DE2953429T1 - Dry film photoresist - Google Patents
Dry film photoresistInfo
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Description
1. Vladimir Nikolaevich KUZNETSOV
2. Nadezhda Fedorovna SMIRNOVA
3. Vladimir Dmitrievich KARPOV Istra Moskovskoi oblasti, UdSSR
Trockenfilmresist
Die Erfindung bezieht sich auf polymere Materialien für gedruckte Schaltungsplatten und insbesondere auf Trockenfilmresists,
die zur Herstellung von gedruckten Schaltungsplatten und anderen Erzeugnissen mit besonders
kompliziert gestaltetem Leiterbild, darunter integrierten
Hybridschaltungen, verwendbar sind.
Es sind bereits Trockenfilmresists bekannt, die
biegsame Schichtensysteme darstellen, die einen 20 bis 25 ,um diel en fester polymeren Träger (Unterlage),
im allgemeinen aus Polyethylenterephthalat, eine vorzugsweise
18 bis 100 ,um dicke, besonders unter Erhitzen
klebrige lichtempfindliche Schicht und einen polymeren Schutzfilm, int allgemeinen aus Polyäthylen,
aufweisen, der die lichtempfindliche Schicht vor Staub und dem Zusammenkleben des Filmresists beim Aufwickeln
530-(PM 82 3O9-X-6D-PCT-SF-Bk
030S0A/0U1
zu einer Rolle schützt. (GB-PS 1 361 298, US-PS 3 873 319)
Einer der bekannten Trockenfilmresists stellt ein
biegsames Schichtensystem dar, das eine 5 bis 100 ,um dicke feste polymere Unterlage aus Polyäthylenterephthalat,
eine 5 bis 1000 ,um dicke lichtempfindliche Schicht.,
die eine bei von UV-Strahlung zur Bildung freier Radikale befähigte lichtempfindliche Verbindung, Benzoinäthylather,
eine äthylenähnliche ^C = C^ -Bindungen
im Molekül enthaltende ungesättigte Verbindung (Dimethacrylat-bis(äthylenglycol)-phthalat)
und ein AnlagerungsprDdukt von Methacrylsäure an ein Epoxyharz auf der Basts von 4.4'-Dioxy-2.2-diphenylpropan sowie
ein als filmbildende Komponente der lichtempfindlichen Schicht dienendes Polymer (Copolymerisat von Styrol mit
Fumarsäuremonoisobutylester (-50 : 50 mol-%) enthält und einen oberhalb der lichtempfindlichen Schicht liegenden,
5 bis 100 /Um dicken polymeren Schutzfilm aufweist, wobei
die Haftfestigkeit des Schutzfilms an der lichtempfindlichen Schicht geringer als die Haftfestigkeit
der festen polymeren Unterlage (des Polyäthylenterephthalat-Films)
an der lichtempfindlichen Schicht und die Haftfestigkeit der Schichten geringer als die Kohäsionsfes.tigkeit
dieser Schichten ist, wodurch es möglich wird, nacheinander den Schutzfilm und dann die feste polymere
Unterlage von der lichtempfindlichen Schicht abzulösen.
Die lichtempfindliche Schicht kann ferner einen Farbstoff
(Methylviolett) einen Inhibitor der radikalischen Polymerisation (Hydrochinon) und einen Weichmacher
(Glycerin-1.3-dipropionat) enthalten (GB-PS 1 549 952).
030604/OU1
Das Auflösungsvermögen der Trockenfilmresists hängt weitgehend von der Dicke ihres transparenten polymeren
Trägers (der Unterlage) ab, der bei der Belichtung die Photomaske von der lichtempfindlichen Schicht trennt.
Bei Verwendung eines dünneren Trägers wird eine geringere Verzerrung des Schutzreliefbildes und eine Erhöhung
des Auflösungsvermögens des Trockenfilmresists
festgestellt.
Die Verwendung eines Filmträgers von weniger als :./.
20 ,um Dicke bei der Herstellung des bekannten Trocken- ;
filmresists führt jedoch zu Schwierigkeiten beim Aufgießen
der lichtempfindlichen Schicht und ihrer Trocknung infolge der geriigen Festigkeit dünner Filme und der Möglichkeit
ihrer Verwerfung, besonders in der heißen Zone der Trockenkam tier von Gießmaschinen, sowie beim Aufbringen
des FiLmresists auf das Plattenmaterial, was entsprechend Aasschuß zur Folge hat. So tritt beispielsweise
beim Gie 3en dar lichtempfindlichen Schicht auf
einen 10 ,um dicken Polyäthylenterephthalatträger eine
Verwerfung des Trägers auf, die 5 mm erreicht. Die Dickenunterschiede der lichtempfindlichen Schicht können
dabei 30 bis 50 % und mehr erreichen. Beim Aufbringen eines solchen Filmresists auf das Plattenmaterial
mit einem Walz« nlaminator bilden sich Falten, die infolge starker verformung des Trägers die lichtempfindliche
Schicht beschädigen. Deshalb weisen die bekannten Trockenfilmresists einen Träger großer Dicke (20 bis
25 ,um und mehr) auf, bei der die Verwerfung bei der
Herstellung "und Verwendung der Filmresists geringer wird.
Diese Nachteile schränken den Anwendungsbereich der be-
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kannten Trockenfilmresists erheblich <äin.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, durch Wahl der Dicke des Trägers einen Trockenfilmresist
zu entwickeln, der ein hohes Auflösungsvermögen (minimal
reprodu sierbare Linie 5 bis 40 ,um) und eine hohe Verwerfungs festigkeit bei der Herstellung und Verwendung
aufweist.
Die Aufgabe wird anspruchsgemäß gelöst. Der erfindungsgemäße
Trockenfilmresist stellt ein biegsames Schichtensystem dar, das eine 15 bis 100 ,um dicke
feste polymere Unterlage, eine 4 bis 20 ,um dicke lichtempfindliche Schicht, die mindestens eine unter
UV-Bestrahlung zur Bildung freier Radikale befähigte lichtempfindliche Verbindung, mindestens eine äthylenähnliche
/C= C\·-Bindungen im Molekül enthaltende ungesättigte
Verbindung sowie mindestens ein als filmbildende Komponente der lichtempfindlichen Schicht
dienendes Polymer sowie oberhalb der lichtempfindlichen Schicht einen 5 bis 50 ,um dicken polymeren Schutzfilm
aufweist, wobei erfindungsgemäß zwischen der festen polymeren Unterlage und der lichtempfindlichen Schicht
eine 3 bis 15 ,um dicke, für UV-Strahlung im Bereich von 300 bis 400 nm durchlässige polymere Zwischenschicht
vorgesehen ist, die aas einem polymeren Alkohol, einem polymeren Ester oder "Polyamid oder einem halogenhaltigen
Polymer oder Polyacrylnitril oder aus Gemischen dieser
Substanzen besteht, wobei alle vier genannten Schichten miteinander durch Adhäsionskräfte verbunden sind, die
Haftfestigkeit des polymeren Schutzfilms an der lichtempfindlichen Schicht geringer als die Kohäsionsfestigkelt
der lichtempfindlichen Schicht ist, die Haftfestig-
keit der festen polymeren Unterlage an der polymeren
Zwischenschicht geringer als die Haftfestigkeit der Zwischenschicht an der lichtempfindlichen Schicht und
die Haftfestigkeit der genannten drei Schichten aneinander geringer als die Kohäsionsfestigkeit jeder dieser
.Schichten ist.
