DE3307834A1 - Verfahren zur elektrolytischen entfernung von ueberzuegen aus nickel oder nickel-eisen-legierungen von grundmetallen aus kupfer oder kupferlegierungen - Google Patents
Verfahren zur elektrolytischen entfernung von ueberzuegen aus nickel oder nickel-eisen-legierungen von grundmetallen aus kupfer oder kupferlegierungenInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich im weiten Sinne auf die elektrolytische
Entmetallisierung oder Entfernung unerwünschter galvanisch abgeschiedener
metallischer Überzüge von Substraten, insbesondere auf die elektrolytische Entfernung von unerwünschten galvanisch
abgeschiedenen Nickel- oder Nickellegierungs-Überzügen von Grundmetallen oder Substraten aus Kupfer oder Kupferlegierungen.
Die Entnickelung oder Entfernung von galvanisch abgeschiedenen Überzügen aus Nickel oder Nickel-Eisen-Legierungen ist erforderlich,
wenn der Metallüberzug defekt ist oder im Gebrauch des Gegenstandes mechanisch beschädigt wurde. Durch Entmetallisieren
oder Entfernen defekter beschädigter galvanisch aufgebrachter Überzüge kann ein Gegenstand wieder gebrauchsfähig gemacht und
anschließend erneut mit einem galvanischen Überzug versehen werden, um einen marktfähigen zufriedenstellenden Gegenstand
zu erhalten. Die Entfernung von Nickel- und Nickellegierungs-Überzügen ist wirtschaftlich von erheblicher Bedeutung in der
Rohrbefestigungsindustrie (plumbing fixture industry), bei welcher die Befestigungen aus Kupfer oder Kupferlegierungen,
gewöhnlich aus Messing, sind, worauf ein glänzender Nickel- oder Nickel-Eisen-Legierungs-Überzug galvanisch abgeschieden ist,
um Aussehen und Haltbarkeit zu verbessern. Das Problem beim Entfernen solcher Nickel- und Nickellegierungsüberzüge: von
Substraten aus Kupfer und Kuperlegierungen ist aber, daß die
Entmetallisierungszusammensetzung das Substrat ätzen oder beschädigen
kann, was teure Nachbearbeitungen erforderlich macht, um das Substrat wieder in einen Zustand zu bringen, in dem es
wieder mit einem galvanischen Überzug versehen werden kann.
Bei den Praktiken des Standes der Technik ist es üblich,zur
Entfernung von Nickel- und Nickellegierungs-Überzügen von Substraten
aus Kupfer und Kupferlegierungen relativ konzentrierte saure Lösungen, wie Salzsäure und Schwefelsäure allein oder in
Verbindung mit Phosphorsäure zu verwenden. Derartige konzentrierte saure Lösungen tendieren dazu, das Grundmetall zu
ätzen oder narbig zu machen. Außerdem sind sie wegen ihrer korrosiven Natur und der hohen Konzentration hinsichtlich Handhabung
und Abfallbeseitigung problematisch.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum
Entfernen von Nickel und Nickellegierungs-Überzügen von SubstiEfcen
aus Kupfer und Kupferlegierungen zu schaffen, bei welchem das Grundmetall nicht angegriffen wird. Es soll eine Lösung zur
Anwendung kommen, die weniger korrosiv wirkt, aber den galvanischen Überzug schnell und sicher entfernt.
Die Aufgabe wird durch das Verfahren des Anspruches 1 gelöst. Bevorzugte Ausführungsformen sind in den Unteransprüchen angegeben.
