DE2924294A1 - Lichtempfindliche lithographische druckplatte - Google Patents
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Description
WIEGAND NIEMAND
KÖHLER GERNHARDT GLAESER 292 4 29 A
KÖHLER GERNHARDT GLAESER 292 4 29 A
DR. M. KÖHLER TElEXi 529068 KARP D DIPL-ING. C GERNHARDT
HAMBURG
DIPL-ING. ]. GLAESER
15. Juni 1979 W 4? 474/79 Dr. Ko/Hi
Fuji Photo Film Co., Ltd. Minami Ashigara-Shi, Kanagawa (Japan)
Lichtempfindliche lithographische Druckplatte
Die Erfindung betrifft eine lichtempfindliche lithographische
Druckplatte oder sogenannte vorsensibilisierte
Platte, insbesondere eine verbesserte lichtempfindliche lithographische Druckplatte, worin die lichtempfindliche Schicht
einen speziellen Aufbau hat.
Die bisher in vorsensibilisierten Druckplatten verwendeten lichtempfindlichen Materialien sind meistens Diazoniumverbindungen,
und von diesen Verbindungen sind die häufigst eingesetzten Diazoharze, beispielsweise Formaldehydkondensate
von p-Diazodiphenylaminen. Falls ein derartiges Diazoharz auf
einen geeigneten Träger wie ein Papierblatt, eine Kunststofffolie, eine Metallplatte od. dgl. aufgezogen ist und der erhaltene
Überzug an aktinische Strahlung durch ein negatives Dia
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ausgesetzt wird, erleidet das vorhandene Diazoharz eine Lichtzersetzung
in den belichteten Bereichen und wird in wasserunlösliche Substanzen überführt, wobei diese Teile nachfolgend
als Bildbereiche bezeichnet werden. Andererseits werden die unbelichteten Bereiche anschließend mit Wasser ausgewaschen und
dadurch wird die Oberfläche des Trägers in den Bereichen entsprechend den unbelichteten Bereichen freigelegt, wobei diese
Teile nachfolgend als Nicht-Bildbereiche bezeichnet werden. Falls der eingesetzte Träger einer vorhergehenden Behandlung
unterworfen wurde, um die Oberfläche desselben hydrophil zu machen, wird diese hydrophile Oberfläche in den unbelichteten
Bereichen durch die Entwicklung freigesetzt. Dieser Bereich nimmt deshalb V/asser an und weist fettartige Druckfarben auf
einer Offset-Druckmaschine ab. Andererseits zeigen die Lichtzersetzungsprodukte
des Diazoharzes oleophile Eigenschaften und weisen das Wasser ab und nehmen eine fettartige Druckfarbe
darauf an. Lichtempfindliche Druckplatten dieser Art sind die sogenannten negativ arbeitenden lichtempfindlichen Druckplatten.
Die für lichtempfindliche Druckplatten der vorstehend geschilderten
Art geeigneten Massen für die lichtempfindlichen Schichten lassen sich in zwei Klassen unterteilen: Eine Klasse
umfaßt Massen, die aus den Diazoharzen allein bestehen, d.h. Massen frei von Bindern, wie sie beispielsweise in der US-Patentschrift
2 714 066 beschrieben sind, und die andere Klasse umfaßt Massen, die aus Kombinationen von Diazoharzen und Bindern
bestehen, wie sie beispielsweise in der US-Patentschrift 2 826 501 und der britischen Patentschrift 1 074 392 beschrieben
sind. Im ersteren Fall liegt die Stärke der lichtempfindlichen
Schicht in der Größenordnung von 20 bis 100 mg/m , angegeben auf der Basis des Überzugsgewichtes, aufgrund des Fehlens
des Binders. Die lichtempfindliche Schicht kann lediglich ein Bild mit schlechter Abriebsbeständigkeit und kurzer Drucklebensdauer,
so wie es ist, liefern. Deshalb ist es notwendig, die Bildbereiche zu verstärken. Um Druckplatten zu erhalten, die
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den verschiedenen Arten von mechanischen Kräften wie Reibung, Abschälung und ähnlichen Kräften widerstehen können, die während
des Druckverfahrens auftreten, werden bestimmte Harze selektiv auf den Bildbereichen unter Anwendung von Lacken in
Form von Emulsionen gleichzeitig oder nach der Entwicklungsbehandlung fixiert. Die für derartige Zwecke eingesetzten Lacke
müssen eine ausgezeichnete Abriebsbeständigkeit haben, zur Haftung an dem Bildteil fähig sein und dürfen keinen Abrieb,
Schmutz u. dgl. verursachen. In der US-Patentschrift 2 754 279 ist eine verbesserte Lackmasse angegeben. Da jedoch die Plattenherstellungsarbeiter
die Lacke auf die lithographischen Druckplatten aufziehen und weiterhin zahlreiche Eigenschaften der
erhaltenen Druckplatten davon abhängen, ob die Lacke hierauf fachmännisch oder unfachmännisch aufgezogen sind, ist eine
große Fachkenntnis erforderlich. Mit der Absicht zur Überwindung dieser Nachteile sind lithographische lichtempfindliche
Druckplatten, die Harze von ausgezeichneter Abriebsbeständigkeit entsprechend den vorstehend aufgeführten Lacken einverleibt in
den lichtempfindlichen Schichten zusammen mit den Diazoharzen enthalten, worin die lichtempfindlichen Schichten auf die erforderliche
Stärke von etwa 0,5 bis 5 g/m eingestellt sind, in der US-Patentschrift 2 826 501 und der britischen Patentschrift
1 074 392 beschrieben. Falls eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte dieser Art an Licht durch ein bildtragendes
Dia ausgesetzt wird und anschließend unter Anwendung bestimmter Entwicklungslösungen entwicklungsbehanuelt wird,
können die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht von der Grundlage entfernt werden, und die belichteten Bereiche
der lichtempfindlichen Schicht verbleiben auf der Grundlage, da die belichteten Bereiche eine niedrigere Löslichkeit in der
Entwicklerlösung oder eine geringere Neigung zum Quellen in der Entwicklerlösung zeigen als es bei den unbelichteten Bereichen
der Fall ist. Infolgedessen zeigen die in dieser Weise erhaltenen lithographischen Druckplatten ein ausgezeichnetes Druckver-
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halten, das gleich oder überlegen dem in dem Fall erhaltenen ist, wo die vorstehend aufgeführten Lacke auf die Bildbereiche
nach der Entwicklung aufgezogen werden.
Jedoch sind im Fall der Einverleibung von Harzen in die lichtempfindlichen Schichten die Verträglichkeiten der eingesetzten
Harze mit den Diazoharzen und die Wahl der üblichen Lösungsmittel wichtig, und die als Binder in den lichtempfindlichen
Schichten enthaltenen Harze müssen solche Eigenschaften besitzen, daß die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen,
das als Binder wirkende Harz enthaltenden Schicht insgesamt unlöslich in der Entwicklungslösung bei der Lichtzersetzung
der lichtempfindlichen Substanz werden, oder daß sich ein klarer Unterschied der Löslichkeit oder des Quellungsgrades zwischen
den belichteten und den unbelichteten Bereichen, d.h. eine ausgezeichnete Härtungseigenschaft, einstellt. Ferner darf
die gemeinsame Anwesenheit des Harzes zusammen mit dem lichtempfindlichen Diazoharz keine Schädigung der LagerungsStabilität
der lichtempfindlichen Schicht verursachen. D.h. die Eigenschaften der lichtempfindlichen Schicht wie Empfindlichkeit,
Entwicklungsfähigkeit u. dgl. werden bei der Lagerung bei den ursprünglichen Vierten gehalten. Es ist bekannt, daß bestimmte
wasserlösliche Kolloide Widerstände von sehr hoher Qualität liefern können, wenn sie als Binder für Diazoharze verwendet
werden, jedoch werden sie in wenigen Tagen aufgrund von Dunkelreakfcion
geschädigt und verlieren ihre Empfindlichkeiten für Licht.
Als Harze, die viele der für die vorstehend aufgeführten Zwecke erforderlichen Eigenschaften in zufriedenstellendem Ausmaß
besitzen, sind Schellack entsprechend der britischen Patentschrift 1 350 521, Homopolymers von Hydroxyalkylacrylaten oder
Hydroxyalkylmethacrylaten oder aus einem der vorstehend aufgeführten
Monomeren und Einern oder mehreren copolymerisierbaren
Monomeren hergestellte Copolymere entsprechend den britischen
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Patentschriften 1 460 978, 1 475 599 und 1 505 739 u. dgl. bekannt.
Jedoch ist selbst in den lithographischen Druckplatten, bei denen Gebrauch von lithographischen lichtempfindlichen
Druckplatten mit lichtempfindlichen Schichten mit dem Gehalt derartiger Binder und Diazoharze gemacht wurde, die Empfindlichkeit
für Fett, d.h. die Fähigkeit zur Annahme der für den lithographischen Druck eingesetzten fettartigen Druckfarben,
in den Bildbereichen niedrig. Falls deshalb Drucke in großer Anzahl wiederholt unter Anwendung der gleichen Druckplatte hergestellt
werden, haben die ersten Blätter der Drucke niedrige Bilddichten und lediglich beim anschließenden Drucken werden
Drucke mit den gewünschten Bilddichten erhalten. Infolgedessen können die ersten Blätter der Drucke mit niedrigen Bilddichten
nicht verwendet werden, sondern müssen als Abfall weggeworfen werden. Die Lösung derartiger Probleme wird ernsthaft von den
Fachleuten auf dem Druckgebiet seit langer Zeit gesucht.
Jetzt wird als technischer Versuch zur Herstellung von lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten, die lithographische
Druckplatten mit Bildbereichen mit hohen oleophilen Eigenschaften, d.h. Affinität zu Fett, liefern können, ein Verfahren
angewandt, bei dem eine geringe Menge eines Binders mit stark oleophilem Charakter zu der lichtempfindlichen Schicht
zugesetzt wird. Beispielsweise ist in der US-Patentschrift 4 123 297 entsprechend der japanischen Patentanmeldung
125806/75 ein Verfahren zur Erteilung einer hohen Affinität für Fett an die lichtempfindliche Schicht beschrieben, wobei
ein stark oleophiles\ -BUtylphenol-Formaldehydharz vom Uovolak-Typ
homogen in geringen Mengen in eine ein o-Chinondiazid und ein Kresol-Formaldehydharz vom Novolak-Typ enthaltende lichtempfindliche
Schicht einverleibt wird. Jedoch bestehen dort verschiedene Beschränkungen hinsichtlich des Materials, wobei
beispielsweise der zur Erhöhung der oleophilen Eigenschaften eingesetzte stark oleophile Binder eine gute Verträglichkeit
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mit dem zur Verbesserung der Drucklebensdauer angewandten Binder besitzen muß und die Entwicklungseigenschaft nicht verringern
darf. Unter diesen Gesichtspunkten kann dieser Versuch lediglich mit einem äußerst begrenzten Bereich von Bindern ausgeführt
werden. In der Praxis konnten, obwohl der vorstehend aufgeführte Versuch für lichtempfindliche lithographische
Druckplatten vom Negativtyp entsprechend der britischen Patentschrift
1 475 599 zum Zweck der Herstellung von lithographischen Druckplatten mit besserer Affinität für Fett angewandt
wurde, zufriedenstellende Eigenschaften nicht erhalten werden.
