AT224443B - Photomechanisches Verfahren zur Herstellung von Abbildungen in einer Glasoberfläche - Google Patents
Photomechanisches Verfahren zur Herstellung von Abbildungen in einer GlasoberflächeInfo
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Description
<Desc/Clms Page number 1> Photomechanisches Verfahren zur Herstellung von Abbildungen in einer Glasoberfläche EMI1.1 <Desc/Clms Page number 2> B.dung mechanisch eingelassen. Eine völlig gleiche Genauigkeit wie bei dem Verfahren gemäss der deut- schen Patentschrift Nr. 946588 wird jedoch nicht erreicht, u. zw. deshalb, weil die Konturen der Abbil- dung durch die Konturen der aufgelösten Stellen der metallischen Schicht gegeben sind, welche wiederum durch die Konturen der entwickelten Stellen der lichtempfindlichen Schicht entstanden sind, so dass eine doppelte Möglichkeit für die Entstehung von Ungenauigkeiten besteht. Abschliessend sei noch das in der österr. Patentschrift Nr. 178246 beschriebene Verfahren angeführt, bei welchem in einem ersten Arbeitsgang im Hochvakuum Leichtmetalle auf die Unterlage aufgedampft werden und in einem zweiten Arbeitsgang der entstandene feinkörnige Belag nach Begrenzungen, die die herzustellende Abbildung darstellen, durchtrennt wird. In einem dritten Arbeitsgang werden die so gebildeten Vertiefungen durch ein auf dem Körper haftendes Material ausgefüllt, das nach der in einem vierten Arbeitsgang erfolgenden Entfernung des Belages die Abbildung darstellt. Dieses Verfahren kann jedoch nicht zur photomechanischen Herstellung von Abbildungen auf einer Glasunterlage herangezogen werden, da es eine mechanische Durchtrennung, z. B. durch Schneiden, der Leichtmetallschicht verlangt. Dies ist jedoch viel kostspieliger als der photomechanische Weg. Die vorliegende Erfindung hat sich die Aufgabe gestellt, ein photomechanisches Verfahren zur Herstellung von in eine Glasunterlage eingelassenen Abbildungen zu schaffen, welches die Genauigkeit und Schärfe der Konturen bei Verwendung bloss einer Schicht gewährleistet und welches gleichzeitig einfacher und damit auch wirtschaftlicher ist, als das Verfahren mit Verwendung von zwei Schichten. Das er- findungsgemässe photomechanische Verfahren zur Herstellung von Abbildungen in einer Glasoberfläche, bei welchem die Oberfläche des Glases zunächst mit einer auswaschbaren, lichtempfindlichen Schicht versehen wird, deren nach der Belichtung und Auswaschung verbleibenden Teile gehärtet werden und an- schliessend die Ätzung des Glases mit einem verdünnten Ätzmittel erfolgt, ist dadurch-gekennzeichnet, dass nach der Ätzung die gesamte Glasoberfläche - einschliesslich der Reste der lichtempfindlichen Schicht - mit einer Deckschicht, beispielsweise aus Silber, Bleisulfid, Titan od. dgl. in an sich bekannter Weise überzogen wird und hierauf die belichteten Teile der lichtempfindlichen Schicht einschliesslich der darauf befindlichen Teile der Deckschicht entfernt werden, so dass sich in der Glasoberfläche die gewünsche Abbildung ausbildet. Durch die Verwendung verdünnter Ätzmittel wird eine maximale Schärfe der hergestellten Abbildungen ohne Beschränkung der Sättigung, d. i. der Dicke der Deckschicht erzielt. Die Konturen der Vertiefung werden nämlich durch die untere Kante der ausgewaschenen und gehärteten Stellen der lichtempfindlichen Schicht bestimmt. Bei der Wahl des Stoffes für die Deckschicht braucht die Adhäsion und mechanische Widerstandsfähigkeit nicht berücksichtigt werden. Ein vollkommenes uswaschen vor dem Auftragen der Deckschicht wird bekannter Weise durch Ätzung erreicht. Die üblichen auswaschbaren lichtempfindlichen Schichten können ausser durch einfache Erwärmung bis 300 C auch noch durch Erwärmung mit gleichzeitiger Einwirkung von Lösungen von Chromsalzen, Vanadiumsalzen u. dgl. gehärtet werden. Da es