Durch das Verfahren nach der Erfindung und die darin verwendete Lösung sind viele Nachteile und Probleme, die mit den bekannten
Techniken verbunden waren, überwunden. Es wird eine Entmetalli-
sierungslösung eingesetzt, die verhältnismäßig verdünnt und
daher weniger korrosiv ist, was ihre Handhabung und Beseitigung erleichtert, während sie gleichzeitig eine gute Entmetallisierungsrate
aufweist und das Grundmetall Kupfer oder Kupferlegierung weniger angreift, so daß Ätzen oder Narbig- oder
Löcherigwerden des Grundmetalls wegfällt. Folglich ist gewöhnlich nur eine leichte Farbpolierung des entmetallisierten
Gegenstandes erforderlich, um seinen hohen Glanz wieder herzustellen
und ein Aufgalvanisieren zu ermöglichen· Besondere Vorteile
werden beim Entfernen von Glanznickel und Nickel-Bisen-Legierungs-Überzügen mit bis zu etwa 40$ Eisen von Messing-Rohrbefestigungen
erreicht, was eine Neugalvanisierung zur Bereitstellung eines wirtschaftlich zufriedenstellenden Produkts
ermöglicht«
Die Vorteile der Erfindung werden durch ein Verfahren erreicht, in welchem galvanisch aufgebrachte Nickel- und Nickellegierungsüberzüge wirksam von Kupfer- und Kupferlegierungs-Grundmetallen
entfernt werden dadurch, daß man den zu entnickelnden Gegenstand in ein Entmetallisierungsbad taucht, welches eine wäßrige saure
Lösung ist, die enthält: etwa 5 bis etwa 200 g/l von mindestens
einem Halogenidsalz,
etwa 10 bis etwa 100 g/l mindestens einer badlöslichen organischen
Carbonsäure oder einem Salz einer solchen Säure, die unter die allgemeine Formel I fällt:
R
IXOOC-CH0J -C-COOX
IXOOC-CH0J -C-COOX
in der bedeuten:
R H oder eine Alkylgruppe mit 1 bis k C-Atomen,
T H oder OH,
X H, ein Metall aus der Gruppe IA oder HA oder 2
η 0, 1 oder 2,
und Wasserstoffionen, so daß der pH-Wert des Bades unter etwa
5 liegt.
Die Entmetaiiisierung des Gegenstandes wird erreicht, indem man
ihn als Anode schaltet und elektrischen Strom durch das Entme tallisierungsbad zwischen einer Kathode und dem Gegenstand so
lange hindurchschickt, bis die Entfernung des Metallüberzugs im gewünschten Ausmaß stattgefunden hat; Das Entmetallisierungsbad
wird auf einer Temperatur im Bereich von etwa Raumtemperatur bis etwa 80°C und die Anoden-Stromdichte in einem Bereich von
etwa 10,75 "bis etwa 5k A/dm gehalten. Die bestimmte Zeit, die
erforderlich ist, um den defekten Überzug weitgehend vollständig zu entfernen, hängt von seiner Dicke, der Badtemperatur, der
Konzentration und der Stromdichte, die angewendet werden, ab.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung werden aus der nachstehenden
Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen in Verbindung
mit den speziellen Beispielen hervorgehen.
Bei der praktischen Durchführung der Erfindung wird ein Entmetallisierungsbad
verwendet, das eine wäßrige saure Lösung ist, die als wesentliche Bestandteile enthält: kontrollierte wirksame
Mengen von Halogenidsalzen, einer organischen Carbonsäure einschließlich
deren Metallsalze und Gemische davon, und Wasser·? stoff ionen in einer Menge, die ausreicht, daß ein pH-Wert von
unter etwa 5 resultiert· Das Halogenidsalz kann das Chlorid, Bromid, Jodid oder ein Gemisch davon von Metallen der Gruppe
IA und XIA sowie Ammonium sein. Jodide sind wegen ihrer geringeren
Aktivität weniger geeignet, während Chloride, insbesondere Alkalimetallchloride, wie Natriumchlorid die bevorzugten HaIogenidbestandteile
hinsichtlich Aktivität, Verfügbarkeit, Wirtschaftlichkeit
und Abfallbeseitigung sind· Das Halogenidsalz oder das Salzgemisch kann in Mengen im Bereich von etwa 5 bis
etwa 200 g/l, vorzugsweise, von etwa 20 bis etwa 50 £>/l» zum
Beispiel in Mengen von etwa 30 g/l eingesetzt werden*
Es ist festgestellt worden, daß wenn die Halogenidkonzentration