Es ist zweckmäßig, daß die polymere Zwischenschicht des Trockenfilmresists als polymeren Alkohol
wasserlösliche Methylcellulose oder Polyvinylalkohol enthält.
Die polymere Zwischenschicht des Trpckenfilmresists enthält als polymeren Ester zweckmäßigerweise
Cellulosetriacetat oder Polyäthylenterephthalat als Polyamid zweckmäßig Polyhe-camethylenadipamid
oder Gelatine, als halogenholtiges Polymer günstigerweise ein Copolymerisat von Tetraf Luoräthylen oder
Trifluorchloräthylen mit Vinylidenfluorid und als Polyacrylnitrilverbindung günstigerweise Polyacrylnitril
selbst.
Neben vielen anderen Varianten kann die polymere Zwischenschicht auch Farbstoffe in einer Menge
von 0,01 bis 1,0 %, bezogen auf das Gewicht der polymeren Zwischenschicht, enthalten.
Als Farbstoff wird zweckmäßigarweise Rhodamin GG (G),
C.I. Nr. 45160 (752), eingesetzt.
Es ist zweckmäßig, daß die polymere Zwischenschicht des Trockenfilmresists auch Weichmacher in einer Menge
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von 5 bis 15 %, bezogen auf das Gewicht der polymeren Zwischenschicht, enthält.
Als Weichmacher enthält die polymere Zwischenschicht des Trockenfilmresists zweckmäßigerweise
äthoxyliertes Dodecylphenol.
Die polymere Zwischenschicht des Trockenfilmresists enthält ferner günstigerweise auch grenzflächenaktive
Stoffe in einer Menge von 0,1 bis 0,5 %, bezogen auf das Gevicht der polymeren Zwischenschicht,
zweckmäßigerweise: das Natriumsalz der Dibutylnaphthalinsulfonsäure.
Der erfinduncfsgenäße Trockenfilmresist ermöglicht es, ein Auf".ösungsvermögen zu erzielen, das für
die Herstellung von Leitern gedruckter Schaltungen von 5 bis 50 ,um Breite ausreichend ist, wobei der Filmresist
gegen Verwerfungen des Trägers und Verformung der lichtempfindlichen Schicht bei der Herstellung und
Verwendung beständig ist.
Der erfindungsgemäße Trockenfilmresist wird
vorzugsweise wie folgt hergestellt:
Auf die Oberfläche einer 15 bis 100 ,um dicken
festen polymeren Unterlage, zB eines Films aus regenerierter Cellulose (Cellophan), Polyäthylenterephthalat,
Polyamiden, Poly-m-phenylenisophthalamid (Phenylon),
Polyimiden, beispielsweise Polypyromellitimid, Cellulosetriacetat oder anderen Filmmaterialien mit genügend
hoher Kohäsionsfestigkeit wird durch Aufgießen eine 5 bis 20 %ige Lösung eines für UV-Strahlung im Ber-
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-y6 -
reich von 300 bis 400 nm durchlässigen Polymers aufgebracht,
zB eines polymeren Alkohols wie beispielsweise eine Lösung von Polyvinylalkohol mit einem Gehalt an
Acetatrestgruppen von 3 bis 20 mol-%, Methylcellulose mit einem Substitutionsgrad von 1,25 bis 1,6 eines
halogenhaltigen Polymers, beispielsweise eines Copolymerisate von Vinylidenfluorid mit Tetrafluoräthylen, - :
eines Copolymerisate von Vinylidenfluorid mit Hexafluorpropylen, eines Copolymerisats von Vinylidenfluorid
mit Trifluorchloräthylen, eines Polyamids, :":':
dh eines Polymers mit -NH-CO-Gruppen im Makromolekül, . —.
Fotogelatine, Polyhexamethylenadipamid, Poly-t-caproamid,
eines Copolyamide (50 : 50 mol-%), Polyhexamethylen(adip/
sebacin)amid, eines polymeren Esters wie beispielsweise
Celluloseacetat, Polyäthylenterephthalat oder einer PoIyacrylnitrilverbindung,
beispielsweise Polyacrylnitril selbst oder eines Gemisches dieser Verbindungen. Die Lösung des
Polymers kann außerdem Farbstoffe, beispielsweise Rhodamin GG (G), basisches Blau 1K' (CI. Nr. 44040) oder Methylviolett (CI. Nr. 42535) in einer Menge von 0,01 bis
1,0 ?, bezogen auf das Gewicht der polymeren Zwischenschicht, Weichmacher, beispielsweise äthoxyliertes Dodecy!phenol
mib einem Molekulargewicht von 500, in
einer Menge von 5 bis 15 %, bezogen auf das Gewicht des Polymers, und grenzflächenaktive Stoffe, beispielsweise
das Natriumsalz der Dibutylnaphthalinsulfοsäure in einer Menge von 0,1 bis 0,5 %, bezogen auf das Gewicht
des Polymers, enthalten. Die gegossene Schicht wird bei 30 bis 120 0C 0,5 bis 5 min getrocknet. Dann
bringt man auf die Oberfläche der getrockneten polymeren Zwischenschicht von 3 bis 15 ,um Dicke durch übergießen
eine 10 bis 40 %ige Lösung auf, die mindestens eine unter der Einwirkung von UV-Strahlung zur Bildung freier
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-yi -
Radikcile befähigte lichtempfindliche Verbindung,
mindestens eine äthylenartige ,C = C^ -Bindungen
im Molekül enthaltende ungesättigte Verbindung und mindestens ein als filmbildende Komponente der ;
lichtempfindlichen Schicht dienendes Polymer (wobei das Polymer gleichzeitig die Funktion der oben
genannten lichtempfindlichen Verbindung und/oder der ungesättigten Verbindung erfüllen kann), enthält.
Geeignete lichtempfindliche Verbindungen sind beispielsweise aromatische Ketone, aromatische Diketone,
mehrkernige Chinone wie 4.4'-Bis(diäthylamino)- :
benzophenon, Pluorenon, 2-t-Butylanthrachinon, Benzoinmethylather
sowie etwa Michler's Keton; geeignete ungesätti jte Verbindungen sind beispielsweise Acryläther
mehrwertiger Alkohole, ungesättigte Amide, Pentaerythrittriacrylat,
Triäthylenglycoldimethacrylat, Pentaerythrittetraacrylat, Trimethylolpropantriacrylat,
Methacrylamid sowie etwa Acrylamid. Als filmbildende Komponente dienende Polymere der oben definierten Art
eignen sich beispielsweise Polymethylmethacrylat, Copolymerisate von Styrol mit Fumarsäuremono-n-butylester,
Copolymerisate von Styrol mit Maleinsäuremonoisoamylester, methacrylierte Harze auf der Basis von
2.2-Bis ( 4'-hydroxyphenyl)-propan mit einem Molekulargewicht
von 600, Umsetzungsprodukte von Epoxyharzen auf der Basis von 2.2-Bis(4'-hydroxyphenyl)-propan
mit Acrylsäureanhydrid (Molekulargewicht 1500), Umsetzungsprodukte
von Epoxyharzen auf der Basis von 2. 2-Bis(4'-hydroxyphenyl)-propan mit p-Benzoylbenzoesäure
und Acrylsäureanhydrid (Molekulargewicht 1650, Gehalt an gebundener p-Benzoy!benzoesäure 5,2 Gew.-%)
sowie etwa Produkte der chemischen Anlagerung von p-Benzoyl-
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-yi-
benzoesäure an Epoxyharze auf der Basis von 2.2-Bis(4'-hydroxyphenyl)-propan
(Molekulargewicht 1200, Gehalt an gebundener p-Benzoy!benzoesäure 20,1 Gew.-%).
