DE312657C - - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 claims 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 description 4
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 description 4
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 description 4
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 description 4
- 239000004208 shellac Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011387 rubberized asphalt concrete Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
Zusatz zum Patent 309376.
Patentiert im Deutschen Reiche vom 16. April 1918 ab. Längste Dauer: 17. Januar 1933.
Es hat sich beim Arbeiten nach dem Hauptpatent herausgestellt, daß es vorteilhaft ist, die
Kopien nicht mit reinem Alkohol oder Aceton zu entwickeln, sondern dem Entwickler etwas
von demjenigen Ätzmittel zuzugeben, das nach-. träglich für die Ätzung angewendet wird. Beispielsweise würde man für Stahl anwenden:
100 g Alkohol (Aceton usw.), '
2 g konz. Salpetersäure,
2 g konz. Salpetersäure,
für Kupfer Alkohol mit Eisenchlorid, für Glas Alkohol mit Flußsäure usw.. Damit wird erzielt,
daß die belichtete und durch die Entwicklung in ihrem Zusammenhang gestörte Schicht gleichzeitig,
vom Untergrund losgelöst wird.. Nun tritt bei diesem Entwicklungsverfahren die
Erscheinung auf, daß für einige Ätzmittel, wie z. B. Flußsäure, die dünne Asphalt-Kautschuk-Schicht
auch in dieser starken Verdünnung des-Ätzmittels an den unbelichteten Stellen durchlässig
bleibt. Diesem Übelstand kann man abhelfen, wenn man die Fläche erst mit einer
dünnen Harzs'chicht durch Übergießen mit einer Lösung versieht, die so beschaffen ist, daß sie
nicht durch die Lösungsmittel der lichtempfindlichen Schicht aufgelöst wird. Man wird also
solche Harze nehmen, die, wie z. B. Schellack, nicht in Benzin und ähnlichen Lösungsmitteln
löslich sind, wohl aber in Alkohol, Aceton usw.
Es kommt dann folgende Erscheinung zustande.
An den belichteten Stellen dringt sowohl der Alkohol wie auch die Flußsäure durch und löst
zugleich die Schellackschicht. An den unbelichteten Stellen dringen jedoch nur die Flußsäuredämpfe
durch, die aber bei der kurzen Entwicklungszeit nicht die Schellackschicht durchdringen können. Nach dem Verstärken
ist dann auch für konzentrierte Säuren ein genügender Widerstand gegen die angewendeten
Ätzmittel vorhanden. Durch die vorher beschriebenen Hilfsmittel wird das Verfahren vereinfacht
und dessen Anwendungsmöglichkeit vergrößert.
P a ten τ-Ansprüche:
i. Ausführungsform des Verfahrens nach Patent 309376, dadurch gekennzeichnet, daß
der Entwicklungsfiüssigkeit (Alkohol, Aceton1 usw.) eine geringe Menge desjenigen
Ätzmittels beigemengt wird, das nach der Verstärkung mit pulverisierten Harzen zur
' Ätzung verwendet werden soll.
. 2. Ausführungsform des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Verhinderung des Durchdringens des dem Entwickler beigemengten Ätzmittels · durch die dünne Kopierschicht dieser eine dünne Harzschicht unterlegt wird, die wohl im Entwickler, nicht aber in der Kopierflüssigkeit löslich ist, wie z. B. Schellack.
. 2. Ausführungsform des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Verhinderung des Durchdringens des dem Entwickler beigemengten Ätzmittels · durch die dünne Kopierschicht dieser eine dünne Harzschicht unterlegt wird, die wohl im Entwickler, nicht aber in der Kopierflüssigkeit löslich ist, wie z. B. Schellack.
Claims (1)
- DEUTSCHES REICHAUSGEGEBEN AM 28. MAI 1919REICHSPATENTAMTPATENTSCHRIFTKLASSE 57d GRUPPEJOSEF RIEDER in BERLIN-ST Photochemisches Ätzverfahren.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE312657T |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE312657C true DE312657C (de) |
Family
ID=6136200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DENDAT312657D Active DE312657C (de) |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE312657C (de) |
-
0
- DE DENDAT312657D patent/DE312657C/de active Active
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