bis nahe an die maximale Konzentration von 200 g/l angestiegen ist, der Grad, in dem die EntmetallisierungslSsung das Grundmetall
aus Kupfer oder Kupferlegierung angreift, zunimmt. Jedoch ist gefunden worden, daß überraschenderweise selbst bei sehr
hohen Halogenidsalzkonzentrationen die Angriffsrate im wesentlichen gleichmäßig über den ganzen Oberflächenbereich des
Grundmetalls verteilt ist, ohne irgendwelchen signifikanten lokalisierten Angriff, verbunden mit tiefer Narben- oder Grübchenbildung,
wie es bei Verwendung der Salzsäure und Schwefelsäure enthaltenden Entmetallisierungslösungen des Standes der
Technik der Pail ist. Demgemäß erfordert das entmetallisierte
.../10
Substrat, salbet bei so hohen Angriffsraten des Grundmetalle,
nur eine leichte Farbpolierung (light color buffing), um das
Substrat wieder in einen Zustand zu bringen, in welchem es erneut galvanisiert werden kann. In manchen Fällen kann eine
hohe, wenn auch gleichmäßige Angriffsrate des Grundmetalls nicht
toleriert werden, wie zum Beispiel im Fall von Präzisionsteilen, die genaue Dimensionstoleranzen erfordern, wie zum Beispiel
Rohrgewinde an Rohrbefestigungen. Wegen der wirtschaftlich
zufriedenstellenden Entmetallisierungsraten, die bei niedrigeren Halogenidsalzkonzentrationen erhalten werden, und den damit verbundenen
geringeren Angriffsraten des Grundmetalls, wird es bevorzugt, die Halogenidsalzkonzentration im bevorzugten Bereich
von etwa 20 bis etwa 50 g/l zu halten·
Die badlösliche organische Carbonsäure-Verbindung, die mit
befriedigendem Ergebnis eingesetzt werden kann, fällt lunter die allgemeine Formel I:
T
in der bedeuten':
in der bedeuten':
R H oder eine Alkylgruppe mit 1 bis k C-Atomen,
Y H oder OH,
X H, ein Metall aus der Gruppe. IA, HA oder η 0, 1 oder 2.
.../11
Organische Carbonsäuren, die der vorstehenden Formel I entsprechen,
schließen ein: Ameisensäure, Essigsäure, Bernsteinsäure, Glykolsäure, Milchsäure und Citronensäure, von denen Eisessig
bevorzugt wird. Es vird auch bevorzugt,die Carbonsäureverbindung
in Form der Säure selbst einzusetzen, um Wasserstoffionen bereitzustellen
und ein saures Medium zu erhalten·
Bas Entmetaiiisierungsbad enthält ferner Wasserstoffionen, die
geeigneterweise in Form einer Halogenwasserstoffsäure, vorzugsweise
Salzsäure, eingeführt werden, damit ein pH-TTert von weniger
als etwa 5, vorzugsweise etwa 0,8 bis etwa 1,5 resultiert.
Die Entfernung von Glanznickel oder einer glänzenden Nickel-Eisen-
Legierung, die bis zu etwa ko$> Eisen enthält, von Kupfer
oder Kupferlegierung als Grundmetall, wie einen Messingsubstrat, wird dadurch erreicht, daß man den zu entmetallisierenden Gegenstand
in eine EntmetallisierungslSsung taucht und anodisch schaltet, so daß ein Strom zwischen einer Kathode und dem
Gegenstand fließt. Es wird bevorzugt,während des Entmetallisierungsvorgangs
eine Bewegung des zu entmetallisierenden Gegenstandes relativ zur Lösung zu bewirken, um Schichtenbildung im
Bad zu vermeiden. Um dies zu bewirken, hat sich schwache Bewegung, wie Anodenstabbewegung, schwache Bewegung mittels Luft
oder Zirkulieren der Lösung durch Pumpen oder mechanisches Rühren als zufriedenstellend erwiesen. Das elektrolytische Entmetallisieren
des Gegenstandes wird gewöhnlich bei einer Anodenstromdichte im Bereich von etwa 1 bis etwa 5h A/dm oder darüber
.../12
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- 12 -
durchgeführt, abhängig von der Rektifiziervorrichtung und der Leitfähigkeit der Lösung. Durchschnittliche Anodenstromdichten
von etwa 10,75 bis etwa 33 A/dm werden allgemein industriell
angewendet und ergeben effektive und wirksame Entfernung des Nickel- oder Nickel-Legierungs-Überzugs vom Substrat. Die
Betriebstemperatur des Bades kann im Bereich von etwa. Zimmertemperatur (21°C) bis etwa 80 C, vorzugsweise von etwa 38 bis
etwa 6o°C, typischerweise bei etwa 50°C liegen.