Die Lösung der lichtempfindlichen Mischung kann ferfner
Farbstoffe, beispielsweise Methylviolett, Kristallviolett oder basisches Blau 'K1 in einer Menge von 0,1
bis 5,0 %, bezogen auf das Gewicht des Polymers, Inhibitoren der radikalischen Polymerisation, beispielsweise
Phenole wie Hydrochinon oder p-Methoxyphenol, Ln einer Menge von 0,01 bis 5,0 %, bezogen auf das Gewicht ;"
des Polymers, sowie Weichmacher, beispielsweise Triäthylenglycoldiacetat, enthalten.
Die aufgebrachte lichtempfindliche Schicht wird gewöhnlich bei einer Temperatur von 20 bis 150 0C innerhalb
von 0,5 bis 5 min durch Anblasen mit Luft getrocknet .
Dann bringt man auf die 4 bis 20 /um dicke lichtempfindliche
Schicht, beispielsweise mit einer mit Gummi beschichteten Walze, einen 5 bis 50 ,urn dicken
polymeren Schutzfilm, beispielsweise aus Polyäthylen, Polypropylen, Polyisobutylen, Polytetrafluoräthylen
und anderen filmbildenden Polymeren, auf.
Der erhaltene Trockenfilmresist stellt somit ein
biegsames Vierschichtensystem dar, dessen sämtliche vier Schichten durch Adhäsionskräfte in der Weise
miteinander verbunden sind, daß die Haftfestigkeit
des polymeren Schutzfilms an der lichtempfindlichen Schicht geringer als die Kohä'sions? estigkeit der lichtempfindlichen
Schicht ist, die Hafi festigkeit der festen
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polymeren Unterlage an der polymeren Zwischenschicht geringer als die Haftfestigkeit der polymeren Zwischenschicht
an der lichtempfindlichen Schicht ist und die Haftfestigkeit der genannten drei Schichten aneinander
geringer als die Kohäsionsfestigkeit jeder dieser Schichten ist.
Der erfindungsgemäße Trockenfilmresist besitzt ein hohes Auflösungsvermögen (minimal reproduzierbare Linie
5 bis 50 ,χικί) und ist durch das Vorliegen eines zweischichtigen
Trägers von 27 bis 108 ,um Dicke, der aus einer festen polymeren Unterlage und einer polymeren
Zwischenschicht besteht, bei der Herstellung und Verwendung bedeutend verwerfungsfester.
Der erfindungsgemäße Trockenfilmresist wird folgendermaßen verwendet:
Vor dem Aufbringen des Trockenfilmresists auf die Unterlage entfernt man den polymeren Schutzfilm auf
mechanischem Wege (durch Ablösen). Dann bringt man auf eine Unterlage aus einem Metall, beispielsweise
aus Kupfer, Silber, Nickel, einem Nichtmetall, beispielsweise Sitall, oder einem Halbleiter, beispielsweise
aus Garmanium oder Silicium, durch Walzenlaminieren bei einer Temperatur von 100 bis 120 0C oder
durch Aufpressen bei einer Temperatur von 50 bis 130 °C das biegsame Schichtensystem auf, das eine 15 bis 100 ,um
dicke feste polyirere Unterlage, eine 3 bis 15 ,um dicke,
für UV-Strahlung im Bereich von 300 bis 400 nm durch-.ässiga
polymere Zwischenschicht und eine 3 bis 40 ,um c Lcke lichtempfindliche Schicht aufweist. Dann entfernt
man die biegsame polymere Unterlage von der Oberfläche
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- yt -
der polymeren Zwischenschicht, etwa durch Ablösen, legt auf die Oberfläche der polymeren Zwischenschicht
eine das zu kopierende Bild enthaltende Fotomaske auf, belichtet die lichtempfindliche ''■"
Schicht durch die Fotomaske und die Zwischenschicht : ·
hindurch und entfernt die Fotomaske und die ιolymere
Zwischenschicht von der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht. Die Entfernung der polymeren Zwischenschicht
erfolgt durch Ablösen oder Auflösung in einem geeigneten Lösungsmittel oder wird gleichzeitig mit der Entwicklung
vorgenommen, wobei sich die polymere Zwischen-' schicht im Entwickler der lichtempfindlichen Schicht auflöst.
Nach der Entfernung der polymeren Zwischenschicht entwickelt man die lichtempfindliche Schicht in einem
geeigneten Entwickler, der die nichtbestrahlten Bereiche selektiv auflöst.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert.
Der verwendete Trockenfilmresist weist eine feste Unterlage aus einem 40 ,um dicken Polyäthylenterephthalatfilm
und eine darauf aufgebrachte 8 ,um dicke Zwischenschicht von Methylcellulose mit einem Substitutionsgrad von 1,4 auf. Oberhalb der Methylcelluloseschicht
ist eine 20 ,um dicke lichtempfindliche Schicht folgender
Zusammensetzung aufgebracht: Polymethylmethacrylat 100 g, Pentaerythrittriacrylat 70 g, Triäthylenglycol-
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dimethacrylat 15 g, 4.4'-Bis(diäthylamino)-benzophenon 5 g,
Fluorenon 5 g, Farbstoff Methylviolett 0,25 g, Hydrochinon 0,02 g.
Die Filmresistrolle wird dann in einen Walzenlaminator
eingebracht, der mit einer Baugruppe zur mechanischen Abtrennung und Abwicklung des 20 Aim dicken Polyäthylenschutzfilms
versehen ist. Der Filmresist wird bei einer Temperatur der Heizelemente von 115 C und
einer Geschwindigkeit von 1 m/min auf die vorbereitete Oberfläche einer Kupferfolie aufgebracht. Dann löst
man von der erhaltenen Probe die polymere Unterlage des Filmresists, dh den Polyäthylenterephthalatfilm, ab.
Dabei bleibt: die aus Methylcellulose bestehende Zwischenschicht auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht
zurück. Vor der Belichtung legt man die Fotomaske auf die Methylcelluloseschicht auf.
Zur Be]ichtung wird eine 1 kW-Quecksilberhochdrucklampe
verwendet. Die Belichtungszeit beträgt 40 s. Nach der Belichtung wird die Methylcellulose
von der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht mit Wasser abgespült, worauf die lichtempfindliche Schicht
auf einer St-.rahlanlage innerhalb von 60 s entwickelt
wird. Das erhaltene Schutzrelief stellt eine gute Reproduktion des Bilds der Fotomaske dar. Die minimal reproduzierbare
Linienbreite der Fotomaske beträgt 30 ,um.
Die große Dicke des Trägers (48 ,um für beide Schichten, die feste polymere Unterlage und die Zwischenschicht)
begünstigt das Aufgießen und die Trocknung der lichtempfind].ichen Schicht und das Laminieren
des Filmresists auf dje Unterlage, verhindert die Ver-
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werfung des Trägers und die Verformung der lichtempfindlichen Schicht. Dabei ist die Verwerfung des
Trägers nicht größer als 1,.'3 mm.
