend "J. P. KOKOKU" genannt) Nr. Sho 35-5093 (=US-PS 29 27 022) und Sho 35-8495 beschrieben ist, bewirkt die lichtempfindliche Zusammensetzung durch Bestrahlung mit aktinischen Lichtstrahlen eine Photopolymerisation und wird demnach unlöslich gemacht. Deshalb kann dadurch ein erwünschtes photopolymerisiertes Bild erhalten werden, daß man eine lichtempfindliche Zusammensetzung in Form eines geeigneten Films anwendet, die lichtempfindliche Schicht mit aktinischen Lichtstrahlen durch einen Negativfilm, der das erwünschte Bild trägt, bestrahlt und dann lediglich die nicht belichteten Flächen mit einem geeigneten Lösungsmittel entfernt (im folgenden einfach "Entwicklung" genannt). Solch eine lichtempfindliche Zusammensetzung ist sehr nützlich als lichtempfindliche Schicht einer vorsensibilisierten Platte zur Verwendung bei der Herstellung einer lithographischen Druckplatte. Typische Beispiele für Photopolymerisationsinitiatoren für dies photopolymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Verbindungen sind unter anderem Benzyl, Benzoin, Benzoinethylether, Anthrachinon, Acridin, Phenazin, Benzophenon und 2-Ethylanthrachinon. Diese Photopolymerisationsinitiatoren reagieren zwar auf ultraviolette Strahlen kurzer Wellenlänge, haben jedoch eine geringe Empfindlichkeit, reagieren außerdem fast nicht auf sichtbare Lichtstrahlen, wie Argonionen-Laserstrahlen langer Wellenlängen und sind somit nicht ausreichend fähig, eine Polymerisation zu initiieren.
Andererseits trat die Entwicklung von lichtempfindlichen Materialien, die auf sichtbares Licht reagieren, in den Vordergrund und es wurde z. B. ein Verbundsystem, das einen photoreduzierbaren Farbstoff und ein aliphatisches Amin enthält, wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 44-20 189 offenbart; ein Verbundsystem, das eine zyklische cis-α- Dicarbonylverbindung und einen Farbstoff enthält, wie in der ungeprüften Veröffentlichung des japanischen Patents Nr. Sho 48-84 183 (im folgenden als "J. P. KOKAI" bezeichnet) offenbart; ein System, das ein Hexaarylbiimidazol, einen Radikalerzeuger und einen Farbstoff enthält, wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 45-37 377 offenbart; ein System, das ein Hexaarylbiimidazol und ein p-Dialkylaminobenzylidenaceton enthält, wie in J. P. KOKAI Nr. Sho 47-2 528 und Sho-54-1 55 292 (=US-PS 41 62 162) offenbart; und ein System, das ein substituiertes Triazin und einen Mercocyaninfarbstoff enthält, wie in J. P. KOKAI Nr. 54-1 51 024 offenbart; vorgeschlagen.
Kürzlich wurde eine Methode zur Erzeugung von Bildern unter Verwendung eines Lasers untersucht, und ein Laserfaksimile etc. wird bereits praktisch verwendet. Aus diesem Grund wird dementsprechend nach der Entwicklung einer lichtempfindlichen Zusammensetzung verlangt, die hohe Empfindlichkeit aufweist und auf diese kürzlich entwickelten Methoden anwendbar ist; aber eine Zusammensetzung, die ausreichende Empfindlichkeit aufweist, wurde noch nicht entwickelt.
Ziel der vorliegenden Erfindung ist dementsprechend die Bereitstellung einer photopolymerisierbaren Zusammensetzung, die hochempfindlich gegenüber Lichtstrahlen, jeder gewünschten Wellenlänge, vom ultravioletten bis zum sichtbaren Bereich ist und die gute Lagerungsstabilität und Wärmestabilität aufweist.
Die Erfinder dieser Erfindung haben verschiedene Studien durchgeführt, um das obengenannte Ziel zu erreichen, und haben als Ergebnis festgestellt, daß ein Kombinationssystem aus einer Oniumverbindung und einem Acridinderivat, das einen Substituenten, wie z. B. eine Phenylgruppe, an der 9-Position aufweist, die Photopolymerisationsrate polymerisierbarer Verbindungen, die eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung aufweisen, erheblich beschleunigen kann und sie haben somit die vorliegende Erfindung abgeschlosssen.
Erfindungsgemäß wird eine photopolymerisierbare Zusammensetzung bereitgestellt, die eine polymerisierbare Verbindung, die wenigstens eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung aufweist, und einen Photopolymerisationsinitiator enthält, worin der Photopolymerisationsinitiator eine Oniumverbindung und ein Acridinderivat der folgenden allgemeinen Formel (I) enthält;
worin R¹ eine unsubstituierte oder substituierte Phenyl-, Alkyl- oder Alkoxygruppe ist.
Diphenyliodoniumverbindungen und Triphenylsulfoniumverbindungen sind als Initiatoren der kationischen Polymerisation bekannt (J. Plymer Sci. Symposium, Nr. 56 (1976), S. 383; und J. Polymer Sci. Polymer Chemistry Edition, 22 (1984), S. 69-76). Außerdem ist es bekannt, diese Verbindungen auch als photoinitiierte Radikalpolymerisationsinitiatoren zu verwenden, wie z. B. in J. P. (KOKAI) Nr. Sho 60-2 58 204, Sho 62-1 50 242 und Hei 2-1 66 451 offenbart. Die Empfindlichkeiten dieser Systeme sind jedoch noch nicht ausreichend und es ist noch höhere Empfindlichkeit erwünscht.
Gestützt auf die Annahme, daß die Fähigkeit von Oniumverbindungen, eine Photopolymerisation zu initiieren, durch die Gegenwart eines Elektronendonors verstärkt werden kann, haben wir verschiedene Verbindungen untersucht, um solche zu finden, die die Initiierung der Photopolymerisation fördern können, und wir stellten fest, daß die Acridinderivate der Formel (I) die Initiierung der Photopolymerisation beträchtlich fördern können.
Deshalb betrifft die vorliegende Erfindung eine negativ-arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, die eine photopolymerisierbare, ethylenisch ungesättigte Verbindung, eine Oniumverbindung und ein Acridinderivat der Formel (I) enthält, und die extrem hohe Empfindlichkeit auf ultraviolette Strahlung, sichtbare Strahlung und Elektronenstrahlung oder Röntgenstrahlung aufweist.
Im folgenden wird die vorliegende Erfindung genauer beschrieben.
Die photopolymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Verbindungen, die in der Erfindung verwendet werden, sind Verbindungen, die mindestens eine ethylenisch ungesättigte, polymerisierbare Doppelbindung aufweisen und unter Atmosphärendruck einen Siedepunkt von nicht weniger als 100°C haben.
