DE3216042A1

DE3216042A1 - Verfahren und vorrichtung zum herstellen eines elektronenstrahlerzeugungssystems

Info

Publication number: DE3216042A1
Application number: DE19823216042
Authority: DE
Inventors: John Richard Lancaster Pa. Hale
Original assignee: RCA Corp
Current assignee: RCA Licensing Corp
Priority date: 1981-04-29
Filing date: 1982-04-29
Publication date: 1982-11-18
Also published as: DE3216042C2; IT8220371A1; GB2097578B; JPS57185648A; BR8202322A; IT8220371A0; MX151674A; IT1153481B; US4341545A; FR2505086B1; KR840000065A; GB2097578A; FR2505086A1; CA1183572A

Description

RCA 76259Α MvB/Ri

RCA 'Corporation
New York, N.Y. 10020, V.St.A.

Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Elektronenstrahlerzeugungssystems

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Ferner betrifft die Erfindung Vorrichtungen zur Durchführung eines solchen Verfahrens.

Insbesondere betrifft die Erfindung ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Herstellen eines Elektronenstrahlerzeugungssystems mit selbst-justierenden isolierenden Haltestäben, die eine Mehrzahl von Positionierungs- oder Indexausnehmungen aufweisen.

Die elektrostatischen Linsenelemente eines Elektronenstrahlerzeugungssystems sind in einer Reihe angeordnet, um wenigstens einen Elektronenstrahl entlang eines im wesentliehen longitudinal verlaufenden Elektronenstrahlweges zu beschleunigen und zu fokussieren. Die Linsenelemente des Strahlerzeugungssystems sind an mindestens zwei, im wesentlichen longitudinal verlaufenden isolierenden Halte_sstäben mit Hilfe von Haltelaschen, die von den Linsenelementen vorspringen und in die Haltestäbe eingebettet sind, mechanisch gehaltert.

Die Haltelaschen können entweder zusammen mit den Linsenelementen aus einem Stück geformt sein oder z.B. durch Anschweißen am Körper der Linsenelemente angebracht sein. In beiden Fällen haben die in die Haltestäbe eingebetteten Teile der Haltelaschen geformte Vorsprünge oder Klauen, die am Ende der Haltelaschen gebildet sind, um diese fest in den Haltestäben zu verankern. Die Befestigung der Laschen an den Haltestäben erfolgt durch eine Operation, die als Einbetten oder Einschmelzen bezeichnet wird. Ein Beispiel einer Einschmelzvorrichtung ist aus der US-PS 3,527,588 (Aiken et al) vom 8. September 1970 bekannt. Während des EinschmelζVorganges kommt es gelegentlich vor, daß einer oder mehrere der Haltestäbe nicht richtig ausgerichtet sind, was zu einem unrichtigen Abstand zwischen den Linsenelementen oder einer ungenügenden Abdeckung der Klauen der Haltelaschen durch die isolierenden Haltestäbe führt. Beides ist unerwünscht, da es zu einer Verzerrung des elektrostatischen Feldes im Elektronenstrahlerzeugungssystern führt, durch die der Elektronenstrahl gestört wird.

Es ist aus der US-PS 3,609,400 (Marks et al) vom 28. September 1971 bekannt, die Ausrichtung der Haltestäbe durch eine Verkleinerung der seitlichen Bewegung der Haltestäbe zu verbessern. Hierbei wird, wie in den Figuren 1 und 1a der vorliegenden Anmeldung dargestellt ist, ein Einschmelzoder Supportblock A verwendet, der einen Bettungstrog B aufweist, in den ein isolierender Haltestab C eingepaßt ist. Die Genauigkeit der Ausrichtung des Haltestabes hängt von der Genauigkeit ab, mit der die Breite des Halte-Stabes kontrolliert werden kann. Die derzeitige industrielle Breitentoleranz für gepreßte, vielgestaltige Haltestäbe mit einer Länge bis zu 49 mm beträgt +_ 0,254 mm. Die Pfeile in Figur 1a und 1b zeigen die Richtung der Bewegung des. Supportblocks A während des Exnschmelzvorganges.