Bekannte Trockenfilmresists mit einem einschich- :-,
tigen Polyäthylenterephthalatträger gleicher Dicke
(48 ,um) weisen ein bedeutend geringeres Auflösungsvermögen auf, da die minimal reproduzierbare Linien- ■"'-breite
unter gleichen Prüfbedingungen bei diesen bekannten Trockenfilmresi:3ts 150 ,um beträgt. Bei Ver- : :
wendung des bekannten .Fi.lmresists, der einen 8 ,um ."'"
dicken einschichtigen Träger aus Methylcellulose aufweist, erreicht die Verwerfung 6 mm und führt zu einer
Beschädigung der lichtempfindlichen.Schicht durch Bildung von Falten auf dem Filmresist.
Der verwendete Troukenfilmresist weist einen Filmträger
auf, der aus einer 100 .um dicken Unterlage auf der Basis von Cellulosetriacetat und einer 3 ,um dicken
Zwischenschicht auf der Basis von Polyvinylalkohol mit einem Gehalt an Acetatrestgruppen von 10 mol-% besteht.
Auf der Oberfläche der Polyvinylalkoholschicht ist eine 10 ,um dicke lichtempfindliche Schicht folgender Zusammensetzung
aufgebracht: Copolymerisat von Styrol mit Fumarsäuremono-n-butylester (50 mol-%) 100 g, Pentaerythrittriacrylat
40 g, Pentaerythrittetraacrylat 20 g, Trimethylolpropantriacrylat 10 g, Methacrylamid K) g,
2-t-Butylanthrachinon 12 g, Farbstoff Methylviolei:t 0,2 g,
p-Methoxyphanol 0,01 g.
Vor den Aufbringen des Filmresists löst man den
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-yf-
Polyäthylenschutzfilm von 40 ,um Dicke ab und bringt
den Trockenfilmr.esist mit einer Laminierpresse bei einer Temperatur von 80 0C im Vakuum bei einem Restdruck
von 667 Pa (5 Torr) auf die Oberfläche einer Kupferunteilage auf. Dann löst man von der erhaltenen
Probe den jolymeren Film auf der Basis von Cellulosetriacetat
ab und belichtet wie in Beispiel 1.
Die Belichtungszeit beträgt 54 s.. Die. Entwicklung
der lichtempfindlLchei Schicht wird mit 1 %iger wässeriger
Natriumcarbonat Lösung durchgeführt. Die PoIyvinylalkoholschicht
auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht löst sich bei. der Entwicklung auf.
Die minimal reproduzierbare Linie beträgt 20 ,um. Die Verwerfung des Trägers ist nicht größer als 1 mm.
Der bekannte Trockenfilmresist, der einen einschichtigen Träger aus Cellulosetriacetat gleicher Dicke (103 ,um)
enthält, weist ein geringeres Auflösungsvermögen auf und reproduziert unter analogen Prüfbedingungen Linien
mit einer minimalen Breite von 250 ,um.
Die Ht rstellung des bekannten Filmresists mit einem einschichtigen Träger aus Polyvinylalkohol von 3 ,um
Dicke ist infolge der erheblichen.Verwerfung des Trägers und dessen niedriger Festigkeit unmöglich, die
das Aufgießen der lichtempfindlichen Schicht verhindert.
Der verwendete Trockenfilmresist weist einen Film-
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träger auf, der aus einer 25 ,um dicken Polyäthylenterephthalatunterlage
und einer 7 ,um dicken polymeren Zwischenschicht auf der Basis eines Copolymerisate von
Vinylidenfluorid mit Hexafluorpropylen besteht. Auf ;··'"
der Oberfläche der polymeren Zwischenschicht des Trä- ;·.
gers ist eine 7 ,um dicke lichtempfindliche Schicht der in Beispiel 2 beschriebenen Zusammensetzung aufge- '■
bracht. Der Filmresist wird bei einer Temperatur von "'-'
100 0C wie in Beispiel 2 auf eine Kupferunterlage aufgebracht.
Die Polyäthylenterephthalatunterlage wird vor: ; der Belichtung abgelöst. Die Belichtungszeit beträgt 45.3·.-·
Nach der Belichtung entfernt man auf mechanischem Wege (durch Ablösen) auch die an der Oberfläche der lichtempfindlichen
Schicht befindliche polymere Zwischenschicht. Die Entwicklung erfolgt wie in Beispiel 2.
Die minimal reproduzierbare Linienbreite beträgt 10 ,um. Die Verwerfung des Trägers ist nicht größer als 2 mm.
Der bekannte Trockenfilmresist, der einen 32 ,um dick«
einschichtigen Polyäthylenterephthalattrager enthält, kann nur Liniei
reproduzieren.
reproduzieren.
Der bekannte Trockenfilmresist, der einen 32 ,um dicken
ei kann nur Linien mit einer minimalen Breite von 120 ,um
Der bekannte Trockenfilmresist mit einem 7 ,um dicken
einschichtigen Träger aus einem Copolymerisat von Vinylidenfluorid mit Hexafluorpropylen weist infolge der Verstreckung
des Trägers bei der Fortbewegung eine Verwerfung von bis zu 10 mm auf, die die praktische Verwendung
des Filmresists verhindert.
Der verwendete Trockenfilmresist weist einen Film-
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sjf χ«*
träger auf, der aus einer 70 ,um dicken festen polymeren
Unterlage auf der Basis von Cellulosetriacetat und einer 10 ,um dicken polymeren Zwischenschicht aus Fotogelatine
besteht. Auf der Oberfläche der polymeren Zwischenschicht ist eine 20 ,um dicke lichtempfindliche Schicht der in
Beispiel 2 angegebenen Zusammensetzung aufgebracht. Der Filmresist wird wie in Beispiel 2 verwendet. Die Gelatineschicht
an der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht löst sich bei der Entwicklung auf. Die Entwicklung erfolgt
wie in Beispiel 2. Die minimal reproduzierbare Linienbreite beträgt 30 /um. Die Verwerfung des Trägers
ist nicht größer als 1,5 mm.
Der bekannte Trockenfilmresist, der einen 80 ,um dicken einschichtigen Träger aus Cellulosetriacetat enthält,
reproduziert Linien mit einer minimalen Breite von 200 ,um. Der bekannte Trockenfilmresist mit einem
10 ,um dicken einschichtigen Träger aus Gelatine besitzt
eine geringe mechanische Festigkeit und zeigt eine Verwerfung von bis zu 10 mm, was seine praktische
Verwendung verhindert.
Der verwendete Trockenfilmresist weist einen Filmträger
auf, der aus einem 40 ,um dicken Film aus regenerierter Cel.'ulose (Cellophan) und einer 15 ,um dicken
polymeren Zwischenschicht aus einem Film auf der Basis von Polyvinylalkohol mit einem Gehalt an Acetatrestgruppen
von 3 mol-% besteht, der als Zusatz äthoxyliertes Dodecy!phenol mit einem Molekulargewicht von 500 in
C306D4/0U1
einer Menge von 10 %, bezogen auf das Gewicht der
Schicht, und als Farbstoff Rhodamin GG (G) in einer Menge von 0,75 %, bezogen auf das Gewicht der Schicht,
enthält. Auf der Oberfläche der gefärbten Zwischenschicht ist eine 15 ,um dicke lichtempfindliche Schicht
der in Beispiel 2 angegebenen Zusammensetzung aufgebracht.