Solche Verbindungen liegen chemisch z. B. als Monomere, Präpolymere, d. h. Dimere, Trimere und Oligomere, oder als Gemische oder Copolymere daraus vor. Beispiele für Monomere und Copolymere daraus sind Ester aus ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen, mehrere Hydroxylgruppen enthaltenden Alkoholen und Amide aus ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen, polyvalenten Aminen.
Konkrete Beispiele für Estermonomere aus ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen, mehrere Hydroxylgruppen enthaltenden Alkoholen sind unter anderem Acrylate, wie
Ethylenglykoldiacrylat, Triethylenglykoldiacrylat,
1,3-Butandioldiacrylat, Tetramethylenglykoldiacrylat,
Propylenglykoldiacrylat, Neopentylglykoldiacrylat,
Trimethylolpropantriacrylat,
Trimethylolpropan-tri(acryloyloxypropyl)ether,
Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat, Pentaerythritdiacrylat, Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritdiacrylat,
Dipentaerythrithexaacrylat, Sorbittriacrylat,
Sorbittetraacrylat, Sorbitpentaacrylat,
Sorbithexaacrylat, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat und
Polyesteracrylatoligomere; Methacrylate, wie
Tetramethylenglykoldimethacrylat,
Triethylenglykoldimethacrylat,
Neopentylglykoldimethacrylat,
Trimethylolpropantrimethacrylat,
Trimethylolethantrimethacrylat,
Ethylenglykoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat,
Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritdimethacrylat,
Pentaerythrittrimethacrylat,
Pentaerythrittetramethacrylat,
Dipentaerythritdimethacrylat,
Dipentaerythrithexamethacrylat, Sorbittrimethacrylat,
Sorbittetramethacrylat,
Bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]- dimethylmethan und
Bis[p-(acryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethan;
Itaconate, wie Ethylenglykoldiitaconat,
Propylenglykoldiitaconat, 1,3-Butandioldiitaconat,
1,4-Butandioldiitaconat, Tetramethylenglykoldiitaconat,
Pentaerythritdiitaconat und Sorbittetraitaconat;
Crotonate, wie Ethylenglykoldicrotonat,
Tetramethylenglykoldicrotonat Pentaerythritdicrotonat und
Sorbittetracrotonat; Isocrotonate, wie
Ethylenglykoldiisocrotonat, Pentaerythritdiisocrotonat
und Sorbittetraisocrotonat; Maleate, wie
Ethylenglykoldimaleat, Triethylenglykoldimaleat,
Pentaerythritdimaleat und Sorbittetramaleat; und Gemische daraus.
Konkrete Beispiele für Amidmonomere aus aliphatischen, mehrere Hydroxylgruppen enthaltenden Aminen und ungesättigten Carbonsäuren sind Methylenbisacrylamid, Methylenbismethacrylamid, 1,6-Hexamethylenbisacrylamid, 1,6-Hexamethylenbismethacrylamid, Diethylentriamintrisacrylamid, Xylylenbisacrylamid und Xylylenbismethacrylamid.
Beispiele der vorausgehenden Verbindungen sind weiterhin unter anderem Vinylurethanverbindungen, die mindestens zwei polymerisierbare Vinylgruppen in einem Molekül aufweisen, und durch Addition von eine Hydroxylgruppe aufweisenden Vinylmonomeren der folgenden allgemeinen Formel (A) an Polyisocyanatverbindungen, die mindestens zwei Isocyantgruppen in einem Molekül aufweisen, wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 48-41 708 offenbart, erhalten werden:
CH₂ = C(R²) COO CH₂CH(R³)OH (A)
worin R² und R³ jeweils sowohl H oder CH₃; als auch, wie in J. P. Kokai Nr. Sho 51-37 193 offenbarte Urethanacrylate, wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 49-43 191 und Sho 52 30 490 und J. P. KOKAI Nr. Sho 48-64 183 offenbarte Polyesteracrylate; polyfunktionelle Acrylate und Methacrylate, wie z. B. Epoxyacrylate, die durch Reaktion von Epoxyharzen mit Methacrylsäure erhalten werden; und im Bulletin of Adhesive Society of Japan, 20, Nr. 7 (1984, S. 300-308 als photo-aushärtbare Monomere und Oligomere offenbarte Verbindungen bedeuten. Die zu verwendende Menge dieser Verbindungen beträgt 5 bis 50 Gew.-% (im folgenden einfach als "%" bezeichnet) und insbesondere 10 bis 40%, bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren Zusammensetzung.
Im folgenden werden die in der erfindungsgemäßen Zusammensetzung verwendeten Photopolymerisationsinitiatoren genauer beschrieben.
Die Oniumverbindungen, die in der vorliegenden Verbindung als Photopolymerisationsinitiatoren verwendet werden, sind solche der allgemeinen Formeln (II) und (III):
worin Ar¹ und Ar² gleich oder verschieden sein können und jeweils eine substituierte oder unsubstitierte Arylgruppe bedeuten. Die Substituenten der Arylgruppe sind vorzugsweise ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Alykl-, Halogenalky-, Cycloalkyl-, Aryl- Alkoxy-, Nitro-, Carbonyl-, Alkoxycarbonyl-, Hydroxy- und Mercaptogruppen und Halogenatomen und sind insbesondere ausgewählt aus Alkylgruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Alkoxygruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, einer Nitrogruppe und einem Chloratom.
R⁴, R⁵ und R⁶ können gleich oder verschieden sein und jeweils eine substituierte oder unsubstituierte Alkyl- oder Arylgruppe, und insbesondere eine Arylgruppe mit 6 bis 14 Kohlenstoffatomen, eine Alkylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen oder deren substituiertes Derivat bedeuten.
Bevorzugte Substituenten für die Arylgruppe sind z. B. Alkoxygruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Alkylgruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, eine Nitrogruppe, eine Carbonylgruppe, eine Hydroxygruppe und Halogenatome und Substituenten für die Alkylgruppe sind z. B. Alkoxygruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, eine Carbonylgruppe und Alkoxycarbonylgruppen.
Jeweils zwei aus R⁴, R⁵ und R⁶ und Ar¹ und Ar² können durch eine Einfachbindung oder über einen Substituenten miteinander verbunden sein.
X- ist ein Anion (Gegenion). Konkrete Beispiele sind unter anderem Halogenidanionen,
BF₄-, BCl₄-, ZrCl₅-, SbCl₆-, FeCl₄-,
GaCl₄-, GaBr₄-, AlI₄-, AlCl₄-, SbF₆-,
CF₃SO₃-, PF₆-, BPh₄- (Ph = Phenyl),
kondensierte mehrkernige aromatische Sulfonatanionen, wie Naphthalin-1-sulfonatanion und Anthracen-1-sulfonatanion, Anthrachinonsulfonatanionen, Anthracensulfonatanionen, Sulfonatgruppen enthaltende Farbstoffe und ähnliche, aber X- ist nicht auf diese konkreten Beispiele beschränkt.