Eine Aufgabe der Erfindung besteht deshalb in lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatten, die lediglich einige wenige Abfallblätter beim Beginn des Drückens ergeben.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einer lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatte, bei der die Bildbereiche hohe oleophile Eigenschaften besitzen.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einer lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatte, die hohe oleophile Eigenschaften in den Bildbereichen, ausgezeichnete Druckwiedergabe
oder Drucklebensdauer zeigt und eine ausgezeichnete Entwicklungsfähigkeit und Lagerungsstabilität besitzt.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten, worin die hohen
oleophilen Eigenschaften in den Bildbereichen unter Anwendung technischer Maßnahmen erzielt werden, die für eine große Vielzahl
von vorsensibilisierten Druckplatten anwendbar oder geeignet sind.
Die vorstehend geschilderten Aufgaben werden erreicht, indem
eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte aus
einem Träger und einer auf mindestens einer Seite des Trägers ausgebildeten lichtempfindlichen Schicht so hergestellt wird,
daß die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht eine höhere Affinität für Fett zeigt als in der restlichen lichtempfindlichen
Schicht.
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Die vorstehend angegebene lichtempfindliche Schicht als Ausbildungsform der vorliegenden Erfindung wurde bei Untersuchungen
gefunden, die zumindest teilweise im Gegensatz zu dem grundlegenden Gedankengut standen, daß die lichtempfindliche
Substanz und der in der lichtempfindlicnen Schicht angewandte Binder und insbesondere die für die jeweiligen Zwecke
eingesetzten Binder miteinander verträglich sein müssen, so daß der Erfolg der vorliegenden Erfindung besonders überraschend
ist.
In den Zeichnungen stellen
Fig. 1 einen Querschnitt einer lichtempfindlichen lithographischen
Druckplatte gemäß der Erfindung mit einem Träger 1 und einer lichtempfindlichen Schicht 2 und
Fig. 2 eine Vergrößerung des Kreises A der Fig. 1 dar.
Im Rahmen der ausführlichen Beschreibung der Erfindung hat die lichtempfindliche lithographische Druckplatte gemäß der
Erfindung eine Struktur, die grundsätzlich aus einem Träger 1 und einer auf dem Träger ausgebildeten lichtempfindlichen
Schicht 2 besteht.
Als derartige Träger können die verschiedenen üblicherweise als Träger für lithographische Druckplatten eingesetzten
Materialien verwendet werden,und insbesondere werden Platten mit hoher Dimensionsstabilität bevorzugt. Spezifische Beispiele
derartiger Materialien umfassen Metallplatten aus Aluminium, Aluminiumlegierungen, Zink, Eisen, Kupfer u. dgl., Kunststofffolien
aus Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Cellulosebutyratacetat, Cellulosenitrat,
Polyethylenterephthalat, Polyäthylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat, Polyvinylacetal u. dgl. und Papierblätter
oder Kunststoffilme, worauf die vorstehend angegebenen Metalle
aufgeschichtet oder abgeschieden sind.
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Von diesen Materialien v/erden besonders Metallplatten und
mit Metall beschichtete oder abgeschiedene Kunststoffilme bevorzugt,
wobei am günstigsten hiervon Aluminiumplatten sind.
Diese Grundmaterialien werden gegebenenfalls Oberflächenbehandlungen
unterzogen. Die Oberflächenbehandlungen werden für verschiedene Zwecke ausgeführt, beispielsweise zur Verbesserung
der Benetzbarkeit der Trägeroberfläche für die zum Zeitpunkt des Druckes verwendete Spüllösung, zur Verbesserung der Haftung
zwischen dem Träger und der darauf ausgebildeten lichtempfindlichen
Schicht, zur Verhinderung schädlicher Reaktionen zwischen dem Träger und der darauf ausgebildeten lichtempfindlichen
Schicht u. dgl. Beispielsweise werden Kunststoffträger
allgemein einer bestimmten Behandlung unterworfen, um deren Oberflächen hydrophil zu machen. Spezifische Beispiele derartiger
vorhergehender Behandlungen umfassen die sogenannten Oberflächenbehandlungen wie chemische Behandlung, Entladungsbehandlung,
Flaminbehandlung, Ultraviolettstrahlbehandlung, Hochfrequenzbehandlung, Glühentladungsbehandlung, Flammbehandlung mit
aktiviertem Plasmastrahl, Laserbehandlung u. dgl., wie in den US-Patentschriften 2 764 520, 3 497 407, 3 145 242, 3 376 208,
3 072 483, 3 475 193 und 3 360 448, der britischen Patentschrift
788 365 u. dgl. beschrieben, sowie in dem Aufziehen einer Grundierschicht auf einen Kunststoffträger, der eine derartige
vorstehend angegebene Oberflächenbehandlung erhalten hat,
Verschiedene Verfahren zum Aufziehen der Grundierschicht
wurden entwickelt. Z.B. gibt es ein Doppelschicht-Überzugsverfahren,
wobei eine Schicht aus einem hydrophoben Harz, welches eine hohe -Haftfestigkeit für Kunststoffträger und eine gute
Löslichkeit besitz", als erste Grundierschicht aufgezogen wird und darauf eine Schicht aus einem hydrophilen Harz zusätzlich
als zweite Grundierschicht aufgezogen wird, sowie ein Einzelschicht-Überzugsverfahren,
wobei ein Harz, welches sowohl hydrophobe als auch hydrophile Gruppen in einem Polymermolekül ent-
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hält, in einer Schicht auf den Träger aufgezogen wird.
Andererseits v/erden im Fall von Trägern mit Oberflächen aus Metallen, insbesondere Aluminium, Oberflächenbehandlungen
wie Körnungsbehandlung, Eintauchbehandlung in eine wäßrige Lösung aus Natriumsilicat, Kaliumfluorzirconat, Phosphaten oder
ähnlichen Salzen, änodische Oxidationsbehandlungen u. dgl. bevorzugt.
Außerdem sind Aluminiumplatten, die eine Körnungsbehandlung und eine anschließende Eintauchbehandlung in eine
wäßrige Lösung von Natriumsilicat entsprechend der US-Patentschrift 2 714 066 erhalten haben, oder Aluminiumplatten, die
eine anodische Oxidationsbehandlung und eine anschließende Eintauchbehandlung in eine wäßrige Lösung eines Alkalisilicats
erhalten haben, wie in der US-Patentschrift 3 181 461 beschrieben, gleichfalls zur Anwendung als Träger gut geeignet. Die
vorstehende anodische Oxidationsbehandlung kann ausgeführt werden, indem als Anode eine Aluminiumplatte und als Elektrolytlösung
eine wäßrige Lösung einer anorganischen Säure wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure, Borsäure u. dgl.,
eine organische Säure wie Oxalsäure, Sulfaminsäure u. dgl.
oder Salze hiervon oder eine nichtwäßrige Lösung allein oder eine Kombination von zvrei oder mehr unterschiedlichen nichtwäßrigen Lösungen, insbesondere eine wäßrige Lösung aus Phosphorsäure,
Schwefelsäure oder einem Gemisch hiervon, angewandt wird und elektrischer Strom hindurchgeleitet wird.
Ferner ist auch die Silicatelektroabscheidung entsprechend der US-Patentschrift 3 658 662 wirksam.
In der britischen Patentschrift 1 208 224 ist eine Behandlung angegeben, bei der eine Aluminiumplatte durch einen
Wechselstrom in einer Salzsäure enthaltenden Elektrolytlösung elektrolysiert wird und anschließend eine anodische Oxidation
in einer schwefelsäurehaltigen Elektrolytlösung ausgeführt wird.
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Ferner wird es vom Gesichtspunkt der Verhinderung der
Schmutzbildung beim Auftreten während des Drückens bevorzugt, eine Grundierschicht aus einem Celluloseharz, welches v/asserlösliche
Salze von Metallen wie Zink u. dgl. enthält, auf der
anodisch oxidierten Aluminiumplatte bei dem Verfahren entsprechend
der US-Patentschrift 3 860 426 auszubilden.
Dann wird die lichtempfindliche Schicht, die für die vorliegende Erfindung charakteristisch ist und nachfolgend abgehandelt
wird, unter Anwendung einer ein Diazoharz als lichtempfindliche Komponente als Beispiel enthaltenden lichtempfindlichen
Schicht aufgetragen.
Im allgemeinen enthält die lichtempfindliche Schicht einei
negativ arbeitenden lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte neben dem Diazoharz auch einen Binder, um die Drucklebensdauer
der in der vorstehenden Weise erhaltenen lithographischen Druckplatte zu erhöhen. Die lichtempfindliche Schicht
der lithographischen Druckplatte gemäß der Erfindung enthält zusätzlich ein Polymeres, welches in seinen Seitenketten zur
Verbesserung der Verträglichkeit mit dem vorstehend aufgeführten Binder fähige Gruppen besitzt und eine Hauptkette hat, die
eine schlechte Verträglichkeit mit dem vorstehend aufgeführten Binder besitzt. Bevorzugte Beispiele derartiger lichtempfindlicher
lithographischer Druckplatten umfassen Platten, welche Träger mit darauf befindlichen lichtempfindlichen Schichten
umfassen, die a) Polymere mit dem Gehalt als wiederkehrenden Einheiten sowohl einer Einheit entsprechend der Formel (I) als
auch einer Einheit entsprechend der Formel (II) und mit einer Säurezahl von etwa 10 bis 100-enthalten:
T
(I)
COOfCH2CHO)^H :
R2
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worin R1 ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R2 ein
Wasserstoffatom, eine Methylgruppe, eine Äthylgruppe oder eine Chlormethylgruppe und η eine ganze Zahl von 1 bis 10 bedeuten,
-(CH2-C)- (II)
CN
worin R^ ein Wasserstoff atom oder eine Methylgruppe bedeutet,
b) Polymere, die als wiederkehrende Einheiten sowohl eine Ein heit entsprechend der Formel (III) als auch eine Einheit entsprechend
der Formel (IV) enthalten:
H
I (f (III)
I (f (III)
R4
worin R^ ein Wasserstoffatom, eine Methylgruppe, eine Äthylgruppe,
eine Methoxygruppe, eine Äthoxygruppe oder eine Arylgruppe
bedeuten,
-(CH GHf-
Il UV)
COOR5 COOR6
worin Rc ein Wasserstoffatom, eine Methylgruppe oder eine
Äthylgruppe und R6 eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe bedeuten,
und c) eine Diazoverbindung enthalten.
Die Polymeren entsprechend der vorstehend angegebenen Komponente a) erhöhen die Drucklebensdauer, während andererseits
die Polymeren entsprechend der vorstehend angegebenen Komponente b) die oleophilen Eigenschaften der lithographischen Druckplatten erhöhen.
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Spezifische Beispiele für Arylgruppen entsprechend R^ in
der Formel (III) umfassen monocyclische Arylgruppen wie Phenylgruppen, Chlorphenylgruppen, Xylylgruppen, Cumenylgruppen
u. dgl. und dicyclische Arylgruppen wie Naphthylgruppen u. dgl. Von diesen Gruppen sind Phenylgruppen besonders zu bevorzugen.
Die durch Rg in der Formel (IV) wiedergegebenen Alkylgruppen
enthalten 2 bis 20 Kohlenstoffatome und stärker bevorzugt 5 bis 10 Kohlenstoffatome und sind geradkettig, verzeigtkettig
oder cyclisch. Spezifische Beispiele derartiger Alkylgruppen umfassen n-Propylgruppen, Isopropylgruppen, Butylgruppen,
tert.-Butylgruppen, n-Hexylgruppen, 2-Äthylhexylgruppen,
1,3-Dimethylbutylgruppen, n-Octylgruppen, n-Tridecanylgruppen
u. dgl. Von diesen Gruppen werden n-Hexylgruppen, 2-Äthylhexylgruppen, 1,3-Dimethylbutylgruppen und n-Octylgruppen stärker
bevorzugt.