vorteilhaft ist, bloss so eine Ätztiefe zu wählen, welche der gewünschten Dicke der Deckschicht der Abbildung entspricht, werden verdünnte Ätzmittel verwendet, welche die Schaffung einer Abbildung mit vollkommen scharfen Konturen ermöglichen und dies unabhängig vom Grad der gewünschten Lichtundurchlässigkeit der Abbildung. Das erfindungsgemässe Verfahren soll nunmehr an zwei Beispielen näher erläutert werden : Beispiel l : Anfertigung einer Skala auf polierter Glasplatte. Die Platte wird mit einer auswaschbaren lichtempfindlichen Schicht bedeckt, welche z. B. folgende Zusammensetzung hat : EMI2.1 <tb> <tb> Polyvinylalkohol, <SEP> T%oige <SEP> wässerige <SEP> Lösung <SEP> 20 <SEP> ml <tb> Ammoniumbichromat, <SEP> l <SEP> <SEP> oigne <SEP> wässerige <SEP> Lösung <SEP> 1, <SEP> 4 <SEP> ml <SEP> <tb> . Anschliessend wird die Platte unter einer Matrize von einer ultravioletten Lichtquelle belichtet und von einem Strom kalten Wassers ausgewaschen, wonach sie getrocknet wird, z. B. in einer Zentrifuge. Die Härtung der angeführten lichtempfindlichen Schicht erfolgt mittels Chromsäure-Lösung und durch Erwärmung bis auf 3000C. Die derart behandelte Platte wird den Einflüssen eines verdünnten Glasätzmittels ausgesetzt, so dass die Oberfläche der Glasplatte an den freigelegten Stellen beim Entwickeln fein ange- ätzt wird. Als besonders geeignetes Ätzmittel wird folgende Mischung vorgeschlagen : EMI2.2 <tb> <tb> Chlorwasserstoffsäure <SEP> 4 <SEP> Teile <tb> Ortophosphorsäure <SEP> 30 <SEP> Teile <tb> Destilliertes <SEP> Wasser <SEP> 66 <SEP> Teile <tb> Durch die Ätzung entsteht ein fein geätztes in die Oberfläche der Unterlage vertieftes Relief. Anschliessend wird nach einem der bekannten Verfahren die Deckschicht, z. B. aus Bleisulfid, Silber, Titan u.. dgl. auf die Oberfläche aufgetragen. Nach Beseitigung der belichteten Teile der lichtempfindlichen <Desc/Clms Page number 3> Schicht einschliesslich der auf ihnen aufgetragenen Deckschicht erhält man die von der Deckschicht gebildete, in die Oberfläche des Trägers eingelassene Abbildung. Beispiel 2 : Herstellung eines Firmenzeichens auf einer Glasplatte. Der Vorgang ist der gleiche wie bei dem Beispiel 1 bloss mit dem Unterschied, dass als Ätzmittel eine exige wässerige Lösung von Fluorwasserstoffsäure verwendet wird und zur Härtung der lichtempfindlichen Schicht eine wässerige Zinkchloridlösung mit nachfolgender Erwärmung der lichtempfindlichen Schicht bis zu 300 C angewandt wird. PATENTANSPRÜCHE : 1. Photomechanisches Verfahren zur Herstellung von Abbildungen in einer Glasoberfläche, bei welchem die Oberfläche des Glases zunächst mit einer auswaschbaren, lichtempfindlichen Schicht versehen wird, deren nach der Belichtung und Auswaschung verbleibenden Teile gehärtet werden und anschliessend die Ätzung des Glases mit einem verdünnten Ätzmittel erfolgt, dadurch gekennzeichnet, dass nach der Ätzung die gesamte Glasoberfläche - einschliesslich der Reste der lichtempfindlichen Schicht - mit einer Deckschicht, beispielsweise aus Silber, Bleisulfid, Titan od. dgl. in an sich bekannter Weise überzogen wird und hierauf die belichteten Teile der lichtempfindlichen Schicht einschliesslich der darauf befindlichen Teile der Deckschicht entfernt werden, so dass sich in der Glasoberfläche die gewünschte Abbildung ausbildet.
Claims (1)
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als Ätz-Reagenzmittel eine wässerige Lösung verwendet wird, welche 2 - 2CP/o Fluorwasserstoffsäure und 10-50% Ortophosphorsäure enthält.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1247905B (de) * | 1963-02-28 | 1967-08-17 | Philips Nv | Verfahren zum Herstellen von Edelmetallmustern auf hitzebestaendigen Traegern |
-
1960
- 1960-02-03 AT AT82760A patent/AT224443B/de active
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