Folgende sind konkrete Beispiele der Verbindungen der Formel (II):
Außerdem sind nachfolgend konkrete Beispiele der Verbindungen der allgemeinen Formel (III) aufgeführt:
Die Menge der Oniumverbindung beträgt von 0,01 bis 50 Gew.-Teile, insbesondere 0,1 bis 20 Gew.-Teile pro 100 Gew.-Teile der photopolymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Verbindung.
Die vorhergehenden Verbindungen der allgemeinen Formeln (II) und (III) können hergestellt werden durch Zugabe einer wäßrigen oder alkoholischen Lösung einer aromatischen Sulfonsäure oder deren Natriumsalz zu einer wäßrigen oder alkoholischen Lösung eines Halogenids, Bisulfats oder Perhydrohalogenids einer Oniumverbindung, die z. B. nach den in J. W. Knapczyk et al., J. Am. Chem. Soc., 91 (1969), S. 145; A. L. Maycock et al., J. Org. Chem., 35 (1970), S. 2532; E. Goethals et al., Bull. Soc. Chem. Belg., 73 (1964), S. 546; H. M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., 51 (1929), S. 3587; J. V. Crivello et al., J. Polym. Soc. Polym. Chem. Ed., 18 (1980), S. 2677; US-PS 28 07 648 und 42 47 473; F. M. Beringer et al., J. Am. Chem. Soc., 75 (1953), S. 2705 und J. P. KOKAI Nr. Sho 53-1 01 331 offenbarten Verfahren hergestellt wird, wonach die sich ergebenden Niederschläge durch Filtration gewonnen werden.
Ein anderer Bestandteil des erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Initiators ist das Acridinderivat der Formel (I). Beispiele für den Substituenten der Phenylgruppe von R³ sind u. a. eine C₁ Bis C₈ Alkylgruppe, eine C₁ bis C₈ Alkoxygruppe, ein Halogenatom, eine Cyanogruppe, eine Nitrogruppe, eine Acylgruppe und eine Dialkylaminogruppe, Beispiele für den Substituenten der Alkylgruppe von R³ sind u. a. eine C₁ bis C₈ Alkoxygruppe, ein Halogenatom, eine Cyanogruppe, eine Acylgruppe und eine Dialkylaminogruppe und Beispiele für den Substituenten der Alkoxygruppe von R³ sind u. a. eine C₁ bis C₈ Alkoxygruppe, eine C₁ bis C₈ Halogenalkoxygruppe, ein Halogenatom, eine Cyanogruppe und eine Hydroxylgruppe.
Konkrete Beispiele der Verbindungen der Formel (I) sind u. a.
9-Phenylacridin, 9-(p-Methylphenyl)acridin,
9-(p-Ethylphenyl)acridin, 9-(p-n-Propylphenyl)acridin,
9-(p-Isopropylphenyl)acridin, 9-(p-n-Butylphenyl)acridin,
9-(p-tert-Butylphenyl)acridin,
9-(p-Methoxyphenyl)acridin, 9-(p-Ethoxyphenyl)acridin,
9-(p-Acetylphenyl)acridin,
9-(p-Dimethylaminophenyl)acridin,
9-(p-Cyanophenyl)acridin, 9-(p-Chlorphenyl)acridin,
9-(p-Bromphenyl)acridin, 9-(m-Methylphenyl)acridin,
9-(m-n-Propylphenyl)acridin,
9-(m-Isopropylphenyl)acridin, 9-(m-n-Butylphenyl)acridin,
9-(m-tert-Butylphenyl)acridin,
9-(m-Methoxyphenyl)acridin, 9-(m-Ethoxyphenyl)acridin,
9-(m-Acetylphenyl)acridin,
9-(m-Dimethylaminophenyl)acridin,
9-(m-Diethylaminophenyl)acridin,
9-(m-Cyanophenyl)acridin, 9-(m-Chlorphenyl)acridin,
9-(m-Bromphenyl)acridin, 9-Methylacridin, 9-Ethylacridin,
9-n-Propylacridin, 9-Isopropylacridin,
9-Cyanoethylacridin, 9-Hydroxyethylacridin,
9-Chlorethylacridin, 9-Methoxyacridin, 9-Ethoxycridin,
9-n-Propoxyacridin, 9-Isopropoxyacridin und
9-Chlorethoxyacridin.
Die Acridinderivate der Formel (I) werden in einer Menge von 0,01 bis 50 Gew.-Teilen, insbesondere von 0,1 bis 20 Gew.-Teilen pro 100 Gew.-Teilen der photopolymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Verbindung verwendet.
Das Gewichtsverhältnis der Oniumverbindungen und den Acridinderivaten der Formel (I) in der erfindungsgemäßen Zusammensetzung beträgt 1 : 100 bis 100 : 1.
Zusätzlich kann man, wenn erwünscht, der erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Zusammensetzung eine Wasserstoffdonorverbindung, wie N-Phenylglycin, 2-Mercaptobenzothiazol oder Alkyl-N,N-dialkylbenzoate, zufügen, um die Fähigkeit, die Photopolymerisation der Zusammensetzung zu initiieren, weiter zu verbessern. Solch eine Wasserstoffdonorverbindung wird der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung vorzugsweise in einer Menge von 1 bis 30%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, zugefügt.
Die erfindungsgemäße Zusammensetzung kann weiterhin Polymerbindemittel enthalten, die lineare organische Polymere sind und willkürlich aus der Gruppe, bestehend aus mit den photopolymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Verbindungen verträglichen Polymeren, ausgewählt werden. Vorzugsweise werden Bindemittel aus linearen organischen Polymeren ausgewählt, die in Wasser oder einer leicht alkalischen wäßrigen Lösung löslich sind oder mit diesen Flüssigkeiten quellen, so daß die resultierende lichtempfindliche Schicht mit Wasser oder einer leicht alkalischen wäßrigen Lösung entwickelt werden kann.