Die Verwendung des Filmresists geschieht wie
in Beispiel 2. Die Polyvinylalkoholschicht löst sich bei der Entwicklung auf. Die Entwicklung erfolgt wie
in Beispiel 2. Die minimal reproduzierbare Linienbreite beträgt 40 ,um. Die Verwerfung des Trägers
ist nicht größer als 2 mm.
Der bekamte Trockenfilmresist, der einen 55 ,um
dicken einschichtigen Träger aus Cellophan enthält, besitzt ein geringeres Auflösungsvermögen und reproduziert
Linien mit einer minimalen Breite von 150 ,um. Der bekannte Filmresist mit einem 15 ,um dicken einschichtigen
Träger aus Polyvinylalkohol der gleichen Zusammensetzung besitzt nur ungenügende mechanische
Festigkeit und zeigt eine Verwerfung des Trägers von bis zu 8 mm.
Der verwendete Trockenfilmresist enthält einen Filmträger, der aus einer 30 ,um dicken Unterlage
aus Poly-m-phenylenisophthalamid und einer 5 ,um
dicken polymeren Zwischenschicht aus einem Copolymerisat von Vinylidenfluorid mit Tetrafluoräthylen besteht,
Auf der Oberfläche der Zwischenschicht ist eine 10 ,um
dicke lichtempfindliche Schicht der in Beispiel 2 be-
030604/OU1
schriebenen Zusammensetzung aufgebracht. Die an der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht befindliche
Zwischenschicht wird vor der Entwicklung auf mechanischem Wege entfernt (abgelöst). Die Entwicklung
ei folgt wie in Beispiel 2. Die minimal reproduzierbare
Linienbxeite beträgt 20 ,um. Die Verwerfung des Trägers ist nicht größer als 2 mm.
Der bekannte Trockenfilmresist, der einen 35 ,um
dicken einschichtigen Träger aus Poly-m-phenylenisophthalamid
enthält, reproduziert nur Linien mit einer minimalen Breite von 120 ,um. Der bekannte Trockenfilmresist mit
einem 5 /Um dicken einschichtigen Träger aus einem Copolymerisat
von Vinylidenfluorid mit Tetrafluoräthylen besitzt nur geringe mechanische Festigkeit und zeigt
eine Verwerfung von bis zu 10 mm, was seine praktische Verwendung /erhirdert.
Der verwendete Trockenfilmresist umfaßt die gleichen
Schichten wie der in Beispiel 6 beschriebene Filmresist, wob3i jecoch statt des Copolymerisats von Vinylidenfluorid
mit Tetrafluoräthylen ein Copolymerisat von Vinylidenfluorid mit Trifluorchloräthylen verwendet
wird. Die Prüfung des Filmresists erfolgt wie in Beispiel 6. Die Kennwerte des Filirresist sind demgegenüber
nicht verändert und entsprechen denen des Trockenfilmresists von Beispiel 6.
Ö306CU/QU
Der verwendete Trockenfilmresist weist einen Filmträger
auf, dar aus einer 15 ,um dicken Polyäthylen- \·
terephthalatunterlage und einer 12 ,um dicken polymeren;· Zwischenschicht aus Polyhexamethylenadipamid besteht.
Auf der Oberfläche der Zwischenschicht ist eine 10 ,um dicke lichtempfindliche Schicht der *in Beispiel 2 angegebenen
Zusammensetzung aufgebracht. Die Polyhexamethylenadipamid-Zwischenschicht, die sich auf der lichtempfindlichen
Schicht befindet, wird vor der Entw cklung auf mechanischem Wege entfernt (abgelöst). Die Entwicklung
erfolgt wie in Beispiel 2. Dia minimal reproduzierbare Linienbreite beträgt 30 ,um. Die Verwerfung des
Trägers entspricht 2,5 mm.
Der bekannte Filmresist, der einen 27 ,um dicken einschichtigen Träger aus Polyäthylenterephthalat enthält,
reproduziert Linien mit einer minimalen Breite von 75 ,um. Der bekannte Filnresist mit einem 12 ,um
dicken Träger aus Polyhexamethylenadipamid zeigt eine
Verwerfung von bis zu 8 mm, -die zur Bildung von Falten auf der lichtempfindlichen Schicht führt.
Der verwendete Trockenfilmresist weist die gleichen Schichten wie der in Beispiel 8 beschriebene Filmresist
auf, wobei jedoch statt des Polyhexamethylenadipamids Poly- ε-caproamid verwendet wird. Die Kennwerte
des Trockenfilmresist sind demgegenüber nicht verändert und sind gleich denen des in Beispiel 8 beschriebenen
Filmresists.
0306CU/0U1
- yi-
Der verwendete Trockenfilmresist enthält einen Filmträger, der aus einer 30 ,um dicken Polypyromellitimidunterlage
und einer 10 ,um dicken polymeren Zwischenschicht aus .Polyhexamethylen (adip/sebacin) amid
(50 : 50 moL-%) besteht. Auf der Oberfläche der Zwischenschicht ist eine 15 ,um dicke lichtempfindliche
Schic it der in Beispiel 2 angegebenen Zusammensetzung aufgebracht. Die auf der Oberfläche der lichtempfindlichon
Schicht befindliche Zwischenschicht wird vor der Entwicklung auf mechanischem Wege entfernt (abgelöst)
. Die Entwicklung erfolgt wie in Beispiel 2. Die minimal reproduzierbare Linienbreite beträgt 40 ,um.
Die Verwerfung des Trägers ist nicht größer als 2 mm. Der bekannte Trockenfilmresist mit einem einschichtigen
Träger aus einem 40 ,um dicken Polypyromellitimidfilm vermag Linien mit einer minimalen Breite von 150 ,um
zu reproduzieren. Der bekannte Filmresist mit 10 ,um dickem einschichtigem Träger aus Polyhexamethylen(adip/
sebacin)amid besitzt nur ungenügende mechanische Festigkeit und zeigt eine Verwerfung bis zu 8 mm, die seine
Verwendung verhindert.
Der verwendete Trockenfilmresist enthält einen Filmträger, der aus einer 30 ,um dicken Polyäthylenterephthalatunterlage
and einer 4 ,um dicken polymeren Zwischenschicht aus einem Copolymerisat von Vinylidenfluorid
mit Tetrafluoräthylen besteht. Auf der Oberfläche der Zwischenschicht ist eine 4 ,um dicke lichtempfindliche
Schicht folgender Zusammensetzung aufgebracht:
030SCU/ÖU1
Copolymerisat von Styrol mit Malein-
säuremonoisoamylester 100
Pentaerythrittetraacrylat 20
methacryliertes Harz auf der Basis von 2.2-Bis ( 4-oxyphenyl)-propan (Molekulargewicht 600, Gehalt an Epoxyrestgruppen
0,28 Gew.-%, Säurezahl 3,7 mg KOH/g)
20
Acrylamid 10
Benzoinmethyläther 5
Farbstoff basisches Blau 'K' 0,35
Die Prüfung des Trockenfilmresists erfolgt wie in Beispiel 2.
Die auf der lichtempfindlich«m Schicht befindliche
Zwischenschicht wird vor der Entwicklung auf mechanischem Wege entfernt (abgelöst). Als Entwickler verwendet man
eine 1 %ige wässerige Natriumcarbonatlösung.