Die in dem Entmetallisierungsbad verwendete Kathode kann
irgendeine Zusammensetzung haben; bevorzugt wird eine vernickelte Flußstahlkathode einer Gesamtoberfläche von mehr
als dem Vierfachen der Oberfläche des Teils oder der Teile, die zu entmetallisieren sind, um die erforderliche Stromdichte
und die Kapazität bei der elektrolytischen Entmetallisierung zu erreichen. Die spezielle Zeit, die für
die Entmetallisierung des galvanisch aufgebrachten Überzugs von einem Substrat erforderlich ist, schwankt in Abhängigkeit
von der Dicke des ursprünglichen Überzugs,der Gestalt des mit Überzug versehenen zu entmetallisierenden Gegenstands,
der Konzentration des Bades innerhalb der weiter oben gegebenen Parameter, der Temperatur und der Stromdichte, die
angewendet werden·
Das erfindungsgemäße Verfahren hat sich als für die elektrolytische
Entmetallisierung von defekten oder beschädigten Glanznickel- und glänzenden Nickel-Eisen-Legierungs-Überzügen
.../13
von Messingrohrbefestigungen oder dergleichen als besonders
geeignet erwiesen. Die Entfernung der galvanisch aufgebrachten
Überzüge wird effektiv ohne .Beschädigung des Messingsubstrats erreicht, und es ist nur eine leichte Farbpolierung (light color
buffing) erforderlich, um den hohen Glanz des Messingsubstrats wieder herzustellen, bevor es wieder mit einem galvanischen
Überzug versehen wird.
Um das Verfahren nach der Erfindung noch weiter zu veranschaulichen, werden die nachstehenden Beispiele gebracht, auf die die
Erfindung jedoch nicht beschränkt ist.
Beispiel 1 . .
Um die Angriffsrate der elektrolytischen Entmetallisierungslösung auf ein Messing-Grundmetall zu bestimmen, wurden polierte
Messing-Testplatten, von denen jede eine Gesamtoberfläche von 6h,5 cm hatte, jeweils in einen Becher mit 500 ml einer wäßrigen
sauren Entmetallisierungslösung, die 26,2 g/l Eisessig und unterschiedliche Mengen Natriumchlorid enthielt, gelegt. Die
Entmetallisierungslösung enthielt im ersten Versuch 30 g/l Natriumchlorid, im zweiten Versuch 60 g/l, im dritten Versuch
90 g/l und im vierten Versuch 120 g/l Natriumchlorid. Jeweils eine nicht mit Überzug versehene polierte Messing-Testplatte
wurde in eine der vier Entmetallisierungslösungen. getaucht.Die Lösungen wurden auf einer Temperatur von 50°C und einem pH-Wert
von etwa 2 durch Zugabe von Salzsäure gehalten. Die Testplatten wurden anodisch geladen, um eine Anodenstromdichte von etwa
- 14 -
J)
10,75 A/dm zu gewährleisten. Als Kathode wurde eine vernickelte
Flußstahlkathode einer Gesamtoberfläche von etwa 210 cm verwendet . ___
Jede Messing-Testplatte wurde vor Beginn der Elektrolyse gewogen und nach Ablauf von 15 Minuten Test wieder gewogen.