Es wurde vorausgehend diskutiert, daß das lineare organische Polymer nicht nur als filmerzeugendes Mittel der Zusammensetzung dient, sondern auch dazu dient, der resultierenden lichtempfindlichen Schicht die Fähigkeit zu verleihen, daß sie mit Wasser, einer leicht alkalischen wäßrigen Lösung oder einem organischen Lösungsmittel entwickelt werden kann. Zum Beispiel kann die resultierende Schicht mit Wasser entwickelt werden, wenn als Bindemittel ein wasserlösliches organisches Polymer verwendet wird. Beispiele für solche wasserlöslichen, linearen organischen Polymere sind die in J. P. KOKAI Nr. Sho 59-44 615, Sho 54-92 723, Sho 59-53 836 (= US-PS 46 87 727) und Sho 59-71 048 (= US-PS 45 37 855) und J. P. KOKOKU Nr. Sho 54-34 327 (= US-PS 38 04 631), Sho 58-12 577 (= US-PS 39 30 865) und Sho 54-25 957 (= US-PS 42 39 849) offenbarten Additionspolymere, die an ihren Seitenketten Carboxylgruppen aufweisen und Methacrylsäurecopolymere, Acrylsäurecopolymere, Itaconsäurecopolymere, Crotonsäurecopolymere, Maleinsäurecopolymere und teilweise veresterte Maleinsäurecopolymere umfassen. Beispiele solcher Polymere umfassen weiterhin saure Zellulosederivate, an ihren Seitenketten Carboxylgruppen aufweisen, und Verbindungen, die durch Zugabe eines zyklischen Säureanhydrids zu einem Hydroxylgruppen aufweisenden Additionpolymeren erhalten werden. Besonders bevorzugte Beispiele dieser Verbindungen sind Copolymere aus Benzyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure/wahlweise anderen additionspolymerisierbaren Vinylmonomeren und Allyl(meth)acrylat/(Meth)acrylsäure/wahlweise anderen additionspolymerisierbaren Vinylmonomeren.
Zusätzlich zu den vorhergehenden Polymeren sind als wasserlösliches Polymer auch Polyvinylpyrrolidon und Polyethylenoxide bevorzugt. Weiterhin sind auch ein alkoholisches Nylon und/oder ein Polyether aus 2,2-Bis(4-hydroxyphenyl)propan und Epichlorhydrin anwendbar, um die Stärke des ausgehärteten Films zu erhöhen. Diese linearen organischen Polymere können in beliebiger Menge in der Zusammensetzung enthalten sein. Übersteigt sie jedoch 90%, haben die resultierenden Bilder keine zufriedenstellende Stärke. Aus diesem Grund beträgt ihre Menge vorzugsweise 30 bis 85%. Darüberhinaus beträgt das Gewichtsverhältnis der polymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Verbindung und dem linearen organischen Polymer vorzugsweise 1/9 bis 7/3 und insbesondere 3/7 bis 5/5.
Zusätzlich zu den vorausgehenden Bestandteilen kann die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung gewünschtenfalls eine kleine Menge eines Wärmepolymerisationsinhibitors enthalten, um die unerwünschte Wärmepolymerisation der polymerisierbaren, ethylenisch ungesättigten Verbindung während der Herstellung der Zusammensetzung oder deren Lagerung zu verhindern. Beispiele geeigneter Wärmepolymerisationsinhibitoren sind Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-cresol, Pyrogallol, t-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4′-Thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2′-Methylenbis(4-methyl-6-t-butylphenol), 2-Mercaptobenzimidazol und das Cer(III)salz von N-Nitrosophenylhydroxylamin. Die Menge des Wärmepolymerisationsinhibitors beträgt vorzugsweise etwa 0,01% bis etwa 5%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung. Die Zusammensetzung kann wahlweise weiterhin eine höhere Fettsäure oder deren Derivat, wie z. B. Behensäure oder ein Behensäureamid enthalten, damit sich die Verbindung auf der Oberfläche der resultierenden lichtempflindlichen Schicht ausbreitet, um so den polymerisationsinhibierenden Effekt von Sauerstoff zu verhindern. Die Menge der höheren Fettsäuren oder ihres Derivats beträgt vorzugsweise etwa 0,5% bis etwa 10%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung.
Die photopolymerisierbare Zusammensetzung kann weiterhin einen Farbstoff oder ein Pigment zur Einfärbung der resultierenden lichtempfindlichen Schicht enthalten. Die Menge des beizumischenden Farbstoffs oder Pigments beträgt vorzugsweise etwa 0,1% bis etwa 5%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Die Zusammensetzung kann darüberhinaus einen anorganischen Füllstoff und/oder anderen bekannte Zusätze zur Verbesserung der physikalischen Eigenschaften des resultierenden ausgehärteten Films enthalten.
Die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Zusammensetzung wird in einer Vielzahl von organischen Lösungsmitteln gelöst und dann auf die Oberfläche eines Trägers (Substrats) aufgetragen um eine lichtempfindliche Schicht zu erzeugen. Beispiele der hierbei verwendeten Lösungsmittel umfassen Aceton, Methylethylketon, Cyclohexan, Ethylacetat, Ethylendichlorid, Tetrahydrofuran, Toluol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, Ethylenglykoldimethylether, Propylenglykolmonomethylether, Propylenglykolmonoethylether, Acetylaceton, Cyclohexanon, Diacetonalkohol, Ethylenglykolmonomethyletheracetat, Ethylenglykolmonoethyletheracetat, Ethylenglykolmonoisopropylether, Ethylenglykolmonobutyletheracetat, 3-Methoxypropanol, Methoxyethanol, Diethylenglykolmonomethylether, Diethylenglykolmonoethylether, Diethylenglykoldimethylether, Diethylenglykoldiethylether, Propylenglykolmonomethyletheracetat, Propylenglykolmonoethyletheracetat, 3-Methoxypropylacetat, N,N-Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, γ-Butyrolacton, Methyllactat und Ethyllactat. Diese Lösungsmittel können allein oder in Kombination verwendet werden. Die Konzentration der Beschichtungslösung beträgt geeigneterweise 2 bis 50%, bezogen auf ihren Feststoffanteil.
Die Beschichtungsmenge der photopolymerisierbaren Zusammensetzung, die auf die Oberfläche des Trägers aufgebracht wird, beträgt vorzugsweise etwa 0,1 g/m² bis etwa 10 g/m² (nach dem Trocknen gewogen) und insbesondere 0,5 bis 5 g/m².
Der vorhergenannte Träger kann ein plattenähnliches Material sein, das gute Dimensionsstabilität aufweist. Beispiele eines solchen dimensionsstabilen, plattenähnlichen Materials sind Papier, mit einem Plastikfilm, wie z. B. einem Film aus Polyethylen, Polypropylen oder Polystyrol beschichtetes Papier, Metallplatten, wie eine Aluminium- (einschließlich einer Aluminiumlegierungs-)platte, eine Zinkplatte und eine Stahlplatte, Kunststoffilme, wie Cellulosediacetat-, Cellulosetriacetat-, Cellulosepropionat-, Cellulosebutyrat-, Celluloseacetatbutyrat-, Cellulosenitrat-, Polyethylenterephthalat-, Polyethylen-, Polystyrol-, Polypropylen-, Polycarbonat- und Polyvinylacetalfilme und mit einer Folie aus den vorhergehenden Metallen oder mit einer Schicht der vorhergehenden Metalle beschichtetes Papier oder Kunststoffilme. Von diesen Trägern werden insbesondere Aluminiumplatten wegen ihrer Dimensionsstabilität und ihres geringen Preises bevorzugt. Bevorzugte Träger sind weiterhin u. a. z. B. wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 48-18 327 offenbarte Verbundplatten, wie solche, die einen Polyethylenterephthalatfilm und eine daran gebundene Aluminiumplatte enthalten.