Spezifische Beispiele für Arylgruppen entsprechend Rg umfassen monocyclische Arylgruppen wie Phenylgruppen, Chlorphenylgruppen
u. dgl. und dicyclische Arylgruppen wie Naphthylgruppen u. dgl.
Die Polymeren als vorstehende Komponente a) können durch
Copolymerisation von drei, vier oder mehr Monomeren erhalten werden, beispielsweise einem Monomeren entsprechend der folgenden
Formel (V):
«1
CH9=C (V)
CH9=C (V)
COOtCH0-CHO)-H 2 j n ■
R2 . ■ ■ -.
worin R^, R"2 und η jevreils die gleiche Bedeutung wie bei der
Formel (I) besitzen, Acrylnitril oder Methacrylnitril, a,ßungesättigte
Carbonsäuren und gegebenenfalls additionspolymerisierbare andere ungesättigte Monomere als die vorstehend
angegebenen Verbindungen. . ■
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Die Säurezahl der Polymeren der Komponente a) wird durch Einstellung des Betrages an α,β-ungesättigten Carbonsäure-Einheiten
in dem Copolymeren erreicht. Alternativ kann die Säurezahl durch Umsetzung eines cyclischen Anhydrides (Halbveresterung)
zur Einführung von Carboxylgruppen in das Polymere erreicht werden. Somit können die Polymeren als vorstehend
angegebene Komponente a) auch durch Halbveresterung von binären, ternären oder polymonomeren Copolymeren, die jeweils die Verbindung
entsprechend der Formel (V), Acrylnitril oder Methacrylnitril und gegebenenfalls weitere additionspolymerisierbare
ungesättigte Verbindungen enthalten, mit cyclischen Säureanhydriden erhalten werden.
Spezifische Beispiele für die vorstehend aufgeführten α,β-ungesättigten
Carbonsäuren umfassen Acrylsäure, Methacrylsäure, a-Äthylacrylsäure, Maleinsäureanhydrid, Methylmaleinsäureanhydrid,
Pheny!maleinsäureanhydrid, Crontonsäure, Itaconsäure,
Vinylbenzoesäure, Sorbinsäure, Zimtsäure u. dgl.
Die vorstehend angegebenen weiteren additionspolymerisierbaren ungesättigten Verbindungen werden unter Verbindungen mit
einer additionspolymerisierbaren ungesättigten Bindung in jedem Molekül ausgewählt und umfassen beispielsweise Acrylate,
Methacrylate, Acrylamide, Methacrylamide, Ally!verbindungen,
Vinyläther, Vinylester, Styrole, Crotonate u. dgl. Spezifische Beispiele derartiger Verbindungen umfassen Acrylate wie Alkylacrylate,
z.B. Methylacrylat , Äthylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Äthylhexylacrylat, Octylacrylat,
tert.-Octylacrylat, Chloräthylacrylat, 2,2-Dimethylhydroxypropylacrylat,
5-Hydroxypentylacrylat, Trimethylolpropanmonoacrylat,
Pentaerythritmonoacrylat, Glycidylacrylat, Benzylacrylat, Methoxybenzylacrylat, Furfurylacrylat, Tetrahydrofurfurylacrylat
u. dgl., sowie Arylacrylate, z.B. Phenylacrylat u. dgl., Methacrylate wie Alkylmethacrylate,z.B.
Methylmethacrylat, Äthylmethacrylat, Propylmethacrylat, Isopropylmethacrylat,
Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclo-
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hexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, Chlorbenzylmethacrylat,
Octylmethacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat, 5-Hydroxypentylmethacrylat,
SjZ-Dimethyl^-hydroxypropylmethacrylat, Trimethylolpropanmonomethacrylat,
Pentaerythritmonomethacrylat, Glycidylmethacrylat, Furfurylmethacrylat, Tetrahydrofurfurylnietha
crylat u. dgl., und Arylmethacrylate, z.B. Phenylmethacrylat,
Cresylmethacrylat, Naphthylmethacrylat u. dgl.,
Acrylamide wie Acrylamid selbst, N-Alkylacrylamide, deren
Alkylanteil beispielsweise aus Methyl-, Äthyl-, Propyl-, Butyl-, tert.-Butyl-, Heptyl-, Octyl-, Cyclohexyl-, Hydroxyäthyl-,
Benzylgruppen u. dgl. bestehen kann, N-Arylacrylamide,
deren Arylanteil beispielsweise aus Phenyl-, Tolyl-, Nitrophenyl-,
Naphthyl-, Hydroxyphenylgruppen u* dgl. bestehen kann, Ν,Ν-Dialkylacrylamide, deren Alkylanteil beispielsweise aus
Methyl-, Äthyl-, Butyl-, Isobutyl-, Äthylhexyl-, Cyclohexylgruppen
u. dgl. bestehen kann, N,N-Diarylacry!amide, deren
Arylanteil beispielsweise aus Phenylgruppen u. dgl. bestehen kann, N-Methyl-N-phenylacrylamid, N-Hydroxyäthyl-N-methylacrylamid,
N-Z-Acetoamidoäthyl-N-acety!acrylamid u. dgl., Methacrylamide
wie Methacrylamid selbst, N-Alkylmethacrylamide, deren
Alkylanteil beispielsweise aus Methyl-, Äthyl-, tert.-Butyl-, Äthylhexyl-, Hydroxyäthyl-, Cyclohexylgruppen u. dgl. bestehen
kann, N-Arylmethacrylamide, deren Arylanteil beispielsweise
aus Phenylgruppen u. dgl. bestehen kann, Ν,Ν-Dialkylmethacrylamide,
deren Alkylanteil beispielsweise aus Äthyl-, Propyl-, Butylgruppen u. dgl. bestehen kann, N,N-Diary!methacrylamide,
deren Arylanteil beispielsweise aus Phenylgruppen u. dgl. bestehen kann, N-Hydroxyäthyl-N-methylmethacrylamid, N-Methyl-N-pheny!methacrylamid,
N-Äthyl-N-pheny!methacrylamid u. dgl., Allylverbindungen wie Allylester, beispielsweise Allylacetat,
Allylcaproat, Allylcaprylat, Allyllaurat, Allylpalmitat, Allylstearat,
Allylbenzoat, Allylacetoacetat, Allyllactat u. dgl.,
Allyloxyäthanol u. dgl., Vinyläther wie Alkylvinyläther, z.B.
Hexylvinyläther, Octylvinyläther, Decylvinyläther, Äthylhexyl-
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vinyläther, Methoxyäthylvinyläther, Äthoxyäthylvinyläther,
Chloräthylvinyläther, 1-Methy1-2,2-dimethylpropylvinyläther,
2-Ä'thylbutyläther, Hydroxyäthylvinyläther, Diäthylenglykolvinyläther,
Dimethylaminoäthylvinyläther, Diäthylaminoäthylvinyläther, Butylaminoäthylvinyläther, Benzylvinyläther,
Tetrahydrofurfurylvinyläther u. dgl., Vinylaryläther, z.B.
Vinylphenyläther, Vinyltolyläther, Vinylchlorphenyläther, Vinyl-2,4-dichlorphenyläther, Vinylnaphthyläther, Vinylanthranyläther
u. dgl., Vinylester wie Vinylbutyrat, Vinylisobutyrat,
Vinyltrimethylacetat, Vinyldiäthylacetat, Vinylvalerat,
Vinylcaproat, Vinylchioracetat, Vinyldichloracetat,
Vinylmethoxyacetat, Vinylbutoxyacetat, Vinylphenylacetat, Vinylacetoacetat, Vinyllactat, Vinyl-ß-phenylbutyrat, Vinylcyclohexylcarboxylat,
Vinylbenzoat, Vinylsalicylat, Vinylchlorbenzoat, Vinyltetrachlorbenzoat, Vinylnaphthoat u. dgl.,
Styrole wie Styrol, Alkylstyrole, z.B. Methylstyrol, Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, Äthylstyrol, Diäthylstyrol, Isopropylstyrol,
Butylstyrol, Hexylstyrol, Cyclohexylstyrol, Decylstyrol,
Benzylstyrol, Chlormethylstyrol, Trifluormethylstyrol, Äthoxyäthylstyrol,
Acetoxymethylstyrol u. dgl., Alkoxystyrole, z.B.
Methoxy styrol, 4-Methoxy-3~methylstyrol, Dime th oxy styrol u. dgl.,
Halogenstyrole, z.B. Chlorstyrol, Dichlorstyrol, Trichlorstyrol,
Tetrachlorstyrol, Pentachlorstyrol, Bromstyrol, Dibromstyrol,
Iodostyrol, Fluorstyrol, Trifluorstyrol, 2-Brom-4-trifluormethylstyrol,
4-Fluor-3-trifluormethylstyrol u. dgl., Crotonsäureester wie Alkylcrotonate, z.B. Butylcrotonat, Hexylcrotonat,
Glycerinmonocrotonat u. dgl., Dialkylitaconate, z.B. Dimethylitaconat, Diäthylitaconat, Dibutylitaconat u. dgl.,
Dialkylester der Maleinsäure oder Fumarsäure, z.B. Dimethylmaleat,
Dibutylfumarat u. dgl. Außerdem können zahlreiche weitere Verbindungen, die zur Klasse der additionspolymerisierbaren
ungesättigten Verbindungen gehören und die sowohl mitden Verbindungen entsprechend der vorstehend angegebenen Formel
(V) als auch Acrylnitril oder Methacrylnitril copolymeri-
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sieren können, ganz allgemein angewandt werden, vorausgesetzt,
daß sie keine solchen funktioneilen Gruppen enthalten, die mit der Hydroxygruppe von ß-Hydroxyäthyl(meth)acrylat
bei Raumtemperatur reagieren können oder die zwei oder mehr polymerisierbare Vinylgruppen in einem Molekül enthalten, so
daß eine Gelbildung auftritt.
Spezifische Beispiele für cyclische Säureanhydride, die
bei der Umsetzung mit den aus den Verbindungen der vorstehend angegebenen Formel (V), Acrylnitril oder Methacrylnitril und
gegebenenfalls weiteren additionspolymerisierbaren ungesättigten Verbindungen hergestellten Copolymeren halbverestert werden,
umfassen Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Hexahydrophthalsäureanhydrid, 3»6-Endomethylen-A-tetrahydrophthalsäureanhydrid,
Tetrachlorphthalsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Chlormaleinsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid,
n-Dodecylbernsteinsäureanhydrid u. dgl. Die Copolymeren der Komponente a) sind im einzelnen in der US-Patentschrift
4 123 276 beschrieben, auf die hier besonders Bezug genommen wird.
Die Copolymeren als Komponente a) lassen sich leicht vom
Fachmann entsprechend den in der britischen Patentschrift 1 505 739 angegebenen Verfahren herstellen. Beispielsweise
können sie durch Polymerisation von Verbindungen entsprechend der Formel (V), Acrylnitril oder Methacrylnitril, α,β-ungesättigter
Carbonsäure und gegebenenfalls weiteren additionspolymerisierbaren ungesättigten Verbindungen in geeigneten Lösungsmitteln
unter Anwendung von Lösungspolymerisationsverfahren erhalten werden. Spezifische Beispiele für bevorzugt
bei der Lösungspolylerisationsreaktion angewandte Lösungsmittel
umfassen Äthyleiiglykolmonomethyläther, Äthylenglykolmonobutyläther,
Dioxan, Äthanol-V/asser-Mischiösungsmittel, Methanol-Wasser-Mischlösungsmittel,
Methyläthylketon und Äthanol-Essigsäure-Mischlösungsmittel. Spezifische Beispiele für günstigerweise
eingesetzte Polymerisationsinitiatoren umfassen Benzoin-
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-Vf-
äthyläther, Azobisisobutyronitril, 2,2l-Azobis(2,4-dimethylvaleronitril),
1,1'-AzobisCcyclohexan-i-carbonitril), 2,2f-Azobis(4-inethoxy-2,4-dimethylvaleronitril),
2-Phenylazo-2,4-dimethyl-4-valeronitril,
2-Cyanao-2-pΓopylazofoΓInamidf Kaliumpersulfat,
tert.-Butylperoctoat, Benzoylperoxid, Isopropylpercarbonat,
2,4-Dichlorbenzoylperoxid, Methyläthylketonperoxid
u. dgl. Weiterhin wird es bevorzugt, die Polymerisationsreaktion bei Temperaturen im Bereich von 20°C bis etwa
15O0C auszuführen.