Eine ähnliche Einschmelzvorrichtung zum Herstellen eines · Elektronenstrahlerzeugungssystems einer Bildaufnahme- oder Kameraröhre ist aus der US-PS 4,169,239 (Ehata et al) vom 25. September 1979 bekannt. Die Konstruktion dieser Vorrichtung ist in den Figuren 2 und 3 der vorliegenden Anmeldung dargestellt. Die isolierenden Haltestäbe E sind auf Einschmelzsupporten D gehaltert, die gegen die aufeinander gestapelten Linsenelemente geschwenkt werden. In der Patentschrift wird dargelegt, daß die Genauigkeit, mit der die Elektroden montiert werden, wegen des thermischen und mechanischen Schocks, der auftritt, wenn der geschmolzene Haltestab die Haltelaschen der Linsenelemente berührt, beeinträchtigt wird, wenn die Viskosität des geschmolzenen Glas-Haltestabes klein ist.

In der Technik ist es außerdem bekannt, daß eine sichere, wenn auch etwas zufällige Positionierung der isolierenden Haltestäbe auf einer Support-Fläche dadurch erreicht werden kann, daß der Support mit einer Vakuumhalterung versehen wird. In der Praxis kann, wenn der Haltestab durch einen Vakuumwandler in vertikaler Lage gehalten wird, die Vakuumhaltekraft abgeschaltet werden, wenn die Einschmelzflammen eingestellt werden, um eine Verunreinigung durch gasförmige Verbrennungsprodukte zu vermeiden. Es wurde festgestellt, daß die Rückhaltekraft der auftreffenden Gasflamme groß genug ist, um den Haltestab in vertikaler Lage zu fixieren. Wegen der Wechselbeziehung der Breitentoleranzen des Haltestabes und der Support-Fläche kann der Haltestab jedoch beim anfänglichen Aufsetzen in seitlicher Richtung versetzt werden, was zu einer falschen Ausrichtung des Haltestabes führt.

In jüngerer Zeit ist ein Elektronenstrahlerzeugungssystem entwickelt worden, das mindestens zwei selbstjustierende Haltestäbe aufweist, von denen jeder mindestens zwei

Ι Index- oder Positionierungsausnehittungen in einer Oberfläche aufweist, um die Haltestäbe während des Einschmelzvorganges richtig auszurichten. Die Positionierungsausnehmungen gestatten es, die Haltestäbe mit den Klauen der Haltelaschen der Linsenelemente zu verschmelzen, ohne auf die Breitentoleranzen der Haltestäbe Rücksicht nehmen zu müssen.

Durch die vorliegende Erfindung· sollen ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Einschmelzen der Haltelaschen von Linsenelementen eines Elektronenstrahlerzeugungssystems in isolierende Haltestäbe angegeben werden, welche eine exakte Positionierung der Linsenelemente gewährleisten.

Diese Aufgabe wird durch das im Patentanspruch 1 gekennzeichnete Verfahren gelöst. Ein Unteranspruch betrifft eine vorteilhafte Ausgestaltung dieses Verfahrens. Weitere Ansprüche betreffen Vorrichtungen, die sich insbesondere für die Durchführung des Verfahrens gemäß Anspruch 1 eignen.

Durch das Verfahren und die Vorrichtung gemäß der Erfindung wird mit einfachen Mitteln eine exakte Positionierung der Linsenelemente des Elektronenstrahlerzeugungssystems gewährleistet, ohne daß bei den isolierenden Haltestäben oder der Einschmelzvorrichtung besondere Anforderungen an die Breitentoleranzen gestellt werden.