Der eine Oberfläche aus Metall, insbesondere eine Aluminiumoberfläche aufweisende Träger, wird vorzugsweise Oberflächenbehandlungen, wie Körnen, Tauchen in eine wäßrige Lösung aus Natriumsilikat, Kaliumfluorozirconat, Phosphat oder ähnliche und/oder Anodisierung ausgesetzt.
Vorzugsweise werden Aluminiumplatten verwendet, die nach dem Körnen in eine wäßrige Lösung aus Natriumsilicat eingetaucht werden. Zur Verwendung eignen sich Aluminiumträger, die anodisiert werden und dann in eine wäßrige Lösung aus einem Alkalimetallsilicat, wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 47-5 125 offenbart, eingetaucht werden. Die vorhergehende Anodisierungsbehandlung kann durchgeführt werden, indem man elektrischen Strom durch eine Aluminiumplatte leitet, die in einem Elektrolyten, der ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus wäßrigen und nicht-wäßrigen Lösungen anorganischer Säuren, wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure oder Borsäure, oder organischer Säuren, wie Oxalsäure oder Sulfaminsäure, oder einem Gemisch daraus als Anode dient.
Eine Silikat-Galvanotechnik (silicate-electrodeposition), wie in US-PS 36 58 662 offenbart, kann auch wirksam als die vorhergehende Oberflächenbehandlung verwendet werden.
Weiterhin sind als Oberflächenbehandlungen unter anderem z. B., wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 46-27 481 und J. P. KOKAI Nr. Sho 52-58 602 und Sho 52-30 503 offenbart, eine Kombination aus elektrolytischem Körnen, der vorhergehenden Anodisierung und der Behandlung mit Natriumsilikat.
Es kann weiterhin geeignet sein, die Aluminiumplatte einem mechanischen Körnen, einem chemischen Ätzen, einem elektrolytischen Körnen, einer Anodisierungsbehandlung und einer Silikatbehandlung in dieser Reihenfolge, wie in J. P. KOKAI Nr. Sho 56-28 893 offenbart, auszusetzen.
Nach diesen Oberflächenbehandlungen kann eine Grundbeschichtung auf den Träger aufgetragen werden. Solch eine Grundbeschichtung kann aus einem wasserlöslichen Harz, wie Polyvinylphosphonsäure, einem Polymer oder Copolymer, welches an den Seitenketten Sulfonatgruppen aufweist, Polyacrylsäure, einem wasserlöslichen Metallsalz, wie einem Zinkborat, einem gelben Farbstoff oder einem Aminsalz, erhalten werden.
Diese Hydrophilierungsbehandlungen werden nicht nur durchgeführt, um die Oberfläche des Trägers hydrophil zu machen, sondern auch, um schädliche Reaktionen mit der photopolymerisierbaren Zusammensetzung, die nachfolgend hierauf aufgebracht wird, zu verhindern, und um die Adhäsion an die lichtempfindliche Schicht zu verstärken.
Auf die auf den Träger aufgebrachte photopolymerisierbare Zusammensetzung kann eine Schutzschicht aufgebracht werden, um den polymerisationsinhibierenden Effekt von Sauerstoff an Luft zu eliminieren. Die Schutzschicht kann aus einem Polymer erzeugt werden, das ausgezeichnete Sperreigenschaften gegenüber Sauerstoff aufweist, wie Polyvinylalkohol, insbesondere solche, die mindestens zu 99% verseift sind, und saure Cellulosen. Das Verfahren zur Aufbringung solcher Schutzschichten ist genau, z. B. in US-PS 34 58 311 und J. P. KOKOKU Nr. Sho 55-49 729, beschrieben.
Die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Zusammensetzung findet vielfältig Verwendung. Zum Beispiel kann sich die Zusammensetzung einer gewöhnlichen Photopolymerisationsreaktion unterziehen und kann als Photoreservierungsmittel (photoresist) bei der Herstellung lithographischer Druckplatten und bedruckter Tafeln verwendet werden.
Das die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Zusammensetzung enthaltende lichtempfindliche Material wird bildweise belichtet und anschließend werden die nicht-belichteten Flächen durch Behandlung mit einem Entwickler entfernt, um Bilder zu erzeugen. Beispiele bevorzugter Entwickler, die verwendet werden, wenn die photopolymerisierbare Zusammensetzung angewandt wird, um eine lichtempfindliche Schicht auf einer lithographischen Druckplatte zu erzeugen, sind diejenigen, die in J. P. KOKOKU Nr. Sho 57-7 427 beschrieben sind und konkrete, bevorzugt verwendete Beispiele davon, sind u. a. wäßrige Lösungen aus anorganischen, alkalischen Mitteln, wie Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriummetasilikat, Natriumbicarbonat oder wäßriges Ammoniak, oder aus organischen, alkalischen Mittel, wie Monoethanolamin oder Diethanolamin. Die Konzentration der alkalischen Lösung beträgt 0,1 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 0,5 bis 5 Gew.-%.
Die alkalische wäßrige Lösung kann wahlweise kleine Mengen von Tensiden und/oder ein organisches Lösungsmittel, wie Benzylalkohol, 2-Phenoxyethanol oder 2-Butoxyethanol. Beispiele solcher Entwickler sind, z. B. in den US-PS 33 75 171 und 36 15 480, offenbart. Bevorzugte Entwickler sind auch in J. P. KOKAI Nr. Sho 50-26 601 und Sho 58-54 341 und J. p. KOKOKU Nr. Sho 56-39 464 und Sho 56-42 860 offenbart.
Die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Zusammensetzung weist über einen weiten Wellenlängenbereich, der von ultravioletten bis zu sichtbaren Bereichen reicht, hohe Empfindlichkeit auf aktinischer Strahlung auf. Deshalb können als in dem Belichtungsverfahren verwendbare Lichtquellen z. B. folgende genannt werden: Superhochdruck-, Hochdruck-, Mitteldruck- und Niederdruckquecksilberlampen, chemische Lampen, Kohlenstoff-Lichtbogenlampen, Xenonlampen, Metallhalogenidlampen, verschiedene Laserlampen, die Lichtstrahlen im sichtbaren und ultravioletten Bereich ausstrahlen, fluoreszierende Röhren, Wolframlampen und Solarstrahlen.
Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die folgenden nicht-beschränkenden Ausführungsbeispiele genauer beschrieben und der durch die Erfindung praktisch erzielte Effekt wird auch genauer im Vergleich mit Vergleichsbeispielen diskutiert.
Beispiele 1 bis 14 und Vergleichsbeispiele 1 bis 5
Die Oberfläche einer Aluminiumplatte von 0,30 mm Dicke wurde mit einer wäßrigen Bimssteinsuspension (400 mesh) und einer Nylonbürste gekörnt, wonach die Platte ausreichend mit Wasser gewaschen wurde. Nachdem die Platte durch 60 s langes Eintauchen in eine 10%ige wäßrige Lösung aus Natriumhydroxid bei 70°C geätzt worden war, wurde sie unter fließendem Wasser gewaschen, mit 20%iger Salpetersäurelösung neutralisiert und gewaschen und dann mit Wasser gewaschen. Die Oberfläche der Platte wurde unter den Bedingungen von 12,7 V Spannung und einer Anodenzeitelektrizität (anode time electricity) von 160 C/dm² in einer 1%igen wäßrigen Salpetersäurelösung elektrolytisch aufgerauht. Die Rauhheit der Oberfläche wurde zu diesem Zeitpunkt bestimmt und als 0,6 µ (Ra-Einheit) festgestellt.
Anschließend wurde die Platte zum Reinigen (desmutting) 2 min bei 55°C in eine 30% wäßrige Schwefelsäurelösung eingetaucht und dann bei einer Stromdichte von 2 A/dm² 2 min in einer 20% wäßrigen Schwefelsäurelösung anodisiert, so daß die Dicke der resultierenden anodischen Oxidschicht 2,7 g/m² erreichte.
Eine lichtempfindliche Lösung der folgenden Zusammensetzung wird auf die Oberfläche der so behandelten Aluminiumplatte in einer Menge von 1,5 g/m² (nach dem Trocknen gewogen) aufgetragen und wurde dann bei 80°C 2 min getrocknet, um eine lichtempfindliche Schicht zu ergeben.
Lichtempfindliche Lösung
Trimethylolpropantriacrylat|2,0 g
Allylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymer (Molverhältnis der Copolymerisation: 80/20) 2,0 g
Initiator (siehe Tabelle I) X g
Cu-Phthalocyanin-Pigment 0,2 g
fluorhaltiges, nicht-ionisches Tensid (Fluorad FC-430, erhältlich von 3M Corporation) 0,03 g
Methylethylketon 20 g
Propylenglykolmonomethyletheracetat 20 g
Auf die lichtempfindliche Schicht wurde eine 3gew.-%ige Polyvinylalkohollösung (Verseifungsgrad: 86,5 bis 89 mol-%; Polymerisationsgrad: 1000) in einer Menge von 2 g/m² (nach dem Trocknen gewogen) aufgetragen und dann bei 100°C 3 min getrocknet.
Die Lichtempfindlichkeit der resultierenden vorsensibilisierten Platten wurde mit einer "Eye Rotary Exposure Machine" (Eye Graphics Co., Ltd., Lichtquelle: Metallhalogenidlampe) gemessen. Die Empfindlichkeit wurde mit Hilfe einer Fuji-PS-Stufenleitvorrichtung (Fuji PS Step Guide) (erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.: Stufentafel mit 15 Stufen, deren Anfangsstufe eine transmissionsoptische Dichte bzw. optische Transmissionsdichte von 0,05 hatte und deren Unterschied in der optischen Dichte 0,15 betrug) bestimmt. Die Empfindlichkeit wurde ausgedrückt als die Zahl klarer Stufen der PS-Stufenleitvorrichtung, die beobachtet wurden, wenn jede vorsensitisierte Platte mit einer Illuminanz belichtet wurde, die an der Oberfläche des lichtempfindlichen Films 20 s lang 200 lux betrug.
Die Entwicklung dieser belichteten vorsensibilisierten Platten wurde durch einminütiges Eintauchen bei 25°C in einer Entwickler der folgenden Zusammensetzung durchgeführt.
Entwickler
Die Ergebnisse der Empfindlichkeitsmessung, die beobachtet wurden, wenn die Art und Menge der Photopolymerisationsinitiatoren verschiedentlich geändert wurde, sind in der nachfolgenden Tabelle I zusammengefaßt.
Tabelle I
Beispiele 15 bis 18 und Vergleichsbeispiele 6 und 7
Die in Beispiel 1 angewandte Verfahrensweise wurde wiederholt, jedoch wurde die Aluminiumplatte 2 min bei einer Stromdichte von 2 A/dm² in einer 5% wäßrigen Phosphorsäurelösung anodisiert, so daß die Dicke der resultierenden anodischen Oxidschicht 0,8 g/m² betrug, an Stelle der Anodisierung in einer 20% wäßrigen Schwefelsäurelösung, wie in Beispiel und der anschließenden 10 s langen Behandlung mit einer 3% wäßrigen Natriumsilikatlösung bei 70°C, um einen Aluminiumträger zu erzeugen. Eine Beschichtungslösung der folgenden Zusammensetzung wurde auf den resultierenden Aluminiumträger aufgetragen und dann getrocknet, um eine lichtempfindliche Schicht zu ergeben.
Lichtempfindliche Lösung
Trimethylolpropantrimethacrylat|2,3 g
Benzylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymer (Molverhältnis der Copolymerisation: 65/35) 3,0 g
Initiator (siehe Tabelle II) @ Oniumverbindung 0,1 g
Acridinderivat 0,1 g
Cu-Phthalocyanin-Pigment 0,2 g
fluorhaltiges, nichtionisches Tensid (Fluorad FC-430 erhältlich von 3M Corporation) 0,03 g
Methylethylketon 20 g
Propylenglykolmonomethyletheracetat 20 g
Das Gewicht der getrockneten beschichteten, lichtempfindlichen Schicht betrug 1,5 g/m². Anschließend wurde, wie in Beispiel 1, eine Sauerstoffsperrschicht aus Polyvinylalkohol auf die lichtempfindliche Schicht aufgetragen, die resultierenden, vorsensitisierten Platten wurden gemäß Beispiel 1 belichtet und durch 1minütiges Eintauchen bei 25°C in einen Entwickler der folgenden Zusammensetzung, wie in J. P. KOKOKU Nr. Sho 56-42 860 offenbart, entwickelt.
