DE3332640A1 - Vorsensibilisierte druckplatte und deren verwendung zur herstellung von flachdruckformen - Google Patents
Vorsensibilisierte druckplatte und deren verwendung zur herstellung von flachdruckformenInfo
- Publication number
- DE3332640A1 DE3332640A1 DE3332640A DE3332640A DE3332640A1 DE 3332640 A1 DE3332640 A1 DE 3332640A1 DE 3332640 A DE3332640 A DE 3332640A DE 3332640 A DE3332640 A DE 3332640A DE 3332640 A1 DE3332640 A1 DE 3332640A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- propen
- printing plate
- plate according
- meth
- acrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
- C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
- G03F7/0295—Photolytic halogen compounds
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/128—Radiation-activated cross-linking agent containing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
paTen-TänwaCTe
dr. V. SCHMIED-KOWARZIK · dr. P. WEINHOLD · dr. P. BARZ · München
DIPL.-ING. C. DANNENBERG · dr. D. GUDEL- dipl-ing. S. SCHUBERT · Frankfurt
SIECFRIEDSTRASSE 8 βΟΟΟ MÜNCHEN 4O
TELEFONi (0891 335024 + 335025 TELEGRAMME: WIRPATENTE
TELEX: 5215679
F02-32164/RT
Fuji Photo Film Co. Ltd.
No. 210, Nakanuma
Minami Ashigara-Shi
Kanagawa
Japan
No. 210, Nakanuma
Minami Ashigara-Shi
Kanagawa
Japan
VORSENSIBILISIERTE DRUCKPLATTE UND DEREN VERWENDUNG ZUR
HERSTELLUNG VON FLACHDRUCKFORMEN
BAD ORIGINAL
Vorsensibilisierte Druckplatte und deren Verwendung zur
Herstellung von Flachdruckformen
Die Erfindung betrifft eine vorsensibilisierte Druckplatte mit einer neuartigen photopolymerisierbaren lichtempfindliehen
Zusammensetzung, die stabilere Empfindlichkeit bei der Herstellung von Druckformen zeigt.
Photopolymerisierbare Zusammensetzungen werden vielfach als
lichtempfindliche bilderzeugende Schichten von vorsensibilisierten Druckplatten verwendet. Geeignete Zusammensetzungen
sind in zahlreichen Publikationen beschrieben. Z.B. ist aus der ÜS-PS 3 458 311 eine Zusammensetzung bekannt, die Binderpolymere,
Monomere und Photopolymerisationsinitiatoren enthält. Die US-PS 3 796 578 beschreibt eine Zusammensetzung
mit verbesserten Härtungseigenschaften, die durch Einführen von ungesättigten Doppelbindungen in die als Bindemittel
verwendeten Polymeren erhalten wird. Zusammensetzungen, in denen neuartige Photopolymerisationsinitiatoren
eingesetzt werden, sind in den US-PS 3 549 367 und 3 751 259 sowie GB-PS- 1 388 492 beschrieben. Nur ein Teil
dieser Zusammensetzungen wird in der Praxis angewandt. All diese Zusammensetzungen haben jedoch den Nachteil, daß
ihre Empfindlichkeit stark von der Oberflächentemperatur
beeinflußt wird, welche die erhaltene vorsensibilisierte
Druckplatte bei der bildmäßigen Belichtung aufweist (im folgenden als "Temperaturabhängigkeit" bezeichnet)·
Es wurde gefunden, daß unter gewöhnlichen Plattenherstellungsbedingungen
Empfindlichkeitsänderungen auftreten, die
in manchen Fällen das 2- bis 8-fache betragen. Sind z.B. bei einer Temperatur der Plattenoberfläche von 450C 10 Sekunden Belichtung erforderlich, um ein optimales Bild auf
der vorsensibilisierten Druckplatte zu erhalten, so ist
bei 100C eine Belichtung von 20 bis 80 Sekunden notwendig.
Andernfalls wird kein zufriedenstellendes Bild erhalten. Hinsichtlich der Plattenherstellungsbedingungen ist jedoch
eine Oberflächentemperatur von 100C durchaus möglich, wenn
bei niedrigen Außentemperaturen gearbeitet wird, während andererseits die Plattenoberfläche Temperaturen von 450C
oder darüber durch Absorption der von einer Lichtquelle ausgestrahlten Wärme erreichen kann, wenn die Verarbeitung
kontinuierlich erfolgt oder der Druckrahmen in geringem
1S Abstand zur Lichtquelle angeordnet ist. Unter diesen Bedingungen
ist es sehr unwahrscheinlich, daß Bilder derselben Qualität stabil bei derselben Belichtung erhalten werden.
Photopolymerisierbare Zusammensetzungen haben auch den weiteren Nachteil, daß durch restliche aktive Spezies eine
Nachpolymerisation nach Beendigung der bildmäßigen Belichtung erfolgt. Je länger daher der Zeitabstand zwischen
bildmäßiger Belichtung und Entwicklung wird, desto mehr
nimmt die Empfindlichkeit zu (im folgenden als "latente
Bildprogression11 bezeichnet).
In der Praxis kann die Empfindlichkeit der photopolymerisierbaren
Zusammensetzungen durch latente Bildprogression auf das bis zu 2- bis 8-fache zunehmen; dies auch bei den
in den oben genannten Patentschriften beschriebenen photopolymerisierbaren
Zusammensetzungen. Diese Erscheinung ist ein ernsthafter Nachteil bei der Verarbeitung von photopolymerisierbaren
Zusammensetzungen zu vorsensibilisierten Druckplatten, da deutliche Unterschiede in der Dicke von
Bildlinien und des Tones von Bildmustern auftreten, wenn die Entwicklung unmittelbar nach bzw. einige Zeit nach
der bildmäßigen Belichtung durchgeführt wird.
ORJGJMÄL
Ziel der Erfindung ist es daher, die Temperaturabhängigkeit und latente Bildprogression zu verringern und eine konstante
stabilisierte Bilderzeugung zu erzielen. Dementsprechend ist es Aufgabe der Erfindung, eine vorsensibilisierte
Druckplatte bereitzustellen, die eine photopolymerisierbare Zusammensetzung verwendet, welche durch die Temperatur bei
der bildmäßigen Belichtung kaum beeinflußt wird und außerdem Empfindlichkeitsänderungen unterdrückt, die von dem
Zeitabstand zwischen bildmäßiger Belichtung und Entwicklung abhängen, so daß eine konstante stabilisierte Bilderzeugung
möglich ist.
Diese Aufgabe wird gelöst mit einer photopolymerisierbaren Zusammensetzung, die
(A) ein Polymer, das in seinen Seitenketten Carbonsäuregruppen und Gruppen der allgemeinen Formel I aufweist:
Rl\ I3 "4
C=C-C-Z- (I)
R / I R2 R1-
wobei R1 bis R jeweils Wasserstoff, Halogen, Carboxyl,
SuIfο, Nitro, Cyano, Amido, Amino oder substituiertes oder unsubstituiertes Alkyl, Aryl, Alkoxy, Aryloxy,
Alkylamino, Arylamino, Alkylsulfonyl oder Arylsulfonyl
bedeuten und Z Sauerstoff, Schwefel, -NH- oder -NR-(R = Alkyl) ist;
(B) ein Monomer oder Oligomer mit mindestens zwei polymerisierbaren,
ethylenisch ungesättigten Doppelbindungen und
(C) einen Photopolymerisationsinitiator enthält.
■>*■,
Für die erfindungsgemäßen Druckplatten geeignete Schichtträger
sind dimensionsstabile plattenförmige Materialien, wie sie für herkömmliche Druckplatten verwendet werden.
Spezielle Beispiele sind Papierbögen, mit Kunststoffen, wie Polyethylen, Polypropylen oder Polystyrol, beschichtete
Papiere, Platten aus Metallen, wie Aluminium (einschließlich Aluminiumlegierungen), Zink oder Kupfer,
Folien aus Kunststoffen, wie Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat,
Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat,
Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat oder
Polyvinylacetat, und mit den genannten Metallen laminierte oder bedampfte Papiere oder Kunststoffolien. Unter diesen
Trägern sind Aluminiumplatten' besonders bevorzugt, da sie hohe Dimensionsstabilität aufweisen und billig sind.
Ferner sind Verbundfolien, bei denen eine Aluminiumfolie
auf eine Polyethylenterephthalatfolie aufgebracht ist (JP-PS 18 327/73) ebenfalls ausgezeichnet als Träger geeignet
.