Eine bevorzugte Einschmelzvorrichtung für ein Elektronenstrahlerzeugungssystem mit mehreren isolierenden Haltestäben, die jeweils in einer ihrer Oberflächen eine Mehrzahl von Index- oder Positionierungsausnehmungen ausweisen, enthält mindestens zwei Bettungs- oder Supportblöcke. Jeder der Supportblöcke hat eine Support-Fläche, in der eine Mehrzahl von öffnungen gebildet ist. In jeder Öffnung ist ein Index- oder Positionierungsstift angeordnet; jeder

Positionierungsstift hat ein Bezugsende, das über die Supportfläche hinaus in eine Positionierungsausnehmung eines isolierenden Haltestabes vorspringt. Die Haltestäbe werden durch eine Befestigungseinrichtung in Berührung mit den Positionierungsstiften gehalten.

Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert.

Es zeigen:

Figur 1 eine perspektivische Ansicht eines Teiles eines Elektronenstrahlerzeugungssystems und einer bekannten Einschmelzvorrichtung zur Erläuterung eines bekannten Verfahrens zur Montage des Elektronenstrahlerzeugungssystems;

Figur 2 eine perspektivische Ansicht eines Teiles einer bekannten Einschmelzvorrichtung zum Montieren eines Elektronenstrahlerzeugungssystems;

Figur 3 eine Draufsicht der in Figur 2 dargestellten

Einschmelzvorrichtung in Richtung von Pfeilen 3-3 der Figur 2;

Figur 4 eine aufgeschnittene Ansicht der Vorderseite

eines Elektronenstrahlerzeugungssystems, das gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt wurde;

Figur·5 eine aufgeschnittene, in Richtung der Pfeile 5-5

der Figur 4 gesehene Seitenansicht des Elektronenstrahlerzeugungssystems gemäß Figur 4;

Figur 6 eine Draufsicht eines Bettungs- oder Supportblockes einer Einschmelzvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Erfindung;

Figur 7 eine Seitenansicht in einer Schnittebene 7-7 der Figur 6;

Figur 8 eine teilweise Stirnansicht in einer Schnittebene 8-8 der Figur 6; und 10

Figur 9 eine Seitenansicht einer anderen Ausführungs-. form einer Einschmelzvorrichtung gemäß der Erfindung.

Die Figuren 4 und 5 zeigen strukturelle Details eines Elektronenstrahlerzeugungssystems, das im Hals einer Kathodenstrahlröhre angeordnet ist. Die Kathodenstrahlröhre enthält einen evakuierten Glaskolben 11, der bei einer vollständigen Röhre eine rechteckige Frontglaswanne (nicht dargestellt) und einen Kolbentrichter, der mit einem Hals 13 einstückig verbunden ist, enthält. Ein Ciasfuß 15, der eine Vielzahl von Leitungen oder Stiften aufweist, die sich durch ihn hindurch erstrecken, verschließt das Ende des Halses Außerhalb des Kolbens 11 ist an den Stiften 17 ein Sockel angebracht. Zentrisch im Hals 13 ist ein verschmolzenes Zweipotential-Inline-Elektronenstrahlerzeugungssystem 21 angeordnet, das dazu dient, drei Elektronenstrahlen zu erzeugen und längs in einer Ebene liegender, konvergierender Wege, die eine gemeinsame, im wesentlichen longitudinale Richtung haben, auf einen nicht dargestellten Bildschirm zu richten.

Das Strahlerzeugungssystem enthält zwei Bette oder Haltestäbe 23a und 23b aus Glas durch die die einzelnen Elektroden so gehaltert sind, daß sich eine kohärente Einheit ergibt, wie sie in der Technik im allgemeinen verwendet wird. Die

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Elektroden enthalten drei in Querrichtung im wesentlichen gleich beabstandete, in einer Ebene liegende Kathoden (je eine zur Erzeugung eines Strahls), eine Steuergitterelektrode 27 (die auch als G1 bezeichnet wird), eine Schirmgitterelektrode 29 (die auch als G2 bezeichnet wird), eine erste Beschleunigungs- und Fokussierungselektrode 31 (die auch als G3 bezeichnet wird) und eine zweite Beschleunigungs- und Fokussierungselektrode 33 (die auch als G4 bezeichnet wird), auf die ein Abschirmbecher 35 folgt. Die Elektroden sind in Längsrichtung mit Abständen in der angegebenen Reihenfolge entlang der Haltestäbe 23a und 23b angeordnet. Die verschiedenen Elektroden des Strahlerzeugungssystems 21 sind mit den Stiften entweder direkt oder über Metallstreifen 37 elektrisch verbunden. Das Strahlerzeugungssystem 21 wird auf den Stiften 17 im Hals 13 und mit Federfingern 39 am Abschirmbecher 35, die an einer Innenbeschichtung 41 auf der Innenseite des Halses 13 anliegen und Kontakt mit dieser Beschichtung machen, in einer vorgegebenen Lage gehalten. Die Innenbeschichtung 31 erstreckt sich über die innere Oberfläche des trichterförmigen Kolbenteils und ist mit einem nicht dargestellten Anodenanschluß verbunden.