Die bevorzugte Säurezahl der Copolymeren als Komponente a) liegt im Bereich von etwa 10 bis 100, insbesondere etwa 15 bis
40. Säurezahlen unterhalb 10 sind für den praktischen Gebrauch ungeeignet, da lediglich eine schlechte Entwicklung bei Anwendung
von schwach alkalischem Wasser erzielt werden kann, und andererseits sind Säurezahlen oberhalb 100 für die Zwecke der
Erfindung ungeeignet, da die Empfindlichkeit für Fette (oleophiler
Charakter) des Bildbereiches abnimmt. Die Säurezahl des Copolymeren kann leicht gesteuert werden, indem die Menge der
im Copolymeren enthaltenen a,ß-ungesättigten Carbonsäure oder das Ausmaß der Halbveresterung des cyclischen Säureanhydrids
in geeigneter Weise gewählt werden.
Der bevorzugte Gehalt der Struktureinheit (II) aus Acrylnitril oder Methacrylnitril im Copolymeren als Komponente a)
liegt im Bereich von etwa 5 Gew.-5'ό bis 60 Gew.-?o, insbesondere
etwa 10 Gew.-?3 bis 40 Gew.-%. Der bevorzugte Gehalt der Struktureinheit
entsprechend der Formel (i) liegt im Bereich von etwa 30 Gew.-?o bis 80 Gew.-/S, insbesondere etwa 40 Gew.-% bis
60 Gew.-%. Eine unzureichende mechanische Festigkeit in den
Bildbereichen, die die Entwicklungsfähigkeit hindert, wird bei Gehalten unterhalb 30 Gew.-?o erhalten. Gehalte oberhalb
80 Gew.-5ό sind andererseits ungünstig, da eine Quellerscheinung
im Bildbereich während der Entwicklungsbehandlung erfolgt und da weiterhin die oleophilen Eigenschaften des Bildbereiches
in starkem Ausnaß verringert v/erden.
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Molekulargewichte der Copolymeren als Komponente a) im
Bereich von etwa 5000 bis etwa 60 000, bestimmt nach dem
numerischen Durchschnittsverfahren, sind für praktischen Gebrauch geeignet, und ein Bereich von etwa 10 000 bis 50 000
wird stärker bevorzugt.
Das Copolymere als Komponente a) ist in der lichtempfindlichen Schicht gemäß der Erfindung in einem Anteil in einem
Bereich von vorzugsweise etwa 50 Gew.-% bis 95 Gew.-%, insbesondere
etwa 60 Gew.-% bis 92 Gevi,-% enthalten.
Das Copolymere als vorstehend abgehandelte Komponente b) kann durch Copolymerisation der Verbindung entsprechend der
folgenden Formel (VI) und Maleinsäureanhydrid und anschließende Umsetzung der von Maleinsäureanhydrid herstammenden Einheiten
in dem erhaltenen Copolymeren mit einem Alkohol der Formel RgOH, worin Rg die gleiche Bedeutung wie bei der Formel (IV)
besitzt, und gegebenenfalls durch weitere Umsetzung des Reaktionsproduktes mit einem Alkohol der Formel R'cOH, worin R1 ,-eine
Methyl- oder Äthylgruppe bedeutet, erhalten werden:
CH0=CH
2I (VI)
R4
worin R^ die gleiche Bedeutung wie R^ in der Formel (III) be-
_s±tzt.
Das Copolymere als Komponente b) kann auch durch Copolymerisation einer Verbindung entsprechend der vorstehend aufgeführten
Formel (VI) und einer Verbindung entsprechend der folgenden Formel (VII)
CH == CH
.1 I (VII)
COOR5 COOR6
worin R,- und Rg die gleichen Bedeutungen wie Rc und Rg in der
Formel (IV) besitzen, erhalten werden.
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Die Copolymeren als Komponente b) können leicht vom Fachmann
entsprechend den beispielsweise in den US-Patentschriften 3 388 106 und 3 418 292 beschriebenen Verfahren hergestellt
werden.
In den Copolymeren als Komponente b) kann eine dritte Struktureinheit außer den Struktureinheiten entsprechend den
Formeln (III) bzw. (IV) vorhanden sein. Als derartige Copolymerisatkomponente verwendbare Monomere können aus den weiteren
additionspolymerisierbaren ungesättigten Verbindungen gewählt werden, wie sie bei der Beschreibung der Copolymeren der Komponente
a) abgehandelt wurden.
Der Gehalt an Struktureinheiten entsprechend der Formel (III) in dem Copolymeren als Komponente b) liegt im Bereich
von etwa 20 Gew.-% bis etwa 80 uew.-?o, vorzugsweise etwa
40 Gew.-% bis 70 Gew.-^. Andererseits liegt der Gehalt an
Struktureinheiten entsprechend der Formel (IV) in dem Copolymeren als Komponente b) im Bereich von etwa 20 Gew.-% bis etwa
80 Gew.-%, vorzugsweise 40 Gew.-% bis 70 Gew.-%.
Das numerische Durchschnittsmolekulargewicht des Copolymeren als Komponente b) beträgt allgemein etwa 500 bis 50 000
und stärker bevorzugt etwa 750 bis 30 000 und insbesondere 800 bis 10 000.
Das Copolymere als Komponente b) ist in der lichtempfindlichen Schicht in einem Anteil von etwa 0,05 Gew.-% bis etwa
20 Gew.-%, stärker bevorzugt 0,1 Gew.-?a bis 5 Gew.-?o enthalten.
Die Diazoverbindungen als Komponente c) umfassen UV-empfindliche Diazoniumsalze und Diazoharze, die als erläuternde
Beispiele Kondensationsprodukte von p-Diazodiphenylamin und
Formaldehyd umfassen. Von diesen Verbindungen sind diejenigen, die wasserunlöslich sind und in den üblicherweise verwendeten
organischen Lösungsmitteln löslich sind, bevorzugt.
Weiterhin werden Diazoverbindungen, die eine gute Verträglichkeit mit dem vorstehend aufgeführten Copolymeren als Komponente
a) besitzen, zur Anwendung im Rahmen der Erfindung be-
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vorzugt. Spezifische Beispiele für besonders bevorzugte Diazoverbindungen
umfassen Verbindungen mit zwei oder mehr Diazogruppen in einem Molekül, beispielsweise Salze des Kondensates
von p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd oder Acetaldehyd.
Spezifische Beispiele von bevorzugt zur Bildung von Salzen mit den vorstehend aufgeführten Kondensaten angewandten Säuren umfassen
Phenol, Fluorcaprinsäure, Sulfonsäuren wie Triisopropylnaphthalinsulfonsäure,
4,4-Bisphenyldisulfonsäuren 5-Nitroortho-toluolsulfonsäure,
5-Sulfosalizylsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure,
2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure,
3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Chlor-5-nitrobenzolsulfonsäure,
2-Fluorcaprylnaphthalinsulfonsäure, 1-Naphthol-5-sulfonsäure,
2-Methoxy-4-hydroxy~5-benzoyl-benzo_sulf onsäure,
p-Toluolsulfonsäure u. dgl.-Beispiele für weitere günstige
Diazoverbindungen umfassen das Kondensat von 2,5-Dimethoxy-4-p-tolylmercaptobenzoldiazonium
und Formaldehyd und Salze hiervon mit den vorstehend aufgeführten Säuren, das Kondensat von
2,5-Dimethoxy-4-morpholinobenzoldiazonium und Formaldehyd oder
Acetaldehyd und die Salze hiervon, wobei die vorstehend aufgeführten
Säuren zur Salzbildung angewandt werden, sowie Verbindungen entsprechend der folgenden Formel (VIII) entsprechend
der japanischen Patentanmeldung 3.3907/73 -
(viii)
worin Ry, Rg, Rq und R^0 Jeweils eine Alkylgruppe mit 1 bis 4
Kohlenstoffatomen wie eine Methylgrüppe, Äthylgruppe, Propyl™
gruppe, Butylgruppe u. dgl., X eine substituierte Aminogruppe, beispielsweise Hydroxyalkylaminogruppen wie N-(ß-Hydroxyäthyl)
aminogruppe , N,IJ-Di(ß-hydroxyäthyl)aminogrupp'e u. dgl., und
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Y eines der vorstehend aufgeführten Säureanionen bedeuten. Spezifische Beispiele derartiger Verbindungen umfassen
2,6-Bi s (4-diazo-2,5-dimethoxyphenylamino) -4-N, N-di (ß-hydroxyäthyl)amino-1,3,5~triazin-2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonat,
2,6-Bi s(4-diazo-2,5-dimethoxyphenylamino)-4-N-(ßhydroxyäthyl
)amino-1,3,S-triazin^-methoxy^-hydroxy-S-benzoylbenzolsulfonat,
2,6-Bis(4-diazo-2,5-diäthoxyphenylamino)-4-N-(
ß-hydroxyäthyl )amino-1,3, S-triazin^-methoxy^-hydroxy-S-benzoylbenzolsulfonat
u. dgl.
Zusätzlich umfassen weitere brauchbare Diazoverbindungen die in der US-Patentschrift 2 649 373 aufgeführten Verbindungen.
Die am besten geeignete Diazoverbindung besteht aus dem
2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäuresalz des Kondensates
aus p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd.
Der geeignete Gehalt der Diazoverbindung in der lichtempfindlichen
Schicht liegt im Bereich von etwa 5 Gew.-% bis 50 Gew.-%. Obwohl die Empfindlichkeit selbstverständlich mit
der Erhöhung des Gehaltes der Diazoverbindung ansteigt, wird die Lagerungsstabilität zu einem stärkeren Ausmaß verringert.
Deshalb beträgt der optimale Bereich des Gehaltes an Diazoverbindung etwa 8 bis 20 Gew.-%.
Die lichtempfindliche Schicht wird durch Auflösung der vorstehend aufgeführten Komponenten a), b) und c) in einem geeigneten
Lösungsmittel, Aufziehen der erhaltenen Lösung auf den Träger in der vorstehend geschilderten Weise und anschließende
Trocknung desselben gebildet. Geeignete Lösungsmittel sind diejenigen, welche jede der Komponenten a), b) und c)
lösen können, und Beispiele hierfür umfassen Äthylenglykolmonoalkyläther
wie Athylenglykolmonomethyläther, Äthylenglykolmonoäthyläther, Athylenglykolmonobutyläther u. dgl.,
Alkohole wie Methanol, Äthanol, n-Propanol u. dgl., halogenierte Kohlenwasserstoffe wie Äthylendichlorid, Trichloräthylen
u. dgl., Ketone wie Methylethylketon u. dgl. sowie Gemische hiervon.
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Die lichtempfindliche Schicht wird im allgemeinen zu einer Abdeckung zu etwa 0,1 bis etwa 7 g/m und bevorzugt
0,5 bis 4 g/m aufgezogen.