Bei Verwendung von Trägern mit Metalloberflächen, insbesondere
Aluminium, ist es bevorzugt, diese einer Oberflächenbehandlung zu unterziehen, z.B. einer Körnung, einer Tauchbehandlung
in einer wäßrigen Lösung von Natriumsilikat, Kaliumfluorozirkonat oder Phosphat, oder einer anodischen
Oxidation. Von Vorteil sind auch Aluminiumplatten, die nacheinander einer Körnung und einer Tauchbehandlung in
einer wäßrigen Natriumsilikatlösung unterzogen worden sind, und Aluminiumplatten, die anodisiert und einer
Tauchbehandlung in einer wäßrigen Lösung eines Alkalimetallsilikats unterworfen wurden (US-PS 3 181 461). Die genannte
anodische Oxidation erfolgt dadurch, daß man die Aluminiumplatte als .Anode verwendet und einen elektrischen
BAD
Strom durch einen Elektrolyten leitet, der eine wäßrige
oder nicht-wäßrige Lösung einer anorganischen Säure, wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure oder Borsäure,
oder einer organischen Säure, wie Oxalsäure oder SuIfaminsäure,
oder eines Salzes davon oder eine Kombination aus zwei oder mehreren der genannten Lösungen darstellt.
Als Oberflächenbehandlung ist auch eine elektrolytische Abscheidung
von Silikat gemäß der US-PS 3 658 662 wirksam. Ferner kann eine Oberflächenbehandlung angewandt werden,
bei der ein vorher elektrolytisch gekörnter Träger der oben beschriebenen anodischen Oxidation und Natriumsilikatbehandlung
unterzogen wird; vgl. JP-PS 27 481/71 und JP-OS 58 602/77 und 30 503/77. Geeignet ist auch eine Oberflächenbehandlung,
bei der nacheinander eine Bürstenkörnung, elektrolytische Körnung, anodische Oxidation und Natriumsilikatbehandlung
erfolgt; siehe JP-OS 28 893/81. Diese Oberflächenbehandlungen werden nicht nur dazu durchgeführt,
die Oberflächen der Metallträger hydrophil zu machen, sondern verhindern auch schädliche Reaktionen mit den darauf
aufgebrachten lichtempfindlichen Zusammensetzungen und verbessern außerdem die Haftung der lichtempfindlichen
Schichten auf den Metallträgeroberflächen.
Die erfindungsgemäß angewandten Polyeren (A) zeichnen sich dadurch aus, daß sie sowohl ungesättigte Gruppen als auch
Carboxylgruppen im Molekül enthalten. Die ungesättigten Gruppen haben die allgemeine Formel:
R 1S R4
R2
wobei R1 bis R- jeweils Wasserstoff, Halogen, Carboxyl,
SuIfο. Nitro, Cyano, Amido, Amino oder substituiertes oder
unsubstituiertes Alkyl, Aryl, Alkoxy, Aryloxy, Alkylamino, Arylamino, Alkylsulfonyl oder Arylsulfonyl bedeuten und Z
Sauerstoff, Schwefel, -NH- oder -NR- (R = Alkyl) ist.
Halogenatome R1 bis R sind z.B. Fluor, Chlor, Brom oder
Jod. Alkylreste R1 bis R sind z.B. geradkettige, verzweigte
oder cyclische Alkylreste mit 1 bis 7 Kohlenstoffatomen. Diese Alkylreste können Substituenten aufweisen, z.B.
Alkoxyreste mit 1 oder 2 Kohlenstoffatomen, AlkoxycarbonyI-gruppen
mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen im Alkoxyrest , Phenyl- oder Hydroxylgruppen. Geeignete Arylreste R1 bis
R1. sind z.B. Phenyl- oder Furylgruppen, die substituiert
sein können, z.B. durch Halogen (z.B. Chlor oder Brom), Hydroxy, Alkyl mit 1 bis 7 Kohlenstoffatomen, Aryl, (z.B.
Phenyl oder Methoxyphenyl), Alkoxy mit 1 bis 7 Kohlenstoffatomen,
Nitro, Amino oder Ν,Ν-Dialkylamino. Spezielle Alkoxyreste
R1 bis R_ sind solche mit 1 bis 7 Kohlenstoffatomen.
Spezielle Aryloxyreste sind Phenyloxygruppen, die
Substienten, wie Alkyl mit 1 bis 7 Kohlenstoffatomen oder
Alkoxy mit 1 bis 7 Kohlenstoffatomen aufweisen können.
Spezielle Alkylaminoreste R1 bis R5 sind solche mit 1 bis
15 Kohlenstoffatomen und spezielle Arylaminoreste sind
Phenylamino und Naphthylamino. Spezielle Alkylsulfonylreste
R bis R1. sind solche mit 1 bis 15 Kohlenstoffatomen
und ein spezieller Arylsulfonylrest ist Phenylsulfonyl,
wobei diese Substituenten, wie Alkyl mit 1 bis 15 Kohlenstoffatomen,
Alkoxy mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen oder Amino/ aufweisen können.
Die Polymeren (A) haben ein Molekulargewicht von 10 000 bis 100 000, vorzugsweise 20 000 bis 70 000, und insbesondere
eine Grenzviskositätszahl [77] von 0,06 bis 0,25.
6AD ORIGINAL
Zusammensetzungen, die Bindemittel mit ungesättigten Gruppen enthalten, sind z.B. in der US-PS 3 796 578 beschrieben.
Diese Zusammensetzungen sind jedoch nicht hinsichtlich ihrer Temperaturabhängigkeit und latenten Bildprogression
verbessert.
Die erfindungsgemäß anwendbaren Polymeren (A) sind z.B. in
den US-PS 3 3\76 138, 3 556 792 und 3 556 793 beschrieben. Die dort offenbarten Polymeren werden jedoch als solche
als photovernetzbare Resists verwendet. Diese Anwendung unterscheidet sich grundlegend von der vorliegenden Erfindung,
da hier die Polymeren (A) als Bindemittel der photopolymerisierbaren Zusammensetzungen angewandt werden.
Die Methoden zur Herstellung der Polymeren (A) lassen sich
grob in zwei Kategorien einteilen.
Methode I;
Die ungesättigte Gruppe der Formel
R R3 R4
Vj3 i4
C = C--R2 R5
(wobei R1 bis R die für Formel I genannte Bedeutung haben)
wird als Seitengruppe in ein Ausgangspolymer, das CarbonsäureT Carbonsäurehalogenid- oder Carbonsäureanhydridgruppen
als Seitenketten aufweist, über eine verbindende Gruppe der Formel
-C-N- -C-O-, -C-S- , -C-N- , lii
0 0 OH
W-
eingeführt, in-dem man eine Verbindung der allgemeinen Formel I-a mit dem Ausgangspolymer umsetzt.
Methode II:
Ein Monomer, das sowohl die ungesättigte Gruppe der allgemeinen
Formel I als auch eine ethylenisch ungesättigte Gruppe mit einer höheren Additionspolymerisationsreaktivität
als die ungesättigte Gruppe der Formel I aufweist, wird mit einer ungesättigten Carbonsäure copolymerisiert.
Die vorstehend genannte Verbindung I-a hat die Formel:
R R3 R4
1\ I I
1\ I I
C=C-C-Y (I-a)
/ I
2 R5
wobei R. bis R5 die zur allgemeinen Formel I genannte Bedeutung
haben und Y -OH, -SH, -NH3, -NHR (R = Alkyl) oder
Halogen ist.
Im folgenden wird die Methode I näher erläutert. Geeignete Beispiele für Ausgangspolymere sind Acrylsäure-Copolymere,
Methacrylsäure-Copolymere und Copolymere, die durch überführen' von Acryl- oder Methacrylsäure-Copolymeren nach Hochpolymerisationsverfahren
in Säurehalogenide erhalten worden sind. Ebenfalls als Ausgangspolymere geeignet sind Maleinsäureanhydrid-Copolymere
und Itaconsäureanhydrid-Copolymere. Zur Herstellung der genannten Copolymeren geeignete Comonomere
sind z.B. Styrol oder dessen alkylsubstituierte Derivate, Alkylacrylate, Arylacrylate, Alkylmethacrylate, Arylmethacrylate
und aliphatische Vinylester. Besonders bevorzugte Ausgangspolymere sind Copolymere von Acrylsäure oder
BAD ORIGINAL
Methacrylsäure mit Methylacrylat, Ethylacrylat, Butylacrylat,
Benzylacrylat, Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat,
Butylmethacrylat oder Benzylmethacrylat. Das Einführen der ungesättigten Gruppe in diese Copolymeren kann dadurch erfolgen,
daß man eine ungesättigte Alkohol-, Amin-, Thiol- oder Halogenverbindung der allgemeinen Formel I-a mit den
Copolymeren in einem Reaktionslösungsmittel vermischt, um sie darin zu lösen, dann einen Reaktionskatalysator und
einen Polymerisationsinhibitor zugibt und unter den vorgeschriebenen Reaktionsbedingungen erwärmt.
.
Im folgenden wird die Methode I anhand der Herstellung eines
Methacrylsäure-Benzylmethacrylat-Copolymers näher erläutert.
