DE3301703C2 - Verfahren zur Herstellung einer mit Blei beschichteten Titan-Elektrode und deren Verwendung - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer mit Blei beschichteten Titan-Elektrode und deren VerwendungInfo
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Abstract
Eine Elektrode aus Titan mit einer Bleibeschichtung wird hergestellt, indem die Elektrode zunächst gereinigt, dann einer ersten Beizbehandlung mit einer Fluorwasserstofflösung und anschließend einer zweiten Beizbehandlung mit einer Lösung unterworfen wird, die 1 bis 3 mol/l Chromtrioxid, 1,8 bis 2,2 mol/l Fluorwasserstoff und 0,3 bis 0,7 mol/l Zinkoxid enthält, worauf eine Elektroplattierung mit Blei erfolgt.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer mit Blei galvanisch beschichteten Elektrode
aus Tiatan oder einer Titanlegierung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 sowie die Verwendung einer
solchen Elektrode.
Es ist bekannt, zum galvanischen Beschichten eines metallischen Werkstücks dem als Kathode dienenden
Werkstück eine unlösliche Anode zuzuordnen. Derartige unlösliche Anoden können aus Massivblei (DE-OS
19 26 462), platziertem Titan oder verbleitem Kupfer
bestehen.
Wird beispielsweise die Beschichtung der Zylinderlaufflächen
eines Verbrennungsmotors mit einer fein verteiltes Siliciumcarbid enthaltenden Nickelschicht unter
Verwendung unlöslicher Anoden durchgeführt, eignen sich jedoch lediglich platinierte Titan-Anoden. Anoden
aus Massivblei besitzen nämlich nur eine geringe mechanische Festigkeit, verbiegen sich also leicht, woduvch
sich die Anodengeometrie ändert, während Anoden aus verbleitem Kupfer schon bei einer geringfügigen
mechanischen Beschädigung der Bleischicht dazu führen, daß Kupfer in Lösung geht und in die Nickelschicht
eingebaut wird. In beiden Fällen ist ein hoher Werkstückausschuß die Folge.
Platinierte Titan-Anoden sind jedoch nicht nur wegen des hohen Platinpreises, sondern vor allem wegen des
schwierigen Beschichtungsprozesses sehr kostspielig. Derartige Anoden müssen nämlich eine Platinbeschichtung
mit einer Schichtdicke von wenigstens 2 μπι aufweisen.
Mit einem galvanischen Beschichtungsbad läßt sich jedoch nur eine Schichtdicke von etwa 1 μπι erreichen.
Es ist deshalb erforderlich, besondere Maßnahmen zu ergreifen, beispielsweise zur Beschichtung eine
Salzschmelze zu verwenden.
Aus der DE-OS 22 00 527 ist ein Verfahren zur Herstellung
einer vorzugsweise mit einem Platinmetall beschichteten Elektrode aus Titan bekannt, bei dem die
Elektrode gereinigt und dann mit einer Fluorwasser-Stofflösung gebeizt wird.
Die hohe Korrosionsbeständigkeit von Titan beruht bekanntlich darauf, daß es in Gegenwart von Sauerstoff
oder Wasser sehr schnell eine korrosionsfeste Oxidschicht bildet Diese Oxidschicht hat jedoch zur Folge,
ίο daß die Titanoberfläche vor dem Plattieren mit einem
metallischen Oberzug aktiviert werden muß, da andernfalls keine ausreichende Haftung des Oberzugs erreicht
wird. Bei dem Verfahren nach der DE-OS 22 05 527 erfolgt diese Aktivierung im wesentlichen dadurch, daß
t5 durch die Behandlung mit Fluorwasserstoffsäure anstelle der Oxidschicht eine Titanhydridschicht auf der Titanoberfläche
gebildet wird. Auf diese Hydricl^.hicht wird
dann galvanisch das Platinmetall aufgebracht Anschließend wird auf eine Temperatur von ca. 400° C erwärmt,
wodurch sich das Titanhydrid zersetzt und der Platinmetaiiüberzug
in das Titan hineindiffundiert und damit verankert wird.