Die Haltestäbe 23a und 23b haben beide je eine Montagefläche 45 und eine Einbettungs-Support-Fläche 47. An den beiden Kanten der Stäbe, die an die Einbettungs-Support-. Fläche angrenzen, sind Fasen oder Abschrägungen von etwa 30° gebildet, um den nachfolgenden Einschmelz- oder Einbettungsvorgang zu erleichtern. Die Elektroden 25 bis weisen jeweils Haltelaschen auf, die in die Montageflächen 45 der Halterungsstäbe 23a und 23b eingebettet werden. In den Einbettungs-Support-Flächen 47 der Haltestäbe 23a und 23b sind mindestens zwei Index-Vertiefungen oder Positionierungsausnehmungen 49 und 51 geformt. Die Po-

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sitionierungsausnehmungen 49 und 51 liegen auf der Mittellinie der longitudinal verlaufenden Achse der Haltestäbe. Die Positionierungsausnehmungen 49 und 51 haben dieselben seitlichen Abmessungen, wenn jedoch eine der beiden eine andere Abmessung hat als die andere, kann eine eindeutige Positionierung erreicht, werden.

Wie in den Figuren 4 und 5 dargestellt ist, haben die jeweils in den Haltestäben 23a und 23b gebildeten Positionierungsausnehmungen 49 und 51 eine im wesentlichen rechteckige Form und reichen bis zu einer Tiefe von etwa 1,5 mm in den Körper der Haltestäbe hinein. Die Positionierungsausnehmungen 49 und 51 sind typischerweise etwa 5 mm lang und etwa 3 mm breit. Wenn die Haltestäbe beim Glühen oder Glasieren mit den Positionierungsausnehmungen 49 und 51 den glasierenden Flammen ausgesetzt werden, wird die Geometrie der Positionierungsausnehmungen, die sich durch das Pressen ergeben hat, nicht in die geglühten Stäbe übertragen. In diesem Falle nehmen die Positionierungsausnehmungen 49 und 51 eine leicht elliptische und parabolische Form entlang der Haupt- und Nebenaghse der Haltestäbe an. Während des Einbettungsvorgange,s sind die Haltestäbe 23a und 23b in longitudinaler Richtung wegen der länglichen Positionierungsausnehmungen 49 und • 51 beweglich, in der seitlichen Richtung jedoch fixiert.

Eine andere Ausführungsform von Haltestäben 123a ist in den Figuren 6 und 7 dargestellt. Bei dieser Ausführungsform hat eine erste Positionierungsausnehmung 149 eine Längsabmessung, die größer ist als die Querabmessung während eine zweite Positionierungsausnehmung 151 im wesentlichen kreisförmig ist und damit eine Konfiguration mit minimaler Oberfläche bildet. Bei dieser Ausführungsform ist der Haltestab während des Einschmelzvorganges sowohl in der

Längsrichtung als auch in der Querrichtung fixiert. Eine der Positionierungsausnehmungen, z.B. die Ausnehmung 149, sollte in Längsrichtung beweglich sein, damit •keine Probleme hinsichtlich der Toleranz des Abstandes zwischen den Positionierungsausnehmungen 149 und 151 auftreten. Die Positionierungsausnehmung 149 ist typischerweise etwa 5 mm lang und etwa 3 mm breit während die Ausnehmung 151 einen Durchmesser von etwa 3 mm hat.