In einen 300 ml-Dreihalskolben, der mit Rührerstab und
-blatt, Rückflußkühler und Thermometer ausgerüstet ist, werden 19,8 g Methacrylsäure-Benzylmethacrylat-Copolymer
(Molverhältnis 27 : 73), 40,2 g Ethylenglykolmonomethyletheracetat als Lösungsmittel, 6,0 g Allylbromid als
Reagenz mit einer ungesättigten Gruppe, 10,4 g Tribenzylammoniumhydroxid
als Katalysator und 0,01 g p-Methoxyphenol als Polymerisationsinhibitor eingebracht, gemischt und
gelöst. Das erhaltene Gemisch wird 13 Stunden unter Rühren in einer Stickstoffatmosphäre auf 7O0C erhitzt. Nach dem
Abkühlen versetzt man mit Methylethylketon und trennt das abgeschiedene quaternäre Salz ab. Das Produkt wird mit Methanol
verdünnt und in verdünnte Salzsäure gegossen, wobei ein Niederschlag entsteht. Dieser wird mit Wasser gewaschen,
auf einem Saugfilter filtriert und im Vakuum getrocknet. Man erhält 13,6 g Polymer. Allylgruppen werden in
das Ausgangspolymer in einem Anteil von 35 %, bezogen auf die Carbonsäuregruppen, eingeführt.
/- 7 MEK η 1C1
IVJ 3o°c = 0,161
IVJ 3o°c = 0,161
Die Einführung der ungesättigten Gruppe in ein Maleinsäureanhydrid-Copolymer
kann nach dem Verfahren der US-PS 2 047 398 erfolgen. Hierbei findet eine Ringöffnung
der Maleinsäureanhydridgruppe statt und es wird z.B. ein ungesättigter Ester oder Thioester oder ein ungesättigtes
Amid eingeführt. Ein weiteres Beispiel zum Einführen von ungesättigten Gruppen in Maleinsäureanhydrid-Copolymere ist
in der ÜS-PS 3 905 820 beschrieben. Bei diesem Verfahren sind die ungesättigten Gruppen jedoch an das Stickstoffatom
von Maleinsäureimid gebunden. Sie unterscheiden sich daher von den oben beschriebenen Polymeren und auch von
den erfindungsgemäß angewandten Polymeren (A).
Im folgenden wird die Methode II näher-erläutert. Monomere, die ungesättigte Gruppen mit mindestens zwei
oder mehr C-C-Doppelbindungen enthalten, werden dadurch hergestellt, daß man Alkohole, Amine, Thiole oder Halogenide,
die jeweils die ungesättigte Gruppe aufweisen, und ungesättigte Carbonsäuren, insbesondere Acryl- oder Methacrylsäure,
auf übliche Weise kondensiert. Die erhaltenen Monomere mit mindestens zwei ungesättigten Gruppen werden
mit ungesättigten Carbonsäuren, vorzugsweise Acryl- oder ■ Methacrylsäure, zu Copolymeren mit ungesättigten Gruppen
copolymerisiert. Neben den ungesättigten Carbonsäuren können auch andere Monomere, wie Alkylacrylate, Alkylmethacrylate,
Benzylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat
und Acrylnitril, mit den genannten Monomeren, die ungesättigte Gruppen und C-C-Doppelbindungen aufweisen, copolymerisiert
werden.
Im folgenden ist ein Herstellungsbeispiel für die Copolymerisation
von Allylmethacrylat und Methacrylsäure nach der Methode II angegeben. Ein analoges Herstellungsverfah-
ren ist in der US-PS 2 047 398 beschrieben.
In einen 3 Liter-Vierhalskolben, der mit Rührerstab und -blatt, Rückflußkühler, Tropftrichter und Thermometer ausgerüstet
ist, werden 1,68 Liter 1,2-Dichlorethan als Lösungsmittel
eingebracht und auf 700C erhitzt, wobei die Kolbenatmosphäre durch Stickstoff ersetzt wird, 100,8 g
Allylmethacrylat, 7,6 g Methacrylsäure und 1,68 g 2,2'-Azobis-(2,4-dimethylvaleronitril) als Polymerisationsinitiator werden in 0,44 Liter 1,2-Dichlorethan gelöst und
die erhaltene Lösung wird in den Tropftrichter eingefüllt. Die Lösung wird in den Kolben getropft, wo sie 2 Stunden
unter Rühren des Reaktionsgemisches verbleibt. Nach beendetem Zutropfen wird weitere 5 Stunden bei 700C gerührt,
um die Reaktion zu vervollständigen. Nach beendetem Erhitzen gibt man 0,04 g p-Methoxyphenol als Polymerisationsinhibitor zu. Hierauf engt man auf 500 ml ein und gibt
4 Liter Hexan zu. Der erhaltene Niederschlag wird im Vakuum getrocknet, wobei 61 g (56 %) eines Copolymers erhalten
werden, dessen in Methylethylketon gemessene Grenzviskositätszahl bei 3O0C 0,068 beträgt.
Bevorzugte Beispiele für Verbindungen der allgemeinen Formel I-a sind:Allylalkohol, 2-Methylallylalkohol, Crotylalkohol,
3-Chlor-2-propen-1-öl, 3-Phenyl-2-propen-1-öl,
3-(Hydroxyphenyl)-2-propen-1-öl, 3-(2-Hydroxyphenyl)-2-propen-1-öl,
3-(3,4-Dihydroxyphenyl)-2-propen-i-öl,
3-(2,4-Dihydroxyphenyl)-2-propen-1-öl, 3-(3,4,5-Trihydroxyphenyl)-2-propen-1-öl,
3-(3-Methoxy-4-hydroxyphenyl) -2-propen-1-ol, 3-(3,4-Dihydroxy-5-methoxyphenyl)-2-propen-1-ol,
3-(3,5-Dimethoxy-4-hydroxyphenyl)-2-propen-i-ol,
3-(2-Hydroxy-4-methylphenyl)-2-propen-1-ol, 3-(4-Methoxyphenyl)-2-propen-1-öl,
3-(4-Ethoxyphenyl-2-propen-1 -öl,
Copy
3-(2-Methoxyphenyl)-2-propen-i-ol, 3-(3,4-Dimethoxyphenyl)-2-propen-1-ol,
3-(3-Methoxy-4-propoxyphenyl)-2-propen-1-ol, 3-(2,4,6-Trimethoxyphenyl)-2-propen-1-ol, 3-(3-Methoxy-4-benzyloxyphenyl)-2-propen-1-ol,
3-(3-(3'-Methoxyphenyl)-4-benzyloxyphenyl)-2-propen-1-ol,
3-Phenoxy-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3- (3,4 ,5-Tjrimethoxyphenyl) -2-propen-1 -ol,
3-(4-Methylphenyl)-2-propen-i-ol, 3-Phenyl-3-(2,4,6-trimethylphenyl)-2-propen-1-ol,
3,3-[Di-(2,4,6-trimethylphenyl)]-2-propen-i-ol,
3-Phenyl-3-(4-methylphenyl)-2-propen-1-ol,
3,3-Diphenyl-2-propen-1-ol, 3-(2-Chlorphenyl)-2-propen-1-ol,
3-(3-Chlorphenyl)-2-propen-1-ol, 3-(4-Chlorphenyl)-2-propen-1-ol,
3-(2,4-Dichlorphenyl)-2-propen-1-ol, 3-(2-Bromphenyl)-2-propen-1-ol, 3-Brom-3-phenyl-2-propen-1-ol,
3-Chlor-3-phenyl-2-propen-1-ol, 3-(4-Nitrophenyl)-2-propen-1-ol,
3-(2-Nitrophenyl)-2-propen-1-ol, 3-(3-Nitrophenyl)-2-propen-1-ol, 2-Methyl-3-phenyl-2-propen-1-ol,
2-Methyl-3-(4-chlorphenyl)-2-propen-1-ol, 2-Methyl-3-(4-nitrophenyl)-2-propen-1-ol,
2-Methyl-3-(4-aminophenyl)-2-propen-1-ol,
2-Methyl-3,3-diphenyl-2-propen-1-ol, 2-Ethyl-1,3-diphenyl-2-propen-1-ol,
2-Ethoxymethylen-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-Phenoxy-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-Methyl-3-(4-methoxyphenyl)-2-propen-1-ol,
2,3-Diphenyl-2-propen-1-ol, 1,2,3-Triphenyl-2-propen-1-ol, 2,3,3-Triphenyl-2-propen-1-ol,
2-Ethoxy-3-phenyl-2-propen-1-ol, 1,3-Diphenyl-2-propen-1-ol,
1-(4-Methylphenyl)-3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-Phenyl-3-(4-methylphenyl)-2-propen-1-ol, 1-Phenyl-3-(4-methoxyphenyl)-2-propen-1-ol,