Die minimal reproduzierbare Linienbreite beträgt
0er bekannte Trockenfilmresist, der einen 34 -um dicken einschichtigen Träger aus Polyäthylenterephthalat
enthält, reproduziert Linien mit einer minimalen Breite von 90 ,um. Der bekannte Trockenfilmresist mit einem
,um dicken einschichtigen Träger aus einem Copolymerisat von Vinylidenfluorid mit Tetrafluoräthylen besitzt geringe
mechanische Festigkeit und zeigt eine Verwerfung von bis zu 8 mm, was seine Verwendung verhindert.
Es wird ein Trockenfilmresist mit der in Beispiel
030604/0U1
beschrieber en Zusammensetzung verwendet. Die Polyäthylenterephthalatunterlage
weist eine Dicke von 100 ,um, die polymere Zwischenschicht eine Dicke von 8 ,um auf. Die
lichtempfindliche Schicht enthält folgende Komponenten: Ein Umsetzuagsprodukt eines Epoxyharzes auf der Basis
von 2.2-Bis(4'-oxyphenyl)-propan mit Acrylsäureanhydrid
(Molekulargewicht 1500, Gehalt an Epoxyrestgruppen 0,
Säurezahl 2,1 mg KOH/g, Hydroxylzahl 3,2 Gew.-%) 100 g;
Trläthylenglycoldiacetat 10 g, Michler's Keton 3 g,
Fluorenon 3 g, Farbstoff basisches Blau 1K1 0,25 g.
Die Dicke der lichtempfindlichen Schicht beträgt 10 ,um.
Die Prüfung des Trockenfilmresists erfolgt wie in
Beispiel 2. Die Zwischenschicht wird auf mechanischem Wege entfernt.
Als Entwickler wird Methylchloroform verwendet.
Die minimal reproduzierbare Linienbreite beträgt im. D:
als 1 mm.
als 1 mm.
25 ,um. Die Verwerfung des Trägers ist nicht größer
Der bekannte Trockenfilmresist mit einem 108 ,um
dicken einschichtigen Träger aus Polyäthylenterephthalat vermag Linien mit einer minimalen Breite von 250 ,um
zu reproduzieren. Der bekannte Filmresist mit einem 8 ,um dicken einschichtigen Träger aus einem Copolymerisat von
Vinylidenfluorid mit Tetrafluoräthylen zeigt eine Verwerfung
von bis zu 6 mm, die seine Verwendung verhindert.
030BÖ4/OU
Der verwendete Trockenfilmreσ ist besitzt die gleiche
Zusammensetzung und die gleiche Dicke der Schichten wie der Trockenfilmresist von Beispiel 12. Die lichtempfindliche
Schicht weist jedoch folgende Zusammensetzung auf:
Umsetzungsprodukt eines Epoxyharzes auf der Basis von 2.2-Bis(4'-oxyphenyl)-propan mit p-Benzoylbenzoesäure
und Acrylsäureanhydrid (Molekulargewicht 1650, Gehalt an Epoxyrestgruppen 0/ Säurezahl 1,6 mg KOH/g,
Hydroxylzahl 3 Gew.-%, Gehalt an gebundener p-Benzoy1-benzoesäure
5,2 Gew.-%) 100 g, Triäthylenglycoldiacetat 10 g, Farbstoff basisches Blau-V 0,25 g.
Die Prüfung des Trockenfilmresists erfolgt wi<5 in
Beispiel 12. Die Kennwerte des Filmresists sind analog denen des Trockenfilmresists von Beispiel 12.
Es wird eLn Trockenfilmresist. mit gleicher Zusammensetzung
und Dicke der Schichten wie in Beispiel 12 verwendet. Die lichtempfindliche Schicht weist jedoch
folgende Zusammensetzung auf: Anlagerungsprodukt von p-Benzoy!benzoesäure an ein Epoxyharz auf der Basis von
2.2-Bis(4'-oxyphenyl)-propan (Molekulargewicht 12ΟΟ, Gehalt
an Epoxyrestgruppen 2,8 Gew.-%, Säurezahl 0,3 mg KOH/g, Hydroxylzahl 5,3 Gew.-%, Gehalt an gebundener
p-Benzoy!benzoesäure 20,1 Gew.-%) 100 g, Pem aerythrittetraacrylat
20 g.
030804/0U1
SLt
Die Prüfung des Filmresists erfolgt wie in Beispiel 12. Die Kennwerte des Filmresists sind demgegenüber
nicht verändert.
Der ve rwendete Trockenfilmresist weist einen Filmträger
auf, der aus einer 30 ,um dicken Polyäthylenterephthalatunterlage und einer 9 ,um dicken polymeren
Zwischenschicht aus Polyacrylnitril besteht, die 0,01 Gew.-% Farbstoff basisches Blau 1K1 enthält. Auf der Oberfläche
der Zwischenschicht ist eine 12 .um dicke lichtempfindliche
Schicht der in Beispiel 12 beschriebenen
Zusammensetzung aufgebracht.
D .e Prüfung des Filmresists erfolgt wie in Beispiel
12.
Die minimal reproduzierbare Linienbreite beträgt im.
2,5 mm.
2,5 mm.
30 ,um. Die Verwerfung des Trägers ist nicht größer als
Der bekannte Trockenfilmresist mit einem 39 ,um
dicken einschichtigen Träger aus Polyäthylenterephthalat vermag Linien mit einer minimalen Breite von 70 ,um
zu reproduzieren. Der bekannte Trockenfilmresist mit einem 9 ,um dicken einschichtigen Träger aus Polyacrylnitril
zeigt eine Verwerfung von bis zu 6 mm.
Eeispit'.l 16
Es wird ein Trockenfilmresist mit gleicher Zu-
030604/OU1
sammensetzung und Dicke der Schichten wie in Beispiel 15 verwendet, dessen Zwischenschicht jedoch
aus Cellulosediacetat besteht.
Die Prüfung des Filmresists wurde wie in Beispiel Ϊ5
vorgenommen. Es wurden gleiche Eigenschaften wie bei dem Trockenfilmresist von Beispiel 15 festgestellt.
Der verwendete Trockenfilmresist enthält einen Filmträger, der aus einer 30 ,um dicken Polypyromellltimidunterlage
und einer 8 ,um dicken polymeren Zwischenschicht
aus Polyäthylenterephthalctt besteht. Auf der Oberfläche der Zwischenschicht ist eint 10 ,um dicke
lichtempfindliche Schicht der in Beispiel 12 angegebenen
Zusammensetzung aufgebracht. Die Prüfung des Filmresists erfolgt wie in Beispiel 12. Die minimal reproduzierbare
Linienbreite beträgt 25 ,um. Die Verwerfung ist nicht größer als 2,5 mm.
Der bekannte Trockenfilmresist mit einem einschichtigen Träger aus einer 38 ,um dicken Polypyromellitimidschicht
vermag Linien mit einer minimalen Breite von 70 ,um zu reproduzieren.
Der bekannte Filmresist mit einem 8 ,um dicken einschichtigen
Träger aus Polyäthylenterephthalat zeigt eine Verwerfung von bis zu 6 mm.