Der Gewichtsverlust, der bei jeder Testplatte festgestellt wurde, wurde in Verlust der Dicke der Testplatte in mm pro
Minute umgerechnet. Nach dem vorstehend beschriebenen Test ist die Angriffsrate des Messing-Grundmetalls als eine
Punktion der Natriumchloridkonzentration wie folgt:
26,2 g/l 30 g/l 0,00018
26,2 g/i 6o g/l 0,00036
26,2 g/i 90 g/i 0,00074
26,2 g/l 120 g/l 0,00079
Eine wäßrige saure Entmetallisierungslösung, die 26,2 g/l Eisessig
und 30 g/l Natriumchlorid enthielt, wurde hergestellt und der pH-Wert unter Verwendung von Salzsäure auf etwa 2 eingestellt.
Eine erste Reihe unüberzogener polierter Messing-Testplatten der in Beispiel 1 beschriebenen Art wurde verwendet,
um die Angriffsrate auf das Grundmetall bei variierenden Anodenstromdichten zu bestimmen. Eine zweite Reihe polierter Messing-
.../15
-••15*"-
Testplatten, die mit einem 12,7 fan dicken Glanznickelüberzug
versehen waren, wurde mit der gleichen Entmetallisierungslösung bei variierenden Anodenstromdichten entmetallisiert.
Die Angriffsrate auf das Grundmetall wurde wie in Beispiel 1 beschrieben berechnet, während die Rate der Entfernung des
Nickelüberzugs durch den Gewichtsverlust der Platten nach Ablauf von 5 Minuten des Entmetallisierungstests bestimmt
und in mm pro Minute berechnet wurde. Die Entmetaiiisierungsrate
des Nickelüberzugs und die Angriffsrate des Messinggrundmetalls bei Stromdichten von 10,75» 16,15ί 21»53 und
33 A/dm sind in der folgenden Tabelle zusammengestellt:
Anodenstromdichte A/dm2
10,75 16,15 21,53 32,29
Entmetallisierungsrate« mm/Minute
0,00208
0,00320
0f 03,406*
0,00475
0,00320
0f 03,406*
0,00475
Angriffsrate mm/Min.
0,00023 0,00023 0,00026 0,00031
Zu Vergleichszwecken wurde ein wäßriges saures Entmetallisierungsbad
nach dem Stand der Technik hergestellt, das I5 g/l Salzsäure (22° Be) enthielt, und an vernickelten sowie polierten
nicht mit Metallüberzug versehenen Messing-Testplatten der Art wie in Beispiel 2 beschrieben, getestet, um die Entmetallisierungsrate
des Nickelüberzugs und die Angriffsrate am
.../16
Messinggrundraetall bei einer Anodenstromdichte von 10,75 A/dm2
tinter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 2 zu bestimmen. Bei Verwendung der Vergleichs-Entmetallisierungslösung des
Standes der Technik berechnete sich die Entmetallisierungsrate auf 0,00147 mm/Min, und die Angriffsrate auf 0,0004i mm/Min.
Ein Vergleich dieser Werte mit denen, die in Beispiel 2 bei der Stromdichte 10,75 A/dm erhalten worden sind, zeigt, daß
die Vergleichslösung eine deutlich niedrigere Entmetallisierungsrate hinsichtlich des Nickelüberzugs und eine deutlich
höhere Angriffsrate hinsichtlich des Messinggrundmetalls hat.
Vielleicht noch wichtiger ist, daß die Entmetallisierungslösung
nach dem Stand der Technik zu einer starken Narben- oder Grübchenbildung des Messinggrundmetalls führt, was die entmetallisierte
Platte ohne große Oberflächen nach Bearbeitung, um sie wieder in einen galvanisierbaren Zustand zu bringen,
unbrauchbar macht. Im Gegensatz dazu und nicht vorhersehbar erzeugt die Verwendung der wäßrigen sauren Entmetallisierungslösung
des Beispiels 2 sogar bei relativ hohen Natriumchlorid-Konzentrationen,
d.h. über etwa 100 g/l und den damit verbundenen höheren Angriffsraten, eine entmetallisierte Platte, die
gleichmäßig angegriffen ist und keine nachteilige lokalisierte Korrosion hat, so daß in den meisten Fällen nur eine leichte
Farbpolierung erforderlich ist, um die Platte in einen Zustand zu bringen, in dem sie wieder galvanisierbar ist.