1-(4-Methoxyphenyl)-3-phenyl-2-propen-1-ol, 1,3-Di-(4-chlorphenyl)-propen-1-ol,
1-(4-Bromphenyl)-3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-Phenyl-3-(4-nitrophenyl)-2-propen-1-ol,
1,3-Di-(2-nitrophenyl)-2-propen-1-ol, 1-(4-Dimethylaminophenyl)-3-phenyl-2-propen-1-ol,
1-Phenyl-3-(4-dimethylaminophenyl)-2-propen-1-ol,
1,1-Di-(4-dimethylaminophenyl)-3-phenyl-2-propen-1-ol,
Copy
1,1,3-Triphenyl-2-propen-1-ol, 1,1,3,3-Tetraphenyl-2-propen-1-ol,
1-(4-Methylphenyl)-S-phenyl-^-propen-i-ol,
1-(Dodecylsulfonyl)-3-phenyl-2-propen-1-ol, 1-Phenyl-2-propen-1-ol,
1^-Diphenyl-^-propen-i-ol, i-Phenyl-2-methyl-2-propen-1-ol,
i-Cyclohexyl-2-propen-i-ol, 1-Phenoxy-2-propen-1-ol,
2-Benzyl-2-propen-1-ol, 1,1-Di-(4-chlorphenyl)-2-"
propen-1-ol, 1-Carboxy-2-propen-1-ol, i-Carboxyamido-2-propen-1-ol,
i-Cyano-2-propen-i-ol, 1-Sulfo-2-propen-1-olf
2-Ethoxy-2-propen-1-ol, 2-Amino-2-propen-1-ol, 3-(3-Amino-4-methoxyphenylsulfonyl)-2-propen-i-ol,
3-(4-Methy!phenylsulfonyl)-2-propen-i-ol,
3-Phenylsulfonyl-2-propen-1-ol, 3-Benzylsul£onyl-2-propen-1-ol, 3-Anilinosulfonyl-2-propen-1-ol,
3-(4-Methoxyanilinosulfonyl)-2-propen-1-ol,
3-Anilino-2-propen-1-ol, 3-Naphthylamino-2-propen-1-ol,
3-Phenoxy-2-propen-1-ol, 3-(2-Methylphenyl)-2-propen-1-ol,
3-(3-Methylphenoxy)-2-propen-1-ol, 3-(2,4-Dimethylphenyl)-2
propen-1-ol, 1-Methyl-3-carboxy-2-propen-1-ol, 3-Carboxy-2-propen-1-ol,
3-Brom-3-carboxy-2-propen-1-ol, 1-Carboxy-3-chlor-3-methyl-2-propen-1-ol,
1-Carboxy-S-methyl^-propen-1-ol,
1-(2-Carbethoxyisopropyl)-3-methyl-2-propen-1-ol,
1-(1-Carbethoxypropyl)-2-propen-1-ol, 1-(1-Carbethoxyethyl)
3-methyl-2-propen-1-ol, 1-Carbethoxy-S-chlor-S-methyl^-
propen-1-ol, 1-Carbethoxymethylen-S-methyl^-propen-i-ol,
1 Amido-2,3-dimethyl-2-propen-1-ol, 1-Cyano-3-methyl-2-propen-1-ol,
3-Sulfo-2-propen-1-ol,.3-Butoxy-2-propen-1-ol, I-Cyclohexyl-S-(2-hydroxycyclohexyl)-2-propen-1-ol,
3-Cyclopentyl-2-propen-1-ol, 3-Furyl-2-propen-1-ol,
3-Chlor-2-propen-1-ol, 3-Brom-2-propen-1-ol, 2-Methyl-3-chlor-2-propen-1-ol,
2-Methyl-3-brom-2-propen-1-ol,
1-Carboisobutoxy-3-chlor-3-methyl-2-propen-1-ol,
2-Chlor-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-Chlorzimtalkohol),
2-Brom-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-Bromzimtalkohol),
2-Brom-3-(4-nitrophenyl)-2-propen-1-ol, 2-Fluor-3-phenyl-
COPY
2-propen-1-ol (2-Fluorzimtalkohol), 2-Fluor-3-(4-methoxyphenyl)-2-propen-1-ol,
2-Nitro-3-chlor-3-phenyl-2-propen-1-ol, 2-Nitro-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-Nitrozimtalkohol),
2-Cyano-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-Cyanozimtälkohol),
3-Chlor-2-propen-1-ol (2-Chlorallylalkohol) , 2-Brom-2-pro-" pen-1-ol (2-Bromallylalkohol), 2-Carboxy-2-propen-1-ol
(2-Carboxyallylalkohol), 2-Carbethoxy-2-propen-1-ol
(2-Carbethoxyallylalkohol), 2-Sulfo-2-propen-1-ol (2-Sulfoallylalkohol), 2-Nitro-2-propen-1-ol (2-Nitroallylalkohol), 2-Brom-3,3-difluor-2-propen-1-ol, 2-Chlor-3,3-difluor-2-propen-1-ol, 2-Fluor-3-chlor-2-propen-1-ol, 2,3-Dibrom-3-carboxy-2-propen-1-ol, 2,3-Dijod-3-carboxy-2-propen-1-ol, 2,3-Dibrom-2-propen-1-ol und 2-Chlor-3-methyl-2-propen-
2-Cyano-3-phenyl-2-propen-1-ol (2-Cyanozimtälkohol),
3-Chlor-2-propen-1-ol (2-Chlorallylalkohol) , 2-Brom-2-pro-" pen-1-ol (2-Bromallylalkohol), 2-Carboxy-2-propen-1-ol
(2-Carboxyallylalkohol), 2-Carbethoxy-2-propen-1-ol
(2-Carbethoxyallylalkohol), 2-Sulfo-2-propen-1-ol (2-Sulfoallylalkohol), 2-Nitro-2-propen-1-ol (2-Nitroallylalkohol), 2-Brom-3,3-difluor-2-propen-1-ol, 2-Chlor-3,3-difluor-2-propen-1-ol, 2-Fluor-3-chlor-2-propen-1-ol, 2,3-Dibrom-3-carboxy-2-propen-1-ol, 2,3-Dijod-3-carboxy-2-propen-1-ol, 2,3-Dibrom-2-propen-1-ol und 2-Chlor-3-methyl-2-propen-
Weitere geeignete Verbindungen der Formel I-a sind die
vorstehend genannten Verbindungen, bei denen die Alkoholfunktion in der 1-Stellung durch Thioalkohol, Amino oder
Halogen ersetzt ist.^
vorstehend genannten Verbindungen, bei denen die Alkoholfunktion in der 1-Stellung durch Thioalkohol, Amino oder
Halogen ersetzt ist.^
Der Gehalt des Polymers (A) an ungesättigten Gruppen bzw.
Carbonsäuregruppen beträgt vorzugsweise 10 bis 90 Molprozent bzw. 5 bis 60 Molprozent, insbesondere 20 bis
70 Molprozent bzw. 10 bis 40 Molprozent, als Molverhältnis bei der Copolymerisation.
70 Molprozent bzw. 10 bis 40 Molprozent, als Molverhältnis bei der Copolymerisation.
Als ungesättigte Monomere (B) der erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren
Zusammensetzung werden Verbindungen mit mindestens einer additionspolymerisierbaren ungesättigten
Gruppe bevorzugt. Spezielle Beispiele sind Ethylenglykol-
di(meth)acrylat, Polyethylenglykoldi(meth)acrylat, Trimethylolethantri(meth)acrylat,
Trimethylolpropantri(meth)-acrylat, Neopentylglykoldi(meth)acrylat, Tri-, Tetra- und
BAD ORIGINAL °OPY
/f
Hexa(meth)acrylate von Pentaerythrit oder Dipentaerythrit,
Epoxydi(meth)acrylat, die in der JP-PS 7361/77 beschriebenen
Oligoacrylate, die in der JP-PS 41 708/73 beschriebenen
Acrylurethanharze und Acrylurethan-Oligomere.
Das Gewichtsverhältnis des Monomers oder Oligomers (B) zu
dem Polymer (A) beträgt 1 : 9 bis 7 : 3, vorzugsweise
2,5 : 7,5 bis 5 : 5.
Die als Komponente (C) in der erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren
Zusammensetzung verwendeten Photopolymerisationsinitiatoren sind z.B. vicinale Polyketaldonylverbindungen
(US-PS 2 367 660), a-Carbony!verbindungen (US-PS 2 367 661 und 2 367 670) , Acyloinether
(US-PS 2 448 828), mit α-Kohlenwasserstoffen substituierte aromatische Acyloinverbindungen (US-PS 2 722 512), mehrkernige
Chinone (US-PS 3 046 127 und 2 951 758), Kombinationen von Trrarylimidazol-Dimeren mit p-Aminophenylketonen
(US-PS 3 549 367), Verbindungen der Benzothiazolreihe (US-PS 3 870 524), Kombinationen von Verbindungen der
Benzothiazolreihe mit Verbindungen der Trihalogenmethyl-striazinreihe
(US-PS 4 239 850), Acridin- und Phenazinverbindungen (US-PS 3 751 259) und Oxadiazolverbindungen
(US-PS 4 212 970). Diese Polymerisationsinitiatoren werden in einer Menge von etwa 0,5 bis 15 Gewichtsprozent, Vorzugs-
weise 2 bis 10 Gewichtsprozent, b'ezogen auf das Gesamtgewicht
der photopolymerisierbaren Zusammensetzung, angewandt .