Aus der US-PS 28 25 682 ist es bekannt, Titanoberflächen
für das nachfolgende Plattieren zunächst zu reinigen, mit einem fluorwasserstoffhaltigen Bad zu beizen
und dann einer zweiten Beizbehandlung mit einer Lösung zu unterwerfen, die Fluorwasserstoff, ein Chromsäuresalz,
wie Natriumbichromat, und ein Schwermetallsalz, wie Zinksulfat, enthält. Mit diesem Verfahren
wird jedoch keine ausreichende Haftfestigkeit bei der Plattierung mit dem metallischen Oberzug erreicht
Weiterhin ist es bekannt, die Titanoberfläche mit einer Lösung aus Chromsäure, Flußsäure, Arsen- und Antimonverbindungen
zu aktivieren (DE-PS 30 08 314).
Bei diesem Verfahren wird durch eine lochfraßähnliche Oberflächenaufrauhung zwar eine hohe Haftfestigkeit
des metallischen Überzugs auf der Titanoberfläche erziel:, nachteilig ist jedoch vor allem die hohe Giftigkeit
des Arsens und der hohe Antimonpreis.
Aus der DE-OS 26 52 152 geht eine Titan-Elektrode hervor, die galvanisch mit Blei beschichtet ist, wobei in
die Bleischicht elektrochemisch katalysierende Teilchen, z. B. mit Platin und Iridium aktivierte Titanteilchen
eingeschlossen sind. Durch die Porosität der Oberfläche werden zwar Elektrolysereaktionen beschleunigt, zur
Metallbeschichtung von Werkstücken ist die bekannte Elektrode aber nicht geeignet.
Der Erfindung, wie sie in den Ansprüchen gekennzeichnet ist, liegt die Aufgabe zugrute, eine billig herstellbare
produktionssichere unlösliche Anode zum galvanischen Abscheiden eines Metalls auf einem metallischen
Werkstück zu schaffen.
Mit der erfindungsgemäß hergestellten Elektrode läßt sich ein Werkstück sehr genau galvanisch beschichten,
denn einerseits stellt Blei einen guten elektrischen Leiter dar und andererseits besitzt Titan eine hohe mechanische
Festigkeit, so daß eine hohe Konstanz der Stromdichteverteilung erzielt wird. Es besteht deshalb
auch die Möglichkeit, am Werkstück eine selektive Abscheidung vorzunehmen. Auch sind die Kosten der erfindungsgemäß
hergestellten Elektrode aufgrund des niedrigen Bleipreises und des einfachen Herstellungsverfahrens
gering. Hinzu kommt, daß die Stromzuführung zu der erfindungsgemäß hergestellten Titan-Elektrode
und die Elektrodenhalterung aufgrund der Titanoberflächenpassivierung
gleichfalls aus Titan gebildet sein können. Überraschend ist, daß nach dem erfindungsgemäßen
Verfahren nicht nur eine hohe Haftfe-
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stigkeit der Bleibeschichtung erreicht wird, vielmehr die
Verbindung der Bleibeschichtung mit der Titanoberfläche auch derart innig ist, daß ein sehr guter elektrischer
Übergang zwischen dem Titan und der Bleibeschichtung gewährleistet wird.
Dies ist um so überraschender als nach dem aus der US-PS 28 25 682 bekannten Verfahren schon die Haftfestigkeit,
also die mechanische Verankerung der Beschichtung am Titan zu wünschen übrig läßt. Die nach
dem erfindungsgemäßen Verfahren erzielte extrem gute mechanische Haftung in Verbindung mit einem sehr
niedrigen Widerstand zwischen dem Titan und der Bleibeschichtung ist möglicherweise darauf zurückzuführen,
daß erfindungsgemäß keine Fremdsalze in der zweiten Beizlösung enthalten sind, während sich nach
der US-PS 28 25 682 beispielsweise aus dem Kation des Chromsäuresalzes und dem Anion des Zinksalzes
Freradsalze bilden, die mit der Titanoberfläche reagieren
und den weiteren Angriff der Beizlösung beeinträchtigen, d.h. eine hinreichende Aufrauhung der
Ttlanoberfiäehe verhindern.
Das nachstehende Beispiel dient der weiteren Erläuterung der Erfindung.