Nach dem Aufziehen wird die lichtempfindliche Schicht bei einer Temperatur im Bereich von etwa 40 bis etwa 150°C, vorzugsweise
60 bis 1300C während etwa 30 Sekunden bis 3 Minuten getrocknet.
Je höher die Trocknungstemperatur, desto kürzer ist die Trocknungszeit, und je niedriger die Trocknungstemperatur
ist, desto länger ist die Trocknungszeit.
In der in dieser Yfeise erhaltenen lichtempfindlichen
Schicht, die die vorstehend aufgeführten Komponenten a), b) und c) enthält, stellte sich heraus, daß jede Komponente nicht in
einem homogen verteilten Zustand über die gesamte Schicht vorliegt, sondern daß das Copolymere der Komponente b) selektiv
an der Oberfläche (Seite am weitesten entfernt vom Träger) der
lichtempfindlichen Schicht oder in deren Nachbarschaft vorliegt und die Gruppen -COORg, die in den Seitenketten des Copoiymeren
der Komponente b) vorliegen,vder Außenseite der lichtempfindlichen
Schicht (Seite gegenüberstehend dem Träger) stehen. Aufgrund der Bevorzugung der Gruppen -COORg für die Oberfläche
der lichtempfindlichen Schicht hat die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht einen besonders hohen oleophilen Charakter.
Venn dieses Merkmal mit der Fig. 2 erläutert wird, zeigt
.in der lichtempfindlichen Schicht 1 die Oberfläche a höhere
oleophile Eigenschaften, als die Teile b und c, die weiter nach innen liegen. Deshalb lassen sich die lichtempfindlichen lithographischen
Druckplatten gemäß der Erfindung als "lichtempfindliche lithographische Druckplatten, worin die Oberfläche der an
mindestens einer Seite des Trägers vorliegenden lichtempfindlichen
Schicht eine höhere oleophile Eigenschaft als der Rest der lichtempfindlichen Schicht zeigt" beschreiben.
Daß die lichtempfindliche Schicht einen höheren oleophilen Charakter auf der Oberfläche als im Inneren besitzt, läßt sich
leicht bei Ausführung des folgenden Versuches feststellen.
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Hierzu wird eine lithographische lichtempfindliche Druckplatte
aus einem Träger mit einer darauf ausgebildeten lichtempfindlichen Schicht, die zu untersuchen ist, an Licht durch ein
bildtragendes Dia ausgesetzt und dann entwicklungsbehandelt.
Zunächst^ der Kontaktwinkel von Wasser mit dem Bildbereich der dabei erhaltenen lithographischen Druckplatte, die dem belichteten
Bereich nach der bildweisen Belichtung im Fall einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte vom Negativtyp
entspricht, während sie dem unbelichteten Bereich nach der bildweisen Belichtung im Fall einer lichtempfindlichen lithographischen
Druckplatte vom Positivtyp entspricht, vor dem Druck gemessen. Dann wird der Kontaktwinkel des Wassers mit dem
Bildbereich in geeigneten Abständen während des Druckes, beispielsweise bei jedem 5000. Blatt bei Anwendung der gleichen
lithographischen Druckplatte gemessen.
Als Ergebnis der Untersuchung einer negativ arbeitenden lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte, die mit einer
lichtempfindlichen Schicht aus den vorstehend aufgeführten Komponenten a), b) und c) ausgerüstet war, unter Anwendung des
vorstehend angegebenen Versuchsverfahrens betrug der Kontaktwinkel von Wasser mit dem Bildbereich, gemessen vor der Druckbehandlung,
130 bis 150°, während die nach der 5000., 10 000. und 30 000. Kopie gemessenen Werte 110 bis 140°, 110 bis 95°
-und 100 bis 95° waren.
Der Grund, daß die lichtempfindliche Schicht die vorstehend beschriebenen Eigenschaften hat, scheint mit der Erscheinung
übereinzustimmen, daß, wenn der Gehalt des beim Aufziehen der lichtempfindlichen Schicht verwendeten Lösungsmittels
bei der Verdampfung während des Trocknungsverfahrens abnimmt, eine Phasentrennung im Inneren der lichtempfindlichen
Schicht aufgrund der schlechten Verträglichkeit der Komponente a) mit der Komponente b) erfolgt, wodurch sich eine Ansammlung
der Komponente b) an der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht einstellt.
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Außerdem dürften nach der Phasentrennung die an den Seitketten des Copolymeren als Komponente b) gebundenen Gruppen
-COORg an der Außenseite der lichtempfindlichen Schicht stehen (Seite entgegengesetzt zum Träger). Diese Orientierung der
Gruppen -COORg scheint einen der Gründe für den stark oleophilen
Charakter zu sein, der von der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht aufgewiesen wird. Die Theorie, daß sich die
Komponente b) selbst in dieser Weise orientiert, wird durch die Versuchstatsachen gestützt, daß lichtempfindliche lithographische
Druckplatten, welche mit einer lichtempfindlichen Schicht mit dem Gehalt der Komponenten a) und c) hergestellt
wurden, und lichtempfindliche lithographische Druckplatten, die mit einer lichtempfindlichen Schicht, mit einem Gehalt der
Komponenten b) und c) hergestellt wurden, keine Bildbereiche ausbilden konnten, die einen so hohen oleophilen Charakter wie
die mit einer lithographischen Druckplatte hergestellten Bildbereiche hatten, die mit einer lichtempfindlichen Schicht mit
dem Gehalt der Komponenten a), b) und c) hergestellt worden
waren.
Zu der die Komponenten a), b) und c) enthältenden lichtempfindlichen
Schicht können gewünschtenfalls verschiedene Zusätze
wie Farbstoffe, Pigmente, Stabilisatoren, Plastifizieren Füllmittel u. dgl. zum Zweck von Verbesserungen für verschiedene
Anwendungen zugesetzt werden. Als Farbstoffe, die zur Hervorrufung eines sichtbaren Kontrastes zwischen dem Bildbereich und dem eine Entwicklungsbehandlung erhaltenen Träger angewandt
werden, sind solche, die die Farbe im Bildbereich durch Entwicklung reduzieren oder mit den Diazoverbindungen reagieren,
ungeeignet. Spezifische Beispiele für geeignete Farbstoffe umfassen
öllösliche Farbstoffe wie Ölblau Nr. 603 (Produkt der
Orient Chemical Industrial Co., Ltd.), Aizen Spiron Blue GNH
und Aizen Spiron Red 2BH (Produkte der Hodogaya Chemical Co.,
Ltd.), Zapon Fast Fairy Red B (Produkt der Badische Anilin & Soda Fabrik AG) u. dgl. Diese Farbstoffe können in ausreichen-
80 9851/0 9 20
.den Mengen zugesetzt werden, um einen klaren Kontrast zwischen
der Farbe der Trägeroberfläche und der Farbe des Bildbereiches hervorzubringen, und derartige Mengen liegen im allgemeinen innerhalb
der Grenzen von etwa 7 % bis zum Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Masse.
Falls die mit einer lichtempfindlichen Schicht aus den vorstehend aufgeführten Komponenten a), b) und c) ausgestattete
lichtempfindliche lithographische Druckplatte an aktinische Strahlung durch ein negatives Dia ausgesetzt wird, ändern sich
die Eigenschaften der belichteten Bereiche, und spezifisch ergibt sich ein Unterschied des Quellungsgrades zwischen den belichteten
Bereichen und den unbelichteten Bereichen bei der Entwicklungsbehandlung. Die Entwicklung wird durchgeführt, indem
eine Entwicklerlösung, die ein schwach alkalisches Wasser umfaßt, in Kontakt mit der optisch belichteten lichtempfindlichen
Schicht kommt. Eine bevorzugte Entwicklerlösung enthält eine Wasserlösung eines alkalischen Mittels, beispielsweise
Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid,
Lithiumhydroxid, Natrium-tert.-phosphat, Natrium-see.-phosphat,
Natriummetasilicat, Natriumhydrogencarbonat und anderen anorganischen
Alkalien, Ammoniakwasser und organische Aminverbindungen
wie Monoäthanolamin, Diäthanolamin, Triäthanolamin u. dgl.,
und enthält weiterhin vorzugsweise ein anionisches oberflächenaktives Mittel und einen Alkohol. Spezifische Beispiele für
anionische oberflächenaktive Mittel umfassen Fettsäuresalze wie Kaliumrhodinat, Kaliumoleat, Natriumstearat u. dgl.,
Natriumalkylarylsulfonate, z.B. Natriumisopropylnaphthalin-Tsulfonat
u. dgl., Salze von Sulfaten von aliphatischen und aromatischen Alkoholen, z.B. das Natriumsalz des Laurylalkoholsulfats,
das Ammoniumsalz des Laurylalkoholsulfats, das Natriumsalz
des Oleylalkoholsulfats, das Natriumsalz des Octylalkoholsulfats,
das Natriumsalz von Xylenolsulfat u. dgl., Natriumalkylsulfonate, das Mononatriumsalz von Ν,Ν-Dihydroxyäthylglycin,
Natriumalkylpolyoxyäthylensulfate, Natriumdialkylsulfosuccinate
u. dgl. Die bevorzugte Konzentration dieser vor-
909851/0920
■ stehend angegebenen anionischen oberflächenaktiven Mittel liegt
im Bereich von 0,5 Gew.-?6 bis 10 Gew.-%t bezogen auf das Gesamtgewicht
der eingesetzten Entwickler. Andererseits umfassen spezifische Beispiele für bevorzugte Alkohole Benzylalkohol,
Diacetonalkohol, 2-Methoxyäthanol, 2-Äthoxyäthanol, 2-Butoxyäthanol,
Isopropylalkohol ü. dgl. Die bevorzugte Konzentration
dieser vorstehend angegebenen Alkohole liegt im Bereich von 0,1 Gew.-?ä bis 10 Gew.-%, insbesondere 0,5 Gew.-5a bis 5 Gew.-?*,
bezogen auf das Gesamtgewicht der verwendeten Entwickler. Die Konzentration des alkalischen Mittels hängt davon ab, ob das
eingesetzte alkalische Mittel hinsichtlich der Alkalinität stark oder schwach ist. Jedoch ist im allgemeinen ein Bereich
von 0,05 Gew.-% bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht
der verwendeten Entwickler, im allgemeinen für das alkalische Mittel geeignet. Ferner ist die Zugabe von Natriumnitrat od.
dgl. in einer Konzentration im Bereich von 0,5 bis 10 Gew.-?£, bezogen auf das Gesamtgewicht der Entwicklerlösung, günstig,
.da es den Schutzmantel einer Druckmaschine vor einer Verschmutzung
zum Zeitpunkt des Drückens schützen kann. Von den vorstehend angegebenen alkalischen Mitteln ist Natriumsilicat
am besten, da es zusätzlich eine Funktion zur Unterdrückung der Verschmutzung des Schutzmantels einer Druckmaschine besitzt,
die im Verlauf des Drückens auftritt. Außerdem sind Zusätze von Sulfiten wie Natriumsulfit, Kaliumsulfit, Lithiumsulfit,
Ammoniumsulfit, Magnesiumsulfit u. dgl. für diesen Zweck wirksam.
Die lichtempfindliche lithographische Druckplatte, die
■mit einer liphtempfindlichen Schicht aus den vorstehend angegebenen
Komponenten a), b) und c) ausgestattet ist, kann mit einer wäßrigen Lösung eines schwachen Alkalis rapid entwickelt
werden, und die Entwicklungsbehandlung kann leicht erzielt werden, da der Bereich der optimalen Entwicklungsbedingungen,
sogenannte Entwicklungsbreite, weit ist.