Zusätzlich zu den beschriebenen Komponenten enthält die erfindungsgemäße photopolymerisierbare Zusammensetzung vorzugsweise
einen Wärmepolymerisationsinhibitor, wie Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-kresol, Pyrogallol,
COPY
_ 1 ι
2ό<
t-Brenzkatechin, Benzochinon, 4,4'-Thiobis-(3-methyl-6-tbutylphenol),
2,2'-Methylenbis-(4-methyl-6-t-butylphenol) oder 2-Mercaptobenzimidazol, in einer Menge von weniger als
2 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, vorzugsweise 100 bis 1000 ppm, bezogen auf die
Monomermenge. Gegebenenfalls kann die photopolymerisierbare
Zusammensetzung außerdem Farbstoffe oder Pigmente zum Färben der lichtempfindlichen Schicht und/oder pH-Indikatoren
als Ausdruckmittel enthalten.
Die beschriebene photopolymerisierbare Zusammensetzung wird in einem Lösungsmittel gelöst, z.B. 2-Methoxyethanol,
2-Methoxyethylacetat, Cyclohexan, Methylethylketon, Ethylen dichlorid
oder einem Gemisch aus zwei oder mehr dieser Lösungsmittel, und auf einen Träger aufgebracht. Die Trockenauftragmenge
der photopolymerisierbaren Zusammensetzung beträgt etwa 0,1 bis 10 g/m2, vorzugsweise 0,5 bis 5 g/m2.
Die auf den Träger aufgebrachte Schicht der photopolymerisierbaren
Zusammensetzung wird vorzugsweise mit einer Schutzschicht aus einem Sauerstoff abhaltenden Polymer versehen,
z.B. Polyvinylalkohol oder sauren Cellulosen, um die polymerisationsinhibierende Wirkung des in der Luft enthaltenen
Sauerstoffs zu verhindern. Ein Beschichtungsverfahren für eine derartige Schutzschicht ist z.B. in den
US-PS 3 458 311, GB-PS 1 441 339 und JP-PS 49 729/80 beschrieben.
Flachdruckformen werden unter Verwendung der erfindungsgemäßen vorsenslbbilisierten Platte folgendermaßen hergestellt:
COPY
Zunächst wird die. vorsensibilisierte Druckplatte unter Verwendung
einer an UV-Strahlen reichen Lichtquelle, z.B. einer Metallhalogenidlampe oder Hochdruck-Quecksilberlampe, bildmäßig
belichtet. Dann entwickelt man mit einer Entwicklerlösung, um die nicht belichteten Bereiche der lichtempfindlichen
Schicht zu entfernen. Anschließend wird auf die so behandelte lichtempfindliche Schicht ein desensibilisierender
Guppe aufgetragen. Eine bevorzugte Entwicklerlösung ist eine wäßrige alkalische Lösung, die eine geringe Menge eines
organischen Lösungsmittels enthält, z.B. Benzylalkohol, 2-Phenoxyethanol der 2-Butoxyethanol. Beispiele für derartige
Entwicklerlösungen sind in den US-PS 3 475 171 und 3 615 480 beschrieben. Auf die in den JP-OS 26 602/75,
JP-PS 39 464/81 und US-PS 4 186 006 beschriebenen Entv/iekler
lösungen sind für die erfindungsgemäße vorsensibilisierte
Druckplatte ausgezeichnet geeignet.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung. Alle Prozente und Teile beziehen sich auf das Gewicht, sofern
nichts anderes angegeben ist.
Eine Grundplatte wird nach dem Verfahren der GB-PS 2 047 274 hergestellt. Hierbei wird die Oberfläche
einer 0,24 mm dicken Aluminiumplatte unter Verwendung einer Nylonbürste und einer wäßrigen Suspension von
Bims (400 mesh) gekörnt und gründlich gewaschen. Dann taucht man 60 Sekunden in eine 1Oprozentige wäßrige Natronlauge
von 700C, um die Oberfläche anzuätzen, wäscht mit
fließendem Wasser, neutralisiert durch Spülen mit 20 % HNO3 und wäscht nochmals mit Wasser. Hierauf erfolgt eine
elektrolytische Oberflächenaufrauhung in 1 % wäßriger SaI-
- y-
petersäure durch Anlegen einer sinusförmigen Wechselspannung
bei einer Strommenge von 160 Coulomb/dmz, wobei die Anodenspannung
12,7 V und das Verhältnis der Strommengen an
Kathode bzw. Anode 0,8 betragen. Die Oberflächenrauhigkeit der so behandelten Platte beträgt 0,6 μπι (bei Ra-Darstellung).
Hierauf wird die Platte 2 Minuten in 30 % Schwefelsäure von 500C eingebracht, um ihre Oberfläche zu entmatten,
und dann in 20 % Schwefelsäure anodisiert, in dem 2 Minuten ein elektrischer Strom mit einer Dichte von 2 A/dm2 durchgeleitet
wird. Hierbei kann die Grundplatte eine Dicke von 2,7 g/m2 erreichen. Die Grundplatte wird dann 1 Minuten in
2,5 % wäßrige Natriumsilikatlösung von 7O0C getaucht, mit
Wasser gewaschen und getrocknet.
Auf die erhaltene Grundplatte wird eine lichtempfindliche
Zusammensetzung aus den folgenden Bestandteilen aufgetragen:
.
25 Pentaerythrit-tetraacrylat
Poly(allylmethacrylat/methacryIsäure)
(Copolymerisations-Molverhältnis 85:15)
2-Trichlormethyl-5-(p-n-butoxystyryl)-1,3,4-oxadiazol
öllöslicher Blaufarbstoff (CI. 42595)
Methylethylketon 2-Methoxyethanol :
Diese Zusammensetzung wird geiöst, filtriert und unter Verwendung
einer Sprühscheibe bei etwa 2000 U/min auf die
Grundplatte aufgetragen und 2 Minuten bei 1000C getrocknet.
Der Trockenauftrag des Überzuges beträgt 3 g/m2. Hierauf
wird eine 3gewichtsprozentige wäßrige Lösung von Polyvinyl-
1 | ,75 | g |
3 | ,25 | g |
0 | ,2 | g |
0 | ,08 | g |
20 | g | |
20 | g |
333264C
alkohol (Viskosität 5,3 +_ 0,5 mPas, gemessen bei 20°C in
Form einer 4 % Lösung mit einem Höppler-Viskosimeter; Verseif ungsgrad 86,5 bis 89,0 Molprozent; Polymerisationsgrad
1000 oder weniger) unter Verwendung einer Sprühscheibe bei etwa 180 U/min auf die Oberfläche der lichtempfindlichen
Schicht aufgetragen. Die Trockenauftragmenge dieser Schutzschicht beträgt 1,5 g/m2. Die so hergestellte, vorsensibilisierte
Platte wird als Probe A bezeichnet.
Im folgenden wird das Herstellungsverfahren für die in der lichtempfindlichen Zusammensetzung verwendete Poly(allylmethacrylat/methacrylsäure)
näher erläutert: In einen 3 Liter-Vierhalskolben, der mit Rührerstab und -blatt, Rückflußkühler, Tropftrichter und Thermometer ausgerüstet
ist, werden 1,68 Liter 1,2-Dichlorethan als Lösungsmittel
eingebracht und auf 700C erhitzt, während die Luft in dem Kolben durch Stickstoff ersetzt wird. 100,8 g
Allylmethacrylat, 7,6 g Methacrylsäure und 1,68 g 2,2'-Azobis-(2,4-dimethylvaleronitril)
als Polymerisationsinitiator werden in 0,44 Liter 1,2-Dichlorethan gelöst und in den
Tropftrichter eingefüllt. Das erhaltene Gemisch wird innerhalb
2 Stunden unter Rühren zu dem heißen Lösungsmittel getropft. Nach beendetem Zutropfen wird das Reaktionsgemisch
weitere 5 Stunden bei 7O0C gerührt, um die Reaktion zu vervollständigen. Nach beendetem Erhitzen gibt man 0,04 g
p-Methoxyphenol als Polymerisationsinhibitor zu und engt
die Lösung auf 500 ml ein. Das Konzentrat wird mit 4 Liter Hexan versetzt, um das Reaktionsprodukt auszufällen. Durch
Trocknen im Vakuum erhält man 61 g (56 %) des gewünschten Copolymers, dessen Viskositätszahl [τ/J bei 30°C in MEK-LÖ-sung
0,068 beträgt.