Entwickler
Natriumsulfit|3 g
Benzylalkohol 30 g
Triethanolamin 20 g
Monoethanolamin 5 g
Plex NBL (Natrium-t-butylnaphthalinsulfonat; erhältlich von Koa Atlas Co., Ltd.) 30 g
Wasser 1000 g
Die Ergebnisse der Empfindlichkeitsmessung, die beobachtet wurden, wenn die Art der Initiatoren verschiedentlich geändert wurde, sind in der folgenden Tabelle II zusammengestellt.
Tabelle II

Claims (23)

1. Photopolymerisierbare Zusammensetzung, die eine polymerisierbare Verbindung, die wenigstens eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung aufweist, und einen Photopolymerisationsinitiator enthält, worin der Photopolymerisationsinitiator eine Oniumverbindung und ein Acridinderivat der folgenden allgemeinen Formel (I) enthält: worin R¹ eine unsubstituierte oder substituierte Phenyl-, Alkyl- oder Alkoxygruppe ist.
2. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1 worin R¹ ausgewählt ist aus einer Gruppe, bestehend aus einer unsubstituierten Phenylgruppe, einer Phenylgruppe, die mit einer C₁ bis C₈ Alkylgruppe, einer C₁ bis C₈ Alkoxygruppe, einem Halogenatom, einer Cyanogruppe, einer Nitrogruppe, einer Acylgruppe oder einer Dialkylaminogruppe substituiert ist; einer unsubstituierten Alkylgruppe, einer Alkylgruppe, die mit einer C₁ bis C₈ Alkoxygruppe, einem Halogenatom, einer Cyanogruppe, einer Acylgruppe oder einer Dialkylaminogruppe substituiert ist; einer unsubstituierten Alkoxygruppe und einer Alkoxygruppe, die mit einer C₁ bis C₈ Alkoxygruppe, einer C₁ bis C₈ Halogenalkoxygruppe, einem Halogenatom, einer Cyanogruppe oder eine Hydroxylgruppe substituiert ist.
3. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 2, worin das Acridinderivat ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus 9-Phenylacridin,
9-(p-Methylphenyl)acridin, 9-(p-Ethylphenyl)acridin,
9-(p-n-Propylphenyl)acridin,
9-(p-Isopropylphenyl)acridin,
9-(p-n-Butylphenyl)acridin,
9-(p-tert.-Butylphenyl)acridin,
9-(p-Methoxyphenyl)acridin, 9-(p-Ethoxyphenyl)acridin,
9-(p-Acetylphenyl)acridin,
9-(p-Dimethylaminophenyl)acridin,
9-(p-Cyanophenyl)acridin, 9-(p-Chlorphenyl)acridin,
9-(p-Bromphenyl)acridin, 9-(m-Methylphenyl)acridin,
9-(m-Isopropylphenyl)acridin,
9-(m-n-Butylphenyl)acridin,
9-(m-tert.-Butylphenyl)acridin,
9-(m-Methoxyphenyl(acridin, 9-(m-Ethoxyphenyl)acridin,
9-(m-Acetylphenyl)acridin,
9-(m-Dimethylaminophenyl)acridin,
9-(m-Diethylaminophenyl)acridin,
9-(m-Cyanophenyl)acridin,
9-(m-Chlorphenyl)acridin, 9-(m-Bromphenyl)acridin,
9-Methylacridin, 9-Ethylacridin, 9-n-Propylacridin,
9-Isopropylacridin, 9-Cyanoethylacridin,
9-Hydroxyethylacridin, 9-Chlorethylacridin,
9-Methoxyacridin, 9-Ethoxyacridin, 9-n-Propoxyacridin,
9-Isopropoxyacridin und 9-Chlorethoxyacridin.
4. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 3, worin das Acridinderivat ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus 9-Phenylacridin, 9-(p-Chlorphenyl)acridin, 9-(p-Methylenphenyl)acridin, 9-Methylacridin und 9-Methoxyphenyl)acridin.
5. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin das Acridinderivat der Formel (I) in einer Menge vn 0,01 bis 50 Gew.-Teilen pro 100 Gewichtsteilen der polymerisierbaren Verbindungen verwendet wird.
6. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 5, worin das Acridinderivat der Formel (I) in einer Menge von 0,1 bis 20 Gew.-Teilen pro 100 Gewichtsteilen der polymerisierbaren Verbindungen verwendet wird.
7. Photopolymerisierbare Verbindung nach Anspruch 1, worin das Gewichtsverhältnis der Oniumverbindungen und der Acridinderivate der Formel (I) 1 : 100 bis 100 : 1 beträgt.
8. Photopolymerisierbare Verbindung nach Anspruch 1, worin die Oniumverbindung ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus den Verbindungen der folgenden allgemeinen Formeln (II) der (III): worin Ar¹ und Ar² gleich oder verschieden sein können und jeweils eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe bedeuten, wobei die Substituenten der Arylgruppe ausgewählt sind aus der Gruppe, bestehend aus Alkyl-, Halogenalkyl-, Cycloalkyl, Aryl-, Alkoxy-, Nitro-, Carbonyl-, Alkoxycarbonyl-, Hydroxy- und Mercaptogruppen und Halogenatomen; R⁴, R⁵ und R⁶ gleich oder verschieden sein können und jeweils eine substituierte oder unsubstituierte Alkyl- oder Arylgruppe bedeuten, mit der Maßgabe, daß jeweils zwei aus R⁴, R⁵ und R⁶ und Ar¹ und Ar² durch eine Einfachbindung oder über einen Substituenten miteinander verbunden sein können; und X- ein Anion ist.
9. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 8, worin R⁴, R⁵ und R⁶ jeweils eine Arylgruppe mit 6 bis 14 Kohlenstoffatomen, eine Alkylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen oder deren substituiertes Derivat bedeuten.
10. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 9, worin die Substituenten der Arylgruppe ausgewählt sind aus Alkoxygruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Alkylgruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, einer Nitrogruppe, einer Carbonylgruppe, einer Hydroxylgruppe und Halogenatomen und die Substituenten der Alkylgruppe ausgewählt sind aus Alkoxygruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, einer Carbonylgruppe und Alkoxycarbonylgruppen.
11. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 8, worin Ar¹ und Ar² jeweils eine substituierte Arylgruppe bedeutet, die mit Substituenten ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Alkylgruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Alkoxygruppen mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, einer Nitrogruppe und einem Chloratom substituiert ist.
12. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 8, worin das Anion ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus
BF₄-, BCL₄-, ZrCl₅-, SbCL₆-, FeCl₄-, GaCl₄-,
GaBr₄-, AlI₄-, AlCl₄-, SbF₆-, CF₃SO₃-,
PF₆-, BPh₄-,
kondensierten mehrkernigen aromatischen Sulfonatanionen, Anthracensulfonatanionen und eine Sulfonatgruppe enthaltenden Farbstoffe.
13. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin die photopolymerisierbare Verbindung, die mindestens eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung aufweist, eine Verbindung ist, die unter Atmosphärendruck einen Siedepunkt von nicht weniger als 100°C hat.
14. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 13, worin die polymerisierbare Verbindung ein Ester aus einer ungesättigten Carbonsäure und einem aliphatischen, mehrere Hydroxylgruppen enthaltenden Alkohol oder ein Amid aus einer ungesättigten Carbonsäure und einem aliphatischen, polyvalenten Amin ist.
15. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 14, worin das Estermonomer aus einer ungesättigten Carboxylgruppe und einem aliphatischen, mehrere Hydroxylgruppen enthaltenden Alkohol ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Acrylaten, Methacrylaten, Itaconaten, Crotonaten, Isocrotonaten, Maleaten und Gemischen daraus.
16. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 15, worin das Estermonomer ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Ethylenglykoldiacrylat,
Triethylenglykoldiacrylat, 1,3-Butandioldiacrylat,
Tetramethylenglykoldiacrylat, Propylenglykoldiacrylat, Neopentylglykoldiacrylat, Trimethylolpropantriacrylat,
Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether,
Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat,
1,4-Cyclohexandioldiacrylat,
Tetraethylenglykoldiacrylat, Pentaerythritdiacrylat,
Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrittetraacrylat,
Dipentaerythritdiacrylat, Dipentaerythrithexaacrylat,
Sorbittriacrylat, Sorbittetraacrylat,
Sorbitpentaacrylat, Sorbithexaacrylat,
Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat,
Polyesteracrylatoligomeren;
Tetramethylenglykoldimethacrylat,
Triethylenglykoldimethacrylat,
Neopentylglykoldimethacrylat,
Trimethylolpropantrimethacrylat,
Trimethylolethantrimethacrylat,
Ethylenglykoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat,
Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritdimethacrylat,
Pentaerythrittrimethacrylat,
Pentaerythrittetramethacrylat,
Dipentaerythritdimethacrylat,
Dipentaerythrithexamethacrylat, Sorbittrimethacrylat,
Sorbittetramethacrylat,
Bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]- dimethylmethan,
Bis[p-(acryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethan,
Ethylenglykoldiitaconat, Propylenglykoldiitaconat,
Tetramethylenglykoldiitaconat, Pentaerythritdiitaconat,
Sorbittetraitaconat, Ethylenglykoldicrotonat,
Tetramethylenglykoldicrotonat, Pentaerythritdicrotonat,
Sorbittetracrotonat, Ethylenglykoldiisocrotonat,
Pentaerythritdiisocrotonat, Sorbittetraisocrotonat,
Ethylenglykoldimaleat, Triethylenglykoldimaleat,
Pentaerythritdimaleat, Sorbittetramaleat und Gemischen daraus.
17. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 14, worin das Amidmonomer ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Methylenbisacrylamid, Methylenbismethacrylamid, 1,6-Hexamethylenbisacrylamid, 1,6-Hexamethylenbismethacrylamid, Diethylentriamintrisacrylamid, Xylylenbisacrylamid, Xylylenbismethacrylamid, Vinylurethanverbindungen mit mindestens zwei polymerisierbaren Vinylgruppen in einem Molekül, die erhalten werden durch Zugabe von eine Hydroxylgruppe aufweisenden Vinylmonomeren mit der folgenden allgemeinen Formel (A) zu mindestens zwei Isocyanatgruppen in einem Molekül aufweisenden Polyisocyanatverbindungen CH₂ = C(R²)COOCH₂CH(R³)OH (A)worin R² und R³ jeweils H oder CH₃, Urethanacrylate, Polyesteracrylate und polyfunktionelle (Meth)acrylate sind.
18. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin die Menge der polymerisierbaren Verbindungen 5 bis 50 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren Zusammensetzung, beträgt.
19. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 18, worin die Menge der polymerisierbaren Verbindung 10 bis 40%, bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren Zusammensetzung, beträgt.
20. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1, die außerdem eine Wasserstoffdonorverbindung in einer Menge von 1 bis 30%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, enthält.
21. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin das organische Polymerbindemittel ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus linearen, organischen Polymeren, die in Wasser oder einer leicht alkalischen wäßrigen Lösung löslich sind oder mit diesen Flüssigkeiten quellen, und dessen Menge 30 bis 85% beträgt.
22. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 1, worin außerdem ein Wärmepolymerisationsinhibitor in einer Menge von etwa 0,01 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, enthalten ist.
23. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 22, worin der Wärmepolymerisationsinhibitor ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-cresol, Pyrogallol, t-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4′-Thiobis(3-methyl-6-t- butylphenol), 2,2′-Methylen bis(4-methyl-6,t- butylphenol), 2-Mercaptobenzimidazol und dem Cer(III)salz von N-Nitrosophenylhydroxylamin.
DE4135996A 1990-11-01 1991-10-31 Photopolymerisierbare zusammensetzung Withdrawn DE4135996A1 (de)

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JP2296514A JPH04170546A (ja) 1990-11-01 1990-11-01 光重合性組成物

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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7147983B1 (en) * 1996-10-07 2006-12-12 Shipley Company, L.L.C. Dyed photoresists and methods and articles of manufacture comprising same
KR100457693B1 (ko) * 1997-05-15 2005-01-17 주식회사 코오롱 해상도 및 텐팅성이 개선된 광경화성 조성물
US20030087178A1 (en) * 2001-04-20 2003-05-08 Adrian Lungu Photopolymerizable element for use as a flexographic printing plate and a process for preparing the plate from the element
DE602006008960D1 (de) * 2005-07-20 2009-10-15 Eastman Kodak Co Für lithographische druckplatten geeignete photopolymerzusammensetzung
JP5030638B2 (ja) 2007-03-29 2012-09-19 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ及びその製造方法
JP5344034B2 (ja) * 2009-03-13 2013-11-20 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2361041C3 (de) * 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US4610952A (en) * 1983-09-14 1986-09-09 General Electric Company Photoresist compositions and method
US4708925A (en) * 1984-12-11 1987-11-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin
DE3537380A1 (de) * 1985-10-21 1987-04-23 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
WO1988007042A1 (en) * 1987-03-17 1988-09-22 Hitachi Chemical Company, Ltd. Substituted acridine derivatives and their use
US4940648A (en) * 1988-02-12 1990-07-10 Hoechst Celanese Corporation Increased sensitivity photoinitiation compositions
JPH01238656A (ja) * 1988-03-18 1989-09-22 Nippon Paint Co Ltd 高感度光重合性組成物
JPH02166451A (ja) * 1988-12-21 1990-06-27 Canon Inc 光重合性樹脂組成物および記録媒体

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