Um das Elektronenstrahlerzeugungssystem mit Hilfe der selbstjustierenden Haltestäbe 23a und 23b oder 123a zu montieren werden die System- und Linsenelemente auf einen Dorn (nicht dargestellt) gestapelt. In den Figuren 6 bis 8 ist beispielsweise ein Haltestab 123 dargestellt, der auf einer Einschmelzvorrichtung angeordnet ist, die ähnlich wie jene ist, die in der bereits erwähten US-PS 3,527,588 beschrieben ist. Die Einschmelzvorrichtung enthält hier jedoch mindestens zwei neuartige Einschmelz- oder Supportblöcke 160. Die Supportblocke sind auf entgegengesetzten Seiten des Dorns angeordnet und verlaufen im wesentlichen vertikal. Die Haltestäbe 123a werden an den Supportblöcken 160 angebracht und auf die Einschmelztemperatur erhitzt. Wenn die Einschmelzstäbe die Einschmelztemperatur erreicht haben, werden die Supportblöcke der Einschmelzvorrichtung auf • den Dorn zugeschwenkt, bis die Klauen der Haltelaschen in die Haltestäbe 123a eingebettet sind. Einer der Supportblöcke 160 ist in den Figuren 6 bis 8 dargestellt. Wie die Figuren 6 und 7 zeigen, enthält der Einschmelz- oder Supportblock 160 ein Basisteil 162 und einen Support- oder Bettungssockel 164. Das Basisteil 162 und der Supportsockel 164 sind vorzugsweise aus einem einzigen Metallstück, z.B. aus Edelstahl, herausgearbeitet, alter-nativ können die Stücke auch einzeln gebildet und lösbar verbunden sein, um den Einschmelz- oder Supportblock zu bilden.

Im Basisteil 162 ist ein Kanal oder eine Leitung 166, z.B. durch Bohren, gebildet, die sich von einer äußeren Oberfläche 168 in Längsrichtung über eine Strecke durch das Basisteil erstreckt, die kleiner ist als die Länge des Basisteils. Die Leitung 166 endet an einer inneren Wand 170, die im Abstand von einer zweiten äußeren Oberfläche 172, gegenüber der Oberfläche 168 verläuft. In einer Bodenfläche 176 des Basisteils 172 ist eine Thermoelement-Öffnung 174 gebildet, die sich in den Supportsockel 164 erstreckt. Von der Bodenfläche 176 des Basisteils 162 springen zwei Stützen 178 und 180 vor, um die Supportblöcke auf einem Paar von Halterahmen (nicht dargestellt) zu haltern, welche während des Einschmelzvorganges in Richtung auf den Dorn geschwenkt werden können.

Der Supportsockel 164 des Supportblocks 160 enthält eine Einschmelz-Support-Fläche 182, in der mindestens zwei öffnungen 183 und 184 geformt sind. Die öffnungen gehen durch den Supportsockel 164 und enden in der Leitung 166. Die öffnungen 183 und 184 sind längs der Längsachse der Supportfläche 182 ausgerichtet.

.Ein Paar von Index- oder Positionierungsstiften 186 und 188, die Bezugsenden 190 bzw. 192 haben, sind im Preß-

■ sitz in die Öffnungen 183 und 184 eingesetzt. Die Referenzoder Bezugsenden 190 und 192 der Positionierungsstifte 186 bzw. 188 haben die Form eines Pyramidenstumpfs, der sich über die Einschmelz-Support-Fläche 182 hinaus erstreckt. Die Höhe der Bezugsenden 190 und 192 ist so eingestellt, daß die Enden in die Positionierungsausnehmungen der isolierenden Haltestäbe 123a und 123b erreichen und die Haltestäbe berühren.