Zum Vergleich wird eine weitere vorsensibilisierte Druckplatte hergestellt, wobei man eine lichtempfindliche Zusammensetzung
(2) verwendet, die wie die lichtempfindliche Zusammensetzung (1) hergestellt wird, jedoch dieselbe Menge
Poly(methylmethacrylat/methacrylsäure) mit einem Copolymerisations-Molverhältnis
von 90 : 10 anstelle der Poly(allylmethacrylat/methacrylsäure) enthält. Durch Auftragen einer
Polyvinylalkoholschicht auf die Schicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung (2) wie im Fall der Probe A erhält
man eine als Probe B bezeichnete vorsensibilisierte Druckplatte.
Auf jede dieser vorsensibilisierten Druckplatten (A) und (B) werden eine Grauskala-Tafel und ein UGRA-GRETAG-Plattenkontrollkeil
PCW aufgelegt, worauf man mit einem Berkey-Drucker (24 χ 28 2 kW-Vakuumdrucker von der Pako Corporation)
belichtet. Die belichtete Platte wird 50 Sekunden bei Raumtemperatur
in die nachstehende Entwicklerlösung getaucht und die erhaltene Oberfläche wird leicht mit Watte gerieben, um
die nicht belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht zu entfernen.
Natriumsulfit 5 g
Benzylalkohol 30 g
Natriumcarbonat 5 g
Natriumisopropylnaphthalinsulfonat 12 g
Reines Wasser 1 ooo g
Es werden Flachdruckformen hergestellt, wobei die Oberflächentemperatur
des Glasrahmens des Druckers während der Belichtung 100C bzw. 45°C beträgt. Die Formen werden im Falle
der Probe A mit A-10 bzw. A-45, im Falle der Probe B mit
BAD ORIGINAL
33326AC
B-10 bzw. B-45 bezeichnet. Eine Zunahme der Oberflächentemperatur
der Platte bei der Belichtung von 100C auf 450C
bewirkt bei Probe B eine Erhöhung der Empfindlichkeit auf das etwa 8-fache, bei der Probe A jedoch nur auf das etwa
1- oder 2-fache.
Unterschied der Empfindlich- Empfindlich- Punktwachskeit bei 45°C bzw. 1O0C keitsänderung tum (*1)
(Temperaturabhängigkeit) (x-fach)
A 1 bis 2 Stufen in der etwa 1,5 1 %
Grauskala
B 5 bis 6 Stufen in der etwa 8 7 %
Grauskala
*1) Das Punktwachstum bei Probe 45 im Vergleich zu Probe wird ermittelt anhand des mittleren Tons in dem
60 Linien/cm-Halbton-Keilbereich des UGRA-GRETAG-Plattenkontrollkeils.
Unter Verwendung der hergestellten Flachdruckformen werden Bögen von Qualitätspapier unter Verwendung einer handelsüblichen
Druckfarbe und einer GTO-Druckmaschine der Heidelberg AG bedruckt. Zwischen B-TO und B-45 wird ein
großer Unterschied in der Tonreproduktion der Drucke festgestellt,
während zwischen A-10 und A-45 kaum ein Unter-
„ schied feststellbar ist. Vergleicht man die Temperaturabhängigkeit
mit dem UGRA-GRETAGPlattenkontrollkeil (PCW),
so nehmen die mit B-45 reproduzierten Halbtonpunkte im Vergleich zu B-10 um 7 % oder mehr im Mitteltonbereich zu.
Andererseits ist zwischen A-45 und A-10 kaum ein Punktwachstum feststellbar. Diese Ergebnisse zeigen, daß die
erfindungsgemäße vorsensibilisierte Druckplatte eine stark verringerte Temperaturabhängigkeit hat.
Die Proben A und B von Beispiel 1 werden bei einer Temperatur des Glasrahmens des Druckers von 15°C belichtet und
dann sofort entwickelt. Die erhaltenen Druckformen werden 10 mit A-1 bzw. B-1 bezeichnet. Außerdem werden Formen A-2
und B-2 hergestellt, wobei die Entwicklung 1 Stunde nach der Belichtung erfolgt.
Die erhaltenen Proben werden wie in Beispiel 1 getestet. Aus den in der folgenden Tabelle genannten Ergebnissen ist
ersichtlich, daß die latente Bildprogression bei der erfindungsgemäßen
vorsensibxlisierten Druckplatte gegenüber der Probe B wesentlich verringert ist.
Unterschied der Empfindlich- Empfindlich- Punktwachs-
keit zwischen Probe 1 und keitsänderung tum
Probe 2 (latente Bildpro- (x-fach)
gression)
A 1 Stufe in der Grauskala etwa 1,5 0,5 - 1 %
B 4 Stufen in der Grauskala etwa 4 4 %
Beispiel 3
Vorsensibilisierte Platten C, D und E werden gemäß Beispiel 1 hergestellt, jedoch verwendet man die folgenden Polymeren
c, d bzw. e anstelle von Poly(allyImethacrylat/methacrylsäure)
in der lichtempfindlichen Zusammensetzung (1).
Polymer c: Poly(cinnamylmethacrylat/methacrylsäure) mit
einem Copolymerisations-Molverhältnis von 89,5 : 10,5;
33326AC
Polymer d:
Polymer e:
Poly(crotylmethacrylat/methacrylsäure) mit
einem Copolymerisations-Molverhältnis von 83,3 : 16,7;
Poly(methallylmethacrylat/methacrylsäure) mit einem Copolymerisations-Molverhältnis von
83,5 : 16,5.
Jede dieser Platten wird wie in den Beispielen 1 und getestet, wobei die in der folgenden Tabelle genannten ausgezeichneten
Ergebnisse ermittelt werden.
Temperaturab hängigkeit |
Empfindlich keitsänderun gen |
Punktwachs tum |
latente Bild progression |
|
C | 3 Stufen | 2,8-fach | 0 - | 1 Stufe |
D | 3 Stufen | 2,8-fach | 0 - | 1 Stufe |
E | 3 Stufen | 2,8-fach | 0 - | 1 Stufe |
- 2 % | ||||
- 2 % | ||||
- 2 % |
Vorsensibilisierte Platten F und G werden gemäß Beispiel 1 hergestellt, jedoch verwendet man die folgenden Polymeren
f bzw. g anstelle von Poly(allylmethacrylat/methacrylsäure)
in der lichtempfindlichen Zusammensetzung (1).
Polymer f;
—fCH„ -CH-CH-
86
COOH COOCH2CH=CH2
COPY
Polymer g:
2 - CH - CH - CH-)-
Δ 1 ι in
IJ COOH COOCH2CH=CH-(/ \
Jede dieser Platten wird wie in den Beispielen 1 und 2
getestet, wobei die folgenden Ergebnisse erhalten werden:
getestet, wobei die folgenden Ergebnisse erhalten werden:
Temperaturabhängigkeit
2 Stufen
3 Stufen
Empfindlichkeitsänderung
^-fach 2,8-fach
Punktwachs-
- 1 %
- 3 %
Latente BiIdprogression
2-3 Stufen 2 Stufen
Vorsensibilisierte Druckplatten H, I, J und K werden gemäß Beispiel 1 hergestellt, jedoch verwendet man die folgenden
Polymeren h, i, j bzw. k anstelle von Poly(ally1-methacrylat/methacrylsäure)
in der lichtempfindlichen
Zusammensetzung (1).
Zusammensetzung (1).
Polymer h:
C=O
0-CH2-CH=CH2
COOH
BAD ORIGINAL
Polymer i:
CH.
—tCH- - C}
72.5 I C=O
OCH2CH=CH
CH2OCH2CH3
Polymer j: l2
Polymer k:
C=O
COOH
OCH2CH=CH-(^Jy-OCH3
Jede dieser Platten wird wie in den Beispielen 1 und 2 getestet, wobei die folgenden Ergebnisse erhalten werden:
Temperaturab hängigkeit |
Empfindlich keitsänderung |
Punktwachs tum |
latente Bild progression |
|
H | 2-3 Stufen | etwa 2,5-fach | 0 - | 1-2 Stufen |
I | 1-2 Stufen | etwa 2-fach | 1 ■ | 1-2 Stufen |
J | 2-3 Stufen | etwa 2,5-fach | 0 ■ | 2 Stufen |
K | 3 Stufen | etwa 2,8-fach | 1 ■ | 2 Stufen |
- 3 % | ||||
- 2 % | ||||
- 2 % | ||||
- 3 % |
copy
Claims (13)
1. Vorsensibilisierte Druckplatte, gekennzeichnet durch einen Schichtträger und eine
darauf aufgebrachte Schicht aus einer photopolymerisierbaren Zusammensetzung, die
(A) ein Polymer, dessen Seitenketten Carbonsäuregruppen und Gruppen der allgemeinen Formel I aufweisen:
R-. R-, R.