90 9851/0 920
- 2T -
Bis jetzt wurde die vorliegende Erfindung im einzelnen
unter Anwendung einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte mit einer lichtempfindlichen Schicht aus den vorstehend
angegebenen Komponenten a), b) und c) erläutert. Die Prinzipien der vorliegenden Erfindung können jedoch auch auf
andere lichtempfindliche lithographische Druckplatten mit lichtempfindlichen Schichten, die andere Komponenten enthalten,
angewandt werden. Als ein Beispiel einer derartigen lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte sei eine positiv arbeitende
lichtempfindliche lithographische Druckplatte mit lichtempfindlichen Schichten aufgeführt, die als lichtempfindliche
Komponenten o-Naphthochinonazide enthalten, wie in den US-Patentschriften 3 061 120, 3 061 430, 3 635 709 u. dgl. beschrieben.
Ferner können lichtempfindliche lithographische Druckplatten aus Ausbildungsformen der Prinzipien der vorliegenden
Erfindung erhalten werden, wenn als lichtempfindliche Komponenten beispielsweise Polyvinylcinnamate angewandt werden,
wie in der US-Patentschrift 2 725 372, den britischen Patentschriften 843 545 und 966 297 u. dgl. beschrieben, lichtempfindliche
Polyester, die durch Kondensation von Bisphenol A und Divanillalcyclohexanon und durch Kondensation von p-Phenylendiäthoxyacrylat
und 1,4-Di-ß-hydroxyäthoxycyclohexanon erhalten
wurden, wie in der kanadischen Patentschrift 696 997 beschrieben, Präpolymere von Diallylphthalat und dgl. und
äthylenisch ungesättigte Verbindungen mit mindestens zwei ungesättigten Doppelbindungen in jedem Molekül, die zur Erzielung
einer Polymerisationsreaktion mit Hilfe von Strahlung durch -aktive Strahlen fähig sind, wie in der US-Patentschrift
3 462 267 beschrieben, u. dgl. Die lichtempfindlichen Schichten, welche Polymere mit Gruppen zur Erhöhung der Verträglichkeit
mit den vorstehend aufgeführten lichtempfindlichen Komponenten in ihren Seitketten enthalten, die nachfolgend als.
"Polymeres B" bezeichnet werden, und die selbst eine unzureichende
Verträglichkeit mit der lichtempfindlichen Komponen-
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•te, die nachfolgend als "lichtempfindliche Komponente A" bezeichnet
wird, besitzen und die weiterhin in einem Lösungsmittel, das nachfolgend als "Lösungsmittel C" bezeichnet wird,
gelöst werden, welches zur Auflösung der lichtempfindlichen Komponente A fähig ist, müssen bestimmt werden. Dazu wird
eine Lösung, die die lichtempfindliche Komponente A, das Polymere B und das Lösungsmittel C enthält, auf einen der vorstehend
aufgeführten Träger aufgezogen und getrocknet. Im Verlauf der Trocknung zeigen, wenn der Gehalt des Lösungsmittels C
in der aufgezogenen Schicht durch Verdampfung gesenkt-wird, die
lichtempfindliche Komponente A und das Polymere B eine Phasentrennungserscheinung,
und dadurch wird es möglich, daß das Polymere B in einem großen Anteil an der Oberfläche der lichtempfindlichen
Schicht vorliegt. Falls es die Umstände erfordern, kann die teilweise Verteilung des Polymeren B an der Oberfläche
durch Änderung der Trocknungsbedingungen begünstigt werden.
Gemäß den Ausführungsformen der Erfindung ist es möglich, cfoft Substanzen mit hoher oleophiler Eigenschaft lediglich an
der Oberfläche der lichtempfindlichen Schichten der lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatten vorliegen. Daher können auch die unter Verwendung dieser lichtempfindlichen lithographischen
Druckplatten erzeugten Bildbereiche von lithographischen Druckplatten hohe oleophile Eigenschaften ergeben.
Eölglich liefern diese Druckplatten nur.eine geringe Anzahl
von Abfallblättern bei Beginn des Druckvorgangs.
Da eine Substanz mit hoher oleophiler Eigenschaft an der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht in der lichtempfindlichen
lithographiEjhen Druckplatte der Erfindung vorliegt, ist
es möglich, diese Substanz in einer geringen Menge zu verwenden.
Folglich wird die LagerungsStabilität der lichtempfindlichen
Schicht durch das Vorhandensein dieser Substanz mit hoher oleophiler Eigenschaft nicht verschlechtert, und ferner wird
die Entwicklungsfähigkeit der lichtempfindlichen Schicht (die
Eignung zur Entfernung des Nichtbildbereichs unter Verwendung
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einer Entwicklungslösung) gleichfalls durch diese Substanz
nicht erschwert. Im Gegensatz dazu mußten in den üblichen Fällen, wo Substanzen mit hoher oleophiler Eigenschaft in den
lichtempfindlichen Schichten in homogen verteiltem Zustand enthalten
waren, erhebliche Mengen dieser Substanzen zur Erhöhung der oleophilen Eigenschaften zu einem zufriedenstellenden Ausmaß
verwendet werden. Dies war mit Fehlern der Verschlechterung der Lagerungsstabilität und der Entwicklungsfähigkeit lichtempfindlicher
lithographischer Druckplatten verbunden, flach den Ausführungsformen der Erfindung kann die Verbesserung der oleophilen
Eigenschaften ohne die den vorstehend beschriebenen üblichen Techniken eigenen auftretenden Nachteile erreicht werden.
Die lichtempfindliche lithographische Druckplatte gemäß der Erfindung besitzt die vorstehend aufgeführten Effekte vollständig
an der Oberfläche der so aufgebauten lichtempfindlichen Schicht, daß sie höhere oleophile Eigenschaften als die Teile der Schicht,
die unterhalb der Oberfläche liegen, zeigt.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der folgenden Beispiele weiterhin erläutert. Falls nichts anderes angegeben ist,
sind sämtliche Teile, Prozentsätze u. dgl. auf das Gewicht bezogen.
Eine 2S-Aluminiumplatte von 0,15 mm Dicke wurde in einer
1Oxigen wäßrigen Lösung von Natrium-tert.-phosphat, die bei
einer Temperatur von 800C gehalten wurde, während 3 Minuten
entfettet und dann einer Körmxngsbehandlung unter Anwendung
einer Nylonbürste unterworfen. Dann wurde sie mit einer wäßrigen Lösung von Natriumaluminat, die auf 600C erwärmt war, während
eines Zeitraumes von etwa 10 Sekunden geätzt, worauf unter Anwendung einer 3 ?aigen wäßrigen Natriumhydrogensulfatlösung
entschmutzt wurde. Die erhaltene Aluminiumplatte erhielt eine anodische Oxidation in 20 ?6iger Schwefelsäure, indem elektrischer
Strom mit einer Dichte von 2 A/dm2 während 2 Minuten hindurchgeführt
wurde, und dann wurde sie mit einer 2,5 S-Sigen
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wäßrigen Natriumsilicatlösung, die auf 700C erhitzt war, wah
rend 1 Minute behandelt. Dadurch wurde eine anodisch oxidierte
Aluminiumplatte (I) erhalten.
Auf die dabei erhaltene Aluminiumplatte (I) wurde die folgende
lichtempfindliche Masse (A) oder (B) aufgezogen. Die überzogene Platte wurde bei einer Temperatur von 1000C während
2 Minuten getrocknet.
Lichtenrefindliche Masse (A)
Lichtenrefindliche Masse (A)
2-Hydroxyäthylmethacrylat-Copolymeres 0,7 g
(hergestellt nach Beispiel 1 der US-Patentschrift 4 123 267)
2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzol- 0,1 g
sulfonsäuresalz des Kondensationsproduktes aus p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd
Ölblau Nr. 603 '
2-Methoxyäthanol Methanol
Äthylendichlorid
Lichtempfindliche !-lasse (B) ^-
Lichtempfindliche Masse (A)
Styrol-Maleinsäureanhydridcopolymeres (Molverhältnis von Styrol zu Maleinsäureanhydrid
1,5 bis 2:1), halbverestert mit 2-Methyl-4-pentanol (Molekulargewicht etwa
1500)
(Stylite HS-2, Produkt der
iaido Kogyo Co., Ltd.)
Eine Trockenabdeckung der aufgezogenen Schicht von 2,0 g/m wurde erhalten. Die dabei erhaltenen lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatten v/erden jeweils mit (A) und
(B) bezeichnet. Jede der lichtempfindlichen lithographischen
Druckplatten (A) und (B) wurde an Licht aus einer Kohlenbogenlampe von 30 A im Abstand von 75 cm durch ein bildtragendes Dia
während 45 Sekunden belichtet und in die folgende Entwicklerlösung
bei Raumtemperatur während 1 Minute eingetaucht, worauf schwach die Oberfläche mit Watte gerieben wurde, um die unbe-
0 | ,03 g |
6 | S |
6 | g |
6 | g |
18 | ,83 g |
0 | ,014 g |
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- 2t -
•lichteten Bereiche zu entfernen. Dadurch wurden getrennt die
lithographischen Druckplatten (A) und (B) erhalten.
Natriumsulfit 3 g
Benzylalkohol 30 g
Triäthanolamin 20 g
Monoäthanolamin 5 g
Pelex NBL 30 g
(Natrium-tert.-butylnaphthalinsulfonat,
Produkt der Kao Atlas Co., Ltd.)
Wasser 1000 m£
Wenn der Druck mit einigen Bögen eines Hochqualitätspapieres
unter Anwendung der dabei erhaltenen lithographischen Druckplatten ausgeführt wurde, wurden 10 Bögen an Kopien
gedruckt, bevor die lithographische Druckplatte (A) zur Herstellung von mit Druckfarbe bedruckten Kopien mit einer
ausreichend hohen Dichte fähig war, während lediglich 3 Kopien erforderlich waren, bevor die lithographische Druckplatte
zur Herstellung von mit Druckfarbe gedruckten Kopien mit einer ausreichend hohen Dichte fähig war.
Außerdem wurden die Kontaktwinkel hinsichtlich der Bildbereiche dieser lithographischen Druckplatten vor dem
Druck, nach der Herstellung von 5000 Kopien, nach der Herstellung von 10 000 Kopien, nach der Herstellung von 20 000
Kopien und nach der Herstellung von 50 000 Kopien gemessen. Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle I enthalten.
--Tabelle I
Kontaktwinkel (Grad)
Kontaktwinkel (Grad)
Lithographische Vor dem 5000 10000 20000 50000 Druckplatte Druck. Bögen Böpen Bögen Bögen
(A) 95 95 95 95 95
(B) 135 125 110 95 95
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Ferner wurde jeweils eine lichtempfindliche lithographische
Druckplatte (A) und (B), die in der gleichen Weise wie
vorstehend hergestellt worden war, während einer Woche bei einer Temperatur von 450C und einer Feuchtigkeit von 75 %
stehengelassen, wobei diese Bedingung einer Lagerung während -eines Jahres unter natürlichen Bedingungen entspricht, was
nachfolgend als Inkubation bezeichnet wird, und dann aufeinanderfolgend der bildweisen Belichtung und der Belichtungsbehandlung in der vorstehend geschilderten Weise unterworfen«
In. beiden Fällen wurden keine Änderungen der Empfindlichkeit beobachtet, und Flecken wurden kaum auf dem Schutzschild der
Druckmaschine in den Bereichen entsprechend den Nichtbildbereichen
beim Drucken festgestellt.
Es ergibt sich aus den vorstehenden Ergebnissen, daß die
lichtempfindliche lithographische Druckplatte gemäß der Erfindung einen Bildbereich, der hohe oleophile Eigenschaft besitzt,
lediglich im Oberflächenteil desselben besitzt und eine lithographische Druckplatte liefert, die lediglich eine
geringe Anzahl von Abfallblättern beim Beginn des Druckarbeitsganges herstellt und die ferner von ausgezeichneter Lagerungsstabilität
ist.