•../17
Es wurde eine wäßrige saure Entmetallisierungslösung unter Verwendung
von 100 g/l Natriumchlorid, 20 g/l Natriumbromid und 20 g/l Citronensäure hergestellt und der pH-Wert der Lösung
mit Salzsäure auf etwa 1,5 eingestellt. Mit Nickel überzogene Messing-Testplatten der Art, wie in Beispiel 2 beschrieben,
wurden unter Verwendung der Anordnung des Beispiels 2 der elektrolytischen Entmetallisierung bei einer Temperatur der
Lösung von etwa 21 bis etwa 27°C, einer Anodenstromdichte von 10,75 A/dm und unter Verwendung einer vernickelten Flußstahlplatte
als Kathode unterworfen. Die Entmetallisierungsrate, mit der der Nickelüberzug entfernt wurde, war befriedigend;
es trat keine sichtbare Ätzung oder Grübchenbildung am Messingsubstrat auf.
Es wurde eine wäßrige saure Entmetallisierungslösung, die 100 g/l Natriumchlorid und 10 g/l Citronensäure enthielt, hergestellt
und der pH-Wert auf etwa 0,8 bis etwa 1,5 mit Salzsäure eingestellt. Messing-Testplatten, die mit einer Glanznickelschicht
versehen waren, wurden unter den Bedingungen, wie in Beispiel h
beschrieben, entmetallisiert, wobei ähnlich zufriedenstellende Ergebnisse erhalten wurden·
Es wurde eine wäßrige saure Entmetallisierungslösung, die 100 g/l
Natriumchlorid und 10 ml/l (88$) Milchsäure (10,9 g/l) enthielt,
.../18
ju /
hergestellt und der pH-Wert innerhalb eines Bereiches von 2,2
bis 3,6 unter Verwendung von Salzsäure eingestellt. Mit einer Glanznickelschicht versehene Testplatten wurden nach der Methode,
wie in Beispiel h beschrieben, entmetallisiert und es wurden
ähnliche zufriedenstellende Ergebnisse erhalten.
Eine wäßrige saure BntmetalIisierungslösung, die 100 g/l Natriumchlorid
und 20 g/l Bernsteinsäure enthielt, und deren pH auf etwa 5 eingestellt wurde, wurde hergestellt. Messing-Testplatten,
die mit einer Glanznickelschicht überzogen waren, wurden in das Bad getaucht und elektrolytisch unter den in Beispiel h angegebenen
Bedingungen entmetalldsiert. Es wurden ähnlich zufriedenstellende Ergebnisse erhalten·
Es wurde ein wäßriges saures Entmetallisierungsbad, das 100 g/l Natriumchlorid und 20 ml/l Glycolsäure (10 g/l) enthielt und
dessen pH-Wert in den Bereich von 3,5 bis 5 eingestellt war,
hergestellt. Messing-Testplatten, die mit einem Glanznickelüberzug
versehen waren, wurden in dem Entmetallisierungsbad unter den in Beispiel k angegebenen Bedingungen entmetallisiert;
es wurden ähnliche zufriedenstellende Ergebnisse erhalten·
Es wurde eine wäßrige saure Entmetallisierungslösung, die 25 g/l Eisessig und 30 g/l Natriumchlorid enthielt und deren
.../19
pH-Wert auf etwa 0,8 bis etwa 1,5 mit SaIζsätire eingestellt
wurde, hergestellt. Eine Reihe von polierten Messing-Testplatten,
denen galvanisch ein 12,7 P& (0,0127 mm) dünner
glänzender Überzug einer Nickel-Eisen-Legierung, die etwa 30 Gew.-^ Eisen enthielt, aufgebracht worden war, wurden
elektrolytisch entmetallisiert· Es wurde eine mit Nickel beschichtete Flußstahlkathode bei einem Kathoden-Anodenver- .
hältnis von 4:1 verwendet, eine Anodenstromdichte von 10,75
A/dm und eine Badtemperatur im Bereich von Raumtemperatur bis etwa 38°C angewendet.