1X I3 I4
C = C-C-Z- (I)
R2
wobei R1 bis Rc Wasserstoff, Halogen, Carboxyl,
i £8#
i ,^1 Sülfo, Nitro, Cyano, Amido, Amino oder substituier- ? '!S~t.es oder unsubstituiertes Alkyl, Aryl, Alkoxy, Aryloxy, Alkylamino, Arylamino, Alkylsulfonyl oder Arylsulfonyl bedeuten und Z Sauerstoff, Schwefel, -NH- oder -NR- (R = Alkyl) ist;
i ,^1 Sülfo, Nitro, Cyano, Amido, Amino oder substituier- ? '!S~t.es oder unsubstituiertes Alkyl, Aryl, Alkoxy, Aryloxy, Alkylamino, Arylamino, Alkylsulfonyl oder Arylsulfonyl bedeuten und Z Sauerstoff, Schwefel, -NH- oder -NR- (R = Alkyl) ist;
(B) ein Monomer oder Oligomer mit mindestens zwei polymer is ierbaren, ethylenisch ungesättigten Doppelbindungen
und
(C) einen Photopolymerisationsinitiator enthält.
(C) einen Photopolymerisationsinitiator enthält.
2. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger eine Aluminiumplatte ist.
3. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger eine Verbundfolie in Form einer
auf eine Polyethylenterephthalatfolie aufgebrachten Aluminiumfolie ist.
copy
_ ο
4. Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß das Polymer (A) die ungesättigte Gruppe in einer Menge von 10 bis 90 Molprozent und die
Carbonsäuregruppe in einer Menge von 5 bis 60 Molprozent als Molverhältnis bei der Copolymerisation enthält.
5. Druckplatte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Polymer (A) die ungesättigte Gruppe in einer
Menge von 20 bis 70 Molprozent und die Carbonsäuregruppe in einer Menge von 10 bis 40 Molprozent als
Molverhältnis bei der Copolymerisation enthält.
6. Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die Komponente (B) ausgewählt ist unter Ethylenglykoldi(meth)acrylat, Polyethylenglykoldi
(meth)acrylat, Trimethylolethantri(meth)acrylat,
Trimethylolpropantri(meth)acrylat, Neopentylglykoldi-(meth)acrylat,
Tri-, Tetra- und Hexa(meth)acrylaten von Pentaerythrit oder Dipentaerythrit und Epoxydi-(meth)
acrylat.
7. Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß das Mischungsverhältnis von Komponente (B) zu Komponente (A) 1 : 9 bis 7 : 3 beträgt.
8. Druckplatte nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß das Mischungsverhältnis von Komponente (B) zu Komponente (A) 2,5 : 7,5 bis 5 : 5 beträgt.
9. Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß die Komponente (C) in einer Menge von 0,5 bis etwa 15 Gewichtsprozent, bezogen auf das
Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren Zusammensetzung, vorhanden ist.
BAD ORIGINAL
33326A0
10. Druckplatte nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß die Komponente (C) in einer Menge von 2 bis 10 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren
Zusammensetzung, vorhanden ist.
11. Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch
gekennzeichnet, daß die photopolymerisierbare Zusammensetzung auf den Schichtträger in einer Trockenauftragsmenge
von etwa 0,1 bis 10 g/m2 aufgetragen ist.
12. Druckplatte nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die photopolymerisierbare Zusammensetzung auf den
Schichtträger in einer Trockenauftragsmenge von 0,5 bis 5 g/m2 aufgetragen ist.
13. Verwendung der vorsensibilisierten Druckplatte nach
einem der Ansprüche 1 bis 12 zur Herstellung von Flachdruckformen.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57157198A JPS5946643A (ja) | 1982-09-09 | 1982-09-09 | 感光性平版印刷版 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3332640A1 true DE3332640A1 (de) | 1984-03-15 |
DE3332640C2 DE3332640C2 (de) | 1988-12-08 |
DE3332640C3 DE3332640C3 (de) | 1992-12-10 |
Family
ID=15644342
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3332640A Granted DE3332640A1 (de) | 1982-09-09 | 1983-09-09 | Vorsensibilisierte druckplatte und deren verwendung zur herstellung von flachdruckformen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4511645A (de) |
JP (1) | JPS5946643A (de) |
CA (1) | CA1206366A (de) |
DE (1) | DE3332640A1 (de) |
GB (1) | GB2129822B (de) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0104863A2 (de) * | 1982-09-21 | 1984-04-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lichtempfindliche Flachdruckplatte |
EP0257812A2 (de) * | 1986-08-05 | 1988-03-02 | The Standard Oil Company | Nitril-Acrylat-Überzugsmasse mit hängenden funktionellen Gruppen und Strahlenhärtungsverfahren |
DE3811832A1 (de) * | 1987-04-10 | 1988-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Trockene, vorsensibilisierte platte und verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte |
EP0333186A2 (de) * | 1988-03-18 | 1989-09-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lichtempfindliche lithographische Platte, die kein Befeuchtungswasser benötigt |
EP2194429A1 (de) | 2008-12-02 | 2010-06-09 | Eastman Kodak Company | Gummierzusammensetzungen mit Nanoteilchen zur Verbesserung der Kratzempfindlichkeit in Bild- und Nicht-Bild-Bereichen von lithografischen Druckplatten |
EP2293144A1 (de) | 2009-09-04 | 2011-03-09 | Eastman Kodak Company | Verfahren und Vorrichtung zum Trocknen von Lithographiedruckplatten nach einer Einstufenverarbeitung |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0767868B2 (ja) * | 1984-10-23 | 1995-07-26 | 三菱化学株式会社 | 感光性平版印刷版 |
US5080999A (en) * | 1985-06-10 | 1992-01-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive diazo resin composition containing a higher fatty acid or higher fatty acid amide |
JPS62290705A (ja) * | 1986-06-10 | 1987-12-17 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光重合性組成物 |
US5188032A (en) * | 1988-08-19 | 1993-02-23 | Presstek, Inc. | Metal-based lithographic plate constructions and methods of making same |
JP2549303B2 (ja) * | 1988-09-21 | 1996-10-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
JPH0389353A (ja) * | 1989-09-01 | 1991-04-15 | Nippon Paint Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
KR0140908B1 (ko) * | 1995-01-20 | 1998-06-15 | 박흥기 | 액정 디스플레이 칼라필터용 안료분산 포토 레지스트 조성물 |
US6159658A (en) * | 1996-03-19 | 2000-12-12 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive resin composition with polymer having an ionic group and having a polymerizable group in the side chain and printing plate materials |
EP0851299B1 (de) | 1996-12-26 | 2000-10-25 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photoempfindliche lithographische Druckplatte |
US6232364B1 (en) * | 1999-02-18 | 2001-05-15 | Shimizu Co., Ltd. | Ultraviolet curable coating compositions for cationic electrodeposition applicable to metallic materials and electrically conductive plastic materials |
US6893797B2 (en) * | 2001-11-09 | 2005-05-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | High speed negative-working thermal printing plates |
US7056639B2 (en) * | 2001-08-21 | 2006-06-06 | Eastman Kodak Company | Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid |
JP4152656B2 (ja) * | 2002-04-02 | 2008-09-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
EP1445120B1 (de) | 2003-02-06 | 2007-07-18 | FUJIFILM Corporation | Lichtempfindliche Flachdruckplatte |
JP2005122113A (ja) * | 2003-08-28 | 2005-05-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物及び画像記録材料 |
US7858292B2 (en) * | 2007-12-04 | 2010-12-28 | Eastman Kodak Company | Imageable elements with components having 1H-tetrazole groups |
US20100227269A1 (en) * | 2009-03-04 | 2010-09-09 | Simpson Christopher D | Imageable elements with colorants |
CN101613276B (zh) * | 2009-06-23 | 2012-12-26 | 苏州苏大欧罗新材料科技有限公司 | 彩色滤光片用彩色光阻剂 |
US20120090486A1 (en) | 2010-10-18 | 2012-04-19 | Celin Savariar-Hauck | Lithographic printing plate precursors and methods of use |
US8900798B2 (en) | 2010-10-18 | 2014-12-02 | Eastman Kodak Company | On-press developable lithographic printing plate precursors |
US20120141935A1 (en) | 2010-12-03 | 2012-06-07 | Bernd Strehmel | Developer and its use to prepare lithographic printing plates |
US20120141941A1 (en) | 2010-12-03 | 2012-06-07 | Mathias Jarek | Developing lithographic printing plate precursors in simple manner |
US20120141942A1 (en) | 2010-12-03 | 2012-06-07 | Domenico Balbinot | Method of preparing lithographic printing plates |
US20120199028A1 (en) | 2011-02-08 | 2012-08-09 | Mathias Jarek | Preparing lithographic printing plates |
JP5705584B2 (ja) | 2011-02-24 | 2015-04-22 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
WO2012133382A1 (ja) | 2011-03-28 | 2012-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
US8632940B2 (en) | 2011-04-19 | 2014-01-21 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
US8722308B2 (en) | 2011-08-31 | 2014-05-13 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
US8632941B2 (en) | 2011-09-22 | 2014-01-21 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors with IR dyes |
US9029063B2 (en) | 2011-09-22 | 2015-05-12 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors |
BR112014007143A2 (pt) | 2011-09-26 | 2017-06-13 | Fujifilm Corp | processo para fabricar chapa de impressão litográfica |
EP2762974B1 (de) | 2011-09-26 | 2017-07-26 | Fujifilm Corporation | Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte |
US8679726B2 (en) | 2012-05-29 | 2014-03-25 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors |
US8889341B2 (en) | 2012-08-22 | 2014-11-18 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors and use |
US8927197B2 (en) | 2012-11-16 | 2015-01-06 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors |
EP2735903B1 (de) | 2012-11-22 | 2019-02-27 | Eastman Kodak Company | Negativ arbeitende Lithografiedruckplattenvorläufer mit hochverzweigtem Bindemittelmaterial |
US9063423B2 (en) | 2013-02-28 | 2015-06-23 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and use |
EP2778782B1 (de) | 2013-03-13 | 2015-12-30 | Kodak Graphic Communications GmbH | Negativ arbeitende strahlungsempfindliche Elemente |
US9201302B2 (en) | 2013-10-03 | 2015-12-01 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursor |
US20170021656A1 (en) | 2015-07-24 | 2017-01-26 | Kevin Ray | Lithographic imaging and printing with negative-working photoresponsive printing members |
US11633948B2 (en) | 2020-01-22 | 2023-04-25 | Eastman Kodak Company | Method for making lithographic printing plates |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3556793A (en) * | 1968-05-22 | 1971-01-19 | Gaf Corp | Novel substituted allyl polymer derivatives useful as photoresists |
DE2320849A1 (de) * | 1972-04-26 | 1973-11-08 | Eastman Kodak Co | Photographisches material |
US3796578A (en) * | 1970-12-26 | 1974-03-12 | Asahi Chemical Ind | Photopolymerizable compositions and elements containing addition polymerizable polymeric compounds |
US3825430A (en) * | 1972-02-09 | 1974-07-23 | Minnesota Mining & Mfg | Light-sensitive composition and method |
DE2429134B2 (de) * | 1973-06-18 | 1978-07-20 | Kansai Paint Co., Ltd., Amagasaki, Hyogo (Japan) | Acrylharz enthaltender Photolack, dessen Herstellung und Verwendung |
SU781746A1 (ru) * | 1979-01-15 | 1980-11-23 | Предприятие П/Я А-7850 | Фотополимеризующа с композици |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3376138A (en) * | 1963-12-09 | 1968-04-02 | Gilano Michael Nicholas | Photosensitive prepolymer composition and method |
BE757124A (fr) * | 1969-10-09 | 1971-04-06 | Kalle Ag | Plaques d'impression a plat composee de feuilles |
GB1376450A (en) * | 1970-12-26 | 1974-12-04 | Asahi Chemical Ind | Photopolymerizable compositions and elements containing them |
JPS5756485B2 (de) * | 1973-01-25 | 1982-11-30 | ||
JPS5549729B2 (de) * | 1973-02-07 | 1980-12-13 | ||
JPS6046694B2 (ja) * | 1976-02-16 | 1985-10-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 金属画像形成材料 |
JPS55133035A (en) * | 1979-04-02 | 1980-10-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electron sensitive resin material |
SU911443A1 (ru) * | 1979-07-09 | 1982-03-07 | Всесоюзный научно-исследовательский и проектный институт химической промышленности | Фотополимеризующа с композици |
US4289842A (en) * | 1980-06-27 | 1981-09-15 | Eastman Kodak Company | Negative-working polymers useful as electron beam resists |
-
1982
- 1982-09-09 JP JP57157198A patent/JPS5946643A/ja active Granted
-
1983
- 1983-09-02 GB GB08323618A patent/GB2129822B/en not_active Expired
- 1983-09-08 CA CA000436308A patent/CA1206366A/en not_active Expired
- 1983-09-09 US US06/530,821 patent/US4511645A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-09-09 DE DE3332640A patent/DE3332640A1/de active Granted
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3556793A (en) * | 1968-05-22 | 1971-01-19 | Gaf Corp | Novel substituted allyl polymer derivatives useful as photoresists |
US3796578A (en) * | 1970-12-26 | 1974-03-12 | Asahi Chemical Ind | Photopolymerizable compositions and elements containing addition polymerizable polymeric compounds |
US3825430A (en) * | 1972-02-09 | 1974-07-23 | Minnesota Mining & Mfg | Light-sensitive composition and method |
DE2320849A1 (de) * | 1972-04-26 | 1973-11-08 | Eastman Kodak Co | Photographisches material |
DE2429134B2 (de) * | 1973-06-18 | 1978-07-20 | Kansai Paint Co., Ltd., Amagasaki, Hyogo (Japan) | Acrylharz enthaltender Photolack, dessen Herstellung und Verwendung |
SU781746A1 (ru) * | 1979-01-15 | 1980-11-23 | Предприятие П/Я А-7850 | Фотополимеризующа с композици |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0104863A2 (de) * | 1982-09-21 | 1984-04-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lichtempfindliche Flachdruckplatte |
EP0104863A3 (en) * | 1982-09-21 | 1986-04-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive planographic printing plate |
EP0257812A2 (de) * | 1986-08-05 | 1988-03-02 | The Standard Oil Company | Nitril-Acrylat-Überzugsmasse mit hängenden funktionellen Gruppen und Strahlenhärtungsverfahren |
EP0257812A3 (de) * | 1986-08-05 | 1989-09-13 | The Standard Oil Company | Nitril-Acrylat-Überzugsmasse mit hängenden funktionellen Gruppen und Strahlenhärtungsverfahren |
DE3811832A1 (de) * | 1987-04-10 | 1988-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Trockene, vorsensibilisierte platte und verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte |
DE3811832C2 (de) * | 1987-04-10 | 1998-06-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Trockene, vorsensibilisierte Platte und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
EP0333186A2 (de) * | 1988-03-18 | 1989-09-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lichtempfindliche lithographische Platte, die kein Befeuchtungswasser benötigt |
EP0333186A3 (en) * | 1988-03-18 | 1990-04-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic plate necessitating no dampening water |
EP2194429A1 (de) | 2008-12-02 | 2010-06-09 | Eastman Kodak Company | Gummierzusammensetzungen mit Nanoteilchen zur Verbesserung der Kratzempfindlichkeit in Bild- und Nicht-Bild-Bereichen von lithografischen Druckplatten |
EP2293144A1 (de) | 2009-09-04 | 2011-03-09 | Eastman Kodak Company | Verfahren und Vorrichtung zum Trocknen von Lithographiedruckplatten nach einer Einstufenverarbeitung |
WO2011026907A1 (en) | 2009-09-04 | 2011-03-10 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for drying after single-step-processing of lithographic printing plates |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0363740B2 (de) | 1991-10-02 |
US4511645A (en) | 1985-04-16 |
JPS5946643A (ja) | 1984-03-16 |
GB8323618D0 (en) | 1983-10-05 |
CA1206366A (en) | 1986-06-24 |
GB2129822A (en) | 1984-05-23 |
DE3332640C3 (de) | 1992-12-10 |
GB2129822B (en) | 1987-06-03 |
DE3332640C2 (de) | 1988-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3332640C2 (de) | ||
DE2706633C2 (de) | ||
DE3633456C2 (de) | Lichtempfindliches Gemisch mit einem Diazoharz | |
DE2039861C3 (de) | Photopolymensierbare Kopier masse | |
DE3931525B4 (de) | Lichtempfindliche Zusammensetzung | |
DE3120052A1 (de) | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial | |
EP0374705A2 (de) | Photopolymerisierbare Verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
EP0031592A1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial | |
DE3048502A1 (de) | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial | |
DE2924294A1 (de) | Lichtempfindliche lithographische druckplatte | |
EP0374704A2 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
DE3825738C2 (de) | Lichtempfindliches Gemisch | |
EP0003804A1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch, das einen Monoazofarbstoff enthält | |
DE1797308A1 (de) | Lichtempfindliches Schicht-und Aufzeichnungsmaterial | |
EP0220589B1 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
EP0248395A2 (de) | Lichtempfindliches Aufzeichnungselement | |
DE3924811A1 (de) | Pfropfpolymerisat mit ungesaettigten seitenketten, dieses enthaltendes lichtempfindliches gemisch sowie daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial | |
DE3206030C2 (de) | ||
EP0186844A2 (de) | Lichtempfindliches Aufzeichnungselement | |
DE3319991C2 (de) | ||
DE4324614A1 (de) | Monomere mit cyclischen Carbonatgruppen | |
EP0429955A2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen Druckform | |
DE4135996A1 (de) | Photopolymerisierbare zusammensetzung | |
EP0244749A2 (de) | Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial | |
DE3214537C2 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8366 | Restricted maintained after opposition proceedings | ||
8305 | Restricted maintenance of patent after opposition | ||
D4 | Patent maintained restricted | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: BARZ, P., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT., PAT.-ANW., 80803 MUENCHEN |