Beispiel 2 - " "
Auf die gleiche Aluminiumplatte (I), wie in Beispiel 1 ^verwendet, wurde -eine lichtempfindliche Masse (C) mit der
folgenden Zusammensetzung in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 aufgezogen. Die aufgezogene Schicht wurde unter
gleichen Bedingungen wie in Beispiel 1 getrocknet und die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (C) erhalten.
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-JS-
tO
■ 292Λ294
Lichtempfindliche Masse (A) 18,83 g
Styrol-Maleinsäureanhydridcopolymeres 0,014 g
(Molverhältnis von Styrol zu I-Ialeinsäureannydrid
1:1), halbverestert mit n-Hexanol
(Viskosität 15,4 cp in einer Lösung
jnit 5 Gew.-% Äthylenglycolmonomethyl-
äther)
Zu Vergleichszwecken wurde die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (A) in der gleichen "Weise wie in Beispiel
1 hergestellt. Der trockene Überzug der aufgezogenen Schicht betrug 2,0 g/m in beiden Fällen.
Diese lichtempfindlichen Druckplatten (A) und (C) wurden
aufeinanderfolgend getrennt in der gleichen Weise wie
in Beispiel 1 bildweise belichtet und entwicklungsbehandelt, und dabei wurden die lithographischen Druckplatten (A) und
(C) erhalten.
Jede dieser Druckplatten (A) und (C) wurde in die vorgeschriebene Stellung einer automatischen Druckpresse gesetzt
(Produkt der Orion Kikai), und der Druck wurde unter Anwendung von Neolex-Druckfarbe (Produkt der Dai-Nippon
Seiki Kogyo Co., Ltd.) durchgeführt. Im Fall der Druckplatte
(A) konnte ein Druck mit ausreichender Druckfarbdichte nicht erhalten werden, selbst nachdem 10 Kopien gedruckt worden
waren. Im Gegensatz hierzu wurde im Fall der Druckplatte (C) bereits als dritte Kopie eine ausreichende Druckfarbdichte
erhalten*
Außerdem wurden die Kontaktwinkel hinsichtlich der Bildbereiche dieser lithographischen Druckplatten (A) und
(C) in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 gemessen. Die Ergebnisse sind in Tabelle II enthalten.
909851/0920
t (A)
(Vergleich)
(Vergleich)
Kontaktwinkel (Grad)
• dem 5000 1000«
ick Bögen Böge]
95 95 95 95 95
Lithographische Vor dem 5000 10000 20000 50000 Druckplatte Druck Bögen Bögen Bögen Bögen
(C) 145 130 110 95 95
(erfindungsgemäß)
Es zeigt sich aus den vorstehenden Ergebnissen, daß der Bildbereich der aus der lichtempfindlichen lithographischen
Druckplatte gemäß der Erfindung erhaltenen lithographischen Druckplatte eine hohe oleophile Eigenschaft insbesondere an
der Oberfläche derselben besaß.
Ferner wurde Jede lichtempfindliche lithographische
Druckplatte (A) und (C) der Inkubation in der gleichen Weise
wie in Beispiel 1 unterworfen. Dann wurde jede hiervon auf einanderfolgend
in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bildweise
belichtet und entwicklungsbehandelt. Keine Unterschiedlichkeiten
der Empfindlichkeit und der Entwicklungsfähigkeit
wurden zwischen den Druckplatten (A) und (C) beobachtet. Außerdem wurden hinsichtlich der an dem Schutzschild der
Druckmaschine in den Bereichen entsprechend dem Nichtbildbereich anhaftenden Flecken beim Druck keine Unterschiedlichkeiten
zwischen denselben beobachtet.
Es ergibt sich aus diesen Resultaten, daß die Lagerungsstabilität der in der lichtempfindlichen lithographischen
Druckplatte gemäß der Erfindung enthaltenen lichtempfindli- -«hen Schicht nicht <lurch ein Styrol-Maleinsäureanhydridcopoly-
meres, das mit n-Hexanol halbverestert war, verschlechtert
wurde, welches zu der lichtempfindlichen Schicht zugesetzt wurde, um die oleophilen Eigenschaften zu verbessern.
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Auf die gleiche Aluminiumplatte (I) wie in Beispiel 1
wurde eine lichtempfindliche Masse (D) mit der folgenden Zusammensetzung in der gleichen Weise wie in Beispiel 1
aufgezogen, um die lichtempfindliche lithographische Druckplatte (D) herzustellen.
Lichtempfindliche Masse (A) 18,83 g
Styrol-Maleinsäureanhydridcopolymeres 0,014 g
(Molverhältnis von Styrol zu Maleinsäureanhydrid 1:1), halbverestert mit
2-Äthylhexanol
(Viskosität 6,8 cp, bestimmt in einer
Lösung mit 5 Gew.-?a in Äthylenglykol-
monoäthyläther)
Zu Vergleichszwecken wurde eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte (A) in der gleichen Weise wie in Beispiel
1 hergestellt. Eine Trockenabdeckung der aufgezogenen Schicht von 2,0 g/m wurde in jedem Fall angewandt.
Diese lichtempfindlichen Druckplatten wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 getrennt einer bildweisen
Belichtung und einer Entwicklungsbehandlung unterworfen, so daß die lithographischen Druckplatten (A) bzw. (D) hergestellt
wurden.
Jede dieser Druckplatten wurde in die vorgeschriebene Stellung einer Heidel CTO-Druckmaschine eingesetzt, und das
Drucken wurden unter Anwendung von Bögen eines Hochqualitätspapieres durchgeführt. Dabei erforderte die Druckplatte (A)
12 Papierbögen, bevor ein Druck mit ausreichend hoher Druckfarbdichte
erhalten werden konnte, während die Druckplatte (D) lediglich 3 Papierbögen erforderte, um einen Druck mit
ausreichender Druckdichte zu erhalten.
Außerdem wurden die Kontaktwinkel hinsichtlich der Bildbereiche dieser lithographischen Druckplatten (A) und (D) in
der gleichen Weise wie in Beispiel 1 gemessen. Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle III aufgeführt.
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- 56 -
Tabelle III Kontaktv/inkel (Grad)
Lithographische Vor dem 5000 10000 20000 50000 Druckplatte Druck Bögen Bögen Bögen Bögen
95 | 95 | 95 | 95 | 95 |
130 | 115 | 98 | 95 | 95 |
Die Erfindung wurde vorstehend anhand spezifischer Ausführungsformen
beschrieben, ohne daß die Erfindung hierauf begrenzt ist.
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Eeerserte-
Claims (29)
1. Lichtempfindliche lithographische Druckplatte, bestehend aus einem Träger mit auf mindestens einer Oberfläche
desselben ausgebildeter lichtempfindlicher Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß die äußerste
Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht höhere oleophile Eigenschaften als der Rest der lichtempfindlichen Schicht
zeigt.
2. Druckplatte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die lichtempfindliche Schicht ein
erstes Harz, welches sich selektiv an der äußersten Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht ansammelt und höhere
•oleophile Eigenschaften an dieselben erteilt, sowie ein zweites Harz mit einer schlechten Verträglichkeit mit dem
ersten Harz enthält.
3. Druckplatte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Harz Seitketten, welche mit
dem zweiten Harz verträglich sind, und eine Hauptkette, die eine relativ schlechte Verträglichkeit mit dem zweiten Harz
zeigt, aufweist.
4. Druckplatte nach Anspruch 1 bis 3» dadurch gekennzeichnet , daß die lichtempfindliche Schicht
umfaßt
(a) ein Copolymeres mit sich wiederholenden Einheiten der
Formeln (I) und (II):
(I)
COO^CH0CHO)-H
2, η
2, η
R2
10985
-JS-
worin R1 ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R2 ein
Wasserstoffatom, eine Methylgruppe, eine Äthylgruppe oder
eine ChIοnnethy 1 gruppe und η eine ganze Zahl von 1 bis 10 be
deuten,
2 (II)
CN
worin R, ein Wasserst off atom oder eine Methylgruppe bedeutet,
mit einer Säurezahl von etwa 10 bis 100, (b) ein Copolymeres mit sich wiedsrholenden Einheiten der
Formeln (III) und (IV):
H
I
I
(III)
-worin R^ -ein Wasserstoff a torn, eine-Methylgruppe, eine Äthyl
gruppe, eine Methoxygruppe, eine Äthoxygruppe oder eine Arylgruppe bedeuten,
-(CH CH)-
j I (IV)
COOR5 COOR6
worin Rc ein Wasserstoff atom, eine Methylgruppe oder eine
Äthylgruppe und Rg eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe
bedeuten, und
(c) eine Diazoverbindung.
(c) eine Diazoverbindung.
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5. Druckplatte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet , daß die Komponente (a) etwa 30 bis 80
Gew.-So an sich wiederholenden Einheiten entsprechend der Formel (I) und etwa 5 bis etwa 60 Gew.-/a an sich wiederholenden
Einheiten entsprechend der Formel (II) enthält.
6. Druckplatte nach Anspruch 5» dadurch gekennzeichnet, daß die Komponente (a) ein Molekulargewicht
von etwa 5.000 bis etwa 60.000 besitzt.
7. Druckplatte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet , daß die Komponente (b) 20 bis 80 Ge\i.-%
an sich wiederholenden Einheiten entsprechend der Formel (III) und 20 bis 80 Gew.-?i an sich wiederholenden Einheiten
entsprechend der Formel (IV) enthält.
8. Druckplatte nach Anspruch 7, dadurch" gekennzeichnet, daß die Komponente (b) ein Molekulargewicht
von etwa 500 bis 50.000 besitzt.
9. Druckplatte nach Anspruch 4, dadurch g-e k e η η ze
i c hne t , daß die Komponente (a) in einer Menge von etwa 50 bis 95 Gew.-% vorliegt.
10. Druckplatte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Komponente (b) in einer Menge von
etwa 0,05 bis 20 Gew.-So vorliegt.
11. Druckplatte nach Anspruch 4, dadurch g e k e η η zeichnet,
daß die Diazoverbindung in einer Menge von etwa 5 bis 50 Gew.-% vorliegt.
12. Druckplatte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet , daß die Diazoverbindung zwei oder mehr
Diazogruppen je Molekül enthält.
13. Druckplatte nach Anspruch 12, dadurch g e k e η η
zeichnet, daß die Diazoverbindung aus einem Salz eines Kondensates von p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd
oder Acetaldehyd, einem Kondensat von 2,5-Dimethoxy-4-ptolylmercaptobenzoldiazonium
und Formaldehyd oder einem Kondensat von 2,5-Dimethoxy-4-morpholinobenzoldiazonium und
Formaldehyd oder Acetaldehyd besteht.
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14. Druckplatte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet , daß die Diazoverbindung aus einem
mit der Komponente (a) verträglichen Diazoharz besteht.
15. Druckplatte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet , daß die Diazoverbindung aus einer
Verbindung der Formel (VIII)
besteht, worin R^, Rg, Rq und R10 eine Alkylgruppe mit
1 bis 4 Kohlenstoffatomen, X eine substituierte Aminogruppe und Y ein Säureanion bedeuten.
16. Lichtempfindliche Masse zur Anwendung in lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten, dadurch gekennzeichnet , daß sie eine lichtempfindliche
Komponente, ein erstes Harz, welches sich selektiv an der Oberfläche der beim Aufziehen und Trocknen der Masse auf
einem Träger ausgebildeten lichtempfindlichen Schicht ansammelt und welches eine höhere oleophile Eigenschaft an
diese erteilt, und ein zweites Harz mit schlechter Verträglichkeit mit dem ersten Harz enthält.
17. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 16, dadurch
^gekennzeichnet , daß das erste Harz Seitketten,
die mit dem zweiten Harz verträglich sind, und eine Hauptkette, die eine relativ schlechte Verträglichkeit mit dem
zweiten Harz zeigt, aufweist.
18. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 16, bestehend aus
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.(a) einem Copolymeren mit sich wiederholenden Einheiten
der Formeln (I) und (II):
2 (I)
COOfCH2CHO)nH
R2
R2
worin R^ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, R2 ein
Wasserstoffatom, eine Methylgruppe, eine Äthylgruppe oder
eine Chlormethylgruppe und η eine ganze Zahl von 1 bis bedeuten,
(II)
CN
worin R-z ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe bedeutet,
mit einer Säurezahl von etwa 10 bis 100,
(b) einem Copolymeren mit sich wiederholenden Einheiten der
Formeln (III) und (IV):
worin R^ ein Viasserstoff atom, eine Methylgruppe, eine
Üthylgruppe, eine Methoxygruppe, eine Äthoxygruppe oder
eine Arylgruppe bedeutet,
-(CH — CH)- (IV)
COOR5 COOR6
009851/0920
-MT.
.worin R1. ein Wasserstoffatom, eine Methylgruppe oder eine
Äthylgruppe und Rg eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe
bedeuten, und
(c) eine Diazoverbindung.
(c) eine Diazoverbindung.
19. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Komponente (a) etwa
30 bis 80 Gew.-5ό an sich wiederholenden Einheiten entsprechend
der Formel (I) und etwa 5 bis 60 Gew.-?o an sich wiederholenden Einheiten entsprechend der Formel (II) enthält.
20. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 19, dadurch
gekennzeichnet , daß die Komponente (a) ein Molekulargewicht von etwa 5.000 bis etwa 60.000 besitzt.
21. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet , daß die Komponente (b) 20 bis
80 Ge\r.-% an sich wiederholenden Einheiten entsprechend der
Formel (III) und 20 bis 80 Gew.-?o an sich wiederholenden
Einheiten entsprechend der Formel (IV) enthält.
22. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 21, dadurch
gekennzeichnet , daß die Komponente (b) ein Molekulargewicht von etwa 500 bis 50.000 besitzt.
23. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 19, dadurch
gekennzeichnet , daß die Komponente (a) in einer Menge von etwa 50 bis 95 Gev.-% vorliegt.
24. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet , daß die Komponente (b) in einer
Menge von etwa 0,05 bis 20 Gew.-% vorliegt.
25. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Diazoverbindung in
einer Menge von etwa 5 bis 50 Gew.-?o vorliegt.
26. Lichtempfindliche -Masse nach Anspruch 19, dadurch
gekennzeichnet , daß die Diazoverbindung zwei oder mehr Diazogruppen öe Molekül enthält.
27. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet , daß die Diazoverbindung aus
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.einem Salz eines Kondensates von p-Diazodiphenylamin und
Formaldehyd oder Acetaldehyd, einem Kondensat von 2,5-Dimethoxy-4-p-tolylinercaptobenzoldiazonium
und Formaldehyd oder dem Kondensat von 2,5-Dimethoxy-4-morpholinobenzoldiazonium
und Formaldehyd oder Acetaldehyd besteht.
28. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 19, dadurch
gekennzeichnet , daß die Diazoverbindung aus
einem mit der Komponente (a) verträglichen Diazoharz besteht,
29. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet , daß die Diazoverbindung aus
einer Verbindung der Formel (VIII) besteht:
(CÄN-V N>NH^N>J<H-</ \>N7C£)Y (VIII)
worin R«, RQt Rq und R^0 jeweils eine Alkylgruppe mit
1 bis 4 Kohlenstoffatomen, X eine substituierte Aminogruppe und Y ein Säureanion bedeuten.
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---|---|---|---|
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---|---|
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0212263A2 (de) * | 1985-08-05 | 1987-03-04 | Hoechst Celanese Corporation | Entwicklergemisch zum Entwickeln von Flachdruckplatten |
EP0397375A1 (de) * | 1989-05-06 | 1990-11-14 | Konica Corporation | Lichtempfindliche Zusammensetzung und lichtempfindliche lithographische Druckplatte |
US5260161A (en) * | 1989-05-06 | 1993-11-09 | Konica Corporation | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate comprising in admixture a tetrapolymer and a diazo resin |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5518621A (en) * | 1978-07-26 | 1980-02-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive lithographic printing plate |
JPS56122031A (en) * | 1980-03-01 | 1981-09-25 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Positive type photosensitive resin composition |
JPS57163234A (en) * | 1981-04-01 | 1982-10-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive composition |
JPS589146A (ja) * | 1981-07-09 | 1983-01-19 | Nippon Paint Co Ltd | 水不要平版用版材 |
JPS5811932A (ja) * | 1981-07-15 | 1983-01-22 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS58203433A (ja) * | 1982-05-21 | 1983-11-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JPS59222842A (ja) * | 1983-06-01 | 1984-12-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用感光性組成物 |
JPS603632A (ja) * | 1983-06-21 | 1985-01-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
US4511640A (en) * | 1983-08-25 | 1985-04-16 | American Hoechst Corporation | Aqueous developable diazo lithographic printing plates with admixture of polyvinyl acetate and styrene maleic acid ester copolymer |
JPS60186837A (ja) * | 1984-03-07 | 1985-09-24 | Somar Corp | 感光性組成物 |
US4539285A (en) * | 1984-03-14 | 1985-09-03 | American Hoechst Corporation | Photosensitive negative diazo composition with two acrylic polymers for photolithography |
JPS60233645A (ja) * | 1984-05-07 | 1985-11-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 非銀感光性平版印刷版 |
JPH0782236B2 (ja) * | 1984-10-12 | 1995-09-06 | 三菱化学株式会社 | 感光性組成物 |
US4618562A (en) * | 1984-12-27 | 1986-10-21 | American Hoechst Corporation | Aqueous developable lithographic printing plates containing an admixture of diazonium salts and polymers and composition therefor |
US5080999A (en) * | 1985-06-10 | 1992-01-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive diazo resin composition containing a higher fatty acid or higher fatty acid amide |
US5066568A (en) * | 1985-08-05 | 1991-11-19 | Hoehst Celanese Corporation | Method of developing negative working photographic elements |
JP2525644B2 (ja) * | 1988-06-27 | 1996-08-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 電子写真式製版用印刷原版 |
NZ237919A (en) * | 1990-04-26 | 1994-09-27 | Grace W R & Co | Photocurable element comprising photocurable base layer and a photocurable printing layer which comprises two incompatible elastomeric polymers and a photopolymerisable monomer, base layer comprising elastomer, monomer and photoinitiator; relief printing plates |
CA2073147A1 (en) * | 1991-07-04 | 1993-01-05 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition |
GB9308859D0 (en) * | 1993-04-29 | 1993-06-16 | Johnson Ronald F | Water-developable coloured photosensitive composition |
US5731127A (en) * | 1995-04-11 | 1998-03-24 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Photosensitive composition and photosensitive planographic printing plate having a resin with urea bonds in the side chain |
US5773194A (en) | 1995-09-08 | 1998-06-30 | Konica Corporation | Light sensitive composition, presensitized lithographic printing plate and image forming method employing the printing plate |
JP4458389B2 (ja) | 2000-05-01 | 2010-04-28 | コダック株式会社 | 感光性組成物および感光性平版印刷版 |
US9005884B2 (en) * | 2011-02-16 | 2015-04-14 | Toyobo Co., Ltd. | Developer composition for printing plate, developer and method for manufacturing printing plate |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2007208A1 (de) * | 1969-02-17 | 1970-09-03 | GAF Corp., New York, N.Y. (V.St.A.); vtr: Jung, E., Dipl-Chem. Dr.phil.; Vossius, V., Dipl.-Chem. Dr.rer.nat.; Schirdewahn, J., Dipl.-Phys. Dr.rer.nat.; Pat.-Anwälte, 8OOO München | Positivkopierlack |
US3802885A (en) * | 1967-08-15 | 1974-04-09 | Algraphy Ltd | Photosensitive lithographic naphthoquinone diazide printing plate with aluminum base |
DE2508618A1 (de) * | 1974-02-28 | 1975-09-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche masse |
DE2512933A1 (de) * | 1974-03-25 | 1975-10-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche planographische druckplatte |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2990281A (en) * | 1956-12-17 | 1961-06-27 | Monsanto Chemicals | Photosensitive resinous compositions and photographic elements |
US2980534A (en) * | 1956-12-17 | 1961-04-18 | Monsanto Chemicals | Photographic compositions and photographic elements |
US3316092A (en) * | 1963-05-09 | 1967-04-25 | Dietzgen Co Eugene | Diazotype material comprising a metal sulfate nitrogenous compound and polymeric anhydride |
JPS4910841B1 (de) * | 1965-12-18 | 1974-03-13 | ||
US3759711A (en) * | 1970-09-16 | 1973-09-18 | Eastman Kodak Co | Er compositions and elements nitrogen linked apperding quinone diazide light sensitive vinyl polym |
JPS5626018B2 (de) * | 1973-12-27 | 1981-06-16 | ||
US4123276A (en) * | 1974-02-28 | 1978-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
JPS5128001A (en) * | 1974-08-29 | 1976-03-09 | Polychrome Corp | Kizaijono kankohifuku oyobi sonoseizoho |
US4104072A (en) * | 1977-05-19 | 1978-08-01 | Polychrome Corporation | Water developable lithographic printing plate having dual photosensitive layering |
US4186069A (en) * | 1978-01-30 | 1980-01-29 | Richardson Graphics Company | Photopolymerizable latex systems |
-
1978
- 1978-06-16 JP JP7278778A patent/JPS55527A/ja active Granted
-
1979
- 1979-06-15 DE DE2924294A patent/DE2924294C2/de not_active Expired
- 1979-06-18 US US06/049,246 patent/US4294905A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3802885A (en) * | 1967-08-15 | 1974-04-09 | Algraphy Ltd | Photosensitive lithographic naphthoquinone diazide printing plate with aluminum base |
DE2007208A1 (de) * | 1969-02-17 | 1970-09-03 | GAF Corp., New York, N.Y. (V.St.A.); vtr: Jung, E., Dipl-Chem. Dr.phil.; Vossius, V., Dipl.-Chem. Dr.rer.nat.; Schirdewahn, J., Dipl.-Phys. Dr.rer.nat.; Pat.-Anwälte, 8OOO München | Positivkopierlack |
DE2508618A1 (de) * | 1974-02-28 | 1975-09-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche masse |
DE2512933A1 (de) * | 1974-03-25 | 1975-10-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche planographische druckplatte |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0212263A2 (de) * | 1985-08-05 | 1987-03-04 | Hoechst Celanese Corporation | Entwicklergemisch zum Entwickeln von Flachdruckplatten |
EP0212263A3 (en) * | 1985-08-05 | 1987-09-02 | American Hoechst Corporation | Composition for the development of lithographic printing plates |
EP0397375A1 (de) * | 1989-05-06 | 1990-11-14 | Konica Corporation | Lichtempfindliche Zusammensetzung und lichtempfindliche lithographische Druckplatte |
US5260161A (en) * | 1989-05-06 | 1993-11-09 | Konica Corporation | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate comprising in admixture a tetrapolymer and a diazo resin |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2924294C2 (de) | 1986-03-27 |
US4294905A (en) | 1981-10-13 |
JPS55527A (en) | 1980-01-05 |
JPS6260701B2 (de) | 1987-12-17 |
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