Mindestens einer, vorzugsweise beide Positionierungsstifte 186 und 188 sind mit einer Positionierungsstiftöffnung 194 versehen, die sich längs der Mittellinie des

Positionierungsstifes durch diesen erstreckt. Die Öffnung 194 gestattet einem Vakuum von einer nicht dargestellten äußeren Quelle, den Haltestab 123a in Berührung mit den Bezugsenden 190 und 192 der Positionierungsstifte 186 .und 188 zu halten. Das Vakuum wird über die Leitung . 166 im Basisteil/ durch die öffnungen 183 und 184 in der Support-Fläche und durch die Positionierungsstiftöffnungen 194 auf den isolierenden Haltestab 123a übertragen. Zur Überwachung der Einschmelztemperatur ist ein Thermoelement (nicht dargestellt) vakuumdicht in der Thermoelement-Öffnung 174 befestigt. Die Breite der kanalartigen Leitung 166 ist größer als der Durchmesser der Thermoelement-Öffnung 174, so daß das Vakuum durch die öffnung 173 und die Stiftöffnung 194 zur Einwirkung kommt.·

Bei der bekannten Einschmelzvorrichtung gemäß Figur 1 bis 3 ist ein bekanntes Problem das der Sublimation. Die Gasflamme, die auf die isolierenden Haltestäbe auftrifft, um sie bis zur Einschmelztemperatur zu erhitzen, bläst Rückstände weg, die sich auf den kälteren Oberflächen der Einschmelzvorrichtung und vor allem auf den angrenzenden Oberflächen der Einschmelz- oder Supportblöcke ansammelt. Das Sublimationsprodukt, das hauptsächlich aus Kaliummetaborat besteht, hat eine hohe Löslichkeit im Glas der , Haltestäbe. Die dabei entstehende unterschiedliche Ausdehnung verursacht mosaikartige Risse in den Haltestäben. Die mosaikartigen Risse wirken als potentielle Quelle für Glassplitter in der Röhre. Durch eine strukturelle Modifikation des Bettungs- oder Supportsockels 164, wie es in Figur 8 dargestellt ist, konnte das Auftreten· solcher mosaikartiger Risse praktisch beseitigt werden. Die Einbettungs-Support-Fläche 182 des Supportsockels hat eine im wesentlichen trogartige Kontur mit einem im wesentlichen ebenen Mittelteil 196 und zwei nach außen abgeschrägten (etwa 30° vom flachen Mittelteil nach oben geneigten), nach oben gerichteten und in Längsrichtung

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verlaufenden Seitenwänden 198 und 200.

Die Breite der Support-Fläche 182 ist kleiner als die Breite des Haltestabs 123a, so daß das Sublimationsprodukt keine an den Haltestab angegrenzende Oberfläche findet, auf der es sich ansammeln könnte. Bei der Anordnung gemäß Figur 8 trifft die Einschmelzflamme (nicht dargestellt) auf den Haltestab 123a senkrecht zur Oberfläche 145 auf. Um weiter zu verhindern, daß sich kein Sublimationsprodukt auf dem Supportsockel 164 absetzt, sind zwei einspringende Nuten oder Kerben 202 und 204, die einen Winkel von etwa 10° bezüglich der Normalen bilden, vorgesehen, die sich in Längsrichtung der äußeren Oberfläche der Seitenwände 198 bzw. 200 erstrecken.

Figur 9 zeigt eine andere Ausführungsform der neuen Einschmelzvorrichtung, wobei jedoch nur eine Hälfte dargestellt ist. Ein identisches Element bildet die andere Hälfte der Vorrichtung. Bei dieser Ausführungsform enthält die Einschmelzvorrichtung einen Einschmelz- oder Supportblock 260. Der Supportblock stimmt mit dem in den Figuren 6 bis 8 dargestellten Supportblock 160 überein mit der Ausnahme, daß ein Unterstützungs- oder Supportfuß 261 hinzugefügt wurde, um die longitudinale Bewegung des isolierenden Haltestabes 23a, in dem im wesentlichen rechteckige Positionierungsausnehmungen 49 und 51 gebildet sind, weiter einzuschränken. Bei dieser Ausführungsform ist der Haltestab sowohl durch eine Vakuumhaltekraft von einer äußeren Quelle (nicht dargestellt) als auch durch den Support- ■ fuß 261, der die longitudinale Bewegung des Haltestabes 23a begrenzt, befestigt und in Berührung mit den Positionierungsstiften gehalten.