030804/0U1
Der verwendete Trockenfilmresist weist einen Träger auf, der aus einer 40 ,um dicken Polyäthylenterephthalatunterlage
und einer darauf aufgebrachten 6 ,um dicken
polymeren Zwischenschicht folgender Zusammensetzung besteht:
Methylcellulose mit einem Substitutionsgrad von 1,5 100
Natriumdibutylnaphthalinsulfonat 0,5
Farbstoff Rhodamin GG (G) 0,1
Auf der Oberfläche der Zwischenschicht ist eine 15 ,um dicke lichtempfindliche Schicht der in Beispiel 1
angegebenen Zusammensetzung aufgebracht.
Die Prüfung des Trockenfilmresists erfolgt wie in
Beispiel 1. Die minimal reproduzierbare Linienbreite beträgt 30 ,um. Die Verwerfung des Trägers ist nicht größer
als 1,5 mm.
Der bekannte Trockenfilmresist mit einem 46 ,um dicken
einschichtigen Träger aus Polyäthylenterephthalat vermag Linien ι
zieren.
zieren.
Linien mit einer minimalen Breite von 90 ,um zu reprodu-
Der bekannte Filmresist mit einem 6 ,um dicken einschichtigen
Träger aus Methylcellulose der oben genannten Zusammensetzung besitzt geringe Festigkeit, was seine
praktische Verwendung verhindert.
030B04/ÖU1
■' ti
Es wird ein Trockenfilmresist: mit gleicher Zusammensetzung
und gleicher Dicke der Schichten wie in Bei- :. spiel 15 verwendet, dessen Zwischenschicht jedoch aus :
Cellulosetriacetat besteht.
Die Prüfung des FiLmresists wird wie in Beispiel 15.
vorgenommen. Es werden gleiche Eigenschaften wie beim Trockenfilmresist von Beispiel 15 festgestellt.
Bei der Anwendung des erfindungsgemäßen Trockenfilm-·
resists läßt sich ein Auflösungsvermögen erreichen, das für die Herstellung von 5 bis 50 /Um breiten Leiterbahnen
in gedruckten Schaltungon ausreichend ist, was bei Anwendung
bekannter Trockenfiliaresists nicht erreicht
werden kann. Dabei besitzt der erfindungsgenu ße Trockenfilmresist
ausreichen* !Beständigkeit gegen die Verwerfung des Trägers und die Verformung der lichtempfindlichen
Schicht bei der Herstellung und Ve rwendung. Das hohe Auflösungsvermögen gestc ttet es, d«;n ei findungsgemäßen
Trockenfilmresist nicht nur zur Herstellung von gedruckten
Schaltungsplatien, sondert auch zur Herstellung
anderer Erzeugnisse mit komplizierter gestaltetem Bild, darunter auch integrierten Hybridschaltungen, zu verwenden.
Die Anwendung des erfindungsgemäßen Trockenfilmresists
ermöglicht eine weitere Mikrominiaturisierung gedruckter Schaltungen.
0308(K/0U1
Ί,Ο
Der erfindungsgemäße Trockenfilmresist besteht zusammengefaßt aus einem zweischichtigen Träger,
der eine 15 bis 100 .um dicke feste Unterlage und
eine 3 bis 15 ,um dicke, für UV-Strahlung im Bereich von 300 bis 400 nm durchlässige polymere Zwischenschicht
enthält, einer 4 bis 20 /Um dicken lichtempfindlichen
Schicht unc einem 5 bis 50 ,um dicken polymeren Schutzfilm.
Alle vier genannten Schichten sind durch Adhäsionskräfte miteinander verbunden, wobei die Haftfestigkeit
des polymeren Schutzfilms an der lichtempfindlichen Schicht geringer als die Kohäsionsfestigkeit der lichtempfindlichen
Schicht, die Haftfestigkeit der festen polymeren Unterlage an der polymeren Zwischenschicht geringer
als die Haftfestigkeit der polymeren Zwischenschicht an der lichtempfindlichen Schicht und die Haftfestigkeit
der genannten drei Schichten aneinander geringer ist als die Kohäsionsfestigkeit jeder dieser
Schichten.
030B04/OU1
Claims (12)
1. Trockenfilmresist aus einem biegsamen Schichtensystem,
aus einer 15 bis 100 ,um dicken festen polymeren Unterlage, einer 4 bis 20 ,um dicken
lichtempfindlichen Schicht, die mindestens eine unter UV-Strahlung zur Bildung freier Radikale
befähigte lichtempfindliche Verbindung, mindestens eine äthylenische ^C = C -Bindungen im Molekül
enthaltende ungesättigte Verbindung sowie mindestens ein als filmbildende Komponente der lichtempfindlichen
Schicht dienendes Polymer enthält, und einem auf der lichtempfindlichen Schicht vorgesehenen, 5 bis 50 ,um
dicken polymeren Schutzfilm,
dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen der festen polymeren Unterlage und der lichtempfindlichen Schicht eine 3 bis 15 ,um dicke,
für UV-Strahlung im Bereich von 300 bis 400 mm durchlässige polymere Zwischenschicht vorgesehen ist, die
aus einem polymeren Alkohol, einem polymeren Ester, einem Polyamid, einem halogenhaltigen Polymer, Polyacrylnitril
oder Gemischen dieser Verbindungen besteht, wobei sämtliche vier Schichten durch Adhäsionskräfte
miteinander verbunden sind und die Haftfestigkeit des polymeren Schutzfilms an der lichtempfindlichen
Schicht geringer ist als die Kohäsionsfestigkeit der lichtempfindlichen Schicht, die Haftfestigkeit der
530-(PM 82 3O9-X-61J-PCT-SF-Bk
0306CU/0U1
festen polymeren Unterlage an der polymeren Zwischenschicht
geringer ist als die Haftfestigkeit der polymeren Zwischenschicht an der lichtempfindlichen Schicht
und die Haftfestigkeit der genannten drei Schichten aneinander geringer ist als die Kohäsionsfestigkeit
jeder dieser Schichten.
2. Trockenfilmresist nac ι Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die polymere Zwischenschicht als polymeren
Alkohol wasserlösliche Methylcellulose oder Polyvinylalkohol
enthält.
3. Trockenfilmresist nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die polymere Zwischenschicht als polymeren Ester Cellulosetriacetat oder Polyathylenterephthalat
enthält.
4. Trockenfilmresist nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die polymere Zwischenschicht als Polyamid Polyhexamethylenadipamid oder Gelatine enthält.
5. Trockenfilmresist nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die polymere Zwischenschicht als halogenhaltiges
Polymer ein Copolymerisat von Tetrafluoräthylen oder Trifluorchloräthylen mit Vinylidenfluorid
enthält.
6. Trockenfilmresist nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die polymere Zwischenschicht Polyacrylnitril
enthält.
7. Trockenfilmresist nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die polymere Zwischenschicht
03060A/OU1
ferner Farbstoffe in einer Menge von 0,01 bis 1,0 %,
bezogen auf das Gewicht der polymeren Zwischenschicht, enthält.
8. Trockenfilmresist nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die polymere Zwischenschicht als Farbstoff Rhodamin GG (G) enthält.
9. Trockenfilmresist nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die polymere Zwischenschicht
ferner Weichmacher in einer Menge von 5 bis 15 %, bezogen auf das Gewicht der polymeren Zwischenschicht,
enthält.
10. Trockenfilmresist nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die polymere Zwischenschicht als Weichmacher
äthoxyliertes Dodecylphenol enthält.