Die Entmetallisierungsrate des Nickel-Eisen-Legierungsüberzugs, berechnet wie in Beispiel 2 angegeben, war 0,00203 mm/Min.
Der Angriff des Messinggrundmetalls war minimal, so daß nur ein leichtes Farbpolieren nötig war, um den Glanz der Platten
wieder herzustellen.
Claims (13)
- 31 433-21.330783ADH.-lNCi. H. NBGENDANK (-1B73)HAUCK1 SCHMITZ, GRAALFS, WEHNBRT, DÖRING HAMBURG MÜNCHEN DÜSSELDORFPATRNTANWALTR . NBUKR WALI, 41 . 2O0O HAMIIL'HC 3BOccidental Chemical Corporation 2i44l Hoover RoadWarren, Michigan 48089USADipl-Phyn. W. SCHMITZ - Dipl.-lng. B. GRAALFS Neuer Wall 41 . 2000 Hamburg Telefon + Telecopier (040) 3Θ 67 B5 Telex 02II 76» input dl-Inji. H. HAUCK - Dipl.-Inj;. W. WEHNERT Mozarteiraße 23 · 80UO München Telefon + Telecopier (089) 5302 36 Telex 05 216553 pamu dDr.-Ing. W. DÖRINGK.-Wilhelm-Rinf* 41 · 4OOO -Düsseldorf Telefon (0211) 57 5O 27ZUSTELLUNGSANSCHRIFT / PLEASE REPLY TO:Hamburg. 3. März 1983Verfahren zur elektrolytischen Entfernung von Überzügen aus Nickel oder Nickel-Eisen-Legierungen von Grundmetallen aus Kupfer oder Kupferlegierungenü c h1 J Verfahren zur elektrolytischen Entfernung von Überzügen aus Nickel oder Nickel-Eisen-Legierungen von Grundmetallen aus Kupfer oder Kupferlegierungen, dadurch gekennzeichnet, daß man den zu entmetallisierenden Gegenstand in ein wäßriges saures Entmetallisierungsbad taucht, das enthält: etwa 5 bis etwa 200 g/l Halogenidealz, etwa 10 bis etwa 100 g/l mindestens einer badlöslichen organischen Carbonsäure oder einem Salz einer solchen Säure,BiU'opoan Patent Attorneys Zugelassene Vertreter beim Europäischen PatentamtDeutsche Bunk AO Hamburg. Nr. Ο5/28 497 (BLZ 200 700 00) · Postscheck Hamburg V342-2O8Dresdner Bank AG Hamburg, Nr. 938 6035 (BLZ 2OO80000):..:.J:..:^'O'J 33U7834die unter die allgemeine Formel I fällt:[XOOC-CH0J -C-COOX *- ti η ιin der bedeuten:R H oder eine Alkylgruppe mit 1 bis k C-Atomen, Y H oder OH,X H, ein Metall aus der Gruppe IA oder IIA oder ^ η 0, 1 oder 2;und Wasserstoffionen in einer Menge, daß der pH-Wert des Bades unter etwa 5 liegt;die Temperatur des Bades ssvischen Raumtemperatur und etwa 800C hält, den Gegenstand als Anode schaltet und elektrischen Strom durch die Lösung zwischen einer Kathode und dem Gegenstand für eine Zeit schickt, bis die Entfernung des Metallüberzugs von dem Gegenstand in dem gewünschten Ausmaß erreicht ist.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man die Temperatur des Bades auf einem Wert zwischen etwa 38 C und etwa 60°C hält.