Ein Titanstab mit einem Durchmesser von 45 mm und einer Länge yon 122 mm wird etwa fünf Minuten in ein
herkömmliches alkalisches Entfettungsbad getaucht, dann mit Wasser gespült und in ein erstes Beizbad übergeführt,
das aus einer 2%igen wäßrigen Flußsäurelösung besteht. Nachdem der Titanstab fünf Minuten in
dieser Flußsäurelösung gebeizt worden ist, wird er gespült und in ein z'-eites wäßriges Beizbad übergeführt,
das 150 g/l Chromtrioxid (CrOs), 88 ml/I 40%ige Fluorwasserstoffsäure
sowie 12 g/l Zinkoxid (ZnO) enthält In dem zweiten Beizbad wird der Stab etwa zehn bis fünfzehn
Minuten gebeizt Anschließeno wird mit Wasser gespült. Sodann wird eine Anschlagplatinierung durchgeführt,
und zwar wird bei einer Stromdichte von 1 A/ dm2 der Stab in einem handelsüblichen schwefelsauren
Platinbeschichtungsbad etwa zehn Minuten einer galvanischen Beschichtung unterworfen. Die Dicke der so
gebildeten Platinschicht ist geringer als 1 μίτι und beträgt
vorzugsweise etwa 0,1 bis 03 μπι.
Danach wird eine Elektroplattierung mit Blei durch- '
geführt und zwar etwa eine halbe Stunde in einem Bleisulfamatbad
mit einer Bleisulfamatkonzentration von 150 g/l bei einer Stromdichte von 10 A/dm2. Die Dicke
der gebildeten Bleibeschichtung beträgt etwa 150 um.
Die Behandlung im ersten Beizbad erfolgt vorzugsweise bei Raumtemperatur, die Behandlung im zweiten
Beizbad vorzugsweise bei 40 bis 90° C. Das Platinbeschichtungsbad und das Bleisulfamatbad weisen vorzugsweise
eine Temperatur von 30 bis 50° C auf.
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Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung einer mit Blei galvanisch beschichteten Elektrode aus Titan oder einer
Titanlegierung, bei dem die zu beschichtende Titan-Elektrode zuerst gereinigt und dann gebeizt wird,
dadurch gekennzeichnet, daß nach einer ersten Beizbehandlung mit Fluorwasserstofflösung
die zu beschichtende Elektrode einer zweiten Beizbehandlung mit einer Lösung unterworfen wird, die
0,1 bis 10, vorzugsweise 1 bis 3 mol/1 Chromtrioxid,
O^ bis 5, vorzugsweise 1,8 bis 22 mol/1 Fluorwasserstoff
und 0,1 bis 3, vorzugsweise 03 bis 0,7 mol/1
Zinkoxid enthält, worauf die galvanische Beschichtung der Elektrode mit Blei durchgeführt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß nach der zweiten Beizbehandlung und vor dem galvanischen Beschichten mit Blei die Elektrode
einer galvanischen Anschlagsplatinierung unterworfen
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zum galvanischen Beschichten
mit Blei ein Bleisulfamatbad verwendet wird.
4. Verwendung der nach einem der Ansprüche 1 bis 3 hergestellten Elektrode als unlösliche Anöde
zum galvanischen Abscheiden eines Metalls auf einem metallischen Werkstück.
5. Verwendung nach Anspruch 4, wobei Nickel galvanisch abgeschieden wird.
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DE19833301703 DE3301703C2 (de) | 1983-01-20 | 1983-01-20 | Verfahren zur Herstellung einer mit Blei beschichteten Titan-Elektrode und deren Verwendung |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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DE3301703A1 DE3301703A1 (de) | 1984-07-26 |
DE3301703C2 true DE3301703C2 (de) | 1985-03-28 |
Family
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Family Applications (1)
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DE19833301703 Expired DE3301703C2 (de) | 1983-01-20 | 1983-01-20 | Verfahren zur Herstellung einer mit Blei beschichteten Titan-Elektrode und deren Verwendung |
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DE (1) | DE3301703C2 (de) |
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1983
- 1983-01-20 DE DE19833301703 patent/DE3301703C2/de not_active Expired
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DE3301703A1 (de) | 1984-07-26 |
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