11. Trockenfilmresist nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die polymere Zwischenschicht
ferner grenzflächenaktive Stoffe in einer Menge von 0,1 bis 0,5 %, bezogen auf das Gewicht der
polymeren Zwischenschicht, enthält.
12. Trockenfilmresist nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die polymere Zwischenschicht als grenzflächenaktiven
Stoff Natrium-dibutylnaphthalinsulfonat enthält.
030604/0141
6ms6fc
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---|---|---|---|
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FR8015410A FR2486671A1 (fr) | 1978-12-25 | 1980-07-10 | Photoresists secs a couches minces |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2953429T1 true DE2953429T1 (de) | 1980-12-18 |
DE2953429C2 DE2953429C2 (de) | 1989-02-09 |
Family
ID=26221887
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE792953429T Granted DE2953429T1 (de) | 1978-12-25 | 1979-12-14 | Dry film photoresist |
Country Status (6)
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---|---|
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JP (1) | JPS55501072A (de) |
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FR (1) | FR2486671A1 (de) |
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Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1980001321A1 (en) * | 1978-12-25 | 1980-06-26 | N Smirnova | Dry film photoresist |
JPS58196971A (ja) * | 1982-05-13 | 1983-11-16 | Asahi Chem Ind Co Ltd | サンドブラスト用マスクの製造方法 |
US4992354A (en) * | 1988-02-26 | 1991-02-12 | Morton International, Inc. | Dry film photoresist for forming a conformable mask and method of application to a printed circuit board or the like |
US5213945A (en) * | 1988-02-26 | 1993-05-25 | Morton International, Inc. | Dry film photoresist for forming a conformable mask and method of application to a printed circuit board or the like |
US5077175A (en) * | 1988-08-30 | 1991-12-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Plasticized polyvinyl alcohol release layer for a flexographic printing plate |
JP2847720B2 (ja) * | 1988-09-20 | 1999-01-20 | 東レ株式会社 | フォトレジストフィルム |
DE4030622B4 (de) * | 1989-09-28 | 2005-11-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Bildempfangsblatt |
JPH0580503A (ja) * | 1991-06-25 | 1993-04-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性転写材料及び画像形成方法 |
US5442517A (en) * | 1993-05-28 | 1995-08-15 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Cellulose triacetate, thin film dielectric capacitor |
US5955244A (en) * | 1996-08-20 | 1999-09-21 | Quantum Corporation | Method for forming photoresist features having reentrant profiles using a basic agent |
US6143387A (en) * | 1997-07-28 | 2000-11-07 | Kubler; Virginia L. | UV shield |
DE69808587T2 (de) * | 1997-11-27 | 2003-07-10 | Agfa-Gevaert, Mortsel | Strahlungsempfindliches Material mit einem mehrschichtigen Trägermaterial |
EP1205802A4 (de) | 1999-06-24 | 2009-07-15 | Hitachi Chemical Co Ltd | Lichtempfindliches element, lichtempfindliches rollenelement, verfahren zur herstellung eines resistmusters unter verwendung desselben, resistmuster, substrat mit resistmusterüberzug, verfahren zur herstellung eines leitermusters, und leitermuster |
CN100454142C (zh) * | 2000-03-29 | 2009-01-21 | 学校法人神奈川大学 | 光固化性和热固化性树脂组合物、其感光性干薄膜及使用其的图案形成方法 |
DE10260235B4 (de) | 2002-12-20 | 2010-10-28 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Strukturieren einer Resistschicht und Negativ-Resistschicht |
US20060257785A1 (en) * | 2005-05-13 | 2006-11-16 | Johnson Donald W | Method of forming a photoresist element |
KR101102186B1 (ko) | 2007-01-31 | 2012-01-02 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 감광성 엘리먼트 |
US20090186293A1 (en) * | 2008-01-23 | 2009-07-23 | Bryan Thomas Fannin | Dry film protoresist for a micro-fluid ejection head and method therefor |
KR101444044B1 (ko) | 2010-12-16 | 2014-09-23 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법 |
CN102799070B (zh) * | 2012-08-27 | 2014-03-05 | 珠海市能动科技光学产业有限公司 | 双层涂布的负性光致抗蚀干膜 |
JP6225053B2 (ja) * | 2014-03-20 | 2017-11-01 | 富士フイルム株式会社 | 感光性積層体、転写材料、パターン化された感光性積層体及びその製造方法、タッチパネル、並びに画像表示装置 |
DE102014222535B3 (de) | 2014-11-05 | 2016-03-17 | Leibniz-Institut Für Festkörper- Und Werkstoffforschung Dresden E.V. | Verfahren zur Herstellung eines ultrakompakten Mikrokondensators und damit hergestellter Kondensator |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1285876B (de) * | 1964-06-16 | 1968-12-19 | Du Pont | Fotopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial |
US3661576A (en) * | 1970-02-09 | 1972-05-09 | Brady Co W H | Photopolymerizable compositions and articles |
DE2106574A1 (de) * | 1970-03-03 | 1971-09-23 | Shpley Co Inc | Lichtempfindliches Laminat |
ZA72345B (en) * | 1971-02-04 | 1973-03-28 | Dynachem Corp | Polymerization compositions and processes |
US3754920A (en) * | 1971-04-30 | 1973-08-28 | Du Pont | Photopolymerizable elements of low optical density containing thickeners with discrete orderly orientation |
DE2123702C3 (de) * | 1971-05-13 | 1988-05-26 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes |
CA1051707A (en) * | 1973-10-25 | 1979-04-03 | Michael Gulla | Photoresist film with non-photosensitive resist layer |
US3873319A (en) * | 1974-01-31 | 1975-03-25 | Minnesota Mining & Mfg | Dry-film negative photoresist having amidized styrene-maleic anhydride binder material |
CA1037311A (en) * | 1974-11-13 | 1978-08-29 | Ronald S. Steelman | Image transfer element |
US4247619A (en) * | 1979-12-20 | 1981-01-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Negative-working multilayer photosensitive tonable element |
SU941918A1 (ru) * | 1976-08-10 | 1982-07-07 | Предприятие П/Я Г-4444 | Сухой пленочный фоторезист |
DE2658422C2 (de) * | 1976-12-23 | 1986-05-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung eines Negativ-Trockenresistfilms |
US4262080A (en) * | 1978-10-31 | 1981-04-14 | Nasa | Method for applying photographic resist to otherwise incompatible substrates |
WO1980001321A1 (en) * | 1978-12-25 | 1980-06-26 | N Smirnova | Dry film photoresist |
-
1979
- 1979-12-14 WO PCT/SU1979/000131 patent/WO1980001321A1/ru unknown
- 1979-12-14 DE DE792953429T patent/DE2953429T1/de active Granted
- 1979-12-14 GB GB8024874A patent/GB2047909B/en not_active Expired
- 1979-12-14 JP JP50016979A patent/JPS55501072A/ja active Pending
-
1980
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Also Published As
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FR2486671A1 (fr) | 1982-01-15 |
JPS55501072A (de) | 1980-12-04 |
DE2953429C2 (de) | 1989-02-09 |
GB2047909B (en) | 1982-10-06 |
GB2047909A (en) | 1980-12-03 |
WO1980001321A1 (en) | 1980-06-26 |
US4318975A (en) | 1982-03-09 |
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