- 3· Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß man die Temperatur des Bades auf einem Wert von etwa 50 C hält·
- 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3» dadurch gekennzeichnet, daß man Strom durch die Lösung zwischen einer Kathode und dem Gegenstand bei einer Anodenstromdichte von etwa 1 bis etwa 54 A/dm hindurchschickt·
- 5· Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß man Strom durch die Lösung zwischen einer Kathode und dem Gegenstand bei einer durchschnittlichen Anodenstromdichte von etwa 10,75 his etwa 33 A/dm hindurchschickt·
- 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5» dadurch gekennzeichnet, daß man das Verhältnis von Anode zu Kathode auf mindestens etwa 1:4 einregelt.
- 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß man die Wasserstoffionen in einer Menge vorsieht, daß ein pH-Wert von etwa 0,8 bis 1,5 resultiert·
- 8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7» dadurch gekennzeichnet, daß man als Halogenidealz ein Chlorid und/oder Bromid einsetzt.
- 9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß man als Halogenidsalz ein Alkalimetall-, ein Ammonium-Salz oder ein Gemisch davon einsetzt.JJU
- 10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9t dadurch gekennzeichnet, daß man das Halogenidsalz in einer Menge von etva 20 bis etwa 50 g/l einsetzt.
- 11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß man das Halogenidsalz in einer Menge von etva 30 g/l einsetzt.
- 12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß man die organische Carbonsäure, deren Salz oder ein Gemisch davon in einer Menge von etva 20 bis etva 50 g/l einsetzt·
- 13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß man die organische Carbonsäure aus der Gruppe von Ameisensäure, Essigsäure, Bernsteinsäure, Glycolsäure, Milchsäure und Citronensäure ausvählt.Ik, Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß man als organische Carbonsäure Essigsäure einsetzt·
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/355,506 US4400248A (en) | 1982-03-08 | 1982-03-08 | Electrolytic stripping process |
Publications (1)
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---|---|
DE3307834A1 true DE3307834A1 (de) | 1983-09-22 |
Family
ID=23397683
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
DE19833307834 Ceased DE3307834A1 (de) | 1982-03-08 | 1983-03-05 | Verfahren zur elektrolytischen entfernung von ueberzuegen aus nickel oder nickel-eisen-legierungen von grundmetallen aus kupfer oder kupferlegierungen |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4400248A (de) |
JP (1) | JPS58164800A (de) |
AU (1) | AU1210783A (de) |
BE (1) | BE896104A (de) |
BR (1) | BR8301118A (de) |
DE (1) | DE3307834A1 (de) |
ES (1) | ES520377A0 (de) |
FR (1) | FR2530674A1 (de) |
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IT (1) | IT8347859A0 (de) |
NL (1) | NL8300826A (de) |
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- 1983-03-07 AU AU12107/83A patent/AU1210783A/en not_active Abandoned
- 1983-03-07 NL NL8300826A patent/NL8300826A/nl not_active Application Discontinuation
- 1983-03-07 ZA ZA831533A patent/ZA831533B/xx unknown
- 1983-03-07 IT IT8347859A patent/IT8347859A0/it unknown
- 1983-03-07 ES ES520377A patent/ES520377A0/es active Granted
- 1983-03-07 BR BR8301118A patent/BR8301118A/pt unknown
- 1983-03-08 JP JP58038130A patent/JPS58164800A/ja active Pending
- 1983-03-08 BE BE0/210275A patent/BE896104A/fr not_active IP Right Cessation
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FR2530674A1 (fr) | 1984-01-27 |
BR8301118A (pt) | 1983-11-22 |
US4400248A (en) | 1983-08-23 |
GB8306395D0 (en) | 1983-04-13 |
AU1210783A (en) | 1983-09-15 |
GB2117406A (en) | 1983-10-12 |
NL8300826A (nl) | 1983-10-03 |
ES8404426A1 (es) | 1984-04-16 |
JPS58164800A (ja) | 1983-09-29 |
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8127 | New person/name/address of the applicant |
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|
8131 | Rejection |