Claims

Patentansprüche

,Verfahren zum Herstellen eines Elektronenstrahlerzeugungssystems, das isolierende Haltestäbe mit einer Oberfläche, in der eine Mehrzahl von Positionierungsausnehmungen gebildet sind, enthält, dadurch gekennzeichnet , daß eine Einschmelzvorrichtung mit einer gleichen Mehrzahl von Vorsprüngen (190, 192), die vor einer Oberfläche (182) der Vorrichtung vorspringen, vorgesehen wird, und daß der Haltestab (23a, 23b; 123a) auf der Vorrichtung so angeordnet wird, daß sich die entsprechenden Oberflächen (47, 182) derart berühren, daß die VorSprünge der Vorrichtung in die Ausnehmungen (49, 51; 149, 151) der Halte-

Stäbe ragen und so die Haltestäbe in Berührung mit der Vorrichtung halten.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Haltestab (123a) dadurch in Berührung mit der Vorrichtung gehalten wird, daß ein Vakuum durch mindestens einen der Vorsprünge (190) von der Vorrichtung auf den Stab zur Einwirkung gebracht wird.
3. Einschmelzvorrichtung mit mindestens zwei Einschmelzsupportblöcken, zur Herstellung eines Elektronenstrahl-" erzeugungssystems, das mindestens zwei isolierende Haltestäbe enthält, dadurch gekennzeichnet, daß jeder der Supportblöcke (160; 260) eine Einschmelz-Support-Fläche

(182) zur Halterung eines der isolierenden Haltestäbe (23a, 23b; 123a), in der mehrere Öffnungen (183, 184) gebildet sind;

mehrere Positionierungsstifte (186, 188) die jeweils in einer anderen Öffnung angeordnet sind und ein Bezugsende (190, 192) aufweisen, das sich über die Supportfläche (182) hinaus in eine Orientierungsöffnung (49, 51; 149, 151) eines der isolierenden Haltestäbe erstreckt, und
eine Halterungseinrichtung (166, 183, 194) die die Haltestäbe in Berührung mit den Positionierungsstiften hält, aufweist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Supportblöcke (160) einen Basisteil (162) und einen Bettungssockel (164) aufweisen, der eine die Einschmelz-Support-Fläche bildende Fläche aufweist, die eine trogartige Fläche mit einem im wesentlichen ebenen Mittelteil (196) und zwei nach außen abgeschrägte, in Längsrichtung verlaufende Seitenwände (198, 200) aufweist, die über das ebene Mittelteil vorspringen.

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5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Bettungssockel (164) eine einspringende Korbe (202, 204) aufweist, die longitudinal entlang einer äußeren Fläche jeder Seitenwand (198, 200), die an die Einschmelz-Support-Fläche (182) angrenzen, vorlauft.
6. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens einer der Positionierungsstifte (186), die in den Öffnungen (183, 184) der Support-Fläche (182) angeordnet sind, eine Positionierungsstiftöffnung (194)

aufweist, die sich längs der Mittellinie durch den • Stift erstreckt.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,

daß die Halterungsvorrichtung eine Anordnung zur Aufrechterhaltung eines Vakuums enthält, das durch eine Leitung (166), die im Basisteil (162) gebildet ist, enthält; daß die Leitung (166) mit den Öffnungen (183, 184) in der Support-Oberfläche (182) und mit der Stift-Öffnung (194) in mindestens einem der Positionierungsstifte (186) komuniziert.
8. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Bezugsenden (190, 192) der Positonierungsstifte (186, 188), die in die Positxonierungsausnehmungen (49, 51; 149, 151) der isolierenden Haltestäbe (23a, 23b; 123a) vorspringen, die Form eines Pyramidenstumpfes haben.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß am einen Ende der Supportblöcke (260) ein Stützfuß (261) angebracht ist, der sich über die Einschmelz-Support-Fläche der Blöcke hinaus erstreckt.